DE2346987A1 - Verfahren zur herstellung eines dreiklemmen-ueberspannungsschutzes - Google Patents

Description

4. g™^^, . 18. September 1973

Telecommunications Industries, Inc. 1375 Akron Street, Copiague, New Tork 11726, USA

Verfahren zur Herstellung eines Dreikleiomen-Ober-

spannungsschutzes

Die Erfindung betrifft einen überspannungsschutz, insbesondere ein Verfahren zur Herstellung eines Breiklemmen-Überspannungsschutzes.

Dreiklemmen-Überspannungsschutzeinrichtungeu sind z.B. durch die US-PS 3 333 153 bekannt geworden. Ein Dreiklemmen-ttberspannungsschutz besteht aus einer Ionisationskammer, die in einem elektrisch leitenden Gehäuse angeordnet ist, wobei in die Kammer ein Paar sich gegenüberliegender Elektroden eingesetzt ist und ein Spalt zwischen den sieh gegenüberliegenden Enden der Elektroden und ein weiterer Spalt zwischen dem Ende einer jeden Elektrode und der Gehliuseseitenwand gebildet werden. Während die beiden Elektroden die beiden aktiven Leiter des Uberspannungsschutzes bilden, die mit einem elektrischen Instrument, das geschützt werden soll, verbunden sind, wird die dritte Klemme des Überspamiungsschntaes

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von der Gehäuseseitenwandung gebildet, die geerdet ist.

Bei der Herstellung eines Dreiklenuaen-Überspannungsscliutzes ist es wesentlich, daß das Elektrodenpaar konzentrisch zur Ionisationskammer und zueinander axial fluchtend angeordnet ist. Ebenfalls Ist es wesentlich, daß ein bestimmter Spalt zwischen den sich gegenüberliegenden inneren Enden der Elektroden vorhanden ist. Bei einem richtigen Dreiklemmen-Überspannungsschutz sollte ein solcher zv/ischen den Elektroden liegender Spalt demjenigen Spalt entsprechen, der zv/ischen jeder Elektrode und jeder Gehäuseseitenwand gebildet wird. Es sei darauf hingewiesen, daß die Abmessungen dieser Spalte notwendigerweise die Durchschlageigenschaft des Überspannungsschutzes bestimmen, d.h., das maximale Spannungspotential zwischen den Elektroden, bevor eine Ionisation des Gases stattfindet. Außerdem wird durch ein herkömmliches Verfahren" zur Absaugung von Luft aus der Ionisationskammer und zur Ersetzung der Luft durch ein leicht ionisierbares Gas die Herstellung der Vorrichtung wesentlich erleichtert.

Das erfindungsgemäße Verfahren besteht darin, daß ein elektrisch leitendes, hohles Gehäuse mit einer zylindrischen, sich zwischen gegenüberliegenden, offenen Gehäuseenden erstreckenden Wandung hergestellt wird, daß die Wandung an jedem Gehäuseende mit einer sich in Längsrichtung erstreckenden Schweißfase versehen wird, daß ein Paar elektrisch isolierender, hohler, zylinderförmig ausgebildeter Körper gebildet und in dem Gehäuse in der Nähe der gegenüberliegenden Gehäuseenden im Abstand zueinander angeordnet wird, so daß ein dazwischenliegender zentraler Teil des leitenden Gehäuses frei bleibt, daß ein Paar stangenartiger Elektroden in die Gehäuseenden eingeführt wird, wobei jede Elektrode jeweils eine mit der am Ende des Gehäuses angeordneten Schweißfuge zusammenwirken-

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de Einrichtung aufweist, die die Elektrode gegenüber dem Gehäuse zentriert/ wenn diese durch ein Gehäuseende hindurch in das Geäuse eingesetzt wird, daß die sich gegenüberliegenden Enden der Elektroden im Abstand zueinander angeordnet sind, wobei dieser Abstand im wesentlichen dem /abstand entspricht, den die Endc?n gegenüber dem vorstehenden mittleren Gehäuseteil aufweisen, daß eine Elektrode an ein Gehäuseende dichtend angeschweißt wird, daß die Luft aus dem Inneren des Gehäuses durch das andere Gehäuseende hindurch abgesaugt wird, daß ein Edelgas in das Gehäuseinnere durch das andere Gehäussende eingeführt wird, daß die andere Elektrode gegen das andere Gehäuseende dichtend angeschweißt wird und daß ein Segment der Geäusewandung gegenüber beiden Elektroden isoliert wird.

Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung weist die Einrichtung zur Zentrierung jeder Elektrode einen Anschlag auf, der einen Flanschte!! mit einem Außendurchmesser aufweist, der grüßer als der Innendurchmesser des Gehäuses ist, sowie eine sich zum Gehäuseinneren verjüngende Schulter. Sobald irgendein Teil eier Schweiß f ase an einem Ende des Gehäuses die Schulter berührt, wenn die Elektrode in das Geäuse durch das Gebäusecnde hindurch eingeführt wird, dann führt eine weitere Bewegung der Elektrode in das Gehäuse hinein dazu, daß die Elektrode sich seitlich verschiebt und gegenüber dem Gehäuse zentriert wird, wobei die Zentrierung dann erzielt wird, wenn der Flanschten die Schweiß C ase berührt. Zu diesem Zeitpunkt wird die Elektrode an einer weiter nach innen gerichteten Bewegung oder an einer seitlichen Bewegung gehindert und zentrisch gegenüber dem Gehäuse gehalten.

Weitere Merkmale, Einzelheiten und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung eines Ausfüh-

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rungsbcispiels anhand der Zeichnung. Darin zeigen:

Fig.l einen Längsschnitt durch ein Gehäuse, das mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellt ist?

Fig.2 einen Längsschnitt eines mit Hilfe des erfindungügemäßen Verfahrens hergestellten Isolierkörpers;

Fig.3 eine Seitenansicht eines Lötringes der in eine sich in dem Hohlkörper gemäß Fig.2 befindliche Ringnut eingeschnappt wird;

Fig.4 eine Seitenansicht einer mit Hilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens hergestellten Elektrode;

Fig.5 einen Teilschnitt und eine Teilansicht eines Überspannungsschutzes gemäß der Erfindung in einer Zusammenbaustufe;

Fig.6 einen Teilschnitt und eine Teilansicht des Überspannungsschutzes gemäß Fig. 5 in eimir v/eiteren Zusammen-baustufer

Fig.GA eine. Teilansicht ähnlich der Fig.6, jedoch in einem vergrößerten Maßstab, wobei ein Ende des Überspannungsschutzes gezeigt ist und

Fig.7 eine Schnittansieht und Teilansicht des Überspannungsschutzes nach Fig.6 in vollständig zusammengebaute:; Zustand.

Die durch das erfindungsgemäße Verfahren hergestellte Vorrichtung 50 ist in der Fig.7 dargestellt. Die Vorrichtung oder der überspannungsschutz 50 v/eist ein Paiar rohrförmige Isolier™

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körper 22 auf, die axial fluchten und im Abstand zueinander angeordnet sind. Zur Überbrückung des Abstandes zwischen den beiden Isolierkörpern 22 ist ein leitendes Metallsegment 42 vorgesehen, das teleskopartig auf jedes Rohr 22 aufgeschoben ist und mit dem jeweiligen Teleskopteil der Rohre 22 mittels eines Lötringes 30 hermetisch abgedichtet ist. Die Isolierkörper 22 und das leitende Zentralstück 42 bilden ein Außengehäuse, das an jeder Stirnseite mit einer Elektrodeneinrichtung abgedeckt ist, die eine längliche Elektrode 32 mit einem an ihrem äußeren Ende angeordneten Deckel aufweist, wobei der Deckel von Planschen 36 gebildet wird und sich nach innen erstreckende rohrförmige Metallteile 52 aufweist, die an die Flansche angeschweißt sind und mittels Lötringen 30 eine dichtende Verbindung mit den Rohren 22 bilden. Die freien Enden 38 der Elektroden 32 sind derart voneinander entfernt, daß sie einen Spalt 40 bilden, der den Radialspalten 41 zwischen den Elektroden und dem konzentrisch angeordneten Zentralstück 42 entspricht. <

Der von den oben beschriebenen Bauteilen gebildete Innenraum ist mit einem schnell ionisierbaren Gas, wie z.B. mit einem Edelgas, gefüllt. Wenn an beiden Elektroden (und damit in der Leitung, an welche sie angeschlossen sind), eine Spannung anliegt, die ausreichend ist, daß eine Leitung über den Radialspalt 41 von einer Elektrode 32 zur Erde erfolgt, die von dem Metallsegment 42 gebildet wird, dann wird in an sich bekannter , Weise das Gas ionisiert und bildet daher einen Leiter zwischen den beiden Elektroden 32 und zwischen den beiden Elektroden und der Erde, so daß dadurch die Einrichtung vor einer Überspannung geschützt wird.

Das Verfahren zur Herstellung des vorbeschriebenen Breiklemmenüberspannunysschutzes 50 soll nun im einzelnen beschrieben wer-

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den. Gemäß der Fig.l der Zeichnung besteht ein erster Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens darin, daß ein elektrisch leitendes, hohles Gehäuse IO mit einer zylindrischen V7andung 12 gebildet wird, die sich zwischen den gegenüberliegenden offenen Enden 14 und 16 des Gehäuses erstreckt. Das Gehäuse 10 besteht vorzugsweise aus Metall _r insbesondere aus einem lötbaren, schweißbaren Metall, wie z.B. aus einer Nickel-Eisen-Legierung, Messing oder Kupfer. Die Seitenwandung 12 ist vorzugsweise zylindrisch ausgebildet und weist an der Innenseite 19 der Seitenwand einen Ringflansch 18 auf, der im wesentlichen in der Mitte zwischen den Gehäuseenden 14 und 16 angeordnet ist. Der Ringflansch 18 wird von einem Paar Schultern 19a und 19b begrenzt.

Das Gehäuse IO ist an seinen äußeren Enden mit sich in Längsrichtung erstreckenden Schweißfasen 20 versehen. Vorzugsweise ist jede Schweißfase ringförmig und konisch ausgebildet, und läuft in eine Schneidenkante 23 aus (siehe Fig.5). Andererseits könnte jede Schweißfase 20, falls erwünscht, von mehreren im Abstand zueinander angeordneten Schweißvorsprüngen gebildet v/erden (nicht dargestellt) , die sich von jedem Gehäuseende nach außen erstrecken und in eine Schneidenkante auslaufen.

Die Fig.2 zeigt den nächsten Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens, der darin besteht, daß ein Paar hohle Isolierkörper 22 gebildet werden (von denen nur einer in der Fig.2 dargestellt ist), wobei jeder hohle Isolierkörper eine zylindrische Wandung 24 aufweist, die sich zwischen einem Paar gegenüberliegender Stirnseiten 26 erstreckt. Jeder hohle Isolierkörper 22 ist aus einem gegen hohe Temperaturen beständigem, elektrisch isolierendem Material, wie z.B. aus Glas oder Keramik, hergestellt. Für die Körper 22 wird Aluminiumoxyd (Alumina)

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bevorzugt. Der Außendurchmesser eines jeden Hohlkörpers 22 entspricht im wesentlichen dem Innendurchmesser der Wandung 12 des Gehäuses 10, und die Länge ist etwas küx'zer als der Abstand zwischen den Gehäusestirnseiten des Gehäuses 10 und der benachbarten Schulter 19a oder 19b des in dem Gehäuse angeordneten Ringflansches 18. Auf diese Weise kann jeder Hohl— köx-per 2 2 in dem Gehäuse dereirt angeordnet sein, daß eine Stirnseite 26 des entsprechenden Hohlkörpers gegen eine Schulter 19a oder 19b anliegt und die ändex'e Stirnseite des entsprechenden Hohlkörpers im Bereich einer Gehäusestirnseite angeordnet ist. Die genaue Lage wird nachfolgend näher beschrieben. Obwohl es in Verbindung mit dem earfindungsgemässen Verfahren nicht wesentlich ist, ist jeder Hohlkörper 22 mit wenigstens einer umlaufenden Nut 28 ausgestattet, die sich in der Seitenwandung 24 befindet. Vorzugsweise ist jeder Hohlkörper 22 mit einem Paar umlaufender Nuten 28 ausgestattet, wobei jeweils eine Nut im Bereich einer Stirnseite des Hohlkörpers angeordnet ist. Dex- Querschnitt jeder Nut ist vorzugsweise annähernd halbkreisförmig» Jede Nut 2 8 dient dazu, einen Lötring 30 aufzunehmen (siehe Fig^3), der vorzugsweise einen Kreisquerschnitt mit einem Durchmesser aufweist, welcher etwas kleiner als der Querschnittsradius der Nuten ist. Der Lötring 30 ist mit einem Schlitz 30a versehen, so daß er gespreitzt werden kann, um dann in eine bestimmte Nut 28 e in ζ us ch η appen.

Gemäß dem in der Fig.4 dargestellten nächsten Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens wird ein Elektrodenpaar 32 gebildet, die an die beiden Leitungen des tiberspannungsschutzes angeschlossen sind. Daher sind die beiden Elektroden 32 aus einem elektrisch leitenden Material, wie z.B. aus Metall, vorzugsweise Kupfer, hergestellt. Vorzugsweise wird jede F-lekt-'iode

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aus einem massivenι zylindrischen Schaft 33 gebildet, der sich bis zu den beiden gegenüberliegenden Stirnseiten 38 und 39 erstreckt und einen Anschlag oder einen Flansch 34 aufweist. Wie noch nachfolgend genauer beschrieben werden soll/ wirkt der Anschlag 34 mit einer Seiweißfase 2O des Gehäuses 10 derart zusammen, daß die Elektrode zentrisch in dem Gehäuse geführt wird.

Vorzugsweise ist der Anschlag 34 mit einem kreisförmigen Flansch 36 und einer sich nach innen verjüngenden kegelsturnpfförmigen Schulter 37 ausgestattet. Genauer gesagt, verjüngt sich die Schulter 37 von einem maximalen Durchmesser am Flansch 36, zu einem Durchmesser, der kleiner als der Durchmesser des Flansches 36 ist, so daß am äußeren Umfang der Schulter ein ringförmiger Rand 39a gebildet wird. Die Schulter 37 verjüngt sich auf einen minimalen Durchmesser im Bereich des Schaftes 33, der größer ist als der Durchmesser des'Schaftes 33. Es ist wichtig, daß die Schnittlinie der Schulter 37 mit dem Flansch 36 auf einem Durchmesser liegt, der dem inneren Durchmesser der Schneidenkante 2 3 jeder Schweißfase 20 entspricht.

Bei einer solchen Ausführung ergibt sich, daß, wenn das freie Ende 38 des Elektrodenschaftes 33 in das Gehäuse JQ z.B. durch das Gehäuseende 16 hindurch eingesetzt wird und zunächst gegenüber dem Gehäuse eine exzentrische Lage einnimmt, ein Teil der Schweißfase 20 am Gehäuseende IG gegen die kegelstumpfförmig ausgebildete Schulter 37 anliegt, so daß der Schaft seitlich bewegt und konzentrisch gegenüber der Schneidenkante 2 3 ausgerichtet wird und damit gegenüber dem Gehäuse, vjobei diese Konzentrizität erreicht wird, wenn die Schneidenkante 23 der Schweißfase den Flansch 36 des Anschlages 34 berührt. Wenn sich ferner die Schneidenkante 23 der Schweißfase 20 auf der Schnittlinie zwischen dem Flansch 3C und der Schulter 37 be-

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findet, dann wird die Elektrode an einer v/eiteren seitlichen Bewegung der Achse gehindert und dadurch konzentrisch gegenüber dem Gehäuse festgehalten.

Das erfindungsgemäße Verfahren läuft nun, nachdem das Gehäuse 10, die hohlen Isolierkörper 22 und die Elektroden 32 hergestellt worden sind, derart ab, daß die Lötringe 30 in die entsprechenden Aussparungen 28 der Isolierkörper 22 eingeschnappt v/erden. Dann wird jeder Isolierkörper 22 durch ein bestimmtes Ende des Gehäuses in der vorbeschriebenen Weise in das Gehäuse 10 eingesetzt.*Daraufhin wird eine Elektrode 32 durch den entsprechenden Isolierkörper 22 in das Gehäuseinnere des Gehäuses 10 eingeführt, wobei die Vorwärtsbewegung dieser Elektrode konzentrisch gegenüber dem Gehäuse erfolgt, indem die Schweißfase 20 mit dem Anschlag 34 in der vorbeschriebenen Weise zusammenwirkt.

In den Fig.6 und 6A ist der nächste Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens zu erkennen, der darin besteht, daß jede Elektrode an dem entsprechenden Gehäuseende gesichert wird. Dies wird vorzugsweise dadurch erzielt, daß ein solches Gehäuseende erhitzt wird, damit die Elektrode am Gehäuseende fest geschweißt wird.· Während eines solchen Schweißvorganges wird die Elektrode vorzugsweise weiter in das Gehäuse 10hineingeschoben, indem avif die Elektrode eine nach innen gerichtete Kraft ausgeübt wird, so daß die Schweißfase umgeschmolzen wird und eine sichere Dichtung zwischen dem Flansch 36 und dem Gehäuse 10 bildet. Vorzugsweise wird ein Widerstandsschweißverfahren angewendet, obwohl andere bekannte Schweißtechniken eingesetzt v/erden können.

Der in der Nahe des Endes der Elektrode, das mit dem Gehäuse

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verschweißt wurde, liegende Ring ist so v/eich geworden, daß er eine Dichtung zwischen dem Gehäuse und dem angrenzenden Isolierkörper 22 bildet. Es ercjibt sich durch die Anwendung der äußeren Hitze beim Verschweißen der Elektrode mit dem Gehäuse 10, daß drer Lötring 30 in dem Isolierkörper 22 im Bereich des Flansches 36 schmilzt, so daß dadurch gleichzeitig eine hermetische Dichtung zwischen der Gehäuseseitenwand und diesem Isolierkörper gebildet wird.

Nachdem eine Elektrode 32 an dem Ende 16 des Gehäuses 10 festgeschweißt ist, wird die andere Elektrode 32 konzentrisch in das Gehäuse eingesetzt und die sich im Gehäuseinneren befindliche Luft v/ird mit einer herkömmlichen Vakuumpumpe (nicht dargestellt) abgesaugt» (Es sei darauf hingev/iesen, daß die zweite Elektrode während des Verfahrens auch zu einem früheren Zeitpunkt in das Gehäuse hätte eingesetzt und mittels einer geeigneten Vorrichtung konzentrisch ausgerichtet werden können). An einem irgendeinem beliebigen Zeitpunkt des Verfahrens, vorzugsweise an dem vorbeschriebenen Punkt, v/erden die beiden Lötringe 30 weichgemacht, so daß eine zweite hermetische Abdichtung zwischen dem Isolierkörper 22 und der Metallwandung des Gehäuses 10 geschaffen wird. Der Zweck soll nachfolgend beschrieben \>/erden. Das Gehäuse v/ird dann vorzugsweise in eine übliche "Schutzkammer" eingesetzt, die normalerweise trockenen Stickstoff enthält. Dann wird ein Edelgas, z.B. Argon, in die Schutzkammer eingeleitet, um den Stickstoff zu verdrängen, so daß das Edelgas dann in das Gehäuseinnere des Gehäuses 10 durch das noch nicht verschweißte Ende 14 eintritt. Dann wird die noch nicht verschweißte Elektrode mit dem Ende 14 verbunden, v/obei dies vorzugsweise gemäß dem vorbeschriebenen Verfahren zur Verschweißung der ersten

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Elektrode rait dem Gehäuseende 16 des Gehäuses 10 erfolgt.. Die zusammengebaute Konstruktion ist in der Fig.G gezeigt, wobei das Elektrodenpaar die beiden aktiven Leiter des Di~eiphasen-überspannungsSchutzes bilden.

Bei dieser Konstruktion ist zu erkennen, daß von den Elektroden ein Spalt 40 gebildet wird, der zwischen den inneren Elektrodenenden 38 liegt, und daß der Spalt 41 zwischen den Elektroden und dein Ringflansch 18 der Gehüuseseitenwanä 12 ausgebildet wird. Vorzugsweise ist die Größe des Spaltes 40 in einer parallel zu der Gehäuseachse 21 verlaufenden Richtung im wesentlichen gleich der Größe des Spaltes 41 in einer zur Gehäuseachse senkrecht verlaufenden Richtung. Es wurde erkannt, daß diese Beziehung zwischen dem Spalt 40 und dem Spalt 41 die Wirkung des Überspannungsschutzes optimiert und tatsächlich eine Forderung für einen richtigen Dreiphasen-Überspannungsschutz bildet.

In Verbindung mit der Fig.7 soll der nächste Schritt des erfindungsgemäßen Verfahrens beschrieben werden. Es ist insbesondere erwünscht, daß die Seitenwandung 12 des Gehäuses 10 ein Segment 42 aufweist, das geerdet wird und cils dritter und geerdeter Leiter für den Überspannungsschutz dient. Es ist daher wichtig, daß wenigstens ein Teil eines solchen Elementes den Ringflansch 18 aufweist, so.daß der Strom nach der Ionisation des Gases von den Elektroden.über den Spalt 41 zur Erde abfließt.

Bei der Ausbildung des Segmentes 42 der Gehäuseseitenwandung 12 ist es wesentlich, daß das Segment gegenüber dem Elektrodenpaar isoliert wird. Eine Möglichkeit zur Erzielung einer solchen Isolierung besteht darin, daß ein vollständiger ring-

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förmiger Gehäuseteil aus der Seitenwandung 12. des Gehäuses in der Nähe eines jeden Gehäuseendes entfernt wird, so daß ein Segment 42 (siehe Fig.7) zwischen den in der Gehäuseseitenwand erzeugten Ausschnitten zurückbleibt, wenn diese Teile entfernt werden. Vorzugsweise wird jeweils ein solches Teil aus der Gehäuseseitenwand in einem solchen Bereich entfernt, der zwischen den Lötringen eines jeden Isolierkörpers 22 liegt. Bspw. wurden die beiden Lücken 44 und 46 in die Gehäuseseitenwand 12 eingebracht, so daß dadurch ein dazwischenliegendes Segment 42 ausgebildet wurde (siehe Fig.7). "Eine bevorzugte Methode zur Entfernung der Gehäuseteile und zur Ausbildung der Lücken 44 und 4 6 besteht darin, daß das Gehäuse 10 auf eine Drehbank o.dgl. aufgespannt wird und daß die Ringe zwischen jeweils zwei Lötringen 30 der Isolierkörper 22 aus dem Gehäuse herausgedreht werden. Dann ist das Segment 42 gegenüber den Elektroden 32 isoliert und kann als dritte oder geerdete Elektrode dienen.

Die Wirkungsweise des überspannungsSchutzes 50 wird durch die Natur und die Eigenschaften des bestimmten Gases und der verwendeten elektrischen Leiter bestimmt, ebenso wie durch die Abmessungen der Spalte 40 und 41.

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Claims (4)

Patentansprüche

1. Verfahren zur Herstellung eines Dreifclemmen-Überspanimngs-' Schutzes, dadurch gekennzeichnet , daß

a. ein elektrisch leitendes, hohles Gehäuse (10) mit einer zylindrischen, sich zwischen gegenüberliegenden, offenen Gehäuseenden (14,16) erstreckenden Wandung (12) hergestellt wird, daß die Wandung an jedem Gehäuseende mit einer Schweißfase (20) versehen wird, die sich im wesentlichen in einer parallel zur Längsachse (21) des Gehäuses verlaufenden Richtung nach außen erstreckt, daß

b. ein Paar elektrisch isolierender, hohler, zylinderförmig ausgebildeter Körper (22) gebildet und in dem Gehäuse (10) in der Nähe der gegenüberliegenden Gehäuseenden angeordnet wird, daß

c. ein Paar Elektroden (32) hergestellt wird, wobei die Elektroden jeweils eine mit der am Ende des Gehäuses angeordneten Schweißfuge zusammenwirkende Einrichtung (34,37) aufweisen, die die jeweilige Elektrode gegenüber dem Gehäuse zentriert, wenn diese durch ein Gehäuseende hindurch in das Gehäuse eingesetzt wird, daß

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d. die hohlen Isolierkörper (22) in dem Gehäuse an gegenüberliegenden Gehäuseenden angeordnet und gegenüber dem Gehäuse dichtend festgelegt v/erden, daß

e. die Elektroden in das Gehäuse durch die hohlen Isolierkörper hindurch eingesetzt werden, durch die Einrichtung (34,37) jeder Elektrode eine angrenzende Schweißfuge (20) der Gehäusewandung (12) berührt und die Elektrode in dem Gehäuse zentriert, daß

f. eine Elektrode mit einem Gehäuseende dichtend verbunden wird, daß

g. die Luft aus dem Gehäüseinneren durch das andere Gehäuseende hindurch abgesaugt wird, daß

h. ein leicht ionisierbares Gas durch das andere Gehäuseende hindurch in das Gehäuse hineingeleitet wird, daß

i. die andere Elektrode in dem anderen Gehäuseende befestigt wird und daß

j. ein Zentralstück (42) der Gehäusewandung (12) gegenüber den beiden Elektroden elektrisch isoliert wird.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Einrichtung zur Anlage gegen die Schweißfuge (20) und zur Zentrierung der Elektroden (32) von einem sich von jeder Elektrode radial nach außen erstreckenden Flansch (34) gebildet wird sowie von einer kegelstumpfförmig ausgebildeten Schulter (37), die axial fluchtend zur Elektrode und zum Flansch angeordnet ist und an den Flansch angrenzend einen maximalen Durchmesser aufweist, der etwas kleiner ist als der Durchmesser der Schweißfuge, so daß die Elektroden bei einer Bewegung in das Gehäusej.;i-

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nere aus einer ursprünglich exzentrischen Lage gegenüber dem Gehäuse seitwärts verschoben und gegenüber dem Gehäuse zentriert worden.

3. Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet , daß in die Wandung eines jeden hohlen Isolierkörpers (22) ein Paar im Abstand zueinander angeordneter Ringnuten (28) eingebracht werden und daß die hohlen Isolierkörper dichtend im Gehäuse festgelegt werden, indem

a. ein Stück Lötinetall (30) derart bemessen und zugeschnitten wird, daß es in die Ringnut paßt und sich im wesentlichen entlang der ganzen Nut erstrecken kann, und daß

b. jedes Lötmetallstück (30) in einer entsprechenden Nut in der Wandung des entsprechenden hohlen Isolierkörpers eingelegt wird und unter der Einwirkung einer Wärmebeaufschlagung schmilzt, so daß zwei im Abstand zueinander angeordnete gasdichte Dichtungen zwischen jedem hohlen Isolierkörper und dem Gehäuse gebildet werden.

4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet , daß zwischen jedem Dichtungspaar ein ringförmiger Teil der Gehäusewandung entfernt wird, u ta ein gegenüber den Elektroden isoliertes Segment

(42) zu bilden ist.

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