DE2341776A1 - Metallueberzogene glaskeramik-gegenstaende und verfahren zu deren herstellung - Google Patents
Metallueberzogene glaskeramik-gegenstaende und verfahren zu deren herstellungInfo
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Description
ISHIZUKA GARASU KABUSHIKI KAISHA, Nagoya-shi, Aichi-ken/Japan
Metallüberzogene Glaskeramik-Gegenstände
und Verfahren zu deren Herstellung
Die Erfindung betrifft metallüberzogene Glaskeramik-Gegenstände sowie ein Verfahren zu deren Herstellung.
Die Erfindung betrifft insbesondere Glaskeramik-Produkte mit einer Metallüberzugsschicht von größerer Dicke und ein Verfahren
zur Herstellung dieser Produkte.
Bisher sind zur Ausbildung eines metallischen Überzugs auf der Oberfläche eines Glaskeramik-Gegenstandes das Vakuumaufdampfverfahren,
das stromlose Galvanisieren und das Telefunken-Verfahren
bekannt. Alle diese Verfahren umfassen äußerst komplizierte Verfahrensschritte. Die nach den ersten beiden Verfahren
erhaltenen Metallüberzugsschichten sind sehr dünn und weisen nur eine geringe Haftung auf dem Glaskeraraikkörper auf.
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Das dritte Verfahren besteht darin, daß man Molybdän und Mangan auf das Substrat aufbrennt, wobei eine Überzugsschicht
mit relativ großer Dicke ausgebildet werden kann. Jedoch sind die durchzuführenden Verfahrensschrxtte äußerst kompliziert,
und es ist nicht möglich, Hartlot direkt auf die gebildete Überzugsschicht aufzutragen. Ein weiteres Verfahren zur Aus- ·
bildung eines metallüberzogenen Glaskeramik-Gegenstandes wur-, de von der Anmelderin der vorliegenden Anmeldung bereits in
der US-PS 3 464 806 (und der entsprechenden DT-PS 1 496 540 bzw. der entsprechenden FR-PS 1 383 611) angegeben, das darin
besteht, daß man eine glasbildende Masse, enthaltend ein Keimbildungsmittel (nucleating agent) und 0,05 bis 5 Gewicht-% mindestens
einer Verbindung eines Metalls, wie Kupfer oder Silber, berechnet als Metall, bezogen auf das Gesamtgewicht der glasbil—
denden Masse, schmilzt, ,die Schmelze zu einem Glasgegenstand der gewünschten Form verformt und den geformten Glasgegens.tand
in einer reduzierenden Atmosphäre erhitzt,um das Glas zu entglasen,
wobei die durch die reduzierende Atmosphäre aus der Metallverbindung gebildeten Metallionen durch die Glasmatrix
wandern und an die Oberfläche des entglasten Gegenstands diffundieren, wo sie durch die reduzierende Atmosphäre an der
Oberfläche zu metallischen Teilchen reduziert werden. Dieses Verfahren kann in einfacher Weise durchgeführt werden, und
die erhaltene aufgebrachte Metallschicht ist innig mit dex Glaskeramikkörper verbunden und besitzt eine hohe Bindungskraft. Jedoch ist die Dicke der erhaltenen aufgebrachten Metallschicht
üblicherweise lediglich 5 bis 6 Mikron, im Höchstfall etwa 10 Mikron dick, so daß es nicht möglich ist, auf
diese Schicht direkt Lot aufzutragen.
Die Erfindung betrifft daher eine Verbesserung des zuletzt erwähnten Verfahrens. Erfindungsgenäß werden daher ein Verfahren
zur Ausbildung einer metallischen Überzugsschicht mit größerer Dicke von etwa bis zu 2OO Mikron auf der Oberfläche
eines Glaskeramik-Gegenstandes, bei dem nur einfache Verfahrensschritte durchgeführt werden müssen, und der sich ergebende
metallüberzogene Glaskeramik-Gegenstand bereitgestellt.
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Bei dem erfxndungsgemaßen Produkt haftet die Metallüberzugsschicht fest an der Oberfläche des Glaskeramik-Gegenstands an
und löst sich auch bei Temperaturen bis zu 800 C oder mehr nicht davon ab. Die metallische Überzugsschicht ist vibrations-
und schlagbeständig. Demzufolge ist das erfindungsgemäße Produkt für eine Vielzahl von Anwendungen, bei denen derartige
Eigenschaften gefordert werden, geeignet, wie z.B. als Bestandteil
für Nachbrenner von Automobilabgasen..Da weiterhin die metallische Überzugs schicht eine große Dicke aufweist,
kann nicht nur Weichlot, sondern auch Hartlot direkt aufgebracht werden. Somit kann das erfindungsgemäße Produkt als
Bestandteil elektrischer Einrichtungen, wie z.B. Vakuumschalter oder Vakuumrelais verwendet werden.
Die Erfindung betrifft daher ein Verfahren zur Ausbildung eines metallüberzogenen Glaskeramik-Gegenstandes durch Schmelzen
einer glasbildenden Masse, die Siliciumdioxyd und Aluminiumoxyd als Hauptbestandteile und ein keimbildendes Mittel sowie
0,05 bis 5 Gewichts-^% mindestens einer Metallverbindung,
wie einer Kupferverbindung und/oder einer Silberverbindung,
berechnet als Metall, bezogen auf das Gesamtgewicht der glasbildenden Zusammensetzung,enthält, worauf man die Schmelze zu einem
Glasgegenstand der gewünschten Form verformt und den erhaltenen Glasgegenstand in einer reduzierenden Atmosphäre erhitzt,
um das Glas zu entglasen, wobei die durch die reduzierende Atmosphäre aus der Metallverbindung gebildeten Metallionen durch
die Glasmatrix wandern und an die Oberfläche des entglasten Glasgegenstandes diffundieren und an der Oberfläche zu metallischen
Teilchen reduziert werden, das dadurch gekennzeichnet
ist, daß die Oberfläche des erhaltenen Glasgegenstandes, bevor dieser in einer reduzierenden Atmosphäre erhitzt wird, mit
einer Decksubstanz überzogen wird, die im wesentlichen aus
a) mindestens 5 % Kupfer, Silber und/oder einer Verbindung dieser Metalle und
b) 0 bis 95 % mindestens einem von Kupfer und Silber verschiedenen
Metall und/oder einer Verbindung dieses Metalis, wobei
das Metall oder die Metallverbindung einen Schmelzpunkt
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aufweist, der höher liegt als die bei der Heizstufe verwendete Temperatur,
besteht, wobei die prozentualen Mengen als-Metall, bezogen auf
das Gesamtgewicht der Decksubstanz, die ebenfalls als Metall berechnet wird, berechnet sind, worauf der mit der Decksubstanz
überzogene Glasgegenstand erhitzt wird, wodurch das Metall und das durch die Reduktion der Metallverbindung in der reduzierenden
Atmosphäre gebildete Metall, die in der Decksubstanz enthalten sind, vom Inneren der Glasmatrix herausdiffundieren und
sich mit den an der Oberfläche des Glaskeramik-Gegenstandes gebildeten metallischen Teilchen vereinigen, wodurch eine Metallschicht
mit größerer Dicke erhalten wird, die integral mit der Oberfläche des Glaskeramik-Gegenstandes vereinigt ist.
Die Erfindung sei im folgenden anhand der bevorzugten Ausführungsformen
weiter erläutert.
Die Zusammensetzung der als Ausgangsmaterial verwendeten Glaszusammensetzung
enthält iSiliciumdioxyd und Aluminiumoxyd als Hauptbestandteile. Beispiele für derartige Zusammensetzungen
sind Siliciumdioxyd-Aluminiumoxyd-Lithiumoxyd-, Siliciumdioxyd-Aluminiumoxyd-Lithiumoxyd-Magnesiumoxyd—,
Siliciumdioxyd-Aluminiumoxyd-Lithiumoxyd—Zinkoxyd—,
SiIiciumdioxyd—Aluminiumoxyd-Magnesiumoxyd-,
Siliciumdioxyd-Aluminiumoxyd-Calciumoxyd- und Siliciumidoxyd-Lithiumoxyd-Systeme. Die Glaszusammensetzung
dieser Art kann andere Bestandteile, wie Boroxyd, Natriumoxyd, Kaliumoxyd oder Bleioxyd enthalten.
Die bevorzugten keimbildenden Mittel (nucleating agents) umfassen Titandioxyd, Zirkondioxyd, Fluor, Phosphorpentoxyd,
Titandioxyd-Zirkondioxyd, Titandioxyd-Zirkondioxyd-Fluor, Zirkondioxyd-Fluor,
Titandioxyd-Fluor, Phosphorpentoxyd-Fluor, Titandioxyd-Phosphorpentoxyd, Zirkondioxyd-Phosphorpentoxyd,
Titandioxyd-Phosphorpentoxyd-Fluor, Zirkondioxyd-Phosphorpentoxyd-Fluor,
Titandioxyd-Zirkondioxyd-Phosphorpentoxyd und Titandioxyd-Zirkondioxyd-Phosphorpentoxyd-Fluor.
Das keimbildende Mittel kann auch andere Bestandteile, wie Calciumfluorid, Zinnoxyd,
Berylliumoxyd, Chromoxyd, Vanadiumoxyd, Nickeloxyd,
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Arsenoxyd und Molybdänoxyd,, enthalten.
Die in der oben angegebenen Menge in die Glasmasse einzuarbeitenden
Kupfer- und/oder Silber-Verbindungen sind Oxyde oder Verbindungen, die bei hohen Temperaturen in Oxyde überführt
werden können, wie Halogenide, Sulfite, Sulfate, Nitrate, Phosphate
oder Hydroxyde.
Die glasbildende Masse, die das oben angegebene keimbildende
Mittel und eine Verbindung von Kupfer und/oder Silber enthält, wird zunächst unter Anwendung eines üblichen Glasherstellungsverfahrens
geschmolzen und dann zu dem Glasgegenstand der gewünschten Form νerformt.
Dann wird eine Decksubstanz, die aus einem Metall oder einer
Metallverbindung besteht,· auf die Oberfläche des gebildeten
Glasgegenstandes aufgetragen. Die Decksubstanz enthält mindestens 5 % Kupfer, Silber und/oder eine Verbindung eines Metalles
dieser Art und 0 bis 95 % mindestens eines von Silber und Kupfer verschiedenen Metalls oder einer Verbindung eines derartigen
Metalls, wobei die Prozentsätze auf das Metall und das Gewicht bezogen sind. Es ist wesentlich, daß das Kupfer und/
oder das Silber in einer Menge von mindestens 5 % vorhanden sind. Wenn diese Menge geringer ist, haftet die, gebildete Metallschicht
weniger gut an der Metallschicht des gebildeten Glasgegenstandes. Das Kupfer und/oder das Silber können in Form
des Metalls oder in Form einer Metallverbindung, die bei erhöhter Temperatur in einer reduzierenden Atmosphäre zu dem Metall.
reduziert wird, eingesetzt werden. Beispiele für die Metalle oder die Metallverbindungen sind: Cu, CuO, Cu2OjCuSO4,
Cu(NO3)2, Ag, Ag2O, AgCl, AgNO3 und
Das von Kupfer und Silber oder deren Verbindungen verschiedene Metall kann gegebenenfalls in einer Menge von höchstens 95 %
in die Decksubstanz eingearbeitet werden, um die elektrischen, chemischen, physikalischen und anderen Eigenschaften der letztendlich gebildeten Metallschicht zu verändern. Wenn zwei oder
mehrere Metalle in der Decksubstanz vorhanden sind, können sie
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in Form einer Legierung vorliegen. Die diesen zusätzlichen Bestandteil enthaltende Decksubstarnz muß einen höheren Schmelzpunkt
aufweisen als die bei dem anschließenden Erhitzen verwendete Temperatur, da, wenn der Schmelzpunkt niedriger liegt, ein
Zusammenfließen eintritt, wodurch die Ausbildung eines homogenen
Überzugs verhindert wird.
Beispiele für Metalle oder Verbindungen dieser Art sind Silicium, Titan, Vanadium, Chrom, Mangan, Eisen, Kobald, Nickel, Zink,
Germanium, Aluminium, Zirkon, Niob, Molybdän, Palladium, Cadmium, Indium, Zinn, Calcium, Barium, Tantal, Wolfram, Blei und
Wismut sowie die Oxyde, Hydroxyde, Halogenide und Salze dieser Metalle. Metalle, die einen niedrigen Schmelzpunkt aufweisen,
wie Zink, Aluminium, Cadmium, Zinn, Blei oder Indium, sollten in Form einer Legierung oder einer Verbindung eingesetzt werden,
die bei der beim Erhitzen verwendeten Temperatur nicht schmelzen.
Im folgenden seien einige Beispiele dafür angeführt, wie die oben angegebenen, von Kupfer und Silber verschiedenen Metalle
auf die Eigenschaften der letztendlich gebildeten Metallschicht einwirken. Z.B. steigern Palladium, Niob, Indium und Tantal
die elektrische Leitfähigkeit der metallischen Schicht. Aluminium, Caldium und Magnesium erhöhen den elektrischen Widerstand
der metallischen Schicht, während Titan, Molybdän und Mangan die Haftung der metallischen Schicht an dem Glaskeramikkörper
steigern.
Es wurde gefunden, daß insbesondere Mangan eine deutliche Verbesserung
der Haftung der Metallschicht an dem Glaskeramikkörper hervorruft. Die Haftfestigkeit der kein Mangan enthaltenden
metallischen Schicht beträgt üblicherweise 0,7 bis 1,4 kg/
2
mm , während eine Mangan enthaltende Metallschicht eine Haftfestigkeit von etwa 2 bis 5 kg/mm aufweist. Denzufolge ist ein derartiger metallüberzogener Glaskeramik-Gegenstand für solche Anwendungszwecke besonders geeignet, bei denen eine hohe Haftfestigkeit erforderlich ist. Das gesteigerte Haftvermögen der
mm , während eine Mangan enthaltende Metallschicht eine Haftfestigkeit von etwa 2 bis 5 kg/mm aufweist. Denzufolge ist ein derartiger metallüberzogener Glaskeramik-Gegenstand für solche Anwendungszwecke besonders geeignet, bei denen eine hohe Haftfestigkeit erforderlich ist. Das gesteigerte Haftvermögen der
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Metallschicht als Ergebnis der Anwesenheit von Mangan ist der
Tatsache zuzuschreiben, daß Mangan bei der sich anschließenden Hitzebehandlung in den Glaskörper eindringt und sich mit
Aluminiumoxyd und/oder Siliciumdioxyd, die in der Glasmatrix
vorhanden sind, unter Ausbildung einer Verbindung, wie MnO-Al2O3 oder MnO-Al-O3«nSiO«, verbindet, so daß die Metallschicht
integral durch eine Zwischenschicht, die eine derartige dispergierte Verbindung enthält, mit dem Glaskeramikkörper
verbunden ist. Diese Zwischenschicht enthält ferner dispergiertes Kupfer und/oder Silber oder Oxyde dieser Metalle, was
dadurch hervorgerufen wird, daß die Kupfer- und/oder Silber-Verbindung,
die in der als Ausgangsmaterial verwendeten Glasmasse enthalten sind, während der Hitzebehandlung an die Oberfläche
des Glasgegenstandes diffundieren. Die oben angegebenen, in der Zwischenschicht vorhandenen Bestandteile bilden eine feste
Lösung, Die Anwesenheit dieser Zwischenschicht kann mit der Röntgenmikrosonde, mit dem Abtast-Elektronenmikroskop oder röntgenographisch
festgestellt werden.
Die Menge, in der das Mangan in der Decksubstanz vorhanden ist, beträgt wünschenswerterweise 0,1 bis 80 Gewichts-%, bevorzugter
5 bis 60 Gewichts-%, berechnet als Metall, bezogen auf das Gesamtgewicht der Decksubstanz. Wenn diese Menge kleiner als
0,1 % ist, kann ein ausreichend hohes Haftvermögen nicht erzielt werden. Wenn diese Menge 80 Gewichts-% übersteigt, wird
es schwierig, Lot auf die gebildete Metallschicht aufzutragen. Die Menge der weiteren zusätzlich zuzugebenden metallischen
Bestandteile kann sich, je nach der Menge des Mangans und der Menge des Kupfers und/oder Silbers, von 0 bis.94,5 Gewichts-%
erstrecken. Das Mangan kann in der Decksubstanz in Form des Metalls, in Form eines Oxyds, eines Halogenids oder eines Salzes
vorliegen. Die Oxyde sind jedoch besonders bevorzugt.
Somit sind ein Verfahren zur Ausbildung eines Glaskeramik-Gegenstandes
mit einer Metallschicht, die mindestens 5 % Kupfer und/oder Silber als Bestandteile und 0,1 bis 80 % Mangan
als Bestandteil enthält, sowie das dabei erhaltene Produkt
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auf Grund der besonderen Eigenschaften, insbesondere hinsichtlich
der Haftung der Metallschicht an den Glaskörper, besonders bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung.
Die Decksubstanz kann in irgendeiner geeigneten Weise auf die
Oberfläche eines Glasgegenstands aufgetragen werden, der durch Schmelzen der als Ausgangsrtiaterial verwendeten Glasmasse hergestellt
wurde. Üblicherweise wird eine Lösung, eine Suspension oder eine Aufschlämmung der fein gepulverten Decksubstanz
in einem flüssigen Medium hergestellt, worauf der gebildete Glasgegenstand in die Flüssigkeit eingetaucht wird, damit
die Decksubstanz daran anhaftet. Andererseits kann man eine derartige Lösung, Suspension oder Aufschlämmung auch auf die Oberfläche des Gegenstandes auftragen, aufsprühen oder aufdrucken.
Geeignete flüssige Medien' sind Materialien, die sich bei sich anschließenden Hitzebehandlung zersetzen oder verdampfen und
keine Rückstände hinterlassen, wie Wasser oder organische Lösungsmittel, z.B. Alkohole, Aceton, Benzol oder Butylecetat.
Gewunschtenfalls kann ein temporäres Bindemittel, wie ein organischer
Klebstoff, Stärke, ein Harz oder Nitrocellulose, zu dem Medium zugesetzt werden. Die Menge, in der die Decksubstanz
aufgetragen wird, hängt von der angestrebten Dicke der auszubildenden Metallschicht ab. Es ist jedoch erwünscht, daß die
Dicke der Metallschicht bis zu 200 Mikron, vorzugsweise 100 Mikron beträgt. Versuche, diese Dicke weiter zu steigern, werden
dadurch verhindert, daß die reduzierende Atmosphäre bei der sich anschließenden Hitzebehandlung nicht an die Oberfläche
des Glaskörpers diffundiert, so daß es nicht möglich ist, eine fest mit dem Glaskörper verbundene Metallschicht auszubilden.
Der mit der Decksubstanz überzogene Glasgegenstand wird dann
in einer reduzierenden Atmosphäre hitzebehandelt. Bei dieser Hitzebehandlung wird der Glaskörper durch die Wirkung des enthaltenen
keimbildenden Mittels entglast und in einen Glaskeramikkörper umgewandelt. Gleichzeitig wändern die aus den enthaltenen
Kupfer- und/oder 3ilber-3estandteilen gebildeten Metallionen in Richtung auf die Oberfläche des Glaskörpers und werden an der
Oberfläche des Glaskörpers durch die Einwirkung der umgebenden
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reduzierenden Atmosphäre zu dem metallischen Zustand reduziert, wodurch eine dünne metallische Schicht ausgebildet wird. Unterhalb
dieser Oberfläche sind diese Metallionen in der Glasmatrix in Form des Metalls oder eines Oxyds dispergiert und bilden die
genannte Zwischenschicht. Zu diesem Zeitpunkt wird die auf die Oberfläche des Glasgegenstandes aufgetragene Decksubstanz, wenn
sie aus einer Metallverbindung besteht, durch die reduzierende Atmosphäre zum metallischen Zustand reduziert und durch die angewandte
Hitze gesintert oder legiert. Diese Schicht vereinigt sich dann mit der dünnen Kupfer- und/oder Silber-Schicht, die
sich als Ergebnis der Wanderung aus dem Inneren des Glasköspers gebildet hat, unter Ausbildung einer Metallschicht mit größerer
Dicke. Wenn die Decksubstanz einen Manganbestandteil enthält, dringt das Mangan in das Innere des Glaskörpers ein, wodurch
eine Zwischenschicht gebildet wird, in der das Mangan mit Aluminiumoxyd und/oder Siliciumdioxyd verbunden vorliegt. Die Metallschicht
mit größerer Dicke haftet fester an dem Glaskörper als die Metallschicht, die keinen Manganbestandteil enthält.
Die Hitzebehandlung in der reduzierenden Atmosphäre kann unter den gleichen Bedingungen durchgeführt werden, wie sjebei dem aus der
US-PS 3 464 806 (bzw. DT-PS 1 496 540 bzw. FR-PS 1 383 611) bekannten Verfahren angewandt werden. Kurz gesagt, besteht dieses
Verfahren darin, daß man den mit der Decksubstanz überzogenen Glasgegenstand nach und nach in einer reduzierenden Atmosphäre
bis zu der Glasübergangstemperatur des Glases erhitzt, wobei man vorzugsweise eine Aufheizgeschwindigkeit von nicht mehr als
300°C pro Stunde anwendet, und das Material während einer Zeitdauer von etwa 15 Minuten bis etwa 5 Stunden zwischen der Glasübergangstemperatur
und dem Schmelzpunkt von Kupfer und/oder Silber hält.
Die reduzierende Atmosphäre kann aus Wasserstoff, Kohlenmonoxyd, einem brennbaren Gas, wie Methan, Äthan, Propan oder Butan, oder
Stadtgas bestehen.
Nach dieser Hitzebehandlung wird das Produkt nach und nach in einer reduzierenden Atmosphäre auf Raumtemperatur abgekühlt
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und dann entnommen. Natürlich kann galvanisch eine weitere
Schicht auf die Metallschicht des gebildeten Produkts aufgebracht werden. . '
Das erfindungsgemäße Produkt eignet sich als Bestandteil für.
elektrische oder elektronische Geräte, wie gedruckte Schaltkreisplatten, Kondensatoren, Fernmeldeeinrichtungen oder
Computer. Da dieses Produkt eine Metallschicht mit erhöhter Dikke aufweist, ist es möglich, direkt ein Weichlot oder ein
Hartlot aufzutragen. Da weiterhin die Mangan enthaltenden Metallschichten sehr fest an dem Glaskeramikkörper anhaften,
sind diese Gegenstände besonders als elektrische Bestandteile, wie Vakuumschalter oder Vakuumrelais, oder für Nachbrenner
für Automobilabgase geeignet. Das erfindungsgemäße Produkt kann auch, je nach dem Aussehen, als dekorativer Gegenstand
oder als Gebrauchsgegenstand verwendet werden.
Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung weiter erläutern, ohne sie jedoch zu beschränken.
Jede der in der folgenden Tabelle I. angegebenen Glasmassen wurde
3 bis 6 Stunden bei etwa 1430 bis 1500 C in einem Elektroofen unter Ausbildung eines dünnen Plättchens mit einer Dicke
von 2 mm und einer Länge und einer Breite von jeweils 10 mm geschmolzen. Die in der Tabelle II angegebenen Decksubstanzen Nr.
1 bis Nr. 11 wurden dann gleichförmig auf die entsprechenden Proben Nr. 1 bis 11 aufgebracht. Jede der überzogenen Proben
wurde in einen elektrischen Ofen eingebracht und in einer reduzierenden Wasserstoffatmosphäre mit einer Geschwindigkeit
von etwa 120 C pro Stunde aufgeheizt und während etwa 3O Minuten bei einer Temperatur von 680 bis 75O°C hitzebehandelt. Dann
wurde die Temperatur mit einer Geschwindigkeit von 100°C pro Stunde
auf etwa 900 bis 10000C erhöht, worauf die Probe während etwa
1 Stunde bei dieser Temperatur belassen wurde. Die hierbei erhaltenen Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle III zusammengefaßt.
Die Probe Nr. 12 stellt einen Vergleichsgegenstand dar,
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der nicht mit der Decksubstanz überzogen worden war. Aus diesem Beispiel ist ersichtlich, daß das Haftvermögen in dem
Maße zunimmt, in dem der Teilchendurchmesser der Decksubstanz abnimmt.
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K0O | - | - | 1,0. | - | VJl | - | — | - | — | — | — | - | ||
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ZV90/8Z860V
Nr. | 1 | 2 j 3 | CupO | 4- | 5 | 6 | I I |
Nr. | 7 | 8 | 9 | 10 | 11 | 12 | t | - |
Decksubstanz | CuO | CuO | 5-20 | CuCl2 | CuSO4 | Cu2O | Decksubstanz | CuO | CuO | Ag2O | AgCl | AgNO7 | - | |||
Teilchengröße^) | 5-20 | 20-60 | Aceton | - | - | 20-60 | Teilchengröße^) | 5-20 | 50-100 | 50-100 | 20-60 ; | - | ||||
Flüssiges Medium | Wasser | Äthnnol | Wasser· | Wasser | Benzol ' | Flüssiges Medium | Methanol | Methanol | Propanol | Wasser | Wasser | |||||
(gesättigte Lösung) |
(gesättigte Lösung) , |
(gesättigte Lösung) |
OJ | VD | all- | ι-Ι | |
γΗ | •ν | |||
s'aL | ιΗ | |||
H | IA | ω | ||
ΐΗ | H | Φ 0} | O | |
TD σι | γ-Γ | |||
O | O | Φ N | LTS | |
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23Α1776
409828/0642
Ein Plättchen mit einer Dicke von 2 mm sowie einer Breite und einer Länge von jeweils IO mm wurde in gleicher Weise, wie in
Beispiel 1 beschrieben, mit dem Unterschied, daß die in der folgenden Tabelle IV angegebenen Glaszusammensetzungen angewandt
wurden, hergestellt. Die in der Tabelle V angegebenen Decksubstanzen I bis XII wurden auf die sich ergebenden Proben
Nr. 21 bis 30 aufgebracht. Jede dieser Proben wurde dann in einen Elektroofen eingebracht und mit einer Geschwindigkeit
von etwa 120 C pro Stunde in einer reduzierenden Atmosphäre aufgeheizt und während etwa 30 Minuten je nach Probe bei einer
Temperatur im Bereich von etwa 650 bis 800 C hitzebehandelt. Die Temperatur wurde dann mit einer Geschwindigkeit von etwa
100°C pro Stunde auf etwa900 bis 11000C erhöht, worauf die
Probe während etwa 1 Stunde bei dieser Temperatur belassen und anschließend nach und nach auf Raumtemperatur abgekühlt wurde.
Die erhaltenen Ergebnisse sind in der Tabelle VI zusammengefaßt. Aus diesen Ansätzen ist ersichtlich, daß, wenn die Decksubstanz
einen Manganbestandteil enthält, eine Metallschicht erhalten werden kann, die sehr fest an dem Glaskeramikkörper
anhaftet.
£09828/0642
2341778
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409828/0642
Tabelle IV (Fortsetzung)
CD CO OO
I S O |
^\^Probe Nr. Bestandteile"--^^ |
21 | 22 | 23 | 24 | 25 | 26 | 27 | 28 | • 29 | 30 |
} Glaszusammensetzunq | P2°3 | - | - | - | 5,5 | - | — | - | - | - | |
B2°5 | - | - | 0,9 | - | — | - | 4,0 | 4,0 | - | — | |
Na-O d |
- | - | 5,1 | - | 1,0 | - | - | - | - | - | |
K9O | - | - | - | - | - | - | — | - | - | - | |
CuO | 2,0 | 1,0 | 1,0 | 1;5 | 1,0 | 1,2 | l;0 | - | - | 1,5 | |
Af^O | - | - | — | - | — | - | - | 1,0 | 2,0 | - |
1NJ ICO
Ι | II | III | IV | V | VI | |
Decksubstanz | Cu0O:MnO0 | Cu: Mn | Cu2O: Mn: ITi | Cu:Mn:Ni:Co | Cu2O:Mn:Ti | Cu0O:Mn:Mo |
Gewichtsverhält nis der Bestand teile der Deck substanz |
8 : 1 | 8:3- | 4:5:4 | 4:2:2:5 | 4 : 2 : 0.5 | 8:4: 5 |
Teilchendurchmes- ser o) |
1-10 | 10-50 | 50-70 | 5-20 | ■ 1-10 | 10-50 |
Glas Nr. | 21 | 22 | 21 | 25 | 24 | 25 |
Flüssiges Medium -ρ- |
Methanol | Methanol | Methanol | Äthanol | Äthanol | " Methanol |
CD
CD OO
ro oo
σ cn
ro U)
ro
Tabelle V (Fortsetzung)
VI | VII | IX | X | XI | XII | |
Decksubstanz | Cu:Mn:Ni:Cr | Ag:Mn:O2:Cu2O | Ag: MnOp | Cuo0:Mn:Ca0 | Cu:Mn:Pe | Cu2O:Ni |
Gewi ch t sver hältnis der Bestandteile der Decksub stanz |
4:2:4:3 | 4:1:1 | 3 : 1 | 8:3:3 | 8:4:3 | 7 : 4 |
Teilchen- durchmesser |
S-20 | 10-30 | 10-30 | 5-20 | 1-10 | 50-70 |
Glas Nr. | 26 | 28 | 29 | 27 | 30 | 21 |
'. Fluss.Medium | Acotoii | Aceton | Wasser | Äthanol | Methanol | Methanol |
OO ro oo
I | < τ τ- .L L |
III | IV | V | VI | VII | VIII | IX | X | XI - | XII | |
Dicke des Me tallüberzugs (u) |
15 | 2? | 14 | • 11 | 18 | 15 | 24 | 30 | 17 | 11 | 63 | |
Haftfestigkeit (kg/mm ) |
·- 7 -' | ?7o | 256 | 2,3 | 2; 5 | 2,1 | 2,2 | 2,5 | 3,0 |
OO NJ 00
Claims (5)
1.) Verfahren zur Ausbildung eines metallüberzogenen Glaskeramik-Gegenstandes
durch Schmelzen einer glasbildenden Masse, die Siliciumdioxyd und Aluminiumoxyd als Hauptbestandteile
und ein keimbildendes Mittel sowie 0,05 bis 5 Gewichts-%
mindestens einer Metaliverbindung, wie einer Kupferverbindung
und/oder einer Silberverbindung, berechnet als Metall, bezogen auf das Gesamtgewicht der glasbildenden Zusammensetzung,
enthält, worauf man die Schmelze zu einem Glasgegenstand der gewünschten Form verformt und den erhaltenen
Glasgegenstand in einer reduzierenden Atmosphäre erhitzt,
um das Glas zu entglasen, wobei die durch die reduzierende Atmosphäre aus der Metallverbindung gebildeten Metallionen
durch die Glasmatrix wandern und an die Oberfläche des entglasten Glasgegenstandes diffundieren und an der Oberfläche
zu metallischen Teilchen reduziert werden, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche des erhaltenen Glasgegenstandes,
bevor dieser in einer reduzierenden Atmosphäre erhitzt wird, mit einer Decksubstanz überzogen wird, die im wesent
liehen aus
a) mindestens 5 % Kupfer, Silber und/oder einer Verbindung dieser Metalle und
b) 0 bis 95 % mindestens einem von Kupfer und Silber verschiedenen
Metall und/oder einer Verbindung dieses Metalls, v.'obei das Ketall oder die Metallverbindung einen
Schmelzpunkt aufweist, der höher liegt als die bei der Heizstufe verwendete Temperatur,
besteht, wobei die prozentualen Mengen als Metall, bezogen auf das Gesamtgewicht der Decksubstanz, die ebenfalls als
Ketall berechnet wird, berechnet sind, worauf der mit der Decksubstanz überzogene Glasgegenstand erhitzt wird, wodurch
das Metall und das durch die Reduktion der Metallverbindung in der recjzierenoen Atmosphäre gebildete Metall, die in
der Decksubstanz enthalten sind, vom Inneren der Glasmatrix
409 8 28/0642
BAD ORIGINAL
herausdiffundieren und sich mit den an der Oberfläche des
Glaskeramik-Gegenstandes gebildeten metallischen Teilchen vereinigen, wodurch eine Metallschicht mit größerer Dicke
erhalten wird, die integral mit der Oberfläche des Glaskeramik-Gegenstandes
vereinigt ist.
2.) Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der verwendete Bestandteil b) der Decksubstanz 0,1 bis 80 Gewichts—% Mangan und/oder eine Verbindung davon enthält.
3.) Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der verwendete Bestandteil b) der Decksubstanz 5 bis 60 Gewichts-%
eines Manganoxyds enthält.
4.) Glaskeramik—Gegenstand mit Metallüberzug, umfassend einen
Siliciumdioxyd und Aluminiumoxyd als Hauptbestandteile enthaltenden Glaskeramik-Gegenstand und eine Metallschicht mit
einer Dicke von etwa 10 bis etwa 200 Mikron, die aus mindestens 5 Gewichts—% mindestens eines Metalls, wie Kupfer und/
oder Silber und 0,1 bis 80 Gewichts-% Mangan und 0 bis 94,9 Gewichts—% eines anderen Metalls besteht, wobei die Metallschicht
integral mit der Oberfläche des Glaskeramik-Gegenstandes über eine Zwischenschicht der Glasmatrix verbunden
ist, in der Kupfer oder Silber und ein entsprechendes Metalloxyd und eine Verbindung, die durch die Vereinigung von Manganoxyd
mit mindestens entweder Aluminiumoxyd oder Siliciumdioxyd in dem Glas gebildet wurde, dispergiert sind.
5.) Glaskeramik-Gegenstand mit Metallüberzug, umfassend einen Siliciumdioxyd und Aluminiumoxyd als Hauptbestandteile enthaltenden
Glaskeramik-Gegenstand und eine Metallschicht mit eine;
Dicke von 10 bis etwa 200 Mikron, die aus mindestens 5 Gew.-% mindestens eines Metalls, wie Kupfer und/oder Silber, besteht,
wobei die Metallschicht integral über eine Zwischenschicht der Glasmatrix, in der Kupfer oder Silber und ein entsprechendes
Metalloxyd dispergiert sind, mit der Oberfläche des Glaskeramik—Gegenstands
verbunden ist. -*
409828/0642
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP731427A JPS5324966B2 (de) | 1972-12-25 | 1972-12-25 | |
JP142773 | 1972-12-25 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2341776A1 true DE2341776A1 (de) | 1974-07-11 |
DE2341776B2 DE2341776B2 (de) | 1976-06-10 |
DE2341776C3 DE2341776C3 (de) | 1977-02-03 |
Family
ID=
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2606963A1 (de) * | 1976-02-20 | 1977-08-25 | Siemens Ag | Verfahren zur herstellung einer dickschichtschaltung auf ein vorzugsweise aus einer oxidkeramik bestehendes traegerplaettchen |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2606963A1 (de) * | 1976-02-20 | 1977-08-25 | Siemens Ag | Verfahren zur herstellung einer dickschichtschaltung auf ein vorzugsweise aus einer oxidkeramik bestehendes traegerplaettchen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2341776B2 (de) | 1976-06-10 |
GB1444415A (en) | 1976-07-28 |
US3876407A (en) | 1975-04-08 |
JPS5324966B2 (de) | 1978-07-24 |
FR2211410A1 (de) | 1974-07-19 |
JPS4987715A (de) | 1974-08-22 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
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