DE2308627A1 - Semitransparente, aetzbare duenne schicht auf einem substrat - Google Patents

Semitransparente, aetzbare duenne schicht auf einem substrat

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DE2308627A1 DE19732308627 DE2308627A DE2308627A1 DE 2308627 A1 DE2308627 A1 DE 2308627A1 DE 19732308627 DE19732308627 DE 19732308627 DE 2308627 A DE2308627 A DE 2308627A DE 2308627 A1 DE2308627 A1 DE 2308627A1
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semitransparent
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etchable thin
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Walter Hertlein
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Mettler Instrumente AG
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Mettler Instrumente AG
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/54—Absorbers, e.g. of opaque materials
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JPH071389B2 (ja) * 1985-11-22 1995-01-11 シャープ株式会社 フオトマスクの製造方法
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