DE2307723C3 - Festkörper-Bildverstärker - Google Patents
Festkörper-BildverstärkerInfo
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Description
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß die Schicht mit negativem Widerstand im
wesentlichen aus einer Thermistorsrhichi besteht, die fein verteiltes Pulver mit einem positiven Temperaturkoeffizienten
des Widerstand' enthält.
Bei einer Ausführungsform enthält die Schicht mit negativem Widerstand ein darin eingebettetes Heizelement
zur Steuerung der Größe der kritischen Spannung Vc.
Mit der Erfindung kann also die Hofbildung an sehr hellen Bildfeldern weitgehend unterdrückt werden.
Außerdem kann die kritische Spannung V. des PTC-Thermir.torelements auf sehr einfache Weise
gesteuert werden.
An Hand der Zeichnungen werden die bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung beschrieben. In
den Zeichnungen zeigt die
Fig. 1 eine Darstellung der grundsätzlichen Bauweise
des Festkörper-Bildverstärkers,
Fig. 2 eine Strom-Spannungs-Kennlinie einer
Schicht mit negativem Widerstand des Festkörper-Bildverstärkers nach Fig. 1,
F i g. 3 eine Strom-Spannung-Kennlinie eines Thermistors
mit einem positiven Temperaturkoeffizienten des Widerstands zur Erklärung der Wirkungsweise
des erfindungsgemäßen Festkörper-Bildverstärkers, und
F i g. 4 eine Darstellung der Bauweise eines Festkörper-Bildverstärkers
mit einem Heizelement, das in einer Schicht mit negativem Widerstand eingebettet
ist.
Ein Festkörper-Bildverstärker enthält eine Platte aus integrierten Schichten, wie in der F i g. 1 dargestellt.
Eine erste transparente Elektrodenschicht 2 ist auf einem transparenten Träger 1, wie z. B. einer
Glasplatte, abgeschieden. Eine Elektrolumineszenzschicht 3 befindet sich auf der ersten transparenten
Elektrodenschicht 2. Eine Schicht 4 mit negativem Widerstand befindet sich auf der Elektrolumineszenzschicht
3. Eine photoleitende Schicht 5 befindet sich auf der Schicht 4 mit negativem Widerstand.
Eine zweite transparente Elektrodenschicht 6 ist auf der photoleitenden Schicht 5 abgeschieden.
Die F i g. 2 zeigt die Strom-Spannungs-Kennlinie der Schicht 4 mit negativem Widerstand. Die Schicht 4
mit negativem Widerstand besitzt auf der Strom-Spannungs-Kennlinie bei einer kritischen Spannung Vc
einen Umwandlungspunkt 7. Bei diesem Umwandlungspunkt 7 ändert sich die Kennlinie von einem
niedrigen Widerstandszweig 8 eines spezifischen Widerstands/?,
in einen hohen Widerstandszweig 9 eines spezifischen Widerstands R1, in Übereinstimmung
mit einem Spannungsanstieg, wie der F i g. 2 zu entnehmen ist. Der 7?/,-Wert ist höher als mindestens
das lOOfache des /?j-Werts. Die photoleitende Schicht5 besitzt spezifische Widerstände/?, und /?.,
in bezug auf die Bestrahlung mit Licht mit den Intensitäten L1 und L2, worin L1 oder L., niedriger oder
höher ist als eine kritische Intensität Ln bei der die
Schicht 4 mit negativem Widerstand eine Zweigspan- t>u
nung erhält, die der kritischen Spannung Vt. entspricht.
Der /?j-Wert ist höher als der /?.,-Wert.
Wenn eine bestimmte Spannung V an den Festkörper-Bildverstärker
angelegt und ein Einheitsbereich der photoleitenden Schicht 5 mit Licht der Intensität L1 oder L2 bestrahlt wird, wird die Spannung,
die bei dem entsprechenden Einheitsbereich der Elektrolumineszenzschicht3 auftritt, als RVI
(Rx+R +R1) oder RV!(R, + R + Rh) ausgedrückt,
worin R der spezifische Widerstand der Elektrolumineszenzschicht 3 ist.
Die Helligkeit B des von der Elektrolumineszenzschicht 3 emittierten Lichts kann in einfacher Weise
mit der Spannung VH, die bei der Schicht 3 auftritt,
in Beziehung gesetzt und wie folgt ausgedrückt werden:
B=KVE,
worin η in der Praxis einen Wert zwischen 3 und 7 hat und K eine Konstante ist.
Demnach nimmt die Helligkeit des von einem Einheitsbereich der Elektrolumineszenzschicht 3 mit
einer Erhöhung der Lichtintensität von L1 auf L2 des
auf den entsprechenden Einheitsbereich der photoleitenden Schicht 5 gestrahlten Lichts ab. Folglich
kann eine klare Bildanzeige in dem dunklen Feld des Lichtbilds ohne Auftreten der Halobildung in
dem sehr hellen Feld erhalten werden.
Die erste transparente Elektrodenschicht 2 und die zweite transparente Elektrodenschicht 6 können aus
einem transparenten dünnen Zinnoxidfilm bestehen. Die Elektrolumineszenzschicht 3 besteht im wesentlichen
aus einem elektrolumineszierenden Material, wie z. B. aus Zinksulfid oder Zinkselenid. Die photoleitende
Schicht 5 besteht im wesentlichen aus einem photoleitenden Material, wie z. B. aus Kadmiumsulfid
oder Kadmiumselenid. Die Schicht 4 mit negativem Widerstand mit einer Strom-Spannungs-Kennlinie,
wie sie in der Fig. 2 dargestellt ist, besteht im wesentlichen aus einem Thermistorelement mit einem
positiven Temperaturkoeffizienten des Widerstands (nachfolgend als PTC-Thermistor bezeichnet). Diese
PTC-Thermistorschicht wird durch Aufbringen einer Paste aus in einem Trägermittel dispcrgiertem gepulvertem
PTC-Thermistor auf die Elektrolumineszenzschicht 3 und Härten dieser Paste hergestellt.
Es ist erwünscht, die kritische Spannung Vc in einfacher
Weise ändern zu können, um so eine Halobildung in einem hellen Feld mit verschiedener Helligkeit
zu verhindern. Wie in der F i g. 3 dargestellt, verschiebt sich die Strom-Spannungs-Kennlinie des
PTC-Thermislors mit Erhöhung der Temperatur des PTC-Thermistors von einer Kurve 10 über eine
Kurve 11 zu einer Kurve 12, und dementsprechend verschiebt sich die kritische Spannung F1 über V.,
zu K1.
In der F i g. 4 enthält eine Platte integrierte Schichten aus einem transparenten Trägermaterial 1, einer
ersten transparenten Elektrodenschicht 2, einer Elektrolumineszenzschicht 3, einer Schicht 4 mit negativem
Widerstand, einer photoleitenden Schicht 5 und einer zweiten transparenten Elektrodenschicht 6 in
der angegebenen Reihenfolge. Ein Heizelement 22 ist in der Schicht 4 mit negativem Widerstand enthalten.
Dieses Heizelement 22 besteht aus einem Metalldraht oder a'is einer dünnen Metallfolie. Die Schicht 4 mit
negativem Widerstand besteht im wesentlichen aus einem PTC-Thermistorelement. Die Temperatur der
Schicht 4 mit negativem Widerstand ändert sich mit dem elektrischen Strom, der durch das Heizelement
22 fließt, und demnach kann die kritische Spannung Vc durch Regelung des Heizstroms gesteuert werden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (2)
1. Festkörper-Bildverstärker aus einer Platte körper-Bildverstärker milt einerJ«*J"J« Spaaaus
integrierten Schichten mit einem transparen- nung V versehen .st, mit Ψ?™***^*™«>*
ten Trägtr, einer ersten transparenten Elektroden- 5 Elektrodensch.cht, wöbeι die^ j™5;^ Hj.
schicht einer Elektrolumineszenzschicht mit trodensch.cht, die ^^^fj^^^ f
einem spezifischen elektrischen Widerstand/?, Schicht mit negativem Widerstand,die photole.tende
einer Schicht mit negativem Widerstand mit einer Schicht und die zweite transparente Elektroden-Spannung-Strom-Kennlinie,
die einen Umwand- schicht in der angegebenen Reihenfolge zusammenlungspunkt
von einem niedrigen Widerstands- i. gesetzt sind, wodurch nach dem Aufstrahlen eines
zweig eines spezifischen Widerstands A1 zu einem Lichtbildes auf den Festkörper-Bildverstärker mit
hohen Zweig eines spezifischen Widerstands R1, einer an dieses angelegten bestimmten Spannung V
mit einer Erhöhung der Spannung bei einer kriti- ein Einheitsbereich ^er Elektrolum.neszenzschicht
sehen Spannung Vc zeigt, einer photoleitenden durch eine SpannungRVZ(R1 +R + R1) oder RVZ(R,
Schicht mit spezifischen elektrischen Widerstän- >s + R+Rh) angeregt wird, wenn der entsprechende
den R. und /?., bei Bestrahlen mit Licht der In- Einheitsbereich der photoleitenden Schicht mit der
tensitätL. und" L.„ worin L1 oder L. niedriger Lichtintensität L1 oder L2 bestrahlt wird,
oder höher ist als'eine kritische Intensität Lc, die Ein herkömmlicher Festkörper-Bildverstärker hat
oder höher ist als'eine kritische Intensität Lc, die Ein herkömmlicher Festkörper-Bildverstärker hat
bewirkt, daß die Schicht mit negativem Wider- Doppelschichten aus einer elektrolummeszierenden
stand eine Zweigspannung erhält, die der kriti- 20 Schicht und einer photoleitenden Schicht, die »sandschen
Spannung Vc entspricht, wenn der Fest- wich«-artig zwischen zwei transparenten Elektroden
körper-Bildverstärker mit einer bestimmten Span- angeordnet sind. Die transparenten Elektroden benung
V versehen ist, mit einer zweiten transpa- stehen dabei im allgemeinen aus dünnen Zinnoxidrenten
Elektrodenschicht, wobei die erste trans- schichten, die auf transparenten Glasplatten abgeparente
Elektrodenschicht, die Elektrolumines- 25 schieden sind. Die elektrolumineszierende Schicht
zenzschicht, die Schicht mit negativem Wider- besteht gewöhnlich aus Zinksulnd oder Zinkselenid
stand, die photoleitende Schicht und die zweite als aktives Material, und die photoleitende Schicht
transparente Elektrodenschicht in der angegebe- besteht aus Kadmiumsulfid oder Kadmiumselenid als
nen Reihenfolge zusammengesetzt sind, wodurch aktives Material. Einfallendes Licht wird auf eine
nach dem Aufstrahlen eines Lichtbildes auf den 30 der transparenten Elektroden projiziert, die an die
Festkörper-Bildverstärker mit einer an dieses an- photoleitende Schicht grenzt, und dann wird das abgelegten
bestimmten Spannung V ein Einheits- gegebene Licht auf der anderen transparenten Elekbereich
der Elektrolumineszenzschicht durch eine trode beobachtet, die an die elektrolumineszierende
Spannung RVZ(R1+R+R1) oder RVZ(R2 + R Schicht grenzt. Ein solches konventionelles Gerät
+ Rh) angeregt wird, wenn der entsprechende 35 arbeitet nach dem folgenden Prinzip: Wenn eine
Einheitsbereich der photoleitenden Schicht mit Spannung über den beiden transparenten Elektroden
der Lichtintensität L1 oder L., bestrahlt wird, d a - angelegt und einfallendes Licht auf die photoleitende
durch gekennzeichnet, daß die Schicht Schicht projiziert wird, vermindert sich die Spannung
mit negativem Widerstand (4) im wesentlichen aus über der photoleitenden Schicht in Übereinstimmung
einer Thermistorschicht besteht, die fein verteiltes 40 mit der Abnahme des spezifischen Widerstands der
Pulver mit einem positiven Temperaturkoeffizien- photoleitenden Schicht nach dem Projizieren von
ten des Widerstands enthält. einfallendem Licht auf diese Schicht. Die Spannung
2. Festkörper-Bildverstärker nach Anspruch 1, über der elektrolumineszierenden Schicht erhöht sich
dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht mit entsprechend, und daher wird das einfallende Licht
negativem Widerstand (4) ein darin eingebettetes 45 verstärkt. Wenn das einfallende Licht aus einem
Heizelement (22) zur Steuerung der Größe der Lichtbild besteht, kann ein verstärktes, dem einkritischen
Spannung Vc enthält. fallenden Lichtbild entsprechendes Lichtbild beobachtet
werden.
So ist aus der DT-OS 1914 912 ein Festkörper-
50 Bildverstärker bekanntgeworden, der eine optisch
durchsichtige Elektrode auf einer photoleitenden Schicht und daran anschließend eine Feldeffekt-Halb-
Gegenstand der Erfindung ist ein Festkörper-Bild- leiterschicht aufweist. In die darauffolgende Elektroverstärker
aus einer Platte aus integrierten Schichten lumineszenzschicht sind Speiseelektroden eingelagert,
mit einem transparenten Träger, einer ersten trans- 55 Aus der DT-OS 20 46 702 ist es ferner bekannt,
parenten Elektrodenschicht, einer Elektrolumines- gegebenenfalls einen transparenten Träger und eine
zenzschicht mit einem spezifischen elektrischen Wi- zweite transparente Elektrodenschicht vorzusehen,
dersland R, einer Schicht mit negativem Widerstand Bei derartigen Festkörper-Bildverstärkern ist es
dersland R, einer Schicht mit negativem Widerstand Bei derartigen Festkörper-Bildverstärkern ist es
mit einer Spannung-Strom-Kennlinie, die einen Um- ziemlich schwierig, den Kontrast des dunklen Feldes
wandlungspunkt von einem niedrigen Widerstands- 60 in dem abgegebenen Lichtbild zu erhöhen. Eine Erzweig
eines spezifischen Widerstands R1 zu einem höhung der Intensität des einfallenden Lichts z. B.
hohen Zweig eines spezifischen Widerstands Rh mit bewirkt eine Halobildung in dem hellen Feld in dem
einer Erhöhung der Spannung bei einer kritischen abgegebenen Bild.
Spannung Vc zeigt, einer photoleitenden Schicht mit Die der Erfindung zugrundeliegende Aufgabe bespezifischen
elektrischen Widerständen A1 und R2 bei 65 steht darin, einen Festkörper-Bildverstärker zu schaf-Bestrahlen
mit Licht der Intensität L1 und L2, worin fen, mit dem sich eine klare Bildinformation im
L1 oder L2 niedriger oder höher ist als eine kritische Dunkelfeld des Lichtbildes ohne Hofbildung an sehr
Intensität Ln die bewirkt, daß die Schicht mit nega- hellen Bildfeldern erhalten läßt.
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