DE2307723A1 - Lichtverstaerkungsgeraet - Google Patents
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Description
Dr-In3. H/.
BEKLtU SS
l f ·
Matsushita Electric Industrial Co.,Ltd., lOOü, Kadoma, Osaka,Japan!
Lichtverstärkungsgerät
Zusammenfassung der Beschreibung:
j Es handelt sioh um ein Lichtverstärkungsgerät, das eine Platte
aus integrierten Schichten aus einem transparenten Träger, einer ersten transparenten Elektrodenschicht, einer photoli^tenden
Schicht, einer Schicht mit negativem Widerstand (negative resistanf
ce layer), einer elektrolumineszierenaen Schicht und einer zweiten
transparenten Elektrode enthält. Das Oerät kann die Halobildung
verhüten, die in dem hellen Feld des abgegebenen Bilds auftritt.
Die Erfindung bezieht sich auf ein Lichtverstärkungsgerät und im
speziellen auf ein neues unu verbessertes Lichtverstärkungsgerät, das die Halobildung in dem hellen Feld des abgegebenen Bilds bei
Erhöhung eines Kontraste des Bilds in dem dunklen Feld vermeiden kann.
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j Ein herkömmliches Lichtverstärkungsgerät hat Doppelschichten aus
! einer elektrolumineüzierenden Schicht und einer photoleitenden
j Schicht, die "sandwich"-artig zwiscnen zwei transparenten Elek-
: troden angeordnet sind. Die transparenten Elektroden bestehen
j dabei im allgemeinen auc dünnen Zinnoxidschichten, die auf transparenten
Glasplatten abgeschieden sind. Die elektrolumineszierend^
Schicht besteht gewöhnlich aus Zinksulfid oder Zinkselenid als > aktives Material, und die photoleitenae Schicht besteht aus Kadmiumsulfid
oder Kadmiumselenid als aktives Material. Einfallendes
; Licht wird auf eine der transparenten Elektroden projiziert, die an die photoleitende Schicht grenzt, und dann wird das abgegebene
Licht auf der anderen transparenten Elektrode beobachtet, die an die elektrolumineszierende Schicht grenzt. Ein solches konventionelles
Gerät arbeitet nach dem folgenden Prinzip: Wenn eine Spannung über den beiden transparenten Elektroden angelegt wird
und einfallendes Licht auf die photoleitende Schicht projiziert wird, vermindert sich die Spannung über der pnotoleitenucn Sohichtj
in Übereinstimmung mit der Abnahme des spezifischen Widerstands
der photoleitenden Schicht nach dem Projizieren von einfallendem Licht auf diese Schicht. Die Spannung über der elektrolurnineszierenden
Schicht erhöht sich entsprechend, und daher wird das einfallende Licht verstärkt. Wenn das einfallende Licht aus einem !
Lichtbild besteht, kann ein verstärktes, dem einfallenden Licht- ι
bild entsprechendes Lichtbild beobachtet weruen.
Ein solches konventionelles Lichtverstärkungsgerät ist mit dem Problem verbunden, dass es ziemlich schwierig ist, den Kontrast
des dunklen Felds in dem abgegebenen Lichtbild zu erhöhen. Eine Erhöhung der Intensität des einfallenden Liohts z.B. bewirkt
eine Halobildung in dem hellen Feld in uem abgegebenen Bild.
Daher ist es ein Hauptziel der Erfindung, ein neues und verbessertes
Lichtverstärkungsgerät zur Verfügung zu stellen, dass die
Halobildung vermeiden kann, die in dem hellen Feld in dem abgegebenen Lichtbild erscheint.
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Nach einem weiteren Ziel der Jirfinaung soll ein Lichtverstärkungs4
j gerät geschaffen werden, aas eine Schicht mit negativem Wiuerstand
ausser einer elektrolumineszierenden Schicht und einer photoleij tenden Schicht enthält.
ι ;
Diese Ze\^le werden durch ein Lichtvers tärlcungsgerät erreicht,
das eine Platte aus integrierten Schichten enthält, die im wesentlichen aus einem transparenten Trägermaterial, einer ersten
ι transparenten Elektroaenachicht, einer Elektrizität*in-Licht-
Umwandlungsschicht mit einem spezifischen elektrischen Widerstand R, einer Schicht mit negativem Widerstand mit einer Spannung- !
j «»Strom-Kurve, die einen Über gangs punkt von einem niedrigen Wider- ;
j
; Standsbereich eines spezifischen Widerstands R, zu einem hohen \
! Bereich eines spezifischen Widerstands R in Übereinstimmung mit '
i
ί einer Erhöhung der Spannung auf eine kritische Spannung V , einer ;
I Licht-in-Elektrizität-ümwandlungsschicht mit spezifischen elek- <
trischen Widerständen R, und Rp in bezug auf ein Bestrahlen mit |
Licht mit Intensitäten L, und L^, worin L, oder L2 unter oder übeii
einer kritischen Intensität L liegen, die bewirkt, dass die Schidht
mit negativem Widerstand eine Zweigspannung erhält, die der kritischen Spannung V entspricht, wenn Jas Lichtverstärkungsgerät
mit einer bestimmten Spannun V versehen wird, und einer zweiten transparenten Elektrodenschicht besteht, wobei die erste transparente
Elektrodenschicht, die Elektrizfeität-in-Lidit-Umwandlungsschicht,
die Schicht mit negativem Widerstand, die Licht-in-Elektrizität-ümwandlungsschicht
und die zweite transparente Elektrodenschicht in der angegebenen Reihenfolge zusammengesetzt sind
und nach dem Bestrahlen des Geräts, das uie an dieses angelegte bestimmte Spannung V aufweist, mit einem Lichtbild ein Einheits-f
bereich der Elektrizität-in-Licht-Umwandlungsschicht durch eine
Spannung HV/(R,+R+R,) oder RV/R2+R+Rh) erregt wird, wenn der entsprechende
Einheitsbereich üer Licht-in-Elektrizität-Umwandlungsschicht
mit der Lichtintensität L1 oder L^ bestrahlt und dementsprechend
die Halobildung in dem hellen Feld des Lichtbilds eliminiert wird.
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M ^220
Diese und weitere Ziele der Erfindung sind aus der nachfolgenden
ausführlicheren Beschreibung in Verbindung mit den dazugehörigen Zeichnungen ersichtlich. In den Zeichnungen
die Figur 1 eine schematische und grundsätzliche Bauweise des Lichtverstärkungsgeräts der Erfindung wieder,
die Figur 2 eine Spannung-Stromkennlinie einer Schicht mit nega-
! tivem Widerstand des in der Figur 1 dargestellten
! Geräts wieder.
aie Figur 3 eine Spannung-Strom-Kennlinie eines Thermistors mit
einem positiven Temperaturkoeffizienten des Widerstands zur Erklärung der Wirkungsweise des erfindungsgemässen
Geräts wieder und
die Figur 4 eine schematische Bauweise eines Lichtverstärkungsgeräts
der Erfindung miteinem Heizelement, das in einer Schicht mit negativem Widerstand eingebettet
ist.
Der Gegenstand der Erfindung wird im folgenden unter Bezugnalune
auf die Figur 1 erläutert. Ein Lichtverstärkungsgerät nach der Erfindung enthält eine Platte aus integrierten Schichten, wie
es in der Figur 1 dargestellt ist. Eine erste transparente Elektrodenschicht 2 ist auf einem transparenten Träge:· 1, wie z.B.
einer Glasplatte, abgeschieden. Eine Elektrizität-in-Licht-Umwandlungsschicht
j5 befindet sich auf der ersten transparenten Elektrodenschicht 2. Eine Schicht 4 mit negativem Widerstand
befindet sich auf der Elektr.izität-in-Licht-Umwandlungsschicht
Eine Licht-in-Elektrizität-Urawandlungsschlcht 5 befindet sich
auf der Schicht 4 mit negativem Widerstand. Eine zweite transparente Elektrodenscbicht 6 1st auf der Licht-in-Elektrizität-Um-,
Wandlungsschicht 5 abgeschieden.
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Die Figur 2 zeigt die Spannungs-Strom-Kennlinie aer Schicht ^
mit negativem Widerstand. Die Schicht k- mit negativem Widerstand
zeigt einen Uiwrandlungspunkt 7 auf der Spannung-Strom-Kennlinie
bei einer kritischen Spannung V . Bei diesem ümwandlungspunkt γ
ändert sich der Widerstand von einem niedrigen Widerstandszweig 8 eines spezifischen Widerstands R, in einen hohen Widerstandszweig 9 eines spezifischen Widerstands R, in Übereinstimmung mit
einem Spannungsanstieg, wie der Figur 2 zu entnehmen ist. Der R.-Wert ist höher als mindestens das lOOf-ache des R.-Werts.
Die Licht-ln-Elektrizität-Umwandlungsschicht ρ hat spezifische
Widerstände R1 und R^ in bezug auf die Bestrahlung mit Licht
mit den Intensitäten L, und L2, worin L, oder· L2 niedriger oder
höher ist als eine kritische Intensität L,, die bewirkt, dass
v>
diese Schicht 4 mit negativem Widerstand eine Zweigspannung -tm
erhält, die der kritischen Spannung V entspricht. Der R^-Wert ,
1st höher als der R2-Wert. j
Wenn eine bestirnte Spannung Y an das Lichtverstarkungsgerät >
angelegt und ein Einheitsbereich der Hcht-ln-Elektrizität-Um- j
Wandlungsschicht'5 mit Licht mit der Intensität L1 oder L2 be- :
strahlt wird, wird die Spannung, die bei dem entsprechenden I
Einheitsbereich der Elektrizität-in-Licht-Umwandlungsschicht 3 i
auftritt, als RV/(R,+R+R,) oder RV/(Ro+R+R. ) ausgedrückt, worin
XX C. Ll
R der spezifische Widerstand der Elektrizität-in-Licht-Umwandlungsschicht
3 let.
Die Helligkeit B des von der Elektrizität-in-Licht-Umwandlungfisehleht
3 emittierten Liehts kann in einfacher Weise mit der Spannung Vn,, die bei der Schicht 3 auftritt, in Beziehung gesetzt \
und wie folgt ausgedrückt werden: '
worin η in der Praxis einen Wert zwischen 3 und 7 hat und K
eine Konstante ist.
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ι Demnach nimmt die Helligkeit des von einem Einheitsbereich der
, Elektrizität-in-Licht-Umwandlungsschicht 3 mit einer Erhöhung
j der Lichtintensität von L, auf L2 des auf uen entsprechenden
I Einheitsbereich der Licht-in-Elektrizität-Umwandlungsschicht 5
! gestrahlten Lichts ab. Folglich kann eine klare Bildanzeige in dem dunklen Feld des Lichtbilds ohne Auftreten der Halobildung
in dem sehr hellen Feld erhalten werden.
! Die erste transparente Elektrodenschicht 2 und die zweite transpa-
! rente Elektrodenechicht 6 können aus einem transparenten dünnen
I Zinnoxidfilm bestehen. Die Elektrizität-in-Licht-Umwandlungsschlcht
i 3 besteht im wesentlichen aus einem elektrolumineszierenden Matei
rial, wie z.B. aus Zinksulfid oaer Zinkselenid. Die Licht-in-Elekj
trlzität-Umwandlungsschicht 5 besteht im wesentlichen aus einem
! photoleitenden Material, wie z.B. aus Kadmiumsulfid oder Kadmiumselenld.
Die Schicht 4 mit negativem Widerstand mit einer Spannungj-
-Strom-Kennlinie, wie sie in der Figur 2 dargestellt ist, besteht j
Im wesentlichen aus einem Thermistorelement mit einem positiven j
Temperaturkoeffizienten des Widerstands (nachfolgend als PTC-Thermistor
bezeichnet). Diese FTC-Thermistorschicht wird durch Aufbringen
einer Paste aus In einem Trägermittel dlspergiertem ge- ί
pulvertem PPC-Thermistor auf die Elektrlzität-in-Licht-Umwandlungsjschicht
J3 und Härten dieser Paste hergestellt.
Es ist erwünscht, die kritische Spannung V in einfacher Weise zu ändern, um so eine Halobildung in dem hellen Feld mit verschiedener
Helligkeit zu verhindern. Wie in der Figur 3 dargestellt ist, verschiebt sich die Spannung-3tiom-Kurve des PTC-Thermistors
von einer Kurve 10 zu einer Kurve 12 durch eine Kurve 11 mit Erhöhung der Temperatur aes PTC-Thcrmistors, und
dementsprechend verschiebt sich die kritische Spannung V1 zu V,
durch V^.
In der Figur 4 enthält eine Platte integrierte Schichten aus
einem transparenten Trägermaterial 10, einer ersten transparenten Elektrodenachicht Iy, einer Elektrizität-in-Lioht-Umwandlungsschioht
lö, einer Schicht ly mit negativem Widerstand, einer
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Licht-in-Elektrizität-Uinwandlungsschicht dO unu einer zweiten
transparenten Elektroüenschicht 21 in der angegebenen Reihenfolge.
Ein Heizelement 22 ist in der Schicht 19 mit negativem Widerstand enthalten. Dieses Heizelement 22 besteht aus einem
Metalldraht oder aus einer dünnen Metallfolie. Die Ochicht 19
mit negativem Widerstand besteht im wesentlichen aus einem
PTC-Thermistorelement. Die Temperatur der Schicht 19 mit nega tivem Widerstand ändert sich mit dem elektrischen Strom, der
durch das Heizelement 22 fliesst, und demnach kann die kritische Spannung V durch Regelung des Heizstroms gesteuert werden.
PTC-Thermistorelement. Die Temperatur der Schicht 19 mit nega tivem Widerstand ändert sich mit dem elektrischen Strom, der
durch das Heizelement 22 fliesst, und demnach kann die kritische Spannung V durch Regelung des Heizstroms gesteuert werden.
Obwohl vorstehend zur Zelt bevorzugte Ausführungen der Erfindung
beschrieben sind, können, wie für den Fachmann ersichtlich ist,
innerhalb des Erfindungsbereichs verschiedene Änderungen und
Abwandlungen vorgenommen werden.
Abwandlungen vorgenommen werden.
- Patentansprüche - j
309836/004
Claims (1)
- j PatentansprücheLichtverstärkungsgerät, gekennzeichnet durch eine Platte aus integrierten Schichten, uie im wesentlichen auü einem transparenten Träger, einer ersten transparenten Elektrodenschicht, einer Elektrizität-in-Licht-Umwandlungsschicht mit einem spezifischen elektrischen Widerstand R, einer Schicht mit negativem Widerstand mit einer Spannung-Strom- -Kennlinie, die einen Umwandlungspunkt von einem niedrigen Widerstandszweig eines spezifischen Widerstands R, zu einem hohen Zweig eines spezifischen Widerstands R. mit einer Erhöhung der Spannung bei einer kritischen Spannung V zeigt, einer Licht-in-Elektrizfcität-Umwandlungsschicht mit spezifischen elektrischen Widerständen R, und R^ in bezug auf das Bestrahlen mit Licht mit Intensitäten L, und L2, worin L. oder Lp niedriger oder höher ist als eine kritische Intensität L ,die bewirkt, dass die Schicht mit negativem Widerstand eine Zweigspannung erhält, die der kritischen Spaiinung V entspricht, wenn das Lichtverstärkungsgerät mit einer bestimmten Spannung V versehen ist, und einer zweiten transparenten Elektrodenschicht besteht, wobei die erste transparente Elektrodenschicht, die Elektrizitätwln- -Licht-Uniwandlungsschicht, die Schicht mit negativem Widerstand, die L.icht-in-Elektrizität-U.i'wandiungsschicht und die zweite tiNin.^j.arente Elektroden^ nicht in der angegebenen Reihent'·. . / zusammengesetzt sine, ^odurch nach dem Aufstrahlen «» ri .·. ί. .(itbjlds auf das Ut. ;Μ. :.it einer an dit?£H.'£: an·ORIGINAL INSPECTEDgelegten bestimmten Spannung V ein Einheitsbereich der Elektrizität-in-Licht-Umwandlungsschicht durch eine . i>pannung Rv/(Ri+K+H, ) oüer HV/(H,. -»-ii+Ji. ) an^orcgt wird, wennA JL £-11der entsprechende Einheltsbereicn der Licht-in-Elektrizitiit- -ürawandlungsschicht mit der Lichtintensität L1 oaer i,. bestrahlt wird und die Halobildung in dem hellen Feld ues Lichtbilds eliminiert wird.;, 2. LichtverstMrkungsgerät nach Anspruch 1, dadurch gekenn^eich- : net, dass die Elektrizltüt-in-Licht-Umwandlungsschicht im wesentlichen aus einem elektrolumineüzierenden Material besteht.Lichtverstärkungsgerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich-? net, dass die Schicht mit negativem Widerstand Λ..ι ·..·-;^-j;.tlJc'i-^Λ aus einer Thermistorsohicht besteht, die l'ein verteiltes Pulver mit einem positiven Temperaturkoeffizienten ' des Widerstands enthält. >4. Lichtverstärkungsgerät nach Anspruch 1, üadurch gekennzeich-j net, dass die Hcht-in-Elektrizität-Umwandlungsschicht im jwesentlichen aus einem photoleitenden Material besteht.5. Lichtverstärkungsgerät nach Anspruch 1, uauuieh gekennzeichnet, dass die Schicht mit negativem Widerstand ein darin eingebettetes Heizelement zur Steuerung uer Grosse der kritischen Spannung V enthält. 'ORIGINAL INSPECTED30983B/09ULeerseite
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EF | Willingness to grant licences |