DE2242503C3 - Wäßriges saures Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Rhodiumüberzügen - Google Patents
Wäßriges saures Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von RhodiumüberzügenInfo
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- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 title claims description 48
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 title claims description 48
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium Chemical group [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 32
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 title claims description 6
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 title claims 2
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 5
- -1 rhodium ions Chemical class 0.000 claims description 48
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 15
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 8
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 4
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910001425 magnesium ion Inorganic materials 0.000 claims 2
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L Copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims 1
- 239000003638 reducing agent Substances 0.000 claims 1
- ZTBGZLXHBMWLFN-UHFFFAOYSA-K sodium;trichlororhodium Chemical compound [Na].Cl[Rh](Cl)Cl ZTBGZLXHBMWLFN-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 claims 1
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N Glutaric acid Chemical compound OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N Pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N (E)-but-2-enedioate;hydron Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 8
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N Adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Chemical compound OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K [O-]P([O-])([O-])=O Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 7
- 230000002378 acidificating Effects 0.000 description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical class [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 7
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N Azelaic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 4
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 4
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N fumaric acid Chemical compound OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 4
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 4
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H Aluminium sulfate Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 3
- FEWJPZIEWOKRBE-XIXRPRMCSA-N Mesotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-XIXRPRMCSA-N 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- YWFDDXXMOPZFFM-UHFFFAOYSA-H rhodium(3+);trisulfate Chemical compound [Rh+3].[Rh+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O YWFDDXXMOPZFFM-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 3
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 3
- 229960001367 tartaric acid Drugs 0.000 description 3
- ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K Aluminium phosphate Chemical compound O1[Al]2OP1(=O)O2 ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000001627 detrimental Effects 0.000 description 2
- 230000002349 favourable Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L mgso4 Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 235000011007 phosphoric acid Nutrition 0.000 description 2
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene (PE) Substances 0.000 description 1
- 241000282941 Rangifer tarandus Species 0.000 description 1
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive Effects 0.000 description 1
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940085991 phosphate ion Drugs 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 150000007519 polyprotic acids Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Description
teilig erwiesen haben und zu nicht befriedigenden
Rhodiumüberzügen Anlaß geben.
Die USA.-Patentschrift 19 49 131 betrifft schließ-Die Erfindung betrifft ein wäßriges saures Bad 35 lieh BädT zur Bildung von hellen, glänzenden Rho-
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch g
net, daß es als mehrbasische organische Säure Azelainsäure, Pimelinsäure, Oxalsäure, Malonsäure,
Adipinsäure, Glutarsäure, Weinsäure, Bernsteinsäure, Zitronensäure, Maleinsäure, Fumarsäure
oder Mischungen daraus enthält
3. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es außerdem 10,0 bis 70,0 g/l Phosphat- ao
ionen enthält, wobei das Gewichtsverhältnis von Sulfationen zu Phosphationen wenigstens 2,0:1,0
beträgt.
4. Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Rhodiumüberzügen unter Verwendung eines as
Bads nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß mit einer im Bereich von 20,0
bis 65,0° C liegenden Badtemperatur und einer kathodischen Stromdichte von 0,054 bis 2,15
A/dm2 gearbeitet wird.
zur galvanischen Abscheidung von glänzenden und rißfreien Rhodiumüberzügen, enthaltend Rhodiumionen,
Aluminiumionen und Sulfationen, sowie ein Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Rhodiumüberzügen
unter Verwendung dieses Bads.
Galvanisch erzeugte Rhodiumabscheidungen werden mit Vorteil zu dekorativen Zwecken in der
Schmuckindustrie und für anlaufbeständige Silberoberflächen, in der Elektronikindustrie für gedruckte
diumüberzügen, die eine wäßrige Lösung eines löslichen Rhodiumsalzes, eines löslichen Aluminiumsalzes
und einer freien Mineralsäure umfassen. Hinsichtlich der einzusetzenden Aluminiumsalze werden
keine kritischen Mengenverhältnisse offenbart und die Aluminiumsalze können als Anionen Sulfationen
und Chloridionen aufweisen.
Die mit den herkömmlichen Bädern gebildeten Rhodiumüberzüge leiden an dem Nachteil, daß sie
Schaltungen u. dgl. und ganz allgemein zur Verbes- 45 verhältnismäßig hohe innere Spannungen aufweisen,
serung der Verschleiß- und/oder Korrosionsbestän- was ein Abblättern des Rhodiumüberzugs zur Folge
digkeit ... _.
verschiedener Metallunterlagen verwendet. Handelsübliche Bäder zur galvanischen Abscheidung
von Rhodium, die im allgemeinen aus verhältnismäßig stark sauren Phosphat-, Sulfat- oder kombinierten
Phosphat/Sulfat-Lösungen bestehen, sind im allgemeinen für viele Anwendungen gut geeignet. Es
ist jedoch bekannt, daß in galvanisch abgeschiedenen Rhodiumüberzügen, die mit solchen Bädern erzeugt
hat. Weiterhin sind diese Rhodiumüberzüge selten frei von Trübungen, Löchern und anderen Oberflächenfehlern.
Die Aufgabe der Erfindung besteht somit darin, ein wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung
«on Rhodiumüberzügen zu schaffen, die verhältnismäßig
niedrige innere Spannungen aufweisen und praktisch frei sind von Trübungen, Löchern und an-
werden, häufig hohe innere Spannungen, gewöhnlich 55 deren Oberflächenfehlern,
in einer Größenordnung von 10 500 kg/cm2, auftreten. Die Spannung in den Überzügen kann zum Abblättern,
Reißen und Verformen des abgeschiedenen
Metalls führen und sich in manchen Fällen nachteilig
auf die Metallunterlage auswirken.
Metalls führen und sich in manchen Fällen nachteilig
auf die Metallunterlage auswirken.
Es wurde bereits versucht, die inneren Spannungen in galvanisch abgeschiedenen Rhodiumschichten
durch Zusatz von Chloridionen oder Magnesiumsulfat zu den Bädern zu verringern.. Zwar können mit _,D o o„
durch Zusatz von Chloridionen oder Magnesiumsulfat zu den Bädern zu verringern.. Zwar können mit _,D o o„
diesen Zusätzen die inneren Spannungen des Über- 65 saures Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzugs
vermindert werden, sie verringern jedoch auch zenden und rißfreien Rhodiumüberzügen, enthaltend
im allgemeinen den Glanz des Überzugs in einem Rhodiumionen, Aluminiumionen und Sulfationen,
Ausmaß, das für viele Zwecke nachteilig ist. Soweit das dadurch gekennzeichnet ist, daß es 1,0 bis
Überraschenderweise wurde nunmehr gefunden, daß wenn man in Rhodiumionen, Aluminiumionen
und Sulfationen enthaltende wäßrige saure Bäder die Rhodiumionen, die Aluminiumionen und die Sulfationen
in kritischen Mengen einführt und eine mehrbasische organische Säure zusetzt, sich die gestellten
Ziele erreichen und hervorragende Rhodiumüberzüge bilden lassen.
Gegenstand der Erfindung ist daher ein wäßriges
30,0 g/l Rhodhunionen, 0,05 bis 5,0 g/l Aluminiumionen,
50,0 bis 400,0 g/l Sulfationen und 1,0 bis 25,0 g/l einer mehrbasischen organischen Säure enthält
und einen pH-Wert von 0,1 bis 2,0 aufweist.
Für diese Bäder geeignete mehrbasische organische Säuren sind Azelainsäure, Pimelinsäure, Oxalsäure,
Malonsäure, Adipinsäure, Glutarsäure, Weinsäure, Bernsteinsäure, Zitronensäure, Maleinsäure, Fumarsäure
und Mischungen daraus.
Am zweckmäßigsten enthalten erfindungsgemäße galvanische Bäder 2,0 bis 10,0 g/l Rhodiumionen, 0,2
bis 4,0 g/l Aluminiumionen, 3,0 bis 10,0 g/l der mehrbasischen organischen Säure und 100,0 bis
250,0 g/l Sulfationen. Ein solches Bad hat vorzugsweise einen pH-Wert von wenigstens 1,2.
Vorzugsweise enthält das Bad außerdem 10,0 bis 70,0 g/l Phosphationen, wobei das Gewichtsverhältnis
von Sulfaticaien zu Phosphationen wenigstens 2,0 zu 1,0 beträgt.
Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Rhodiumüberzügen
unter Verwendung des obigen Bads, das dadurch gekennzeichnet ist, daß mit einer im Bereich von 20.0
bis 65,0° C liegenden Badtemperatur und einer ka thodischen Stromdichte von 0,054 bis 2,15 A/dm2
gearbeitet wird.
Bei den bevorzugten Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens hat das Bad einen pH-Wert
von wenigstens 1,2 und wird bei einer Temperatur von etwa 40,0 bis 55,0° C gehalten und die
Stromdichte an der Oberfläche des Werkstücks wird auf etwa 0,54 bis 1,61 A/dm2 eingestellt. Am zweckmäßigsten
wird für das erfindungsgemäße Verfahren ein Bad mit der oben angegebenen bevorzugten Zusammensetzung
verwendet.
Die wesentlichen Komponenten des erfindungsgemäßen wäßrigen sauren Bads zur galvanischen Abscheidung
von glänzenden und rißfreien Rhodiumüberzügen sind Rhodiumionen, Aluminiumionen, die
mehrbasische organische Säure und Sulfationen. Es wurde gefunden, daß mit solchen Bädern, die nur
diese aktiven Komponenten enthalten, glänzende Rhodiumüberzüge erzeugt werden, die sich durch ihre
verhältnismäßig geringen inneren Spannungen von den Rhodiumüberzügen vorteilhaft abheben, die mit
Hilfe der herkömmlichen Verfahrensweisen und Bäder gebildet wurden. Während die mit den aus der
USA.-Patentschrift 19 49 131 gebildeten Rhodiumüberzüge innere Spannungen von 13 200 ±2600 kg/
cm2 aufweisen, zeigen die erfindungsgemäß gebildeten Rhodiumüberzüge lediglich innere Spannungen
von 2250 ± 2320 kg/cm2. Ohne die Verwendung der beanspruchten mehrbasischen organischen Säure lassen
sich ebenfalls Rhodiumüberzüge mit niedrigen inneren Spannungen herstellen. Diese Überzüge sind
jedoch auf Grund ihres Aussehens wesentlich unbefriedigender, da sie nicht so glänzend sind wie die
erfindungsgemäß hergestellten Überzüge, und Streifen aufweisen.
Solange die Gegenwart von störenden Ionen und verunreinigenden Metallen praktisch vermieden wird,
können die oben genannten wesentlichen Komponenten aus jedem geeigneten löslichen Salz oder einer
anderen Verbindung stammen. Von Fremdionen und -gruppen freie Bäder können jedoch leicht durch Auflösen
geeigneter Mengen Rhodiumsulfat und Aluminiumsulfat in Wasser erzeugt werden, wobei die Acidität
durch Zusatz von Schwefelsäure erhöht wird.
Da jedoch verhältnismäßig reine technische Sorten von Aluminiumsulfat, d. h. solche, die praktisch frei
von verunreinigenden Metallen sind, im allgemeinen nicht zur Verfugung stehen, wird die Aluminiumkomponente
zweckmäßig als Phosphatsalz (d. h. Aluminiumorthop'hosphat) zugeführt. Offenbar haben 10,0
bis 70,0 g/l Phosphationen, die durch Phosphorsäure zugeführt cider vermehrt werden können, eine ausgleichende
Wirkung in verhältnismäßig dicken Überzügen und vermindern die Empfindlichkeit des Bads
gegen Verunreinigungen. Andererseits können optimaler Glaaz und optimale Spannungsverminderung
mit den Bädern, die nur Sulfat enthalten, erzielt werden und zuviel Phosphat hat sich als nachteilig erwiesen.
Deshalb soll in gemischten Sulfat/Phosphat-Bädern das; Gewichtsverhältnis von Sulfationen zu
Phosphationen wenigstens 2,0:1,0 betragen, wobei die Phosphatkonzentration nicht mehr als 120,0 g/1
betragen und vorzugsweise in dem vorher genannten
ao Bereich liegen soll. Am zweckmäßigsten sind die Bäder
und die zu ihrer Zubereitung verwendeten Zusammensetzungen praktisch frei von Phosphat. Um
Unklarheiten zu vermeiden, wird darauf hingewiesen, daß hierin mit dem Begriff »Phosphat« oder
as »Phosphation« die dreiwertige Gruppe der Formel
»PO4« bezeichnet werden soll, wie sie von Aluminiumorthophosphat
und Orthophosphorsäure geliefert wird.
Das Rhodiumsalz muß in solcher Menge zugesetzt werden, daß das Bad wenigstens 1,0 g/l Rhodiumionen
enthält, da kleinere Mengen zu matten oder in sonstiger Hinsicht unannehmbaren Überzügen führen
können. Andererseits soll die Menge des Rhodiumsalzes die Menge nicht überschreiten, die in dem Bad
eine Konzentration von mehr als 30,0 g/l Rhodiumionen
ergibt, da größere Mengen zu kostspielig und unrentabel sind, hauptsächlich wegen hoher Verluste
durch mitgeschleppte Anteile, ohne daß damit entsprechende Vorteile verbunden sind. Die besten Er-
gebnisse werden erzielt, wenn die Menge der Rhodiumionen in dem Bad 2,0 bis 10,0 g/l beträgt und
es hat sich keine Notwendigkeit für Mengen von über 10,0 g ergeben.
Es wurde gefunden, daß zur Erzielung brauchbarer
Es wurde gefunden, daß zur Erzielung brauchbarer
Überzüge die Menge der Aluminiumionen in dem Bad 0,05 bis 5,0 g/l und vorzugsweise 0,2 bis 4,0 g/l
betragen soll. Kleinere Mengen dieser Ionen sind ziemlich unwirksam und Mengen von mehr als
5,0 g/l sind unwirtschaftlich und können sich nach-
teilig auf die Qualität auswirken. Im allgemeinen liegt die Konzentration der Aluminiumionen nicht höher
als die der Rhodiumionen und ist in den meisten Fällen erheblich niedriger.
Die Anwesenheit von wenigstens 1,0 und vorzugsweise 3,0 bis 10,0 g/l einer mehrbasischen organischen
Säure hat sich als sehr günstig erwiesen. Die organische Säure kann zwar in einer Menge bis zu
ihrer Löslichkeitsgrenze vorliegen, 25,0 g/l stellen
jedoch im allgemeinen eine praktische Höchstkonzen-
tration dar. Beispiele für die verschiedenen verwendbaren mehrbasischen organischen Säuren sind Azelainsäure,
Pimelinsäure, Oxalsäure, Malonsäure, Adipinsäure, Glutarsäure, Weinsäure, Bernsteinsäure,
Zitronensäure, Maleinsäure, Fumarsäure und Mi-
schungen daraus. Die zweibasischen Säuren werden zwar besonders bevorzugt, offenbar kann jedoch
praktisch jede mehrbasische organische Säure, die in dem wäßrigen Bad unter Plattierungsbedingungen
wenigstens etwas löslich ist, mit gewissen Vorteilen vanisch aufgebrachte Schichten aus z. B. Silber, Nickel
für die damit erzeugten Überzüge verwendet werden. oder Gold aufweist Die Qualität der Überzüge, die
Die mehrbasische Säure vermindert offenbar weiter auf Kupfer und Kupferlegierungen erzeugt werden,
innere Spannungen in dem Überzug und wirkt den ist so hervorragend, wenn die hierin beschriebenen
nachteiligen Einflüssen von verunreinigenden Sub- 5 Zubereitungen verwendet werden, daß die galvanische
stanzen, z. B. der kleinen Mengen Silber und Zink, Abscheidung auf solchen Metallen zu einem über-
die mit dem Rhodiumsalz eingeführt werden können, raschenden Fortschritt gegenüber dem Stand der
und des elementaren Schwefels, der durch Sulfaioxi- Technik führt. Die Oberflächen des Werkstücks sol-
dation erzeugt «erden kanu, entgegen. len wie üblich entsprechend gereinigt werden, um zu
Eine typische Rezeptur für ein galvanisches Bad io gewährleisten, daß ein festhaftender Überzug mit
nacL der Erfindung ist folgende: hoher Qualität erzeugt wird. Wenn das Metall der
g/l zu galvanisierenden Oberfläche in dem Bad löslich
— ist, kann als Vorsichtsmaßnahme gegen Verunreini-
Rhodiumsulfat 15 g^g des Bads ein dünner überzug aus unlöslichem
Schwefelsäure 52 bis 75 15 Metall auf dieser aufgebracht werden.
Aluininfaimorthophosphat 2,25 Zur Verhütung von Verunreinigungen des Bads
zweibasische organische Säure .. 7,5 %νίπ1 dann eine kontinuierliche Behandlung mit Kohle
Rest Wasser und Filtration des Bads empfohlen. Oberflächen, die
Für die vorhergehende Rezeptur wurden Azelain- mit dem Bad in Berührung kommen, sollen aus einem
säure und Pimelinsäure mit gleicher Wirkung als ao inerten Werkstoff, z. B. Glas, Polyäthylen, weichzweibasische,
organische Säure verwendet macherfreiem Polyvinylchlorid, Acrylpolymeren
Der pH-Wert des Bads soll im Bereich von 0,1 bis u. dgl. gefertigt sein. Die Komponenten des Bads
2,0 gehalten werden. Besonders brauchbare Ergeb- können nach einem vorher festgelegten Programm
nisse werden gewöhnlich bei pH-Werten von wenig- oder auf Grund von Badanalysen nach Bedarf erstens
1,2 erzielt Die Verminderung des pH-Werts as gänzt werden. Selbstverständlich müssen Zusätze des
wird im allgemeinen mit Schwefelsäure durchgeführt. Rhodiumsalzes zur Ergänzung der Rhodiumionen in
Falls das Bad stärker sauer als gewöhnlich ist, kann Folge der Verwendung einer unlöslichen Anode erder
pH-Wert ohne Einführung von fremden Ionen folgen.
oder Resten einfach durch Verdünnen mit Wasser Zwar können zahlreiche Methoden zur Bestim-
und Zugabe solcher Mengen der aktiven Bestandteile 30 mung innerer Spannungen in dem abgeschiedenen
verändert werden, wie zur Erzielung der erforder- Metallüberzug angewandt werden, wie von R. W e i 1
liehen Konzentrationen an Ionen und Resten nötig in der Zeitschrift Plating, Bd. 12 (1970), S. 1231 bis
ist. 1237 erläutert wird, die im folgenden Beispiel be-
Die beste Betriebstemperatur für das Bad liegt im schriebene Methode ist jedoch verhältnismäßig einBereich
von 20,0 bis 65,0° C und vorzugsweise wird 35 fach und bietet bei sorgfältiger Durchführung ein hodas
Bad bei 40,0 bis 55,0° C gehalten. Wie allgemein hes Maß an Genauigkeit. Die dafür verwendete Forbekannt
ist, ist bei der galvanischen Abscheidung bei mel von Soderberg und Graham, die eine
zu niedrigen Temperaturen der Wirkungsgrad unzu- quantitative Beziehung zwischen der Krümmung des
reichend, während zu hohe Temperaturen zu einem plattierten Streifens zu der inneren Spannung liefert,
zu starken Verbrauch von Badkomponenten führen 40 ist ebenfalls in der genannten Veröffentlichung an-
und außerdem den Betrieb ziemlich unbequem und gegeben und erläutert. Es kann zweckmäßig sein, eine
schwierig machen. Der Strorndichtenbereich, in dem zweite Methode zur Überprüfung der Genauigkeit
glänzende Überzüge erzielt werden, beträgt im all- der erhaltenen Originalwerte zu verwenden, und für
gemeinen 0,054 bis 2,15 A/dm2 und die befriedi- diesen Zweck kann ein Gerät wie das Brenner-Sendegendsten
Überzüge werden gewöhnlich bei Stromdich- 45 roff-Contractometer angewandt werden,
ten im Bereich von 0,54 bis 1,61 A/dm2 erzielt. Die R . . .
angelegte Spannung beträgt gewöhnlich 2 bis 6 Volt Beispiel
und wird so gesteuert, daß sich eine durchschnittliche Ein wäßriges saures Rhodiumbad wird durch Ver-Stromdichte am Werkstück von 0,54 bis 1,61 A/dm2 mischen von 15,0 g/l Rhodium in Form von Rhoergibt. Der tatsächliche Strom hängt zwar von den 50 diumsulfat, 0,225 g/l Aluminium in Form von Alu-Abmessungen und der Gestalt des Werkstücks ab, miniumphosphat und 60,0 ml/1 97%iger Schwefeltypisch sind jedoch Werte von 1 t-h 100 A. säure mit Wasser bereitet. Die erhaltene Lösung hat
ten im Bereich von 0,54 bis 1,61 A/dm2 erzielt. Die R . . .
angelegte Spannung beträgt gewöhnlich 2 bis 6 Volt Beispiel
und wird so gesteuert, daß sich eine durchschnittliche Ein wäßriges saures Rhodiumbad wird durch Ver-Stromdichte am Werkstück von 0,54 bis 1,61 A/dm2 mischen von 15,0 g/l Rhodium in Form von Rhoergibt. Der tatsächliche Strom hängt zwar von den 50 diumsulfat, 0,225 g/l Aluminium in Form von Alu-Abmessungen und der Gestalt des Werkstücks ab, miniumphosphat und 60,0 ml/1 97%iger Schwefeltypisch sind jedoch Werte von 1 t-h 100 A. säure mit Wasser bereitet. Die erhaltene Lösung hat
Die erfindungsgemäßen Bäder können zur Gestell- einen pH-Wert von 0,5. Mit dem Bad wird in einer
und auch zur Trommelgalvanisierung verwendet wer- 267 cm3 Hull-Zelle mit einer Platinanode ein verden.
In beiden Fällen ist mäßiges bis kräftiges Ruh- 55 goldetes Messingblech bei einer Badtemperatur von
ren günstig. Normalerweise werfen wie üblich unlös- 48° C und einem Strom von 2 A bei einer angelegliche
Anoden verwendet, die zweckmäßig aus Platin ten Spannung von 6 Volt 5 min behandelt, wodurch
bestehen oder mit Platin überzogen sein können. Bei auf dem Blech ein Rhodiumüberzug mit einer Dicke
solchen unlöslichen Anoden können die erzeugten von 0,0025 mm erzeugt wird.
Gasblasen für die gewünschte Durchmischung des 60 Bei Untersuchung des rhodinierten Blechs wird geBads sorgen. Die Gestalt der Anode hängt von der funden, daß der Überzug duktil und festhaftend ist Galvanisiermethode und der dafür verwendeten Vor- und in einem Stromdichtebereich von 0,054 bis richtung ab. Vorteilhaft sind jedoch geblähte Ver- 2,15 A/dm2 klar und völlig glänzend ist. Übliche bundanoden aus platinbeschichtetem Tantal oder Rhodiumbäder ergeben im allgemeinen bei Stromplatiniertem Titan handelsüblicher Art. 65 dichten unter 1,07 A/dm2 Überzüge, die unerwünscht
Gasblasen für die gewünschte Durchmischung des 60 Bei Untersuchung des rhodinierten Blechs wird geBads sorgen. Die Gestalt der Anode hängt von der funden, daß der Überzug duktil und festhaftend ist Galvanisiermethode und der dafür verwendeten Vor- und in einem Stromdichtebereich von 0,054 bis richtung ab. Vorteilhaft sind jedoch geblähte Ver- 2,15 A/dm2 klar und völlig glänzend ist. Übliche bundanoden aus platinbeschichtetem Tantal oder Rhodiumbäder ergeben im allgemeinen bei Stromplatiniertem Titan handelsüblicher Art. 65 dichten unter 1,07 A/dm2 Überzüge, die unerwünscht
Mit dem erfindungsgemäßen Bad können Rho- dunkel sind.
diumabscheidungen auf praktisch jeder bereits galva- Die vorher beschriebene Arbeitsweise wird mit ei-
nisierten Metalloberfläche erzeugt werden, die gal- ner Zubereitung, die 12,0 g/l Rhodium in Form von
22 42 5Ü3
Rhodiumsulfat, 40 ml/1 Schwefelsäure, 0,4 g/l Aluminium
in Form von Aluminiumsulfat und 2,0 g/l Glutarsäure enthält, praktisch genau wiederholt. Die
Prüfung des Blechs zeigt, daß durch Anwesenheit der zweibasischen organischen Säure die innere Spannung
vermindert und die Qualität der Abscheidung verbessert wird. Ähnliche Verbesserungen werden
bei Verwendung von Oxalsäure, Malonsäure, Bernsteinsäure und Adipinsäure an Stelle der Glutarsäure
erzielt. Auch mit Azelainsäure oder Pimelinsäure werden verbesserte Ergebnisse erhalten, obwohl diese
Säuren in Wasser nur wenig löslich sind. Es wurde gefunden, daß auch Maleinsäure und Fumarsäure
zur Spannungsverminderung und zur Erzielung günstiger Oberflächeneigenschaften vorteilhaft sind.
Das Bad arbeitet im allgemeinen mit einer Stromausbeute von mehr als 85 bis 90% und weist im Vergleich
zu den gegenwärtig in der Industrie angewandten Bädern ausgezeichnete Deckkraft und Streukraft
auf.
4096537223
Claims (1)
1. Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden und rißfreien Rhodiumüberzügen,
enthaltend Rhodiumionen, AIuminiumionen und Sulfationen, dadurch gekennzeichnet,
daß es 1,0 bis 30,0 g/l Rhodiumionen, 0,05 bis 5,0 e/1 Aluminiumionen,
50,0 bis 400,0 g/l Sulfationen'üud 1,0 bis 25,0 g/l ">
Sulfationen und gegebenenfalls Aluminiumionen enteiner mehrbasischen organischen Säure enthält haltende Bäder verwendet, die Kupfersulfat und ge-
und einen pH-Wert von 0,1 bis 2,0 aufweist. gebenenfalls Netzmittel enthalten.
Die deutsche Auslegeschrift 10 68 081 betrifft ein
zum galvanischen Abscheiden von Rhodium geeignetes Bad, das neben Rhodiumionen Magnesiumionen
und Sulfationen oder Phosphationen enthält und das bei Temperaturen von 20 bis 50° C und Kathodenstromdichten
von 0,4 bis 2,2 A/dm2 betrieben werden kann.
Aus der Veröffentlichung von A. von K r u senstjern (»Edelmetall-Galvanotechnik« [1970]
S. 291, Abschnitt 1.2.1) geht hervor, daß man zur galvanischen Abscheidung von Rhodium geeignete
Bäder bei 40 bis 45° C und bei einer Stromdichte von 1 bis 11 A/dm2 betreiben kann. Im Abschnitt 1.1.3
dieser Literaturstelle ist ferner ein Chloridelektrolyt bekannt, der Natrium-Rhodiumchlorid, Magnesiumborcitrat
und ein organisches Reduktionsmittel, wie Glukozitronensäure, enthält. In diesem Zusammenhang
ist festzustellen, daß sich Chloridionen und Magnesiumionen in den Galvanisierbädern als nach-
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US17623571A | 1971-08-30 | 1971-08-30 | |
US17623571 | 1971-08-30 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2242503A1 DE2242503A1 (de) | 1973-03-15 |
DE2242503B2 DE2242503B2 (de) | 1976-05-20 |
DE2242503C3 true DE2242503C3 (de) | 1976-12-30 |
Family
ID=
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