DE2236716A1

DE2236716A1 - Elektrophotographisches aufladungsverfahren und vorrichtung

Info

Publication number: DE2236716A1
Application number: DE2236716A
Authority: DE
Inventors: Takao Komaki; Masamichi Sato; Masaaki Takimoto
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1971-07-26
Filing date: 1972-07-26
Publication date: 1973-02-08
Also published as: JPS5334492B1; US3843885A; GB1379467A

Description

FATEKiTf-NWzUTE

DR. E. WIEGAND DIPL-ING. W. NIEMANN

DR. M. KÖHLER DIPL-ING. C. GERNHARDT ? ? Q ß 7 1 R

MÖNCHEN HAMBURG Z Z J D / I D TELEFON: 555*76 8000 MÖNCHEN 15,

.TELEGRAMME, KARPATENT NUSSBAUMSTRASSE KJ

26* Juli 1972 . ' ¥ 41 247/72 Ko/Ja

Fuji Photo Film Co. Ltd. Minami Ashigara-shi

Kanagawa («Japan)

Elektrophotographisches Aufladungsverfahren und Vorrichtung

Die Erfindung befaßt sich mit einem Verfahren und einer Vorrichtung zur Aufladung eines elektrophotographischen Materials, welches aus einer hoch isolierenden Grundlage und einer darauf aufgezogenen photoleitenden isolierenden Schicht besteht.

Gemäß der Erfindung wird ein elektrophotographisches Material, das aus einer hoch isolierenden Grundlage und

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einer direkt darauf aufgezogenen photoleitenden isolierenden Schicht besteht, einheitlich an der Seite der Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht an Licht ausgesetzt, welches durch die photoleitende isolierende Schicht absorbierbar ist. Dann werden Koronaionen mit der gewünschten Polarität, die von einer Koronaentladungseinheit gebildet werden, auf die Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht gesprüht, während die Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht gleichzeitig an Koronaionen mit der entgegengesetzten Polarität ausgesetzt wird, welche von einer weiteren Koronaentladungseinheit gebildet werden. Dadurch wird zeitweilig eine leitende Schicht auf der Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht gebildet, so daß die photoleitende isolierende Schicht geladen oder sensibilisiert wird.

Das elektrophotographische Material, das aus einer Grundlage mit relativ hohem Widerstand, beispielsweise einer Papiergrundlage, und einer darauf aufgezogenen photoleitenden isolierenden Schicht besteht, wird normalerweise durch ein Doppelkoronaladungsverfahren geladen, wobei elektrische Ladungen von einer Polarität auf die Oberfläche des elektrophotographisehen Materials aufgebracht werden, während elektrische Ladungen der entgegengesetzten Polarität auf die rückseitige Oberfläche der Papiergrundlage aufgebracht werden.

Jedoch ist es mit diesem Verfahren nicht möglich, die Ladung eines hoch isolierenden elektrophotographischen Materials, beispielsweise aus Polyethylenterephthalat, Polyäthylen, Polypropylen, Polycarbonat, Polyamid, Polyimid, Polyvinylchlorid, Diacetylcellulose oder Polyacetylcellulose auszuführen. Die Ladung dieser Arten von elektrophotographischen Materialien, die eine hochisolierende Grundlage haben, wird erreicht, indem eine leitende Schicht zwischen der Grundlage und der photoleitenden isolie renden Schicht angebracht wird.

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Ein Verfahren zur Ladung eines elektrophotographischen Materials mit einer hochisolierenden Grundlage und einer direkt hierauf aufgezogenen photoleitenden isolierenden Schicht ohne eine leitende Schicht dazwischen, ist in der britischen Patentschrift 971 281 angegeben. Bei diesem Verfahren wird Licht mit einer Wellenlänge, die in die Grundlage eindringt, und in der photoleitenden Schicht absorbiert wird, auf das Material von der Seite der Grundlage desselben eingestrahlt, so daß der Kontaktteil der photoleitenden isolierenden Schicht mit der Grundlage zeitweilig leitend -wird. Dann wird die Ladung durch eine Koronaentladung während dessen Zeitraumes geliefert, wo die zeitweilig leitende Schicht vorliegt. Zur Aufbringung van Ladungen nach diesem Verfahren ist es notwendig, die photoleitende Schicht zu erden und deshalb wird eine Verbindung in Kontakt mit der Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht angebracht.

Jedoch zeigt die Verbindung, welche die Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht kontaktiert, eine Neigung zur Ausbildung von Linienschnitten hierauf, die Linienkratzer im entwickelten Bild ausbilden und infolgedessen eine signifikante Verschlechterung der Bildqualität erbringen. Da weiterhin die Verbindung lediglich mit der Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht in Verbindung steht, tritt eine Nichteinheitlichkeit der Aufladung aufgrund des unvollkommenen Kontaktes ein. Es ist deshalb notwendig, die Verbindung stärker auf die Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht zu pressen, um einen besseren Kontakt zu erhalten, so daß schärfere Linienschnitte darauf ausgebildet werden. Da es notwendig ist, daß das Licht in die Grundlage eindringt, ist es unmöglich, ein nicht-transparentes Material wie Furnier, Kunststoff, Beton oder dergleichen zu verwenden. Ziel der Erfindung war die Überwindung der vorstehend aufgeführten Nachteile der bisherigen elektrophotographischen Materialien, so daß eine

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Aufgabe der Erfindung in einem neuen und wirksamen Aufladung s verfahr en und einer Vorrichtung für ein elektrophoto-. graphisches Material besteht, welches aus einer hochisolierenden Grundlage und einer darauf aufgezogenen photoleitenden isolierenden Schicht, jedoch ohne leitende Schicht, besteht.

Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einer Vorrichtung und einem Verfahren zur Aufladung eines elektrophotographisehen Materials mit einer Grundlage aus einem opaken oder nicht-transparenten Material.

Gemäß der Erfindung wird das elektrophotographische Material, welches aus einer hochisolierenden Grundlage und einer direkt hierauf aufgezogenen photoleitenden isolierenden Schicht besteht, einheitlich an Licht mit einem in der photoleitenden isolierenden Schicht an der Seite der Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht absorbierbaren Spektrum bestrahlt. Dann werden Koronaionen mit einer ersten Polarität aus einer Koronaentladungseinheit freigesetzt und auf die Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht gesprüht, während mindestens ein Teil der photoleitenden isolierenden Schicht an Koronaentladungsionen von entgegengesetzter Polarität ausgesetzt ist. Dadurch wird eine leitende Schicht . zeitweilig auf der Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht gebildet, so daß es möglich ist, das elektrophotographische Material zu laden oder zu sensibilisieren.

Wie vorstehend angegeben, ergibt die Erfindung ein neues Verfahren und eine neue Vorrichtung zur Durchführung der Ladung eines elektrophotographischen Materials durch einheitliche Aussetzung der Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht zur Bildung einer leitenden Schicht auf der Oberfläche. Es ist deshalb möglich, daß ein elektrophotographisches Material, welches aus einer hochisolierenden Grundlage und einer darauf aufgezogenen photo3,eitenden isolierenden Schicht besteht, ohne Anwendung irgendeiner spe-

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ziellen leitenden Schicht aufgeladen wird_o Dadurch wird es möglich, ein gutes elektrophotographisches Bild ohne Lini° enkratzer zu erhalten^ da.es nicht notwendig ist_a das Ma= terial zu erden« Weiterhin ist es moglich_ö als isolierend© "Grundlage ein opakes oder nicht-transparentes isolierendes Material, beispielsweise Furnier _ΰ Kunststoff ₉ Beton_a Wände, Boden oder dergleichen zu verwenden«, In den Zeichnungen stellt

Fig. 1 ein Querschnitt eines im Rahmen der Erfindung verwendeten elektrophotographischen Materials ₈. Fig. 2 einen schematischen Querschnitt zur Erläuterung des Prinzips der Erfindung,

Fig. 3 ein Beispiel einer elektrophotographischen Vorrichtung gemäß der Erfindung, worin a einen schematisehen Querschnitt und b einen schematischen Längsschnitt zeigen,

Fig. 4 einen schematischen Schnitt eines weiteren Beispieles der elektrophotographischen Vorrichtung gemäß der Erfindung und

Fig. 5 eine graphische Darstellung der, entsprechend dem nachfolgenden Beispiel 5, bei Versuchen erhaltenen Ergebnisse
dar.

. In Fig. 1 ist das im Rahmen der Erfindung verwendete elektrophotographische Material 10 gezeigt. Die photoleitende isolierende Schicht 11 besteht aus vakuumabgeschiedenen nicht-kristallinem Selen, dem Gemisch eines photoleitenden Pulvers, beispielsweise Zinkoxid, Cadmiumsulfid, und einem isolierenden Harz und einem photoleitenden organischen Material oder dergleichen. Es kann günstig sein, wenn es eine große optische Ermüdung zeigt. Die hochisolierende Grundlage 12 besteht aus gut getrocknetem Papier, nicht-elektroempfindlichem Papier, Polyäthylenterephthalat, Polypropylen, Polycarbonat, Polyamid, Polyimid, Polyvinylchlorid, Diace-

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tylcellulose oder Polyacetylcellulose oder sie kann aus einem anderen nicht-transparenten isolierenden Material bestehen.

Das Prinzip der Erfindung wird klar in Bezug auf den Fall, wo die photoleitende Schicht aus einem Halbleiter vom N-Typ gefertigt ist, indem z.B„ photoleitendes Zinkoxidpulver und ein isolierendes Harz verknetet werden, unter Bezugnahme auf Fig. 2«

Das elektrophotographische Material wird auf der Seite der Oberfläche der lichtempfindlichen isolierenden Schicht an das Licht einer Lichtquelle (nicht gezeigt) ausgesetzt. Das Licht ist in der photoleitenden isolierenden Schicht 11 absorbierbar, so daß diese leitend wird. Die Hauptkoronaentladungseinheit 20 und die Nebenkoronaentladungseinheit 21 sind oberhalb des elektrophotographischen Materials 10 angebracht und haben jeweils Koronadrähte 22 und 23. Eine negative Hochspannung (beispielsweise - 6 kV) wird an den Koronadraht 22 der Hauptkoronaentladungseinheit 20 zur Emitierung negativer Koronaionen auf die photoleitende isolierende Schicht 11 angelegt und eine positive Hochspannung (beispielsweise + 6 kV) wird an den Koronadraht 23 der Nebenkoronaeinheit 21 zur Emitierung positiver Koronaionen auf die photoleitende isolierende Schicht 11 angelegt.

Die Ermüdung v/ird in der photoleitenden isolierenden Schicht 11 durch einheitliche Aussetzung verursacht, so daß darin relativ frei bewegliche eingeschlossene Elektronen vorliegen. Diese Elektronen werden abgestoßen und abgetrieben durch die negativen Koronaionen, so daß die Löcher neutralisiert werden. Dadurch erholt sich der Bereich R, der an die negative Koronaentladung ausgesetzt ist, von der Ermüdung und wird zur Ladung fähig. Andererseits gehen die Elektronen in dem Bereich R, die durch die negativen Koronaionen vertrieben wurden, durch den Bereich außerhalb der Fläche R, der sich noch nicht von der Ermüdung erholt hat und erlauben eine relativ freie Bewegung der Elektronen darin. Diese

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Elektronen werden von den aus dem Koronadraht 23 emittierten positiven Koronaionen zur Neutralisierung angezogen. Wenn die Löcher im Bereich R neutralisiert sind, werden die negativen Koronaionen in der Oberfläche der lichtempfindlichen isolierenden Schicht innerhalb des Bereiches R gespeichert und deshalb v/erden positive Ladungen gleich zu denselben' außerhalb des Bereiches R ausgebildet. Der Bereich R wird dann nach auswärts als Funktion der Zeit expandiert, so daß die negative Ladung über die große Fläche ausgebildet wird.

Dadurch wird eine leitende Schicht auf der Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht entsprechend der einheitlichen Aussetzung der Oberfläche an das Licht gebildet und dadurch das elektrophotographische Material geladen. Es ist deshalb deshalb möglich, ein elektrophotographisches Material anzuwenden, welches aus einer, opakten isolierenden Grundlage, beispielsweise Furnier, Kunststoff, Beton, Wand oder Boden, und einer direkt hierauf aufgezogenen photoleitenden isolierenden Schicht besteht, ohne daß irgendeine spezielle leitende Schicht notwendig ist.

Fig. 3 zeigt ein Beispiel einer elektrophotographischen "Vorrichtung zur Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens, wobei (a) die schematische vordere Schnittansicht und (b) die schematische seitliche Schnittansicht darstellen. Die Hauptkoronaentladungseinheit 30 besteht aus einem Koronadraht 31, einem Abschirmgehäuse 32 und einem isolierenden Träger 33 für den Koronadraht 31. Die Nebenkoronaentladungseinheit 34 ist aus einem Koronadraht 35, einem Abschirmgehäuse 36 und einem isolierendem Träger 37 für den Koronadraht 35 aufgebaut. Die Koronadrähte 31 und 35 sind im rechten Winkel zueinander angebracht, wobei der Koronadraht 31 im rechten Winkel zur Vorwärtsrichtung des elektrophotographischen Materials 10 steht und der Koronadraht 35 paral-

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lel zur Vorwärtsrichtung verläuft.

Bevor das elektrophotographische Material 10 an die Koronaentladung ausgesetzt wird, wird es einheitlich auf der Seite der Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht mit Licht von einer Lichtquelle 38 belichtet. Das Licht wird durch die photoleitende isolierende Schicht absorbiert, so daß die Schicht leitend wird. Um eine negative Aufladung zu erhalten, kann eine negative Hochspannung an den Koronadraht 31 der Hauptkoronaentladungseinheit 30 zur Bildung der Koronaentladung angelegt werden, während eine positive Hochspannung an den Koronadraht 35 der Nebenkoronaentladungseinheit 34 angelegt werden kann. Zur Ausbildung einer positiven Ladung- kann die Polarität der an die Koronadrähte angelegten Hochspannungen "entgegengesetzt zum vorstehenden Fall sein.

Wenn auch im vorstehenden Beispiel zwei Nebenkoronaeinheiten 34 angewandt werden, ist es auch möglich, nur eine Einheit anzuwenden. Falls weiterhin die von dem Koronadraht 31 der Hauptkoronaentladungseinheit 30 emittierten Koronaionen und die aus dem Koronadraht 35 der .Nebenkoronaentladungseinheit 34 emittierten Koronaionen einander überlappen, nimmt die Menge der Ladung ab. Es ist deshalb günstig, eine Unterteilung vorzunehmen und die Abschirmplatte der einen Koronaentladungseinheit kann auch als Unterteilung dienen.

In Fig. 4 ist ein schematischer Schnitt eines weiteren Beispieles der Vorrichtung gemäß der Erfindung gezeigt. Das elektrophotographische Material wird einheitlich durch Licht aus einer Quelle 42 an der Seite der Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht ausgesetzt. Die Schicht wird dann an die durch die erste Koronaentladungseinheit 41 gebildeten positiven Koronaionen ausgesetzt und anschließend an die durch die zweite Koronaentladungseinheit 40 gebildeten negativen Koronaionen ausgesetzt, so daß sie negativ geladen wird. In dieser Vorrichtung ist der Koronadraht

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länger als die Breite des Materials, tun die gesamte Oberfläche einheitlich aufzuladen«,

Es ist möglich;, als Koronaentladungselektroden eine Nadelelektrode oder eine Streifenelektrode anstelle von Drahtelektroden zu verwenden«, Es ist notwendig _s daß die Lichtquelle das Licht innerhalb eines Spektrums emittiert _P welches durch die photoleitende isolierende Schicht absorbierbar ist. Falls beispielsweise die photoleitende isolierende Schicht aus Zinkoxid besteht, kann eine Wolfram-Lichtquelle zur Voraussetzung verwendet werden. Diese photoleitende isolierende Schichtist lichtempfindlich lediglich für Ultravioletfl-icht oder nahes UltravioletQ-icht und äußerst absorbierend für spektrales Licht, so daß lediglich Ultraviolettlicht oder nahes Ultraviolettlicht zur Aus· setzung zur Verfügung stehen. Falls die photoleitende isolierende Schicht ein farbstoff-sensibilisiertes Zinkoxid enthält, wird ihr empfindliches Spektrum bis zum sichtbaren Spektrum vom nahen Ultraviolettspektrum ausgedehnt und die photoleitende isolierende Schicht zeigt einen niedrigen Absorptionskoeffizienten und eine hohe Lichtempfindlichkeit für sichtbares Licht. Wenn deshalb sichtbares Licht auf die Oberfläche gestrahlt -wird, kann ein Teil des Lichtes die rückseitige Fläche desselben erreichen, so daß der Elektrifizierungskoeffizient der photoleitenden isolierenden Schicht erhöht wird.

Obwohl Ultraviolettlicht und nahes Ultraviolettlicht an der Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht ' absorbiert werden, zeigten Versuche, daß der Nacheffekt der Photoleitfähigkeit, der durch die Ultraviolettlichter verursacht wird,während eines relativ langen Zeitraumes fortgesetzt wird. Die Praxis der Erfindung wird mit bevorzugten Ergebnissen mit sämtlichen der folgenden Kombinationen erzielt:

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(1) farbstoff-sensibilisierte Schicht und Ultraviolettlicht;

(2) farbstoff-sensibilisierte Schicht und sichtbares Licht;

(3) farbstoff-sensibilisierte Schicht und Ultraviolett- und sichtbares Licht und

(4) nicht-sensibilisierte Schicht und Ultraviolettlicht.

Falls weiterhin die Voraussetzung zu einem relativ langen Zeitraum vor der Koronaentladung vorgenommen wird, ist es notwendig, die Faktoren in Bezug auf Aussetzungsmenge, Lichtqualität und Zeitraum entsprechend den Eigenschaften der photoleitenden isolierenden Schicht zu bestimmen.

Die folgenden Beispiele dienen zur weiteren Erläuterung der Erfindung.

Beispiel 1

Das elektrophotographische Material wurde durch Verkneten von 100 Teilen eines photoleitenden Zinksulfidpulvers (SaZeX Nr. 2000 der Sakai Chemical Industry Co. Ltd.), 14 Teilen eines isolierenden Harzes (Styresol Nr. 4400, Japan Reichhold Chemical, Inc.) und 7 Teilen einer Polyisocyanatverbindung (Desmodul L, Bayer AG), anschließendes Aufziehen des Gemisches auf einen Film aus Polyäthylenterephthalat von 150/U Stärke zu einer Stärke von etwa 7/u und anschließende Härtung des Materials in einem Bad von konstanter Temperatur bei 4O⁰C während 17 Stunden hergestellt. Nachdem das elektrophotographische Material auf eine hochisolierende Platte (Polymethylmethacrylatharz-Platte von 10 mm Stärke) an einem dunklen Ort gebracht worden war und einheitlich auf der Seite der photoleitenden isolierenden Schicht mit einer Wolframlampe mit einem Aussetzungsbetrag von 20 000 Lux · sek (10 000 Lux χ 20 sek) belichtet worden war, wurde die Koronaentladungseinheit oberhalb des elektrophotographischen Materials angebracht, wie aus Fig. 3 ersichtlich.

In der Hauptkoronaentladungseinheit betrug der Abstand zwischen dem Koronadraht und der aufzuladenden Oberfläche

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15 mm und der Raum zwisehen dem Koronadraht und dem Abschirmgehäuse betrug 15 nun, der Durchmesser des Drahtes war 0,05mm und die Länge des Drahtes war 30 mm, während der Abstand von der unteren Kante des Abschirmgehäuses zu der aufzuladenden Oberfläche 8 mm betrug und das Material des Drahtes aus Wolfram bestand.

In der Nebenkoronaentladungseinheit betrug der Abstand zwischen dem Koronadraht und der aufzuladenden Oberfläche 10 mm, der Abstand zwischen dem Koronadraht und dem Abschirmgehäuse 15 mm, der Drahtdurchmesser 0,05 mm, die Drahtlänge 50 mm, während der Abstand zwischen der unteren Kante des Abschirmgehäuses und der aufzuladenden Oberfläche 2 mm betrug und das Drahtmaterial aus Wolfram bestand. Unter Anlegung von - 8 kV an den Koronadraht der Hauptentladungseinheit und + 9 kV an den Koronadraht der Nebenkoronaentladungseinheit wurde das elektrophotographische Material in einer Richtung im rechten Winkel zum Koronadraht der Hauptkoronaentladungseinheit mit einer Geschwindigkeit von 50 mm/sek bewegt und die Entladung innerhalb 30 sek nach der vorstehenden Aussetzung beendet. Das elektrophqtographische Material wurde dadurch einheitlich an der Oberfläche zu einem Potential von - 140 V, ausgenommen die beiden Kantenteile, aufgeladen. Weiterhin wurde der Bereich unter der Nebenkoronaentladungseinheit nicht geladen.

Beispiel 2

Das gleiche elektrophotographische Material wie in Beispiel 1 wurde auf eine ähnliche Isolierplatte wie in Beispiel 1 aufgebracht und einheitlich an Licht von 200 000 Lux χ sek (10 000 Lux χ 20 sek) vorausgesetzt. Dann wurden zwei Nadelkoronaentladungselektroden oberhalb des Materials im rechten Winkel zu der zu ladenden Oberfläche.angebracht.

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Der Abstand zwischen den Koronaentladungselektroden betrug 150 mm, wobei die Hauptkoronaentladungseinheit oberhalb des Mittelteiles der zujLadenden Oberfläche und die Nebenkoronaentladungseinheit oberhalb des Kantenteiles der geladenen Oberfläche angebracht war. Der Abstand zwischen der Spitze der Hauptentladungseinheitselektrode und der geladenen- Oberfläche betrug 50 mm und der Abstand zwischen der Spitze der Nebenkoronaentladungseinheitselektrode und der geladenen Oberfläche betrug 20 mm. Bei Anlegung von - 9 kV an die Hauptkoronaentladungseinheit und + 5 kV an die Nebenkoronaentladungseinheit wurde das elektrophotographische Material unterhalb der beiden Elektroden mit einer Geschwindigkeit von 30 mm/sek bev/egt und die Entladung innerhalb 30 sek nach der vorhergehenden Aussetzung beendet, wobei der Mittelteil der zu ladenden Oberfläche auf ein Oberflächenpotential von - 130 V geladen wurde.

Beispiel 3

Das gleiche Material wie in Beispiel 1 wurde zu einer Rolle aufgebaut und mit einer Geschwindigkeit von 30 mm/sek bev/egt. Lichtquelle und Koronaentladungseinheit waren angeordnet, wie aus Fig. 4 ersichtlich. Die Lichtquelle bestand aus 6 Wolframlampen von 200 V/, die in doppelten Linien angeordnet waren und ergaben eine Belichtungsmenge von 8 000 Lux χ sek während des I-Iaterialdurchganges. Außerdem war eine Abschirmplatte vorhanden, um das Auftreffen von Licht von der Lichtquelle auf die geladene Fläche zu verhindern. Das elektrophotographische Material lief unterhalb der Lichtquelle, dann unterhalb der ersten Koronaentladungseinheit und dann unterhalb der zweiten Koronaentladungseinheit durch, In jeder Koronaentladungseinheit bestand der Koronadraht aus einem rostfreien Stahl \on 5 mm Durchmesser, während der Abstand zwischen dem Abschirmgehäuse und dem Draht 15 mm und

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der Abstand zwischen dem Koronadraht und der geladenen Oberfläche 20 mm betrug. Der Abstand zwischen der ersten und .zweiten Koronaentladungseinheit betrug 100 mm. Die Länge jedes Koronadrahtes war 50 mm langer als die Breite des elektrophotographisehen Materials. Unter Anlegung von +9,5 kV an den Koronadraht der ersten Koronaentladungseinheit und

- 8,5 kV an-den Koronadraht der zweiten Koronaentladungseinheit wurde das elektrophotographisehe Material auf ein Oberflächenpotential von - 140 kV geladen.

Beispiel 4'

Das elektrophotographisehe Material wurde durch Aufziehen "des gleichen Gemisches wie in Beispiel 1 auf eine Purnierplatte von 8 mm Stärke und Härtung wie in Beispiel 1 hergestellt. Dieses Material wurde entsprechend dem Verfahren nach Beispiel 1 zu einem Oberflächenpotential von

- 120 V geladen. Nachdem ein positives Dia auf dem Material befestigt war und dann belichtet war, erfolgte die Bildentwicklung mittels eines Cascadenentwicklers, welcher Toner mit positiven Ladungen enthielt, so daß ein positives Bild erhalten wurde.

Beispiel 5

Unter Anwendung des gleichen elektrophotographisehen Materials wie in Beispiel 1 und Aufladung unter den folgenden Bedingungen wurden Bestimmungen der Beziehung zwischen dem Aussetzungsbetrag und dem Oberflächenpotential vorgenommen: Das Material wurde auf die gleiche isolierende Platte wie in Beispiel 1 gebracht und zwei Nadelelektroden darüber mit einem Abstand von 80 mm zwischen den Elektroden angeordnet. Der Abstand zwischen der Spitze jeder Nadelelektrode und der photoleitenden isolierenden Schicht betrug 30 mm. Die eine

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Nadelelektrode wurde mit - 5 kV und ^ te andere mit + 5 kV während einer Dauer von 5 sek und 30 sek angelegt.

Die ermittelten Ergebnisse sind in Fig. 5 dargestellt.

Im vorstehenden wurde die Erfindung anhand bevorzugter Ausführungsformen beschrieben, ohne daß sie hierauf begrenzt

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Claims

Patentansprüche

^r 1 )i Verfahren zur Ladung eines elektrophotographischen Materials, das aus einer isolierenden Grundlage und einer direkt hierauf aufgezogenen photoleitenden isolierenden Schicht besteht, dadurc, h gekennzeichnet, daß

(a) einheitlich die Oberfläche der photoleitenden Schicht an Licht mit einer durch die photoleitende isolierende Schicht absorbierbare Wellenlänge ausgesetzt wird, so daß diese -Oberfläche leitend wird,

(b) die Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht an erste Koronaentladungsionen von erster Polarität und

(c) die Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht an zweite Koronaentladungsionen von entgegengesetzter Polarität zu den ersten Koronaentladungsionen ausgesetzt wird, so daß die Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht geladen wird. . - .
2) Vorrichtung zur Ladung von elektrophotographischem Material, das aus einer isolierenden Grundlage und einer photoleitenden isolierenden direkt hierauf aufgezogenen Schicht "besteht, dadurch gekennzeichnet, daß die Vorrichtung aus

(a) einer Lichtquelle als Einrichtung zur Emittierung eines durch die photoleitende isolierende Schicht absorbierbaren Lichtes auf diese Schicht, so daß die Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht leitend wird,

(b) einer ersten Koronaentladungseinrichtung zum Aufsprühen von Koronaentladungsionen mit einer ersten Polarität auf die Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht und

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(c) einer zweiten Koronaentladungseinrichtung zum Aufsprühen von Koronaentladungsionen einer zweiten Polarität auf die Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht, so daß die Oberfläche der photoleitenden isolierenden Schicht geladen wird,

besteht·
3) Vorrichtung nach Anspruch 2_f dadurch gekennzeichnet, daß die erste Koronaentladungseinrichtung aus einem Draht senkrecht zur Bewegungsrichtung des elektrophotographisehen Materials und die zweite Koronaeinrichtung aus einem parallel zur Bewegungsrichtung des elektrophotographischen Materials angebrachten Drahts bestehen.
4) Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erste und die zweite Koronaentladungseinrichtung Jeweils einen Draht senkrecht zur Bewegungsrichtung des elektrophotographischen Materials enthalten.
5) Vorrichtung nach Anspruch 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet , daß die isolierende Grundlage opak oder undurchsichtig ist.

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