DE2138766A1 - Einstellanordnung fur einen Teilchen strahl - Google Patents
Einstellanordnung fur einen Teilchen strahlInfo
- Publication number
- DE2138766A1 DE2138766A1 DE19712138766 DE2138766A DE2138766A1 DE 2138766 A1 DE2138766 A1 DE 2138766A1 DE 19712138766 DE19712138766 DE 19712138766 DE 2138766 A DE2138766 A DE 2138766A DE 2138766 A1 DE2138766 A1 DE 2138766A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- deflection
- electron
- arrangement according
- plane
- systems
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 15
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 9
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 9
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 3
- 229920003319 Araldite® Polymers 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
- H01J37/1471—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path for centering, aligning or positioning of ray or beam
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL7012671A NL7012671A (enrdf_load_stackoverflow) | 1970-08-27 | 1970-08-27 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE2138766A1 true DE2138766A1 (de) | 1972-03-02 |
Family
ID=19810865
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19712138766 Pending DE2138766A1 (de) | 1970-08-27 | 1971-08-03 | Einstellanordnung fur einen Teilchen strahl |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3777211A (enrdf_load_stackoverflow) |
| CA (1) | CA946985A (enrdf_load_stackoverflow) |
| DE (1) | DE2138766A1 (enrdf_load_stackoverflow) |
| FR (1) | FR2106022A5 (enrdf_load_stackoverflow) |
| GB (1) | GB1367940A (enrdf_load_stackoverflow) |
| NL (1) | NL7012671A (enrdf_load_stackoverflow) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE112011104595B4 (de) * | 2011-01-25 | 2015-10-01 | Hitachi High-Technologies Corporation | Vorrichtung mit einem geladenen Teilchenstrahl sowie Verfahren zur Steuerung |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4376249A (en) * | 1980-11-06 | 1983-03-08 | International Business Machines Corporation | Variable axis electron beam projection system |
| DE3138896A1 (de) * | 1981-09-30 | 1983-04-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Elektronenoptisches system mit vario-formstrahl zur erzeugung und messung von mikrostrukturen |
| US5949076A (en) * | 1996-02-26 | 1999-09-07 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Charged beam applying apparatus |
| WO2002103337A2 (en) * | 2001-06-15 | 2002-12-27 | Ebara Corporation | Electron beam apparatus and method for using said apparatus |
| DE60204690T2 (de) * | 2002-09-18 | 2006-05-18 | Staib Instrumente Gmbh | Elektronenbeugungsvorrichtung zur Anwendung in einer Produktionsumgebung und für Hochdruck-Abscheidungsverfahren |
| US9159527B2 (en) | 2003-10-16 | 2015-10-13 | Carl Zeiss Microscopy, Llc | Systems and methods for a gas field ionization source |
| US8110814B2 (en) | 2003-10-16 | 2012-02-07 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US7786451B2 (en) | 2003-10-16 | 2010-08-31 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US7786452B2 (en) | 2003-10-16 | 2010-08-31 | Alis Corporation | Ion sources, systems and methods |
| US7804068B2 (en) | 2006-11-15 | 2010-09-28 | Alis Corporation | Determining dopant information |
| WO2010039339A2 (en) * | 2008-09-30 | 2010-04-08 | Carl Zeiss Smt Inc. | Aligning charged particle beams |
| WO2011058833A1 (ja) * | 2009-11-10 | 2011-05-19 | 三菱電機株式会社 | 粒子線照射システムおよび粒子線照射方法 |
| FR3123597B1 (fr) | 2021-06-08 | 2023-04-21 | Psa Automobiles Sa | Sous-ensemble compact pour groupe electromoteur de vehicules automobiles |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2418349A (en) * | 1945-12-13 | 1947-04-01 | Rca Corp | Method of and means for correcting for distortion in electron lens systems |
| GB687207A (en) * | 1950-02-23 | 1953-02-11 | Vickers Electrical Co Ltd | Improvements relating to electron microscopes |
| US3371206A (en) * | 1964-02-04 | 1968-02-27 | Jeol Ltd | Electron beam apparatus having compensating means for triangular beam distortion |
| DE1299088C2 (de) * | 1966-06-10 | 1974-10-17 | Siemens AG, Berlin und München, 8000 München | Ablenkeinrichtung fuer den korpuskularstrahl in einem korpuskularstrahlgeraet, insbesondere elektronenmikroskop |
| US3588586A (en) * | 1968-04-26 | 1971-06-28 | Jeol Ltd | Apparatus for correcting electron beam deflection |
-
1970
- 1970-08-27 NL NL7012671A patent/NL7012671A/xx unknown
-
1971
- 1971-08-03 DE DE19712138766 patent/DE2138766A1/de active Pending
- 1971-08-24 GB GB3962671A patent/GB1367940A/en not_active Expired
- 1971-08-24 CA CA121,181A patent/CA946985A/en not_active Expired
- 1971-08-25 US US00174887A patent/US3777211A/en not_active Expired - Lifetime
- 1971-08-25 FR FR7130831A patent/FR2106022A5/fr not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE112011104595B4 (de) * | 2011-01-25 | 2015-10-01 | Hitachi High-Technologies Corporation | Vorrichtung mit einem geladenen Teilchenstrahl sowie Verfahren zur Steuerung |
| US9287083B2 (en) | 2011-01-25 | 2016-03-15 | Hitachi High-Technologies Corporation | Charged particle beam device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL7012671A (enrdf_load_stackoverflow) | 1972-02-29 |
| FR2106022A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 1972-04-28 |
| GB1367940A (en) | 1974-09-25 |
| CA946985A (en) | 1974-05-07 |
| US3777211A (en) | 1973-12-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE2138766A1 (de) | Einstellanordnung fur einen Teilchen strahl | |
| EP0218920A2 (de) | Elektronenenergiefilter vom Omega-Typ | |
| EP0175933A1 (de) | Rasterlinsen-System ohne Ablenkfarbfehler zur Materialbearbeitung mit Korpuskularstrahlen | |
| EP0106154B1 (de) | Varioformstrahl-Ablenkobjektiv für Neutralteilchen und Verfahren zu seinem Betrieb | |
| DE1236097B (de) | Elektronenlinse zum Korrigieren einer drehsymmetrischen, magnetischen Elektronenlinse | |
| DE2137510C3 (de) | Elektronenoptische Anordnung mit einer Energieselektionsanordnung | |
| DE3130276A1 (de) | Einrichtung zur vollelektrischen justierung von teilchenspektrometern und abbildungssystemen | |
| EP0071243A2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Korrigieren der Ausrichtung eines Elektronenstrahles | |
| DE1298738B (de) | Massenfilter mit erhoehter Trennschaerfe und Empfindlichkeit | |
| EP0023261B1 (de) | Kompensierte magnetische Ablenkspule für Elektronenstrahl-Lithographiesysteme | |
| DE2827458A1 (de) | Konvergenzvorrichtung fuer projektions- farbfernsehsystem | |
| DE2937136C2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
| DE2063598A1 (de) | Elektronenstrahlablenkgerat fur eine Elektronenstrahl vorrichtung | |
| DE2004880B2 (de) | Elektrostatische elektronenlinse fuer elektronenstrahlbildroehren zum fokussieren und konvergieren mehrerer elektronenstrahlbuendel und deren verwendung | |
| DE2652777C2 (de) | Vorrichtung mit einer Farbfernsehbildröhre | |
| DE2539161C2 (de) | Massenspektrometer | |
| DE677702C (de) | Einrichtung zum gleichzeitigen Aufnehmen der Spannungskurven mehrerer Messkreise | |
| DE1907093C3 (de) | Ionenmikroanalysator | |
| DE932922C (de) | Einrichtung zum Justieren eines elektronenoptischen Stigmators | |
| EP0030704B1 (de) | Vorrichtung zum Magnetisieren einer Konvergenzeinrichtung für Inline-Farbbildröhren | |
| DE3212248A1 (de) | Elektronenoptik des elektronenstrahlerzeugersystems einer farbbildroehre | |
| DE102005031537B4 (de) | Abbildender Energiefilter für geladene Teilchen, insbesondere Elektronen | |
| DE19860988B4 (de) | Elektronenmikroskop mit Energiefilter | |
| DE955713C (de) | Einrichtung zur magnetischen Querablenkung von Korpuskularstrahlen | |
| DE2125539C3 (de) | Fernsehbildwiedergabeanordnung mit einem Ablenkspulensystem |