DE2120002A1 - Verfahren zur Herstellung von beta-Silathiuroniumsalzen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von beta-SilathiuroniumsalzenInfo
- Publication number
- DE2120002A1 DE2120002A1 DE19712120002 DE2120002A DE2120002A1 DE 2120002 A1 DE2120002 A1 DE 2120002A1 DE 19712120002 DE19712120002 DE 19712120002 DE 2120002 A DE2120002 A DE 2120002A DE 2120002 A1 DE2120002 A1 DE 2120002A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- beta
- radical
- approx
- carbon atoms
- salts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 title description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 9
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 4
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims description 4
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- CASYTJWXPQRCFF-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl(trimethoxy)silane Chemical group CO[Si](OC)(OC)CCCl CASYTJWXPQRCFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SGFSMOHWPOFZQW-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl-dimethoxy-methylsilane Chemical group CO[Si](C)(OC)CCCl SGFSMOHWPOFZQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KQJQICVXLJTWQD-UHFFFAOYSA-N N-Methylthiourea Chemical compound CNC(N)=S KQJQICVXLJTWQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XGEGHDBEHXKFPX-UHFFFAOYSA-N N-methylthiourea Natural products CNC(N)=O XGEGHDBEHXKFPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 208000003569 Central serous chorioretinopathy Diseases 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- -1 methylcyclohexyl Chemical group 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 2
- INDZTCRIYSRWOH-UHFFFAOYSA-N undec-10-enyl carbamimidothioate;hydroiodide Chemical class I.NC(=N)SCCCCCCCCCC=C INDZTCRIYSRWOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAYUMUDTQDNZBD-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethylsilane Chemical class [SiH3]CCCl MAYUMUDTQDNZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LAYYTBXZBRQYIO-UHFFFAOYSA-N 2-silylethanethiol Chemical class SCC[SiH3] LAYYTBXZBRQYIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNOILHPDHOHILI-UHFFFAOYSA-N Tetramethylthiourea Chemical compound CN(C)C(=S)N(C)C MNOILHPDHOHILI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007068 beta-elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001802 myricyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000269 nucleophilic effect Effects 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005004 perfluoroethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000005007 perfluorooctyl group Chemical group FC(C(C(C(C(C(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N sulfanyl Chemical class [SH] PXQLVRUNWNTZOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
- C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
- C07F7/1892—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions not provided for in C07F7/1876 - C07F7/1888
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
DR. L MAAS
DR. w. PFEIFFER
DR. F. VOITHENLEITNER
8 MÜNCHEN 23
UNQERERSTR. 25 - TEL 39 02 38
UNQERERSTR. 25 - TEL 39 02 38
DC 1733
Aus der USA-Patentschrift 3 215 718 ist bekannt, daß Iso
thiuroniumsalze durch Umsetzung von Halogenalkylsilicium verbindungen, die die Gruppe
enthalten, mit Thioharnstoff in Gegenwart von Lösungsmitteln, zum Beispiel Alkoholen und Ketonen, hergestellt
werden können. In der Patentschrift ist jedoch ausdrücklich angegeben, daß η einen Wert von wenigstens 3 haben
muß. Ferner ist in der USA-Patentschrift 3 314 982 beschrieben, daß Isothiuroniumsalze durch Umsetzung von
Halogenalkylsilanen, die die Gruppe
enthalten, mit Thioharnstoff in Gegenwart von Lösungsmitteln wie Äthanol und "hochpolaren Flüssigkeiten, zum
Beispiel Dimethylformamid" (Spalte 2, Zeile 6) hergestellt
109846/1977
werden können. In dieser Patentschrift ist ebenfalls angegeben, daß M wenigstens 3 Kohlenstoffatome enthalten
muß. Offensichtlich wurde also die Umsetzung mit Halogenalkylsilanen, in denen sich das Halogenatom in alpha- oder beta-Stellung
zu dem Silicium befindet, für undurchführbar gehalten. Der Grund dafür liegt in der den Fachleuten bekannten
Tatsache, daß alpha- und besonders beta-Halogenalkyl-•
silane gegen den Angriff mikleophiler Reagentien besonders empfindlich sind. So hat Eaborn, "Organosilicon
Compounds", S. 133 und 134, darauf hingewiesen, daß beta-Eliminierung stattfindet, wenn beta-Chlororganosiliciumverbindungen
der Einwirkung von Alkali ausge- W setzt werden. Eaborn hat ferner festgestellt, daß die
beta-Halogenverbindungen gegen Spaltung noch empfindlicher
sind als die entsprechenden alpha-Halogensilaiis oder
-siloxane. Auf die Empfindlichkeit gegen nukleophilen Angriff wird auch in der britischen Patentschrift
1 102 25I7 S. Ze letzter Absatz, hingewiesen, in dem
folgendes angegeben ist: "Beispielsweise können alle dies© Silane, mit Ausnahme solcher, in denen die HS-Gruppe
an das Silicium über das beta-Kohlenstoffatom des
zweiwertigen Kohlenwasserstoffrests (R) gebunden ist,
durch Umsetzung von NaSH mit einem chlorierten Vorläufer der Formel
R1b
(ClR)3Si (OR· )4.(a+b)
erzeugt werden. Wegen der relativen Instabilität von beta-Chloräthylsilanen und ähnlichen Silanen, die Chlor
in beta-Stellung zum Siliciumatom enthalten, wird die Herstellung des entsprechenden Mercaptoanalogen durch
Umsetzung mit NaSH nicht für möglich angesehen." Diese in der Literatur gegebenen Lehren zeigen deutlich, warum
109846/ 1977
gar nicht erst versucht wurde, Isothiuroniumsalze aus
Halogenalkylsilanen herzustellen, in denen sich das Halogen in beta-Stellung zum Silicium befindet.
Im Gegensatz dazu wurde nun überraschenderweise gefunden, daß Isothiuroniumsalze aus beta-Halogenalkylsilanen in
ausgezeichneter Ausbeute hergestellt werden können, wenn die Umsetzung entsprechend der Erfindung durchgeführt
wird.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von beta-Isothiuroniumsalzen, das dadurch gekennzeichnet
ist, daß man eine beta-Halogenorganosiliciuraverbindung
der Formel
XCHR11CH2SiRn (OR ·)
mit Thioharnstoff oder N-Methylthioharnstoffen in Abwesen
heit eines polaren Lösungsmittels bei einer Temperatur umsetzt, bei der sich ein Isothiuroniumsalz der Formel
2CSCHR"CH2SiRn(OR')
bildet, wobei X Chlor oder Brom, Y Wasserstoff oder Methyl,
R" Wasserstoff oder einen Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen, R einen einwertigen von aliphatisch ungesättigten
Stellen freien Kohlenwasserstoffrest oder einen
in dem Rf ein Perfluoralkylrest ist, und R1 einen Alkyl-
oder Alkoxyalkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen bedeu tet, η eine Zahl von O bis 2, m eine Zahl von 1 bis 3
ind die Summe von η + m nicht größer als 3 ist.
109846/ 1 977
-X-
R" kann einen beliebigen Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen
bedeuten, zum Beispiel Methyl, Äthyl oder Hexyl.
Für die erfindungsgemäßen Zwecke kann R irgendein einwertiger von aliphatisch ungesättigten Stellen freier
Kohlenwasserstoffrest sein, zum Beispiel ein Alkylrest wie Methyl, Äthyl, Isopropyl, Hexyl, Octadecyl oder Myricyl,
ein cycloaliphatischer Rest wie Cyclopentyl, Cyclohexyl oder Methylcyclohexyl, ein aromatischer Kohlenwasserstoffrest wie
Phenyl, Tolyl, XyIyI, Naphthyl oder Xenyl oder ein Aralkylrest
wie Benzyl, 2-Phenyläthyl oder 2-Phenylpropyl. R kann auch
ein R-CH3CH2-ReSt sein, worin Rf einen Perfluoralkylrest wie
Perfluormethyl, Perfluoräthyl, Perfluorisobutyl, Perfluoroctyl
oder Perfluoroctadecyl bedeutet.
R1 kann irgendein Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen,
zum Beispiel Methyl, Äthyl, Isopropyl oder Hexyl, oder irgendein Alkoxyalkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen sein,
z.B. kann R1O 2-Methoxyäthoxy, 2-Äthoxymethoxy, 2-Methoxypropoxy,
2-Butoxyäthoxy oder -(OCH2CH2J2OCH3 sein. Die
Reste R und R1 können untereinander gleich oder voneinander
verschieden sein.
Die Isothiuroniumsalze können mit Thioharnstoff, Tetramethylthioharnstoff
oder Thioharnstoffen, die an den Stickstoff gebundene Wasserstoffatome und Methylgruppen
aufweisen, zum Beispiel N-Methy!thioharnstoff oder sym-N,N-Dimethylthioharnstoff, hergestellt werden.
Die erfindungsgemäße Umsetzung muß in Abwesenheit eines polaren Lösungsmittels durchgeführt werden. Der Ausdruck
"polares Lösungsmittel" bezeichnet ein Lösungsmittel,
1 0 9 8 A ß / 1 9 7 7
das aktiven Wasserstoff enthält/ oder ein Lösungsmittel
18
mit einem Dipolmoment über etwa 2,0 χ 10 elektrostatische Einheiten.
Vorzugsweise wird die Umsetzung ohne Verdünnungsmittel durchgeführt, gewünschtenfalls können jedoch nicht-polare
Lösungsmittel, zum Beispiel flüssige Kohlenwasserstoffe wie Hexan, Cyclohexan, Heptan, Benzol und Toluol, sowie
Äther, zum Beispiel Diäthyläther oder Dioxan, und Halogenkohlenwasserstoffe
wie Tetrachlorkohlenstoff oder Perchloräthylen, verwendet werden.
Die Reaktionstemperatur ist nicht kritisch, und Temperaturen im Bereich von 80 bis 150 Grad C sind ausreichend.
Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erhältlichen <
Isothiuroniumsalze können als Zwischenprodukte für die Herstellung der entsprechenden Mercaptoäthylsilane durch
Umsetzung unter alkalischen Bedingungen verwendet werden. So werden durch Umsetzung der erfindungsgemäß erhältlichen
Verbindungen mit Ammoniak in einwertigen Alkoholen als Lösungsmittel unter praktisch wasserfreien Bedingungen in
ausgezeichneten Ausbeuten entsprechende Mercaptoalkylalkoxysilane
HSCR11HCH0SiR-(OR1) erhalten. Zur Durchführung dieser
Umsetzung wird das Isothiuroniumsalz in dem Alkohol gelöst. Gut geeignet sind Lösungen mit 10 bis 50 Gewichtsprozent
Isothiuroniumsalz. Die erfindungsgemäßen Isothiuroniumsalze selbst sind auch als Kupplungsmittel zwischen Kunststoffen Λ
wie Polyolefinen und Glas vorteilhaft.
Durch die folgenden Beispiele wird die Erfindung näher erläutert.
Beispiel 1
Eine Aufschlämmung aus 30,4 g Thioharnstoff und 56,2 g 2-Chloräthylmethyldimethoxysilan wird eine Stunde auf
105 Grad C erwärmt. Zu diesem Zeitpunkt beginnt der Thioharnstoff ein breiiges Aussehen anzunehmen. Es setzt
eine exotherme Reaktion ein, und es wird für eine solche Kühlung gesorgt, daß die Reaktionstemperatur 112 Grad C
nicht übersteigt. Wenn die Bildung der Reaktionswärme
1098 4 6/1977
nachläßt, wird die Temperatur 3 Stunden bei 105 Grad C
gehalten, und dann wird das Produkt mit 37,4 g Methanol verdünnt. Die Struktur des Isothiuroniumsalzes wird
durch das Kernresoanzspektrum bestimmt. Es hat die Formel
Cl~+(NH2)2CSCH3CH2Si(CH3)(OCH3)2.
Äquivalente Ergebnisse werden erzielt, wenn die Arbeitsweise von Beispiel 1 mit beta-Chloräthyltrimethoxysilan
durchgeführt wird. Das Produkt hat die Formel
(OCH3)
Wenn folgende Silane nach der Arbeitsweise von Beispiel 1 mit folgenden Thioharnstoffen umgesetzt werden,
werden folgende Isothiuroniumsalze erhalten:
109846/ 1 977
2120G02
(NJ
in | I | CQ | (N | I | i—I | CM | I | rH | CM | I | O | CM | V^ | I | co | I | ι—I | co | CM | I | O | |
CC | co | U | O | CC | in | CC | O | OCH | CO | |||||||||||||
CM | ca | CC | CQ | To CC CJ |
co | ca | CJ CM cc |
CC | (OC | JJ | ca | |||||||||||
O | Il | O | U | O CM |
CQ | Il | 8 | CM | co | ca | ro | Q | Il | |||||||||
O | U | CJ | CC | Il | CC | CJ | 8 | Ua | Il | CC | U | |||||||||||
CM | U | O | VO | CM | ^_^ | CJ | U | U | CM | |||||||||||||
CM | in | CM | CM | U | in | CM | CM | ·<* | in | |||||||||||||
CM | CC | CO | CC | „^ | O | CM | CC | CC | cc | CC | CM | |||||||||||
CO | CC | VO | CC | 8 | CM | CC | VO | U | (N | VO | VO | cc | ||||||||||
CC | Z | CJ | CJ | CC | ■Η | U | (N | CC | CJ | U | ||||||||||||
O | •H | Z | ■H | CM | cc | Z | ||||||||||||||||
N | ca | co | CC | CC | U | •H | CC* | |||||||||||||||
r-i | •H | CM | CC | vo | O | ca | VO | |||||||||||||||
m | CQ | CC | OO | O | CM | •H | CN | CJ | ||||||||||||||
co | CM | U | r-i | •H | CC | CQ | cc | |||||||||||||||
CC | CM | CJ | ca | O | CM | U | •H | |||||||||||||||
O | CC | •H | CM | CC | ca | |||||||||||||||||
(N | O | CQ | cc | •H | O | in | (N | |||||||||||||||
cc | ca | CM | U | ca | CC | CC | ||||||||||||||||
U | CJ | CC | CM | CN | To | CM | U | |||||||||||||||
ca | CM | CJ | CC | cc | cc | U | CM | |||||||||||||||
CJ | V^ | CM | CJ | U | CJ | CC | ||||||||||||||||
CM | I | CC | ca | (N | SM* | CC | CJ | |||||||||||||||
^» | CM | U | U | CC | cc | U | ca | |||||||||||||||
CM | CQ | CM | O | U | ca | U | ||||||||||||||||
CC | CO | CJ | ca | ca | U | CM | ||||||||||||||||
23 | CC | CM | TvJ | O | O | CM | ||||||||||||||||
CJ | cc | CM | CM | ""cn | ||||||||||||||||||
Tn | 5 | CM | CC | |||||||||||||||||||
\l | CC | CM | CM | cc | 53 | |||||||||||||||||
Z Sm* |
CC | CC | H | |||||||||||||||||||
5 | ■j" | |||||||||||||||||||||
"}■ | H | |||||||||||||||||||||
H | O | |||||||||||||||||||||
O | ||||||||||||||||||||||
CQ | ||||||||||||||||||||||
«n | ca | Il | ||||||||||||||||||||
Il | U | |||||||||||||||||||||
I O | O | CM | ||||||||||||||||||||
O -P | CN | |||||||||||||||||||||
H 01 | ^-» | CM | ||||||||||||||||||||
C Ö | CN | cc | ||||||||||||||||||||
H U | CC | J25 | ||||||||||||||||||||
«J | Z | |||||||||||||||||||||
ΓΙ
CM
CM | CM | CM | CM | V^ | CM | CM | CM | |
^o | CO | cc | I | ^_ | cc | |||
CO CC |
CO CC 8 (N |
rH | O | in | CO | CO | 8 | |
8 | CC O |
CC | CM | CC | CC | (OCH | ||
»■"' | CM | VO 8 |
HDO) | CM | I (OC | ,_ | ||
in | CC | ^-* | Vj | 8 | co | co CC |
in CC |
|
in | CC | 8 | fH | (N | Ua U |
U | VO | |
CC | VO | •H | Tn | CM | O | |||
CN | O | CC | CC | CC | CC* VO |
|||
8 | •H | co | VO | VO CJ |
U CM |
CJ | CC | |
*-* | ca | CC | a | CM | CC | VO | ||
CN | CM | co | •H | CC | CJ | •H | CJ | |
cc | rH | ca | U | ca | ||||
CO | U | O | CM | CM | •H | CM | •H | |
CC | CN | •H | cc | CC | ca | cc - | CQ | |
O | CC | CQ | U | U | CM | O | CM | |
*-» | O | CM | CM | cc | CC | |||
•rl | CC | cc | ■H | U | Tn | CJ | ||
ca | U | U | O | ca | CC | CM | ||
CM | (N | H | CM | co | CN | CC | ||
cc | S | CJ | cc | CC | U | CJ | ||
O | rH | U | CJ | rH | ||||
CM | CJ | CM | CC | CJ | ||||
CC | cc | cc | U | |||||
O | O | CJ | ||||||
U | r-i | CJ | ||||||
m | CJ | U | ||||||
109846/1977
Claims (3)
1. Verfahren zur Herstellung von beta-Isothiuronium-
salzen, dadurch gekennzeichnet, daß man eine Verbindung
der Formel
XCR11HCH0SiR (OR1)
zn m
mit Thioharnstoff oder einem N-Methylthioharnstoff in
Abwesenheit eines polaren Lösungsmittels bei einer Temperatur umsetzt, bei der sich ein Isothiuroniumsalz der
Formel
2CSCR"HCH2SiRn(OR1
bildet, wobei
X Chlor oder Brom,
Y Wasserstoff oder Methyl,
R" Wasserstoff oder einen Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen
,
R einen einwertigen von aliphatisch ungesättigten Stellen freien Kohlenwasserstoffrest oder einen
RfCH2CH2-Rest,
in dem R- ein Perfluoralkylrest ist,
R1 einen Alkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen oder einen
Alkoxyalkylrest mit 1 bis 6 Kohlenstoffatomen,
η eine Zahl von O bis 2 und
m eine Zahl von 1 bis 3
m eine Zahl von 1 bis 3
bedeutet, wobei die Summe von η + m nicht größer als 3 ist.
1 η 9 <■* U R / 1 i/7 7
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß man als beta-Halogenorganosiliciumverbindung beta-Chloräthylmethyldimethoxysilan
verwendet.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man als beta-Halogenorganosiliciumverbindung beta-Chloräthyltrimethoxysilan
verwendet.
109846/ 1S77
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US3134970A | 1970-04-23 | 1970-04-23 | |
US3134970 | 1970-04-23 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2120002A1 true DE2120002A1 (de) | 1971-11-11 |
DE2120002C DE2120002C (de) | 1973-04-05 |
Family
ID=
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5012415B1 (de) | 1975-05-12 |
BE766111A (fr) | 1971-10-22 |
GB1297169A (de) | 1972-11-22 |
US3637779A (en) | 1972-01-25 |
FR2090555A5 (de) | 1972-01-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3311340C2 (de) | ||
DE2141159C3 (de) | Schwefel enthaltende Organosiliciumverbindungen | |
DE1493384A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumverbindungen | |
EP0955302B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Gemischen von Organosiliciumoligosulfanen mit einem hohen Anteil an Organosiliciumdisulfanen | |
DE2035619A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Mercapto alkylalkoxysilanen | |
DE1445661A1 (de) | Organosilicium-(imidazolinyl-2)-verbindungen und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE2120002A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von beta-Silathiuroniumsalzen | |
DE2719008C2 (de) | ||
DE1163818B (de) | Verfahren zur Herstellung von ªÏ-mercaptoalkylgruppenhaltigen Organosiliciumverbindungen | |
DE2120002C (de) | Verfahren zur Herstellung von beta Isothiuroniumsalzen | |
EP0223735B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Halbaminalen, Halbaminale und deren Verwendung | |
EP0640611A1 (de) | Fluoratome enthaltende Alkoxysilanverbindungen | |
DE2063615A1 (de) | Carboxyfunktionelle, hydrolysierba re Silane und Verfahren zu ihrer Herstel lung | |
DE2120002B (de) | Verfahren zur Herstellung von beta-Isothiuroniumsalzen | |
EP0411313B1 (de) | N,N'-Disubstituierte und N,N,N'-/N,N',N'-trisubstituierte Thioharnstoffe und Verfahren zur Herstellung (II) | |
DE2536010A1 (de) | Verfahren zur herstellung von cyclischen diphenylsiloxanen | |
EP0157270A2 (de) | Verfahren zur Herstellung von tetrachlorierten Benzo-1,4-dioxenen | |
DE2757936C3 (de) | Verfahren zur Silylierung | |
CH635348A5 (de) | Disubstituierte dichlorsilanverbindungen und verfahren zur herstellung derselben. | |
DE890504C (de) | Verfahren zur Herstellung von Diorganodihalogensilanen | |
DE1960233A1 (de) | Spiroheterocyclische,pentacoordinative Siliciumverbindungen und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
EP0348621A2 (de) | Verfahren zur Herstellung substituierter organyloxysilylfunktioneller, cyclischer Thioharnstoffe und diese Verbindungen | |
DE2543639C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Mercaptanen | |
DE19848482C1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Organosiliciumdisulfanen | |
DE2002066A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von N-Trialkylsilyl-vinylsulfonamiden |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
EHJ | Ceased/non-payment of the annual fee |