DE2105807A1 - Verfahren zur Herstellung von Bestrah lungsspuren - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Bestrah lungsspurenInfo
- Publication number
- DE2105807A1 DE2105807A1 DE19712105807 DE2105807A DE2105807A1 DE 2105807 A1 DE2105807 A1 DE 2105807A1 DE 19712105807 DE19712105807 DE 19712105807 DE 2105807 A DE2105807 A DE 2105807A DE 2105807 A1 DE2105807 A1 DE 2105807A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- radiation
- particles
- electromagnetic radiation
- energy particles
- irradiated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
- C25D5/36—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of iron or steel
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/38—Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T5/00—Recording of movements or tracks of particles; Processing or analysis of such tracks
- G01T5/10—Plates or blocks in which tracks of nuclear particles are made visible by after-treatment, e.g. using photographic emulsion, using mica
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Verfahren zur Herstellung von Bestrahlungsspuren
Ein bekanntes Verfahren zur Sichtbarmachung der durch energiereiche
Teilchen in einem Körper erzeugten Spuren wird im US-Patent 3 303 O85 und in einer Arbeit von R.L. Fleischer et al
mit dem Titel "Spuren geladener Teilchen in Pestkörpern" ("Track3 of Charged Particles in Solids"), Science, 23. Juli 1965.
Vol. 149, Nr. 3682 beschrieben. Bei diesem Verfahren zur Registrierung
von Teilchenspuren wird ein Körper, beispielsweise ein kristalliner Pestkörper, wie Glimmer, oder ein nicht-kristallines
Material, wie ein Inorganisches Glas oder ein organischer Polyrterkunststoff verwendet. Wenn dieser Körper mit ener-
109835/1073
giereiehen Teilchen bestrahlt wird, beispielsweise mit alpha-Teilchen
oder Kernspaltungsteilchen, werden in dem Material Beschädigungsspuren durch örtliche Änderung der Struktur des
Materials längs des Weges der Teilchen durch das Material gebildet. Diese Bestrahlungsspuren werden dadurch sichtbar gemacht,
daß der Körper einem Lösungsmittel ausgesetzt wird, welches vorzugsweise das geänderte Material längs dieser Spuren
angreift. Nach dieser "Ätz"-Behandlung sind einzelne Spuren unter einem optischen Mikroskop sichtbar. Vor dem Ätzen können
die Spuren im allgemeinen nicht festgestellt werden.
Für diese Verfahren und Materialien zur Registrierung von Teilchenspuren
wurde ein großer Bereich kommerzieller Anwendungsmöglichkeiten gefunden. Beispielsweise gehen bei einem bestrahlten
Körper in Form einer dünnen Folie oder eines Films die Löcher vollständig durch die Folie hindurch und die einzelnen
Löcher haben Durchmesser im Bereich von 5 bis 100 000 S. Die auf diese Weise gebildeten perforierten Folien haben Anwendungsmöglichkeit
als Membranfilter, wie es im US-Patent Nr. 3 303 O85 beschrieben ist. Die Verfahren und Materialien wurden
auch als brauchbar für die Neutronen-Radiographie entsprechend der US-Patentanmeldung Nr. 558 490 vom I7. Juni I966 und 601
vom 12. Dezember I966 gefunden.
Obwohl die vorstehenden Verfahren zur Registrierung von Teilchenspuren
ausgezeichnete Ergebnisse liefern, sind weitere Verbesserungen
äußerst wünschenswert. Bei der Produktion von Filtern ist es beispielsweise in höchstem Maße erwünscht, daß die
Bohrungen oder Perforationen, welche oft auch als Poren bezeichnet werden, eine im wesentlichen zylindrische Form aufweisen.
Wenn die Perforationen an der Oberfläche dee Films relativ großen Durchmesser besitzen und sich nach der Mitte des Films
zu verjüngen, können in der gefilterten Lösung vorhandene Teilchen das Filter dadurch veretopfen, daß sie teilweise In die
Perforation eindringen und sich in der engen Zone verklemmen. Xn den Fällen, in denen die Ätzlösung das übrige Material des
109835/1073
Films und die Bestrahlungsspuren mit etwa der gleichen Geschwindigkeit
angreift, werden die erhaltenen Perforationen diese unerwünschte nicht-zylindrische Form aufweisen. Es ist daher von
höchster Wichtigkeit, daß das Ätzmittel selektiv das veränderte
Material längs der Bestrahlungsspuren mit einer viel größeren Geschwindigkeit auflöst als es das übrige unveränderte Material
des Films auflöst. Ebenso ist' es für die schnelle wirtschaftliche
Herstellung von Filtermaterialien wichtig, daß das Ätzmittel die veränderten Materialien mit hoher Geschwindigkeit
auflöst, so daß Filter von sehr geringer Porengröße erzeugt werden können. J
Bei einem möglichen Verfahren zur Erhöhung der Ätzgeschwindigkeit der Bestrahlungsspuren im Vergleich zu der Ätzgeschwindigkeit
des übrigen Materials könnte nach der Bestrahlung mit energiereichen Teilchen, jedoch vor dem Ätzern das Material
einer Strahlung mit Wellenlängen unterhalb 4000 S oder mit Elektronen in Anwesenheit von Sauerstoff unterworfen werden.
Die bekannten Strahlungsquellen für Ultraviolett-Strahlung erzeugen
jedoch auch beträchtliche Anteile von Ultrarot-Strahlung. Wenn daher diese Vorbehandlung vor dem Ätzen ohne Infrarot-Filter
in einer gasförmigen Atmosphäre durchgeführt wird, wird gefunden, daß das Filmmaterial unzulässig erwärmt wird. Dabei y
zeigen die Strahlungsspuren eine Neigung dazu, zu verschwinden \
durch eine Art "AnlaßVorgang" (annealing).
Es ist daher eine Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zur Bestrahlungsbehandlung
von Spurenregistrierungsmaterial vor dem Ätzen ohne übermäßige Erwärmung oder Anlaßerscheinungen des
Materials zu schaffen.
Diese und andere Aufgaben werden erfindungsgemäß dadurch gelöst,
daß das bestrahlte für die Registrierung von Spuren verwendete Material einer Ultraviolett-Bestrahlung ausgesetzt
wird, während das Material in ein flüssiges Kühlmittel einge-
109835/1073
taucht ist, das Sauerstoff enthält, beispielsweise mit Luft oder Sauerstoff angereichertes Wasser oder eine Wasserstoffperoxidlösung.
Das flüssige Kühlmittel wirkt sowohl als Infrarot-Filter als auch als wirksame Wärmeableitung und verhindert dadurch
eine überhitzung und eine entsprechende thermische Beschädigung des Materials für die Spurenregistrierung. Ebenso wurde
gefunden, daß auf diese Weise die Zeitdauer der Ultraviolett-Belichtung
auf weniger als ein Drittel der Belichtungszeit verringert werden kann, welche in einer sauerstoffhaltigen Gas- ·
atmosphäre erforderlich ist. Weiterhin wird die Notwendigkeit zur Verwendung kostspieliger Infrarot-Filter beseitigt.
Die nachstehende Beschreibung im Zusammenhang mit den Abbildungen enthält eine Erläuterung der Erfindung anhand vorteilhafter
Ausführungsformen.
Fig. 1 ist ein Fließbild einer bevorzugten Ausführungsform des
Verfahrens gemäß der Erfindung.
Fig. 2 ist eine schematische Darstellung der Anordnung für die elektromagnetische Behandlung.
Fig. 3 ist eine vergrößerte schematische Abbildung eines Teils eines Films für Spurenregistrierung nach der Bestrahlung
mit energiereichen Teilchen und
Fig. 4 ist eine vergrößerte schematische Darstellung des Films der Fig. 3 nach der Behandlung mit einer Lösung mit selektiver
Ätzung.
Fig. 1 ist ein Fließbild und zeigt die einzelnen Verfahrensstufen eines bevorzugten erfindungsgemäßen Verfahrens. Ein Film
für die Registrierung von Spuren aus einem Material 10 wird hergestellt oder in anderer Weise erhalten. Wie nachstehend ausgeführt,
kann ein großer Bereich von Materialien verwendet werden. Optimale Materialien für bestimmte Verhältnisse können in
109835/1073
Abhängigkeit von den für die Handhabung des Materials vorliegenden
Bedingungen, den zu registrierenden Teilchen usw. ausgewählt werden.
Der Film aus dem Material für die Spurenregistrierung wird mit Energieteilchen bestrahlt, um Beschädigungsspuren zu bilden,
welche geändertes Material enthalten und sich längs des Teilchenweges in dem Material erstrecken.
Dann wird das bestrhalte Material 10 für die Spurenregistrierung, wie in Fig. 2 gezeigt, in eine sauerstoffhaltige Flüssigkeit
11 eingetaucht. Die Flüssigkeit 11 kann beispielsweise mit Luft oder Sauerstoff angereichertes V/asser oder eine Wasserstoffperoxidlösung
sein. Das Material 10 wird beispielsweise etwa 1 cm tief in die Flüssigkeit 11 eingetaucht, wobei die Oberfläche
des Materials 10 parallel der Oberfläche der Flüssigkeit 11 ist.
Anschließend wird das eingetauchte bestrahlte Material elektromagnetischer
Strahlung mit einer Wellenlänge unterhalb 4000 8 ausgesetzt. Vorzugsweise liegt diese Strahlung im Bereich des
mittleren oder nahen Ultraviolett und/oder im Bereich des Ultraviolett-Lichtes, wie es von einer Ultraviolett-Lichtquelle 12
erhalten wird, welche beispielsweise eine Quecksilberdampflampe der General Electric mit der Typenbezeichnung H3T7 sein kann.
Die Lampe wird vorzugsweise in einem parabolischen Reflektor gehaltert und kann einen Abstand von der Flüssigkeitsoberfläche
in der Größenordnung von 12 cm besitzen. Die Flüssigkeit 11 wirkt als Infrarot-Filter und als Wärmesenke und verhindert
dadurch eine thermische Beschädigung des Materials. Obwohl der Einzelmechanismus nicht vollständig bekannt ist, gestattet die-3e
Behandlung, wie untenstehend erörtert, eine viel schnellere selektive Ätzung des geänderten Materials längs der Bestrahlungsspuren
als bei einem Verfahren, bei dem diese Behandlung ausgelassen wird. Weiterhin besitzen die nach dieser Bestrahlungsbehandlung
ausgeätzten Spuren eine Neigung zu einer viel
1098 35/1073
größeren Gleichmäßigkeit der zylindrischen Form. Vo diese Behandlung
nicht durchgeführt wird, können gute geätzte Strahlungsspuren nur nach umfangreicher Ätzbehandlung erhalten werden
und diese geätzten Spuren zeigen eine Neigung dazu, konisch zu verlaufen und haben daher eine weitere öffnung an der Oberfläche
des Materials.
Anschließend wird das belichtete und bestrahlte Material einer Ätzlösung ausgesetzt, ..eiche das geänderte Material längs der
Bestrahlungsspuren selektiv angreift und auflost und die Bestrahlungsspuren
auf den gewünschten Durchmesser vergrößert. Wie nachstehend beschrieben, kann eine Vielzahl von Ätzlösungen
und Ätzbedingungen angewendet werden. Obwohl diese Lösungen den Hauptteil des für die Spurenregistrierung verwendeten Materials
angreifen, greifen sie das geänderte Material längs der Bestrahlungsspuren mit einer viel größeren Geschwindigkeit an.
Schließlich wird das Material aus der Ätzlösung herausgenommen, abgespült (im allgemeinen mit Wasser) und getrocknet.
Der Film ist jetzt fertig für die beabsichtigte endgültige Verwendung.
Die Fig. 3 und h zeigen schematisch das für die Spurenregistrierung
verwendete Material nach der Bestrahlung mit Energieteilchen bzw. nach dem Ätzen.
Wie aus Fig. 3 ersichtlich, enthält das Spurenregistrierungsmaterial
10 eine Vielzahl von im wesentlichen unsichtbaren Strahlungsspuren 21, welche durch den Durchgang von Energieteilchen
verursacht wurden. Wie abgebildet, sind die Teilchen in das Material unter den verschiedensten Winkeln eingetreten. Selbstverständlich
können die Teilchen gewünschtenfalls zu einem Bündel kollimiert werden, so daß sie alle im wesentlichen unter
dem gleichen Winkel eintreten. Die Spuren sind zu diesem Zeitpunkt noch praktisch unsichtbar.
109835/1073
Pig, 1I zeigt das Material 10 nach der Behandlung mit einer Strahlung
in Anwesenheit von Sauerstoff entsprechend der obenstehenden Beschreibung und nach dem Ätzen. Es werden, wie beispielsweise
bei 22 angedeutet, vollständig durch das Material verlaufende Löcher gebildet, wo Teilchen hoher Energie vollständig
durch das Material hindurchgegangen sind. Teilchen mit niedrigerer
Energie führen zu im wesentlichen zylindrischen Vertiefungen,wie
bei 23 angedeutet.
Für das erfindungsgemäße Verfahren können beliebige geeignete
synthetische Kunstharze verwendet werden. Typische geeignete m
synthetische Kunstharze schließen ein: Polyesterkunstharee wie Polycarbonate, Polyäthylenterephthalate, Celluloseabkömmlinge
wie Cellulosenitrat und Celluloseazetat und Gemische derselben. Wenn die für die Spurenbildung verwendeten energiereichen Teilchen
alpha-Teilchen sind, werden Celluloseabkömmlinge bevorzugt.
Polycarbonate werden bevorzugt, wenn die Spuren durch relativ schwere Kernspaltungsteilchen gebildet werden.
Es kann eine beliebige geignete Quelle für die energiereichen
Teilchen verwendet werden. Typische Teilchenquellen schließen ein spontan zerfallende Isotope wie Californium-252, Isotope,
die unter Abgabe von alpha-Teilchen zerfallen, beispielsweise s
Radium-226 und Americum-241, Materialien, welche bei der Be- '
strahlung mit Neutronen eine Kernspaltung erfahren und Kernspaltungsteilchen aussenden, beispielsweise Uran-235, Materialien,
welche alpha-Teilchen bei der Bestrahlung mit Neutronen
abgeben, beispielsweise Bor-10 und verschiedenste Teilchenbeschleuniger
für atomare und sub-atomare Teilchen.
Es kann ein beiliebiges geeignetes Ätzmittel verwendet werden, um die Strahlungsspuren auf den gewünschten Durchmesser zu erweitern.
Das Ätzmittel kann eine wäßrige oder nicht-wäßrige Lösung von sauren oder basischen Katalysatoren oder Redoxmitteln
sein, wenn diese geeignet sind. Typische Ätzmittel schließen ein Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Lithiumhydroxid, Chrom-
109835/1073
säure, Kaliumpermanganat, Ammoniumhydroxid, Kalium-t-butoxid,
Tetrapropylammoniumhydroxid und Gemische derselben. Obwohl beliebige
geeignete Lösungskonzentrationen verwendet werden können,wird im allgemeinen zwecks schnellerer Vergrößerung der
Strahlungsspuren eine konzentrierte Lösung bevorzugt. Obwohl die Ätzlösung bei irgendeiner geeigneten Temperatur verwendet
werden kann, wird es im allgemeinen bevorzugt, die Lösung zu erhitzen (jedoch nicht bis zum Siedepunkt), um die Geschwindigkeit
der Spurenvergrößerung zu erhöhen. Man erhält beispielsweise für Polycarbonate gute Ergebnisse bei einer 6-normalen
Lösung von Natriumhydroxid bei etwa 800C, wobei die Lösung während
der Behandlung gerührt oder bewegt wird. Wenn kleine Porendurchmesser erwünscht sind oder wenn es erwünscht ist, eine
genügend lange Ätzzeit zur Durchführung einer ausreichenden Qualitätskontrolle zu erhalten, kann eine niedrigere Temperatur
erwünscht sein.
Der Film kann für eine geeignete Zeitdauer mit der Ätzlösung behandelt werden. Wenn die Behandlungsdauer zu kurz ist, können
die Spuren keinen ausreichenden Durchmesser für die beabsichtigte
Verwendung besitzen und andererseits kann eine zu lange Behandlungsdauer es der Lösung gestatten, den Hauptteil
des Films übermäßig anzugreifen. Die optimale Zeitdauer hängt natürlich von dem Filmmaterial, dem Ätzmittel, der gewünschten
Porengröße und der Temperatur und Konzentration der Lösung ab. Typischerweise erzeugt eine Behandlungsdauer von etwa 20 min
bei einem PolycarbonateIm bei einer 6-normalen Natriumhydroxidlösung
von etwa 60 C voll entwickelte Spuren mit einem Durchmesser von etwa 0,5 Mikron.
Wie in den nachstehenden Beispielen noch näher ausgeführt, wurde
gefunden, daß die Behandlung des bereits mit Teilchen bestrahlten Films mit elektromagnetischer Strahlung , beispielsweise
mit Ultraviolett-Licht, während der Film/eine sauerstoffhaltigen Flüssigkeit eingetaucht ist, bevorzugt zu einer
Steigerung der Ätzgeschwindigkeit des geänderten Materials längs
109835/1073
der Tellchendurchgangsspuren in dem Material, während gleichzeitig
die Ätzgeschwindigkeit des übrigen Materials sich nicht
wesentlich vergrößert.
Es wurde gefunden, daß die durch Ätzen der auf diese Weise vorbehandelten
Filme gebildeten Poren im wesentlichen zylindrisch sind, während die in unbehandelten Filmen gebildeten Poren oft
konisch und an der Oberfläche des Films breiter sind. Es wurde auch gefunden, daß Poren mit einem kleineren Durchmesser in dem
behandelten Film hergestellt werden können. Obwohl keine vollständige Erklärung für diese drastische Verbesserung der Ergeb- |
nisse durch die Zwischenbehandlung gemäß der Erfindung vorliegt, wird angenommen, daß die zugrundeliegenden Vorgänge mit fotochemischen
Reaktionen in Beziehung stehen, an denen Radikale in dem geänderten Matei'ial und Oxidationsreaktionen derselben
beteiligt sind. Zur weiteren Erläuterung der Erfindung dienen die nachstehenden Beispiele.
Bestrahltes Polycarbonatmaterial wurde in der Luft 4 Minutenlang
der Strahlung von einer Quecksilberdampflampe Typ H3T7
mit einem Abstand von 25 cm ausgesetzt. Es wurde kein Infrarot- « Filter verwendet. Bei der Ätzung in 6-normaler Natriumhydroxid- "
lösung bei 80 C wurde gefunden, daß eine Beschädigung der Gesamtmasse des Polycarbonats bis zu einer Tiefe von 5 Mikron stattgefunden
hatte. In dem unbeschädigten Teil des Materials waren Strahlungsspuren vorhanden.
Eine Kontrollprobe, welche nicht der Bestrahlung ausgesetzt wurde,
jedoch in ähnlicher Weise geätzt wurde, zeigte keine Poren.
Eine dritte Probe wurde in eine sauerstoffhaltige Flüssigkeit eingetaucht (bei diesem Beispiel einfaches Leitungswasser) und
in diesem Zustand der Strahlung von einer Quecksilberdampflampe 3 Minuten lang ausgesetzt. Nach eier anschließenden Ätzung in
6-normaler Natriumhydroxidlösung bei 60°C während einer Zeit von
109835/107 3
- ίο -
8 Minuten enthielt diese Probe Poren mit einer Länge von 16,6 Mikron.
Eine bestrahlte Polycarbonatprobe wurde in drei Teile aufgeteilt. Der erste Teil wurde 8 Minuten lang bei 6O°C in 6-normaler
Natriumhydroxidlösung unmittelbar nach der Bestrahlung geätzt und ohne Belichtung durch Ultraviolett-Strahlung. Es waren
keine Poren vorhanden.
Ein zweiter Teil wurde in mit Sauerstoff gesättigten Wasser eingetaucht
und drei Minuten lang einer Ultraviolett-Strahlung (wie in Fig. 1 ersichtlich) ausgesetzt. Nach einer ähnlichen Ätzbehandlung
wurden Poren mit einer Länge von 19 Mikron gefunden.
Ein dritter Teil erhielt eine 3 Minuten lange Ultraviolett-Belichtung,
während er in teilweise entgastem Wasser eingetaucht war. Nach einer ähnlichen Ätzbehandlung wurden Poren gefunden,
deren Länge auf 1^,5 Mikron begrenzt war.
Eine bestrahlte Polycarbonatprobe wurde in mehrere Teile zerschnitten.
Jeder Teil wurde während einer anderen Zeitdauer einer Ultraviolett-Strahlung ausgesetzt, wobei er in einer
2-$igen Wasserstoffperoxidlösung eingetaucht war. Die nach einer 8 Minuten langen Ätzbehandlung bei 600C in 6-normaler
Natriumhydroxidlösung erhaltenen Längen der Spuren oder Poren waren wie folgt:
Belichtungszeit | Spurenlänge |
(Minuten) | (Mikron) |
3 | 19,1 |
1 | 16,6 |
0,5 | 10,5 |
0,25 | 6,7 |
1 0°9 8 3 5 / 1 0 7 3 | (keine Spuren) |
- li -
Ein weiterer Teil wurde in ähnlicher Weise behandelt mit der Ausnahme, daß er 3 Minuten lang der Ultraviolett-Strahlung ausgesetzt
wurde, während er in einer 10 $igen Wasserstoffperoxidlösung
eingetaucht war. Es wurde in diesem Falle eine Spurenlänge von 18,1 Mikron gefunden.
In den Proben der Beispiele II und III wurde keine Beschädigung der Hauptmasse des Polycarbonatmaterials gefunden.
109835/1073
Claims (16)
- Patentansprüche(1.)Verfahren zur Spurenregistrierung, bei dem ein Material für ^^ die Spurenregistrierung mit Energieteilchen bestrahlt wird, welche Spuren geänderten Materials längs ihres Durchgangsweges durch das Material erzeugen und das Material"mit einem Mittel geätzt wird, welches das veränderte Material längs der Spuren bevorzugt angreift, dadurch gekennzeichnet , daß das Material vor dem Ätzen einer elektromagnetischen Strahlung mit Wellenlängen unterhalb etwa 4000 S ausgesetzt wird, während es in einer sauerstoffhaltigen Flüssigkeit eingetaucht ist.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet* , daß die Energieteilchen alpha-Teilchen sind und das Material für die Spurenregistrierung celluloseähnliche Materialien umfaßt.
- 3· Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Energieteilchen Kernspaltungsteilchen sind und das Material für die Spurenregistrierung PolycarbQnatkunstharz umfaßt.
- 4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die elektromagnetische Strahlung ultraviolette Strahlung ist.
- 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet , daß ultraviolette Strahlung mit Wellenlängen im Bereich von 36ΟΟ bis etwa 38ΟΟ 8 verwendet wird.
- 6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die elektromagnetische Strahlung gamma-Strahlung ist.
- 7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß als elektromagnetische Strahlung109 8 35/1073- 13 Röntgenstrahlung angewendet wird.
- 8. Verfahren zur Registrierung von Spuren, dadurch gekennzeichnet , daß es die folgenden Verfahrensschritte umfaßt:ein Material für die Spurenregistrierung wird mit Energieteilchen bestrahlt, die Beschädigungsspuren längs der Durchgangsbahnen der Energieteilchen durch das Material erzeugen, das Material wird in ein flüssiges Kühlmittel eingetaucht und das bestrahlte Material wird einer elektromagnetischen Strahlung mit Wellenlängen unterhalb etwa 4000 8 ausgesetzt. J
- 9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet , daß das flüssige Kühlmittel Sauerstoff enthält.
- 10. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet , daß das Material mit alpha-Teilchen als Energieteilchen bestrahlt wird und das Spurenregistrierungsmaterial Cellulosematerialien umfaßt.
- 11. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet , daß die Energieteilchen Kernspaltungs- j teilchen sind und das Spurenregistrierungsmaterial Poly- * carbonatkunstharz enthält.
- 12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet , daß das Material nach der Belichtung durch elektromagnetische Strahlung zwischen 5 und 20 Minuten lang in eine Ätzlösung eingetaucht wird, welche eine 6-normale Natriumhydroxidlösung mit einer Temperatur zwischen 50 und 80°C enthält.
- 13. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet , daß die elektromagnetische Strahlung *,olett-Strahlung ist.103835/1073
- 14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekenn-' zeichnet , daß die Ultraviolett-Strahlung eine Wellenlänge im Bereich von etwa 36OO bis etwa 38OO K besitzt,
- 15. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet , daß die elektromagnetische Strahlung gamma-Strahlung ist.
- 16. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet , daß die elektromagnetische Strahlung Röntgenstrahlung ist.109835/1073Leerseite
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB3136969 | 1969-06-20 | ||
GB4202869 | 1969-08-22 | ||
US981870A | 1970-02-09 | 1970-02-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2105807A1 true DE2105807A1 (de) | 1971-08-26 |
Family
ID=27258962
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19702030373 Pending DE2030373A1 (de) | 1969-06-20 | 1970-06-19 | Galvanisierungäverfahren |
DE19702041463 Pending DE2041463A1 (de) | 1969-06-20 | 1970-08-20 | Verfahren zum Aufbringen von Kupfer auf Stahl- oder Zinklegierungsoberflaechen |
DE19712105807 Pending DE2105807A1 (de) | 1969-06-20 | 1971-02-08 | Verfahren zur Herstellung von Bestrah lungsspuren |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19702030373 Pending DE2030373A1 (de) | 1969-06-20 | 1970-06-19 | Galvanisierungäverfahren |
DE19702041463 Pending DE2041463A1 (de) | 1969-06-20 | 1970-08-20 | Verfahren zum Aufbringen von Kupfer auf Stahl- oder Zinklegierungsoberflaechen |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US3662178A (de) |
BE (2) | BE751959A (de) |
DE (3) | DE2030373A1 (de) |
FR (4) | FR5561E (de) |
GB (3) | GB1301673A (de) |
NL (2) | NL7008392A (de) |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3770962A (en) * | 1971-11-01 | 1973-11-06 | Gen Electric | Radiation detection method |
US4211602A (en) * | 1978-05-04 | 1980-07-08 | Brumfield Robert C | Surface treatment for blood dialysis cartridges |
FR2428687A1 (fr) * | 1978-06-14 | 1980-01-11 | Ugine Aciers | Nouveau procede de cuivrage de l'acier inoxydable |
JPS6057519B2 (ja) * | 1981-08-20 | 1985-12-16 | 住友金属工業株式会社 | 耐焼付性に優れた油井管継手およびその製造方法 |
US4422906A (en) * | 1981-09-17 | 1983-12-27 | Masami Kobayashi | Process for direct gold plating of stainless steel |
DE3220723A1 (de) * | 1982-06-02 | 1983-12-08 | Gewerkschaft Eisenhütte Westfalia, 4670 Lünen | Verfahren zum aufbringen eines korrosionsbestaendigen und verschleissfesten ueberzuges auf die kolbenstangen von arbeitszylindern, insbesondere zur verwendung im untertagebergbau u.dgl. |
US5314756A (en) * | 1991-11-27 | 1994-05-24 | Hitachi Metals, Ltd. | Permanent magnet of rare-earth-element/transition-metal system having improved corrosion resistance and manufacturing method thereof |
GB2264717A (en) * | 1992-03-06 | 1993-09-08 | Zinex Corp | Cyanide-free copper plating bath |
DE69219484D1 (de) * | 1992-09-15 | 1997-06-05 | Atr Wire & Cable Co | Verfahren und vorrichtung zur elektrolytischen beschichtung mit kupfer |
US6127279A (en) * | 1994-09-26 | 2000-10-03 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Solution applying method |
US5904846A (en) * | 1996-01-16 | 1999-05-18 | Corning Costar Corporation | Filter cartridge having track etched membranes and methods of making same |
CN1251609A (zh) * | 1997-02-12 | 2000-04-26 | 尤金·Y·查恩 | 分析聚合物的方法和产品 |
US6033583A (en) * | 1997-05-05 | 2000-03-07 | The Regents Of The University Of California | Vapor etching of nuclear tracks in dielectric materials |
US6179990B1 (en) | 1999-06-30 | 2001-01-30 | International Business Machines Corporation | Biased acid cleaning of a copper-invar-copper laminate |
FR2803237A1 (fr) * | 1999-12-29 | 2001-07-06 | Iniversite Catholique De Louva | Procede de creation de pores dans un materiau polymere en feuilles ou une couche polymere telle qu'un film mince d'epaisseur egale a une centaine de nanometres, prealablement deposee sur un support metallique |
US20040029413A1 (en) * | 2000-10-30 | 2004-02-12 | Norbert Angert | Film material comprising spikes and method for the production thereof |
KR100477245B1 (ko) * | 2002-07-05 | 2005-03-17 | 현대모비스 주식회사 | 에어백 모듈 일체형 혼 스위치 |
FR2847194B1 (fr) * | 2002-11-19 | 2005-02-04 | Iniversite Catholique De Louva | Procede de creation de pores dans une feuille mince de polyimide |
US6995971B2 (en) | 2003-05-30 | 2006-02-07 | Medtronic, Inc. | Capacitors including interacting separators and surfactants |
US6985352B2 (en) * | 2003-05-30 | 2006-01-10 | Medtronic, Inc. | Capacitors including track-etched separator materials |
US6967828B2 (en) * | 2003-05-30 | 2005-11-22 | Medtronic, Inc. | Capacitors including metalized separators |
US6972184B2 (en) * | 2003-12-23 | 2005-12-06 | Millipore Corporation | Cell motility assay |
US7507320B2 (en) * | 2004-10-09 | 2009-03-24 | Academia Sinica | Single-atom tip and preparation method thereof |
US7867290B2 (en) | 2009-01-12 | 2011-01-11 | Medtronic, Inc. | Separator filled with electrolyte |
WO2012014720A1 (ja) * | 2010-07-26 | 2012-02-02 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ加工方法 |
CN105483765A (zh) * | 2015-12-16 | 2016-04-13 | 张颖 | 一种锌合金拉链的生产方法 |
IT201600074177A1 (it) * | 2016-07-15 | 2018-01-15 | Bluclad S R L | Processo per l'attivazione di una superficie in acciaio da sottoporre a operazioni di deposito galvanico. |
DE102018219199A1 (de) * | 2018-11-12 | 2020-05-14 | Thyssenkrupp Ag | Anodisches Beizverfahren zur Entzunderung und Verminderung der Korngrenzenoxidation |
DE102018219198A1 (de) * | 2018-11-12 | 2020-05-14 | Thyssenkrupp Ag | Kathodisches Beizverfahren zur beschleunigten Entzunderung ohne Ausbeizen der Korngrenze |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB815572A (en) * | 1955-07-28 | 1959-07-01 | Gen Electric Co Ltd | Improvements in or relating to the electrolytic treatment of metallic surfaces |
US2293810A (en) * | 1938-06-22 | 1942-08-25 | Nat Standard Co | Electroplating stainless steel |
GB771314A (en) * | 1953-03-18 | 1957-03-27 | Herbert Donald Walton | Improvements in and relating to the electrolytic cleaning of articles of metal |
US3501636A (en) * | 1966-11-09 | 1970-03-17 | Eastman Kodak Co | Enhancing radiation damage for nuclear particle detection |
US3505523A (en) * | 1968-08-02 | 1970-04-07 | Atomic Energy Commission | Personnel radon dosimeter |
-
0
- BE BE755122D patent/BE755122A/xx unknown
-
1905
- 1905-12-11 FR FR5561D patent/FR5561E/fr not_active Expired
-
1969
- 1969-06-20 GB GB3136969A patent/GB1301673A/en not_active Expired
-
1970
- 1970-02-09 US US9818A patent/US3662178A/en not_active Expired - Lifetime
- 1970-06-10 US US45261A patent/US3654099A/en not_active Expired - Lifetime
- 1970-06-10 NL NL7008392A patent/NL7008392A/xx unknown
- 1970-06-15 FR FR7021869A patent/FR2046934B1/fr not_active Expired
- 1970-06-15 BE BE751959D patent/BE751959A/nl unknown
- 1970-06-19 DE DE19702030373 patent/DE2030373A1/de active Pending
- 1970-08-19 NL NL7012294A patent/NL7012294A/xx unknown
- 1970-08-20 DE DE19702041463 patent/DE2041463A1/de active Pending
- 1970-08-21 FR FR7030806A patent/FR2059638B1/fr not_active Expired
- 1970-08-24 GB GB4202869A patent/GB1327376A/en not_active Expired
-
1971
- 1971-02-08 DE DE19712105807 patent/DE2105807A1/de active Pending
- 1971-02-09 FR FR717104319A patent/FR2080972B1/fr not_active Expired
- 1971-04-19 GB GB2151171A patent/GB1327676A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US3662178A (en) | 1972-05-09 |
GB1301673A (de) | 1973-01-04 |
FR5561E (fr) | 1906-05-11 |
US3654099A (en) | 1972-04-04 |
DE2041463A1 (de) | 1971-02-25 |
FR2080972A1 (de) | 1971-11-26 |
NL7012294A (de) | 1971-02-24 |
FR2059638A1 (de) | 1971-06-04 |
GB1327376A (en) | 1973-08-22 |
DE2030373A1 (de) | 1970-12-23 |
BE755122A (fr) | 1971-02-01 |
BE751959A (nl) | 1970-11-16 |
FR2080972B1 (de) | 1974-03-01 |
FR2059638B1 (de) | 1973-10-19 |
FR2046934B1 (de) | 1974-02-01 |
NL7008392A (de) | 1970-12-22 |
FR2046934A1 (de) | 1971-03-12 |
GB1327676A (en) | 1973-08-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2105807A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Bestrah lungsspuren | |
DE1436322B1 (de) | Verfahren zum Herstellen feiner Poren in scheibenfoermigen Koerpern mittels energiereicher Strahlung | |
DE1931885A1 (de) | Poroese Koerper und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
US3612871A (en) | Method for making visible radiation damage tracks in track registration materials | |
DE69432966T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur modifizierung fester oberflächen | |
DE2714245A1 (de) | Dekontaminationsverfahren | |
DE2545001C2 (de) | ||
DE3855558T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zum formen eines kohärenten bündels von bosonen mit masse | |
DE3046563A1 (de) | Dekontaminierungsreagens und verfahren zum dekontamiinieren eines kernreaktors oder von teilen davon | |
DE1931615C3 (de) | Spurregistrierverfahren für durch Ladungsträger erzeugte Defektspuren | |
DE2054058A1 (de) | Neutrographisches Aufzeichnungs material | |
DE3445858C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Trennung von Isotopen eines Elementes | |
DE4210486C1 (de) | ||
DE2021902A1 (de) | Verfahren zum selektiven Durchloechern von Festkoerpern | |
DE1436322C (de) | Verfahren zum Herstellen feiner Poren in scheibenförmigen Korpern mittels energie reicher Strahlung | |
DE2951376A1 (de) | Verfahren zur erzeugung der kernspuren oder aus kernspuren hervorgehender mikroloescher eines einzelnen iones | |
Dee et al. | Chemical Effects in Liquids due to α-Particle Irradiation | |
DD235923A1 (de) | Verfahren zur erhoehung der aetzrate von teilchenspuren in polymerfolien | |
DE2717400B1 (de) | AEtzverfahren zur Herstellung von Strukturen unterschiedlicher Hoehe | |
DE1694619C3 (de) | Verfahren zum Witterungsfestmachen von Polyestermaterial | |
DE1769538A1 (de) | Verfahren zur Kontrolle der Keimbildung | |
DE1911282A1 (de) | Verfahren zum verbesserten Nachweis und zur verbesserten Bestimmung ionisierender Korpuskularstrahlung | |
DE867053C (de) | Verfahren zur Herstellung von photographischen Kontrasten, welche aus Metallbildern bestehen, die durch physikalische Entwicklung von in photographischen Schichten erzeugten latenten Bildern erhalten worden sind | |
DE2104350A1 (de) | Verfahren zut Aufbereitung von be strahlten Kern Brennelementen | |
DE2947448B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Membranen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OHA | Expiration of time for request for examination |