DE2024824A1 - Feldeffekttransistor - Google Patents

Feldeffekttransistor

Info

Publication number
DE2024824A1
DE2024824A1 DE19702024824 DE2024824A DE2024824A1 DE 2024824 A1 DE2024824 A1 DE 2024824A1 DE 19702024824 DE19702024824 DE 19702024824 DE 2024824 A DE2024824 A DE 2024824A DE 2024824 A1 DE2024824 A1 DE 2024824A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
field effect
area
effect transistor
base
diodes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19702024824
Other languages
English (en)
Inventor
Yutaka Hoya Tarui Yasuo Tokio Hayashi, (Japan)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Publication of DE2024824A1 publication Critical patent/DE2024824A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/0203Particular design considerations for integrated circuits
    • H01L27/0248Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection
    • H01L27/0251Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices
    • H01L27/0255Particular design considerations for integrated circuits for electrical or thermal protection, e.g. electrostatic discharge [ESD] protection for MOS devices using diodes as protective elements
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S148/00Metal treatment
    • Y10S148/168V-Grooves

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Junction Field-Effect Transistors (AREA)

Description

niiM..-rxo. μ.λγν ijkhn
CIPL.-rHYS. HOiU-:RT M
ΓΛΤΚΝΤΛΝΛνΧΐ.ΤΕ
S MÜNCHEN 2 2
WIDENHfAYEHSTR. S
A 9570 21. Mai 1970
Firma KOGYO GIJUTSUIN
3-1, 1-Chome, Kasumigaseki Chiyoda-Ku, Tokyo-To / Japan
Feldeffekttransistor
Die Erfindung betrifft einen Feldeffekttransistor und insbesondere einen Feldeffekttransistor mit Schutzdioden.
Für Oberflächen-Feldeffekt-Transistoren mit ihrem hohen Eingangswiderstand besteht eine Vielfalt neuartiger Anwendungsmöglichkeiten, jedoch sind sie, wenn einmal ihre Torisolierung infolge Oberspannung einen Durchbruch erfahren hat, wegen des Fehlens einer solchen Reversibilität, wie sie ein pn-übergang hat, nicht mehr brauchbar. Zum Schutz der Torisolierschicht wird gewöhnlich eine pn-Flächendiode verwendet.
Fig, 1 zeigt sowohl den Oberflächen-Feldeffekt-Transistor.· und die Schutzdiode P. In Fig. 1 ist die Schutzdiode P zwischen das Tor 6 d·· Feldeffekttransistors und einem Bereich bzw, einer Zone (nachfolgend als "Basis" bezeichnet)! in welchem ein Strompfad bzw. Kanal gebildet wird, geschaltet,
10982 2/16U
Wenn jedoch die Schutzdiode P wie in Fig. 1 gezeigt in diesem Falle in Verbindung mit dem Oberflächen-Feldeffekt-Transistor von einem n-Kanal-Typ verwendet wird, wird sie unbrauchbar, wenn (1) sie in einem Feldeffekttransistor vom "Verarmungs"-Typ verwendet wird, der selbst beim Vorhandensein einer negativen Torspannung im Arbeitszustand bleibt, und (2) sie wird mit einem Eingangssignal von einer solch grossen Amplitude beliefert, daß die Eingangsspannung negativ wird. In den obigen Beispielen wird daher die Schutzdiode in Vorwärtsrichtung betrieben, so daß ein starker Strom fliessen kann»
Eine Hauptaufgabe der Erfindung besteht in der Schaffung eines verbesserten Feldeffekttransistors mit guten Schutzdioden, bei denen alle Mängel der bisherigen, vorangehend beschriebenen Schutzdioden überwunden, sind.
Ferner soll durch die Erfindung ein Feldeffekttransistor mit Schutzdioden geschaffen werden, die sich für ein weites Anwendungsgebiet eignen.
Weiter soll durch die Erfindung ein Feldeffekttransistor mit Schutzdioden geschaffen werden, die sowohl mit Signalen von positiver Polarität als auch von negativer Polarität sowie in Feldeffekttransistoren vom. Verarmungstyp verwendet werden können.
Nachfolgend werden die Merkmale und die Wirkungsweise der Erfindung in Verbindung mit der beiliegenden Zeichnung, in welcher die gleichen oder äquivalente Elemente mit den gleichen Bezugsziffern bzw. Bezugszeichen versehen sind, zum besseren Verständnis näher beschrieben und zwar zeigen:
Fig· 1 eine Ersatzschaltung eines Feldeffekttransistors mit
109822/1644
einer Schutzdiode herkömmlicher Art j
Fig. 2 Ersatzschaltungen von Dioden in Gegeneinander« schaltung und
Fig. 3, U und 5 Ausführungsformen der Erfindung,
Um eine Schutzdiode zu erhalten, die mit Erfolg mit Signalen sowohl von positiver als auch von negativer Polarität verwendet werdenicann, müssen zwei oder mehrere Dioden mit entgegengesetzter Polung in Reihe geschaltet werden, wie in Fig* 2 Ca) und Cb) dargestellt. Es sei nun angenommen, daß die Schutzdioden mit der in Fig. gezeigten Anordnung für einen Hochfrequenz-Feldeffekt-Transistor verwendet werden, bei dem die Kanallänge nach dem Unterschied in den Diffusionslängen von zwei Störstoffen bestimmt werden kann. Ein Beispiel hiervon ist in Fig. 3 gegeben, in welcher die Bezugsziffer 200 einen Schichtträger vom gleichen Leitfähigkeitstyp wie die Basis bezeichnet.^Auf diesem liegt eine gleichmässig dünne Halbleiterschicht auf, welche die Bereiche bzw. Zonen 1 und IP usw. bildet und deren Leitfähigkeitstyp dem des Schichtträgers 200 entgegengesetzt ist. Die Basisbereiche 2a und die Quellebereiche 3 werden auf diese dünne HaIbleiterschicht durch die Verwendung ein und derselben Diffusionsmaske selektiv aufdiffunidert. Die Bereiche 2d vom gleichen Leitfähigkeitstyp wie die diffundierten Basisbereiche sind nicht so tief eindiffundiert, daß der Schichtträger 200 erreicht wird, zum Unterschied von den Basisbereichen und sind vorgesehen, um einen Kontakt 2c mit der Basis zu erhalten oder den Kanal zu löschen.
Es sei nun angenommen, daß eine Schicht 5P für Schutzdioden ■T09822/1644. ORIGINAL INSPECTED
durch Diffusion gebildet wird. Ein Bereich IP ist von anderen Bereichen durch den Basisbereich 2ä und von den gleichzeitig mit dem Bereich 2a und 2d diffundierten Bereichen isoliert, so daß ein pnp- oder npn-Gebilde durch die Schicht 5P, den Bereich IP und den Schichtträger 200 gebildet wird. Dieses Gebilde scheint bei Verwendung als Schutzdioden von der Anordnung nach Fig. 2 günstig mit Signalen beider Polaritäten zu arbeiten. Es erweist sich jedoch als ohne praktischen Nutzen, wenn berücksichtigt wird, daß die aus den Bereichen SP und IP gebildete Diode den Fluß eines Stroms von beträchtlicher Stärke mit bezug auf einen Eingängen Vorwärtsrichtung ermöglicht, wobei der Bereich 5P als Emitter arbeitet, der Bereich IP als Basis und der Schichtträger 200 als Collector.
Diese Schwierigkeit ist jedoch vermeidbar, entweder dadurch (1) daß die Störstellenkonzentration des Bereiches 5P geringer als diejenige des Bereiches IP durch das Aufwachsverfahren u. dgl. gemacht wird oder dadurch, daß (2) eine Schottkysche Übergangszone 5S am Bereich IP statt des Bereiches 5P vorgesehen wird, wie in Fig. 4 dargestellt. Auf diese Weise werden keine Minoritätsträger aus dem Bereich 5P induziert, so daß kein starker Strom zwischen dem Schichtträger 200 und dem Bereich 5P zum Fliessen gebracht wird. Ferner fließt, wenn die Schottkysche Übergangszone in der in Fig. 4 gezeigten Weise vorgesehen ist, auch kein starker Strom zwischen dem Tor 5 und dem Schichtträger 200 infolge des Fehlens von injizierten Minoritätsträgern.
Die vorangehende Beschreibung beruht auf der Annahme, daß der Schichtträger 200 eine geringere Störstellenkonzentration als der Bereich IP hat. Auch in Fig. 3 und H bezeichnet 1 einen Abfluß- bzw. Senkebereich von geringer Stör-Stellenkonzentration, la einen Abfluß- bzw. Senkebereich von hoher Störstellenkonzentration, 2L eine Basisanschluß-
109822/ 1 6U
elektrode, 3C einen Quelleanschluß, 3L eine Quelleanschlußelektrode und 4 einen Torisolator.
Im Vorangehenden wurde die Erfindung in Verbindung mit den in Fig. 3 und 4 dargestellten Ausführungsformen derselben beschrieben. Eine weitere Ausführungsform der Erfindung ist in Fig. 5 dargestellt, b.el welchem der Bereich 2a des Feldeffekttransistors, in welchem Bereich ein Kanal gebildet werden soll, auf der Halbleiteroberfläche durch die Wegnähme eines Teils eines doppelt diffundierten Bereiches freigelegt ist. In den Fig., 3, 4 und 5 bezeichnen gleiche Bezugsziffern gleiche Teile der dargestellten Feldeffekttransistoren, In Fig. 5 jedoch braucht ein Basisbereich nicht durch die Verwendung der gleichen Maske diffundiert zu werden, wie sie für die Diffusion eines eines Quellebereiches verwendet worden ist, und ein äusserer Basisbereich 2b wird zusätzlich vorgesehen, der als Basisanschluß verwendet werden kann. Ein Bereich 2P, der ebenfalls in Fig. 5 dargestellt ist, kann entweder gleichzeitig mit dem äusseren Basisbereich 2b oder, wenn er einen Leitfähigkeitstyp hat, der dem eines Abfluß- bzw. Senkebereiches 1 entgegengesetzt ist, gesondert diffundiert werden, so daß er eine solche Störstellenkonzentration hat, daß an seiner Oberfläche eine Schottkysche Übergangszone erhalten wird. In diesem Falle bilden die ε Schottkysehe Übergangszone 5S, der Bereich 2P und der Ab- ~ fluß- bzw. Senkebereich 1 zwei gegenexnandergeschaltete Dioden und die mögliche "Transistorwirkung" infolge von injizierten Minoritätsträgern ist praktisch vernachlässigbar.
Wie vorangehend beschrieben, werden durch die Erfindung Schutzdioden geschaffen, die für Signale sowohl von positiver als auch von negativer Polarität sowie in Feldeffekttransistoren vom Verarmungstyp verwendet werden können.
109 822/1644

Claims (1)

Patentansprüche
1.)Feldeffekttransistor mit einem Schutzelement, das durch zwei oder mehrere mit entgegengesetzter Polung in Reihe geschaltete Dioden gebildet wird, dadurch gekennzeichnet,daß das Schutzelement eine solche Struktur hat, daß ein Bereich benachbart einem weiteren Bereich vom gleichen Potential wie eine Torelektrode eine höhere Störstellenkonzentration als diejenige yon mindestens einem Teil eines dem ersten Bereich benachbarten Bereiches hat.
2, Feldeffekttransistor mit einem Schutzelement, das durch zwei oder mehrere mit entgegengesetzter Polung in Reihe geschaltete Dioden gebildet wird, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schottkysche Übergangszone als der zumindest eine Teil des Schutzelements vorgesehen ist.
109822/16U
DE19702024824 1969-11-20 1970-05-21 Feldeffekttransistor Pending DE2024824A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP44092514A JPS5115394B1 (de) 1969-11-20 1969-11-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2024824A1 true DE2024824A1 (de) 1971-05-27

Family

ID=14056411

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19702024824 Pending DE2024824A1 (de) 1969-11-20 1970-05-21 Feldeffekttransistor

Country Status (5)

Country Link
US (1) US3798514A (de)
JP (1) JPS5115394B1 (de)
DE (1) DE2024824A1 (de)
GB (1) GB1312802A (de)
NL (1) NL147582B (de)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3945030A (en) * 1973-01-15 1976-03-16 Signetics Corporation Semiconductor structure having contact openings with sloped side walls
US4003036A (en) * 1975-10-23 1977-01-11 American Micro-Systems, Inc. Single IGFET memory cell with buried storage element
US4145703A (en) * 1977-04-15 1979-03-20 Supertex, Inc. High power MOS device and fabrication method therefor
JPS58106870A (ja) * 1981-12-18 1983-06-25 Nissan Motor Co Ltd パワ−mosfet
SE431381B (sv) * 1982-06-03 1984-01-30 Asea Ab Tvapoligt overstromsskydd
US4574207A (en) * 1982-06-21 1986-03-04 Eaton Corporation Lateral bidirectional dual notch FET with non-planar main electrodes
US4546367A (en) * 1982-06-21 1985-10-08 Eaton Corporation Lateral bidirectional notch FET with extended gate insulator
US4571512A (en) * 1982-06-21 1986-02-18 Eaton Corporation Lateral bidirectional shielded notch FET
US4571513A (en) * 1982-06-21 1986-02-18 Eaton Corporation Lateral bidirectional dual notch shielded FET
JPS62110741A (ja) * 1985-11-08 1987-05-21 Kyowa Riken:Kk 定量液体吐出装置
GB2257830B (en) * 1991-07-12 1995-04-05 Matsushita Electric Works Ltd Low output-capacity, double-diffused field effect transistor
US5536958A (en) * 1995-05-02 1996-07-16 Motorola, Inc. Semiconductor device having high voltage protection capability
US5763918A (en) * 1996-10-22 1998-06-09 International Business Machines Corp. ESD structure that employs a schottky-barrier to reduce the likelihood of latch-up
JP3342412B2 (ja) 1997-08-08 2002-11-11 三洋電機株式会社 半導体装置およびその製造方法
US6987305B2 (en) * 2003-08-04 2006-01-17 International Rectifier Corporation Integrated FET and schottky device
US7564099B2 (en) * 2007-03-12 2009-07-21 International Rectifier Corporation Monolithic MOSFET and Schottky diode device

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3469155A (en) * 1966-09-23 1969-09-23 Westinghouse Electric Corp Punch-through means integrated with mos type devices for protection against insulation layer breakdown
US3543052A (en) * 1967-06-05 1970-11-24 Bell Telephone Labor Inc Device employing igfet in combination with schottky diode
US3470390A (en) * 1968-02-02 1969-09-30 Westinghouse Electric Corp Integrated back-to-back diodes to prevent breakdown of mis gate dielectric
US3512058A (en) * 1968-04-10 1970-05-12 Rca Corp High voltage transient protection for an insulated gate field effect transistor
NL162792C (nl) * 1969-03-01 1980-06-16 Philips Nv Veldeffecttransistor met geisoleerde stuurelektrode, die met een beveiligingsdiode met ten minste een pn-overgang is verbonden.
JPS4837414A (de) * 1971-09-14 1973-06-02

Also Published As

Publication number Publication date
GB1312802A (en) 1973-04-11
NL147582B (nl) 1975-10-15
NL7007504A (de) 1971-05-24
JPS5115394B1 (de) 1976-05-17
US3798514A (en) 1974-03-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE4013643C2 (de) Bipolartransistor mit isolierter Steuerelektrode und Verfahren zu seiner Herstellung
DE2024824A1 (de) Feldeffekttransistor
DE3942640C2 (de) MOS-Halbleitervorrichtung
DE2554296A1 (de) Integrierte schaltung mit komplementaeren feldeffekttransistoren
DE3008034A1 (de) Elektrodenvorrichtung fuer eine halbleitervorrichtung
DE2939193C2 (de)
DE69121860T2 (de) Überspannungen zwischen ausgewählten Grenzen begrenzende Schutzschaltung und deren monolitsche Integration
DE1965340A1 (de) Schottky-Diode
DE1539079A1 (de) Planartransistor
DE2832154C2 (de)
DE2730373C2 (de)
DE3785483T2 (de) Halbleiteranordnung mit einem Bipolartransistor und Feldeffekttransistoren.
DE2234973A1 (de) Mis-halbleitervorrichtung
DE3044444A1 (de) "monolithisch integrierte gleichrichter-brueckenschaltung"
DE4310606C2 (de) GTO-Thyristoren
DE1213920B (de) Halbleiterbauelement mit fuenf Zonen abwechselnden Leitfaehigkeitstyps
DE2734509A1 (de) Integrierte halbleiterschaltung
DE1614250C3 (de) Halbleiteranordnung mit Gruppen von sich kreuzenden Verbindungen
EP0017980A1 (de) Thyristor mit Steuerung durch Feldeffekttransistor
DE3414772C2 (de)
DE2900639C3 (de) Stromspiegelverstärker in MOS-Bauweise
DE2129184A1 (de) Halbleiterbauelement mit steuerbarem Wider Stands wert
DE3118305A1 (de) Thyristor mit verbessertem schaltverhalten sowie verfahren zu seinem betrieb
DE2410721A1 (de) Steuerbares halbleiter-gleichrichterelement
DE2456635C3 (de) Integrierte Halbleiterschaltung mit negativem Widerstand