-
Die Erfindung betrifft eine partielle Gesichtsmaske, die an der Nase und/oder am Kopf fixierbar ist, mit einem eine Nasenauflage und einen Atemabweiser aufweisenden Maskenschild.
-
Die
DE 14 00 281 U offenbart eine klappbare, am Kopf mittels eines Stirnreifs befestigbare Maske mit einem Maskenschild. Das Maskenschild hat ein eingesetztes Visier.
-
Aus der
DE 20 2019 000 420 U1 ist eine an der Nase und am Kinn anliegende Mund-Nasen-Maske bekannt. Hiermit kann sowohl das Sprechen als auch das Atmen behindert sein.
-
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine partielle Gesichtsmaske zu entwickeln, die weder das Atmen noch das Sprechen behindert.
-
Diese Problemstellung wird mit den Merkmalen des Hauptanspruches gelöst. Dazu hat das Maskenschild eine Dicke zwischen 0,1 Millimeter und 0,5 Millimeter. Die Nasenauflage hat eine anpassbare formsteife Nasenwölbung. Die Nasenauflage geht beidseitig in je eine Wangenauflage über. Die Nasenauflage ist zumindest in einem Nasenschutzsteg mit dem Atemabweiser verbunden. Die Wangenauflagen sind zumindest bereichsweise mit dem Atemabweiser verbunden. Das Maskenschild enthält mindestens einen elastisch und plastisch verformbaren Werkstoff, mindestens einen elastisch und plastisch verformbaren Verbundwerkstoff oder mindestens einen elastisch und plastisch verformbaren Werkstoffverbund.
-
Die partielle Gesichtsmaske weist mit der Nasenauflage ein zentrales Formteil auf, das die Lage der partiellen Gesichtsmaske am Kopf sichert. Gleichzeitig bestimmt die Nasenauflage zusammen mit den Wangenauflagen die Gestalt des Atemabweisers. Die Materialdicke und die Werkstoffeigenschaften bedingen eine verformungssteife Ausbildung des Maskenschilds. Hiermit wird der Maskenträger weder beim Sprechen noch beim Atmen behindert.
-
Weitere Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen und der nachfolgenden Beschreibung schematisch dargestellter Ausführungsformen.
- 1: Vorderansicht einer partiellen Gesichtsmaske;
- 2: Seitenansicht von 1;
- 3: Draufsicht von 1;
- 4: Maskenschild;
- 5: Draufsicht auf 4;
- 6: Maskenschild in der Einsatzlage;
- 7: Variante einer partiellen Gesichtsmaske;
- 8: Seitenansicht der 7.
-
Die 1 - 3 zeigen eine partielle Gesichtsmaske (10) im Einsatz. Derartige partielle Gesichtsmasken (10) werden beispielsweise zum Schutz anderer Personen vor z.B. mit der Atemluft abgegebenen Krankheitserregern eingesetzt. Die dargestellte partielle Gesichtsmaske (10) umfasst ein Maskenschild (11), ein Auflageband (71) und zwei Haltebänder (81). Das Auflageband (71) ist hierbei beispielsweise entlang einer Oberkante (12) des Maskenschilds (11) an diesem angeordnet. Die Haltebänder (81) sind in den seitlichen äußeren Bereichen des Maskenschilds (11) befestigt. Anstatt zweier seitlicher Haltebänder (81) kann auch ein die beiden Seitenbereiche (13) des Maskenschilds (11) verbindendes Halteband (81) eingesetzt werden. Gegebenenfalls kann die partielle Gesichtsmaske (10) auch ohne Haltebänder (81) ausgebildet sein.
-
Beim Einsatz liegt die partielle Gesichtsmaske (10) an der Nase (2) und an den Wangen (3) des Maskenträgers (1) an. In Richtung der Nase (2) endet die wangenseitige Auflage in einer Wangenauflagelinie (4).
-
Das Maskenschild (11) ist aus einem dünnen platten- oder blechartigen Werkstoff oder einer z.B. verstärkten Folie hergestellt. Das Maskenschild (11) kann eine konstante oder eine variable Dicke haben. Die minimale Dicke des Maskenschilds beträgt beispielsweise 0,1 Millimeter. Seine maximale Dicke ist z.B. 0,5 Millimeter. Das Maskenschild (11) ist beispielsweise aus einem thermoplastischen, aus einem duroplastischen, aus einem metallischen Werkstoff, aus einem Verbundwerkstoff oder aus einem Werkstoffverbund hergestellt. Auch können beispielsweise einzelne Bereiche aus einem thermoplastischen Werkstoff und andere Bereiche aus einem an diesen angeformten duroplastischen Werkstoff oder einem Faserwerkstoff bestehen. Diese Werkstoffe sind elastisch und plastisch verformbar. Der Werkstoff des Maskenschilds (11) kann ganz oder teilweise transparent sein. Auch eine nichttransparente Ausführung ist denkbar. In allen Fällen kann das Maskenschild (11) zumindest einseitig bedruckt sein.
-
Das in den genannten 1 - 3 dargestellte Maskenschild (11) hat eine Nasenauflage (21), zwei Wangenauflagen (61) und einen Atemabweiser (41). Hierbei ist die Nasenauflage (21) zentral zwischen den Wangenauflagen (61) angeordnet. Die Nasenauflage (21) geht beidseitig in die Wangenauflagen (61) über. Sowohl die Nasenauflage (21) als auch die beiden Wangenauflagen (61) grenzen an die Oberkante (12) an. Der an die Nasenauflage (21) und an die Wangenauflagen (61) angrenzende Atemabweiser (41) befindet sich an der der Oberkante (12) abgewandten Unterkante (14) des Maskenschilds (11). Die Nasenauflage (21) geht beispielsweise in einem Nasenschutzsteg (22) in den Atemabweiser (41) über. Im Folgenden wird die von der Nasenauflage (21) in Richtung des Atemabweisers (41) zeigende Richtung als Längsrichtung (51) des Maskenschilds (11) bezeichnet. Als Querrichtung (52) wird die entlang der Oberkante (12) gerichtete Richtung bezeichnet. Das Maskenschild (11) ist im Ausführungsbeispiel symmetrisch zu einer in der Längsrichtung (51) und normal zur Querrichtung (52) orientierten Mittenlängsebene durch die Nasenauflage (21) und den Atemabweiser (41) ausgebildet.
-
Die Nasenauflage (21) ist ein formsteif ausgebildeter, mehrfach gekrümmter Bereich des Maskenschilds (11). Sie kann durch Urformen, z.B. durch Spritzgießen und/oder durch Umformen, z.B. mittels eines Warmbiegeverfahrens hergestellt sein. Alle Krümmungsachsen (55 - 57), vgl. die 3 - 5, sind parallel zueinander in der Längsrichtung (51) orientiert. Die Nasenauflage (21) hat eine zentrale Nasenwölbung (23), an die sich in beide Querrichtungen (52) jeweils ein Wangenübergang (24) anschließt. Hierbei ist die Krümmung der Nasenwölbung (23) entgegengesetzt zu den Krümmungen der Wangenübergänge (24) gerichtet.
-
Die Nasenauflage (21) kann in der Längsrichtung (51) ein schmaler, an die Oberkante (12) angrenzender Bereich sein. Es ist aber auch denkbar, dass die Länge der Nasenauflage z.B. bis zu der Hälfte der Länge des Maskenschilds beträgt. Die Nasenauflage (21) kann auch als Formteil ausgebildet sein, an das die Wangenauflagen (61) und der Atemabweiser (41) angeformt werden. Die Nasenwölbung (23) und die Wangenübergänge () können kegelstumpfförmig ausgebildet sein.
-
Die Nasenwölbung (23) hat im dargestellten Ausführungsbeispiel einen Umgriffswinkel (31) von 110 Grad. Dieser Umgriffswinkel (31) ist größer als 100 Grad und beispielsweise kleiner als 130 Grad. Der Umgriffswinkel (31) ist der Winkel des Sektors um die Krümmungsachse (55) der Nasenwölbung (23). Der Summenwinkel des Umgriffswinkels (31) zu 180 Grad ist im Folgenden als Greifwinkel (32) bezeichnet. In der Draufsicht kann die Nasenwölbung (23) ein Kreisbogenabschnitt, ein Ellipsenabschnitt, eine Freiform, etc. sein. Der Krümmungsradius der Nasenwölbung (23) ist kleiner als die Höhe eines flachliegenden Maskenschilds (11). Die Höhenrichtung (53) ist hierbei normal zu einer von der Querrichtung (52) und Längsrichtung (51) aufgespannten Ebene orientiert. Die Nasenwölbung (23) kann starr oder federelastisch verformbar ausgebildet sein. Im letztgenannten Fall kann die Nasenwölbung (23) aus der dargestellten Lage z.B. um wenige Zehntel Millimeter elastisch aufweitbar ausgebildet sein. Bei einer Entlastung verformt sich die Nasenwölbung in ihre Ausgangslage zurück.
-
Die Wangenübergänge (24) überdecken jeweils einen Winkelsektor, der in einer normal zur Längsrichtung (51) orientierten Draufsicht größer ist als 20 Grad. Dieser Übergangswinkel (33) ist kleiner als 40 Grad. Im Ausführungsbeispiel beträgt dieser Übergangswinkel (33) der Wangenübergänge (24) 28 Grad. Die Summe aus dem Greifwinkel (32) und den beiden Übergangswinkeln (33) ergibt einen Wangenwinkel (34). Der Wangenwinkel (34) ist der in der Draufsicht von den beiden Tangentialebenen an den Wangenauflagelinien (4) eingeschlossene Winkel. In der Darstellung der 3 beträgt der Wangenwinkel 126 Grad. Dieser Wangenwinkel (34) kann zwischen 120 Grad und 150 Grad betragen. Die Wangenübergänge (24) gehen tangential in die genannten Tangentialebenen über.
-
Zwischen der Nasenwölbung (23) und den Wangenübergängen (24) kann ein gerader Übergangsabschnitt ausgebildet sein. Dieser ist dann ebenfalls formsteif ausgeführt.
-
Die Wangenauflagen (61) sind plattenartig ausgebildet. Sie sind widerstandsarm biegbar. Beim Tragen der partiellen Gesichtsmaske (10) schmiegen sich die Wangenauflagen (61) beidseitig an die Wangen (3) des Maskenträgers (1) an. In den der Nasenauflage (21) abgewandten Randbereichen sind Befestigungsdurchbrüche (62, 63) ausgebildet. In der Darstellung der 2 sind zwei Befestigungsdurchbrüche (62, 63) gezeigt. Damit können die Haltebänder (81) z.B. zur Winkelverstellung des Atemabweisers (41) an verschiedenen Punkten befestigt werden. In den Bereichen, in denen die Wangenauflagen (61) an den Wangen (3) des Maskenträgers (1) anliegen, können weitere Durchbrüche ausgebildet sein.
-
Das Auflageband (71) ist an der Innenseite (15) des Maskenschilds (11) beispielsweise angeklebt. Im Ausführungsbeispiel ist dies ein porös ausgebildetes Kunststoffband konstanten Querschnitts. Es ist auch denkbar, das Auflageband (71) an das Maskenschild (11) anzuformen. Hierbei kann das Auflageband (71) aus einem anderen Werkstoff bestehen als das Grundmaterial des Maskenschilds (11). Die partielle Gesichtsmaske (10) kann auch ohne Auflageband (71) ausgebildet sein.
-
An der Innenseite (15) des Maskenschilds (11) ist in der Nasenauflage (21) in der Längsrichtung (51) versetzt zum Auflageband (71) ein Nasenpuffer (72) angeordnet. Der Nasenpuffer (72) kann hierbei an das Auflageband (71) angrenzen oder von diesem beabstandet sein. Dieser Nasenpuffer (72) ist beispielsweise aus demselben Werkstoff hergestellt wie das Auflageband (71). Beim Einsatz verhindert der Nasenpuffer (72) ein Verschieben der partiellen Gesichtsmaske (10) nach oben. Auch der Nasenpuffer (72) kann an das Maskenschild (11) angeformt sein. Er kann in der Längsrichtung (51) eine konstante Dicke oder eine in Richtung des Auflagebandes (71) abnehmende Dicke haben.
-
Die Haltebänder (81) sind in den Darstellungen der 1 - 3 durch die Befestigungsdurchbrüche (62; 63) hindurchgeführt und umgreifen die Ohren (5) des Maskenträgers (1). Diese Haltebänder (81) können als Schnur mit hohem Dehnungswiderstand ausgebildet sein. Es ist aber auch denkbar, ein Halteband (81) aus einem gummielastischen Werkstoff einzusetzen. Anstatt der zwei dargestellten Haltebänder (81) kann auch ein den Kopf (6) des Maskenträgers (1) umgreifendes Halteband (81) eingesetzt werden.
-
Um die partielle Gesichtsmaske (10) einzusetzen, wird diese so aufgesetzt, dass die Nasenauflage (21) an der Nase (2) anliegt und der Nasenpuffer (72) das Nasenbein (7) untergreift. Die Haltebänder (81) werden beispielsweise um beide Ohren (5) gelegt. Die Wangenauflagen (61) liegen an den Wangen (3) an. Sie werden außerhalb der Nasenauflage (21) elastisch gebogen. Hierbei geht der Wangenübergang (24) beispielsweise tangential in die Wangenauflagen (61) über. Der Atemabweiser (41) überdeckt in der Vorderansicht das Kinn (8) des Maskenträgers (1). Beim Atmen wird die ausgeblasene Atemluft an der Innenseite (15) der partiellen Gesichtsmaske (10) nach unten ablenkt. Das Risiko für andere Personen wird dadurch vermindert. Gleichzeitig stellt die formsteife partielle Gesichtsmaske (10) einen weitgehend konstanten Spalt zwischen ihr und dem Kinn (8) sicher. Der Maskenträger (1) bemerkt damit keinen zusätzlichen Atemwiderstand.
-
Um die Lage der partiellen Gesichtsmaske (10) relativ zum Kopf (6) zu verstellen, wird diese beispielsweise in der Darstellung der 2 im Uhrzeigersinn geschwenkt. Die partielle Gesichtsmaske (10) schwenkt hierbei um die Nasenauflage (21) z.B. am Nasenpuffer (72). Hierbei werden z.B. die Haltebänder (81) in die zweiten Befestigungsdurchbrüche (63; 62) eingesetzt. Die partielle Gesichtsmaske (10) kann so z.B. in einem Winkel von 10 Grad relativ zur Darstellung der 2 geschwenkt werden.
-
Die 4 - 6 zeigen ein Maskenschild (11). Hierbei stellen die 4 und 5 das Maskenschild (11) im Auslieferungszustand dar. Die Unterkante (14) des Maskenschilds (11) liegt z.B. in einer gemeinsamen Ebene zumindest mit den Seitenbereichen (13) des Maskenschilds (11). Die 6 zeigt das Maskenschild (11) in der Einsatzlage. Das Maskenschild (11) hat in diesem Ausführungsbeispiel in einer Vorderansicht eine gerade Oberkante (12) und eine z.B. kreisabschnittsförmig gekrümmte Unterkante (14). Im Auslieferungszustand geht die Nasenwölbung (23) in der Längsrichtung (51) beispielsweise im Bereich des Atemabweisers (41) in die ebene Unterkante (14) über. Die Breite in der Querrichtung (52) beträgt im Ausführungsbeispiel mindestens das Zehnfache der Höhe des Maskenschilds (11) in der Höhenrichtung (53). Die in der Längsrichtung (51) orientierte Länge des Maskenschilds (11) beträgt beispielsweise die Hälfte der Breite. Im Ausführungsbeispiel beträgt die Länge des Maskenschilds (11) 100 Millimeter.
-
Der Innenradius der Nasenwölbung (23) beträgt in der Darstellung der 5 70 % der Höhe des Maskenschilds (11). Der an die Außenfläche (16) des Maskenschilds (11) gemessene Radius der Übergangswinkel (33) ist in der Darstellung der 5 um 4 % größer als der Innenradius der Nasenwölbung (23). Die Wölbung der verformungssteifen Nasenauflage (21) ist in der Draufsicht z.B. sinusabschnittsförmig ausgebildet.
-
Außerhalb der Wangenübergänge (24) sind die Wangenauflagen (61) flexibel verformbar ausgebildet. Die sich beim Einsatz ergebenden kantenfreien Übergänge, vgl. 6, vermindern eine Verletzungsgefahr. Die Spalte (9) an den Übergängen der Nase (2) zu den Wangen (3) können klein gehalten werden.
-
Das in den 4 - 6 dargestellte Maskenschild (11) kann beispielsweise ohne weitere Modifikationen als partielle Gesichtsmaske (10) eingesetzt werden. Beim Einsatz kann die partielle Gesichtsmaske (10) z.B. mittels der Nasenauflage (21) auf der Nase (2) aufgeklemmt werden. Zur Positionierung am Kopf (6) des Maskenträgers (1) können jedoch auch Haltebänder (81) eingesetzt werden, wie oben beschrieben. Auch der Einsatz eines Auflagebands (71) und/oder eines Nasenpuffers (72) ist denkbar.
-
In den 7 und 8 ist eine weitere Variante einer partiellen Gesichtsmaske (10) dargestellt. Diese partielle Gesichtsmaske (10) ist weitgehend so aufgebaut wie die in den 1 - 3 dargestellte partielle Gesichtsmaske (10). An den Wangenauflagen (61) des Maskenschilds (11) sind zusätzliche Befestigungshalter (64) angeformt. Diese Befestigungshalter (64) haben beispielsweise zwei übereinander liegende Befestigungsdurchbrüche (62, 63). Ein zusätzlicher Führungskamm (65) ermöglicht weitere Zugangriffspunkte der Haltebänder (81).
-
Um den Einstellwinkel der in den 7 und 8 dargestellten partiellen Gesichtsmaske (10) relativ zum Kopf (6) zu ändern, wird das einzelne Halteband (81) z.B. durch einen anderen Befestigungsdurchbruch (63; 62) hindurchgeführt. Es ist auch denkbar, das Befestigungsband (81) entlang einer anderen Zinke (66) des Führungskamms (65) zu leiten.
-
Auch Kombinationen der Ausführungsbeispiele sind denkbar.
-
Bezugszeichenliste
-
- 1
- Maskenträger
- 2
- Nase
- 3
- Wangen
- 4
- Wangenauflagelinie
- 5
- Ohren
- 6
- Kopf
- 7
- Nasenbein
- 8
- Kinn
- 9
- Spalt
- 10
- partielle Gesichtsmaske
- 11
- Maskenschild
- 12
- Oberkante
- 13
- Seitenbereiche
- 14
- Unterkante
- 15
- Innenseite
- 16
- Außenfläche
- 21
- Nasenauflage
- 22
- Nasenschutzsteg
- 23
- Nasenwölbung
- 24
- Wangenübergang
- 31
- Umgriffswinkel
- 32
- Greifwinkel
- 33
- Übergangswinkel
- 34
- Wangenwinkel
- 41
- Atemabweiser
- 51
- Längsrichtung
- 52
- Querrichtung
- 53
- Höhenrichtung
- 55
- Krümmungsachse
- 56
- Krümmungsachse
- 57
- Krümmungsachse
- 61
- Wangenauflagen
- 62
- Befestigungsdurchbrüche
- 63
- Befestigungsdurchbrüche
- 64
- Befestigungshalter
- 65
- Führungskamm
- 66
- Zinke
- 71
- Auflageband
- 72
- Nasenpuffer
- 81
- Haltebänder
-
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
-
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
-
Zitierte Patentliteratur
-
- DE 1400281 U [0002]
- DE 202019000420 U1 [0003]
