DE2015615A1 - Auf elektromagnetische Strahlung empfindliches Element - Google Patents

Description

DR.-IN3. DIPL.-INB. M. SC. DIPl. PH'3. DS. DIPL. -PHYS.

HÖGER - STELLRECHT- GR1ESSBACH - HAECKER

PATENTANWÄLTE IN STUTTGART .

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31.3.1970 .

Teeg Research,Ine.
Detroit, Michigan. USA

Auf elektromagnetische Strahlung empfindliches-Element

Die Erfindung bezieht sich auf ein auf elektromagnetische Strahlung empfindliches Element. In der schwebenden Anmeldung P 19 H.762.7 ist ein strahlenempfindliches Element beschrieben, welches neben anderen Vorzügen besonders für lithographische Offsetplatten und ähnlichem geeignet ist* Ein solches strahlenempfindliches Element besteht im wesentlichen aus einer Unterlage bzw. einem Substrat, welches mit einer strahlenempfindlichen, insbesondere lichtempfindlichen Schicht aus anorganischem Material überzogen bzw. versehen ist, und wobei diese Schicht bzw. dieses Material wesentliche chemische und/ oder physikalische Änderungen als Folge einer Einstrahlung elektromagnetischer Strahlung, insbesondere Licht bestimmter Intensität und während einer bestimmten Zeitdauer, aufweist. Solche Veränderungen in den Eigenschaften der strahlenempfindlichen Schicht, die aufgrund einer Belichtung erfolgen, umfassen beispielsweise wesentliche Veränderungen hinsichtlich der relativen Oleophilie bzw. der Eigenschaften der Schichtoberfläche, wasserabweisend und färb- bzw. tintenempfanglich zu sein, weiterhin wesentliche -Veränderungen in der relaxiven Hydrophilie bzw. in der Eigenschaft der Schichtoberfläche, färb- bzw. tintenabweisend und wasseranziehend bzw. wasser-

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annehmend zu sein. Dabei ist in diesem Zusammenhang darauf hinzuweisen, daß solche Begriffe wie Oleophilie und Hydrophilie relative Ausdrücke sind und dort, wo sie erwähnt sind bzw. wo sie im Zusammenhang mit weiteren Anwendungsmöglichkeiten auftauchen, bedeuten, daß eine beispielsweise hydrophile Oberfläche im wesentlichen aufnahmebereiter für V/asser als für Farbe bzw. für Tinte ist, und daß, wenn sie als erstes benetzt bzw. angefeuchtet wird, die Tendenz besteht, Farbe zurückzuweisen.

Die Erfindung hat die Aufgabe, weitere nützliche Anwendungsmöglichkeiten bzw. Modifikationen des strahlenempfindlichen Elementes zu schaffen. Die Erfindung beruht auf der Entdeckung, daß die ursprünglichen chemischen und/oder physikalischen Eigenschaften eines strahlenempfindlichen Elementes, wie es beispielsweise in der erwähnten Anmeldung P 19H 762.7 dargestellt ist, modifiziert bzw. in verschiedenen Graden geändert werden können, indem nämlich das strahlenempfindliche Material mit einer modifizierten, umgeänderten bzw.konvertierten Oberfläche versehen wird. Eine solche konvertierte Oberfläche ist das Ergebnis einer Wechselreaktion bzw. Zwischenreaktion des strahlenempfindlichen Materials mit einem Element, einer Verbindung oder einer Mischung. Die konvertierte Oberfläche wird auf der Oberfläche des strahleneapfindlichen Materials als Teil des Herstellungsgrozesses gebildet und nach der selektiven und diskreten Belichtung des Elementes mit elektromagnetischer Strahlung wie beispielsweise Licht aind die chemischen und/oder physikalischen Eigenschaften der unbelichteten und der belichteten Flächen im wesentlichen verstärkt, verglichen mit nicht konvertierten bzw. modif innert en strahlenempfindlichen Elementen. Es ist gleichfalls möglich, die Eigenschaften des Elementes so bzw. bis zu einem solchen Grade :^r.ü verändern, daß dit-ne sich nunmehr entge^en^eseir.t

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31.3.1970 . - Sowie die nicht "modifizierten Elemente verhalten. Als Element«, Verbindungen oder Mischungen, die die Oberfläche modifizieren' bzw. konvertieren, d.h. als sogenannte Konverter, sind beispielsweise Silber, Brom, Jod, Kupfernitrat, Silbernitrat usw. geeignet, sie werden für eine kurze Zeit mit der aus anorganischem Material bestehenden Oberfläche des Elementes in Verbindung gebracht. ' . '

Die Erfindung geht also aus von einem auf elektromagnetische Strahlung empfindlichen Element und ist gekennzeichnet durch ein erstes anorganisches Material, das nach selektiver und diskreter Bestrahlung diskrete bestrahlte Flächenbereiche mit chemischen und physikalischen Eigenschaften aufweist, die sich von diskreten, nicht bestrahlten Flächenbereichen unterscheiden und dadurch, .daß das Material vor der Belichtung mit einer modifizierten bzw. konvertierten Oberfläche als Folge einer Reaktion dieses Materials mit einem zweiten, modifizierte bzw* konvertierte chemische und physikalische Eigenschaften der belichteten und der unbelichteten Flächenbereiche bewirkenden Materials versehen ist.

Die Erfindung gestattet es, nutzbare und zweckmäßige Artikel wie beispielsweise negative lithographische Druckplatten, elektrische Schaltkreise, Widerstandsmaterial, Dekorationsmuster und dergleichen zu erhalten. Die vorliegende Erfindung umfaßt also ein auf elektromagnetische Strahlung empfindliches Element, welches aus einer Schicht aus anorganischem ersten Material, das auf einer Unterlage bzw. einem Substrat aufgebracht sein kann oder auch nicht, besteht. Dieses Material weist eine Oberfläche auf, die durch den Kontakt mit einem chemischen Element, einer Mischung oder einer Verbindung.modifiziert bzw. konvertiert ist. Die kontaktierende Verbindung, Mischung bzw. das kontaktierende Element wird vorzugsweise, / . . ·

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jedoch nicht notwendigerweise, auf die Oberfläche der strahlenempfindlichen Schicht in wässriger, flüssiger Form aufgebracht. Nach einer selektiven und diskreten Belichtung mit einer elektromagnetischen Strahlung, beispielsweise mit normalen] Licht, zeigen die belichteten Teile des Elementes chemische und/oder physikalische Eigenschaften, die sich von den unbelichteten Teilen unterscheiden; Unterschiede in den chemischen und/oder physikalischen Eigenschaften können beispielsweise eine relative Oleophilie und Hydrophilie der Teilflächen sein, ein relativer elektrischer Widerstand, eine relative Löslichkeit in geeigneten Lösungsmitteln. Solche chemischen und/oder physikalischen Eigenschaften können dieselben sein wie bei den Elementen, die mit einer strahlenempfindlichen Schicht versehen sind, deren Oberfläche nicht durch Kontaktierung mit einem zweiten Material behandelt bzw. modifiziert ist, jedoch beträchtlich verstärkt verglichen mit dem unbehandelten Element oder die chemischen und/ oder physikalischen Eigenschaften des behandelten strahlenempfindlichen Elementes können sich entgegengesetzt zu denen des unbehandelten Elementes verhalten.

Im folgenden soll eine solche Möglichkeit kurz beschrieben werden, des näheren wird darauf dann in der nachfolgenden Beschreibung eingegangen. Eine aus einer dünnen Schicht bzw. einem dünnen Film von beispielsweise Arsen-Schwefel auf einer geeigneten Unterlage bzw. auf einem geeigneten Substrat wie beispielsweise körnige Aluminiumfolie bestehende besondere Struktur erweist sich normalerweise als eine negative lithographische Druckplatte, da sich die Teilflächen, die einer Strahlung ausgesetzt wurden, als oleophil herausstellen, während die Teilflächen, die im wesentlichen abgedeckt bzw. maskiert waren, hydrophil bleiben. Dabei wurde der Arsen-Schwefelfilm auf dem Substrat beispielsweise; durch überziehen

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des Substrates ait einer geeigneten Lösung des Materials in einem geeigneten Lösungsträger hergestellt, und das so erhaltene Element einer Belichtung mit normalem Licht durch geeignete Abdeckungen ausgesetzt. Wenn jetzt jedoch, bevor die Belicht-ung vorgenommen wird, die Oberfläche der strahlenempfindlichen Schicht der Platte beispielsweise durch Eintauchen der Platte oder durch Aufstreichen auf die Oberfläche der strahlenempfindlichen Schicht in bzw. mit einer wässrigen Lösung von Silbernitrat behandelt wird, dann sind nach der Belichtung die belichteten Teilflächen wesentlich stärker oleophil als es für die nicht behandelte Platte der Fall ist'." Die normalen Eigenschaften des Elementes sind auf diese. Art und Weise bedeutend verstärkt bzw. verbessert worden.

Wenn jedoch eine normalerweise positive lithographische Platte, die aus einer Unterlage wie körnigem Aluminium mit einer strahlenempfindlichen Schicht bzw. einem strahlenempfindlichen Film aus Arsen-Schwefel, die auf dem Substrat durch Aufdämpfung abgelagert ist, mit derselben wässrigen Lösung von Silbernitrat behandelt wird, dann werden die Teilflächen, die nach der Belichtung dem Licht ausgesetzt waren, oleophil, während die abgedeckten Teilflächen hydrophil verbleiben. Der ursprünglich also normalerweise oelophile, durch Bedampfung abgelagerte Arsen-Schwefelfilm wurde somit■in seinem nichtbelichteten Zustand in eine normalerweise hydrophile Oberfläche umgewandelt bzw. konvertiert, und zwar als Folge der Behandlung mit der Silbernitratlösung. Folgten zeigt ein mit einer modifizierten bzw. konvertierten Oberfläche versehenes Element in lithographischer Hinsicht genau die umgekehrten Eigenschaften wie das nicht behandelte Element.

Ein besonderer Vorteil der entsprechend der vorliegenden Erfindung hergestellten fotolithographischen Platten ist darin

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zu sehen, daß diese einem gewünschten Lichtmuster ausgesetzt werden können, beispielsweise als Kontaktdruck mittels einer Bogenlampe durch eine negative Maske, und daß sie dann ohne weitere noch notwendige Behandlungsschritte direkt in einer lithographischen Druckpresse verwendet werden können, wenn sie in Verbindung mit einem geeigneten Befeuchtungssystem in Betrieb genommen werden.

Ein weiterer wichtiger Gesichtspunkt der vorliegenden Erfindung i&t darin zu sehen, daß bei der Verwendung im lithographischen Druckverfahren die konvertierte Oberfläche der strahlenempfindlichen Schicht mit einer im wesentlichen oleophilen bzw. schützenden Überschicht versehen werden kann. Diese oleophile bzw. schützende Überschicht wird nach Belichtung der lithographischen Platte automatisch von den hydrophilen Oberflächenbereichen der Platte abgestreift, während sie auf den dßophilen Oberflächenbereichen anhaftend verbleibt, und zwar sobald die Platte in die lithographische Offsetdruckmaschine eingesetzt und gegen ein geeignetes Befeuchtungssystem arbeitet.

Es ist klar, daß die vorliegende Erfindung neben der lithographischen Kunst bzw. neben lithographischen Druckverfahren noch viele andere Anwendungsinöglichkeiten hat, beispielsweise die Herstellung Von Dekorations- bzw. Druckartikeln, die aus strahlenempfindlichen Elementen entsprechend der Erfindung bestehen und die nach Belichtung relativ oleophile Oberflä-' chenbereiche verglichen mit anderen Bereichen aufweisen, die wiederum geeignet erscheinen, durch eine unterschiedliche Absorbtion von verschiedenen gefärbten Farben geschmückt zu werden.

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Weiterhin kann die Erfindung, da verschiedene stromleitende Materialien in Farbe gelegt bzw. eingefärbt werden können, die Erfindung für Artikel verwendet werden, an deren Oberfläche Stromleiter und andere elektrische Schaltelemente gebildet sind, um so eine elektrische gedruckte Schaltung oder ähnliches herzustellen. Darüberhinaus ist der elektrische Widerstand der belichteten Flächen schon von sich aus im wesentlichen unterschiedlich zu den nicht belichteten Teil-, flächen, so daß eine Belichtung mit elektromagnetischer Strahlung allein oder in Kombination mit nachfolgender EInfarbung verwendet werden kann, um geeignete elektrische Schaltkreise herzustellen. Da die belichteten Teilflächen eine unterschiedliche löslichkeit in geeigneten Lösungsmitteln gegenüber den nicht belichteten Teilflächen aufweist, ist die vorliegende Erfindung auch dazu geeignet, als Widerstandsmaterial und dergl. verwendet zu werden.

Diese und andere Vorzüge, Einzelmerkmale und Vorteile der vorliegenden Erfindung gehen weiterhin aus der nachfolgenden Beschreibung hervor, in welcher Aufbau und. Wirkungsweise von Ausführungsbeispielen der Erfindung anhand der Figuren näher erläutert werden. Dabei zeigt: .

Fig. 1 in schemätischer stark vergrößerter Darstellung einen Seitenschnitt durch ein Ausführungsbeiapiel der Ausgangsstruktur für ein strahlenempfindliches Element entsprechend vorliegender Erfindung,

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Pig. 2 ebenfalls in schematischer Seitenansicht ein. Ausführungsbeispiel eines strahlenempfindlichen Elementes entsprechend der vorliegenden Erfindung, das ausgehend von dem in Pig. 1 dargestellten Element mit einer modifizierten bzw. konvertierten Oberfläche versehen ist und

Pig. 3 zeigt in schenatischer Seitenansicht in stark vergrößerter Darstellung ein Ausführungsbeispiel eines strahlenempfindlichen Elementes entsprechend Pig. 2.

In Pig. 1 der Zeichnungen ist ein strahlenempfindlielies Element nach der Erfindung dargestellt, an deren einer Seite eine mit dieser verbundene Schicht 14 aus strahlenempfindlichem Material vorgesehen ist. Pur einige Anwendungszwecke kann die Unterlage oder das Substrat weggelassen werden»

Das strahlenempfindliche Element 10 weist dieselbe Struktur auf und ist in derselben Art hergestellt und besteht aus demselben Material wie die Anordnung in der noch schwebenden schon erwähnten Patentanmeldung. V/ie dieser Anmeldung ent— nimmen werden kann, kann die Unterlage bzw. das Substrat 12 aus jedem geeigneten Material wie Papier, Pappe, Plastik oder Metallfolie bestehen. Ein bevorzugtes Material für die Unterlage 12 besteht aus einem im wesentlichen dünnen Streifen Aluminium, dessen eine Seite körnig und vorzugsweise einer anodischen Oxydationsbehandlung unterzogen worden ist, d.h. eloxiert oder auch silifiziert (silicated) ist. Die aus etrahlenempfindlicheni Material bestehende Schicht 14 ist festhaftend auf der körnigen und eloxierten bzw. silifizierten Oberfläche des Alurainiumstreifens angebracht. In einigen Anwendungsbeispielen hat es sich als

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wünschenswert herausgestellt, zwischen der Unterlage bzw. dem Substrat 12 und der strahlenempfindlichen Schicht H eine nicht dargestellte Zwischenschicht bzw. eine sogenannte Barriere vorzusehen, die beispielsweise aus Kunststoff, Kunstharz, Metalloxyd, Lack, Plastik, Gold, Quarz,- Silizium, Glas oder ähnlichem besteht, um die Adhesion der strahlenempfindlichen Schicht auf der Unterlage bzw. dem Substrat zu verbessern oder um spontane oder durch Einstrahlung hervorgerufene Zwischenreaktionen zwischen dem Material der strahlenempfindlichen Schicht H und dem Material der Unterlage bzw. des Trägerteils 12 zu verhindern, wenn diese Materialien zu Zwischenreaktionen bzw. zu Wechselreaktionen fähig sind.

Die strahlenempfindliche Schicht besteht aus einer anorganischen Verbindung bzw. aus einer Mischung wie beispielsweise Arsensulfid, Antimonsulfid, Silbersulfid, Wisrautsulfid, Chromsulfid, Bleijodid, Kupferchlorid, Quecksilberchlorid, Arsenselenid, Arsen-Schwefel, Selen-Schwefel, Arsen-Schwefel-Halogen und Arsen-Schwefel-Antimonoxydmischungen und ähnliches. Arsentrisulfid, ASpS,, ist ein sehr geeignetes und bevorzugtes Material für die strahlenempfindliche Schicht 14. Die Schicht aus Arsen-Trisulfid bzw. aus einem anderen Material kann auf der Unterlage bzw.. dem Trageglied 12 auf verschiedene geeignete Weisen aufgebracht werden, wie das in der erwähnten schwebenden Anmeldung erläutert ist. ,

Eines dieser Verfahren besteht darin, daß Arsen-Trisulfid verdampft und der Dampf des Arsen-Trisulfids auf der Unterlage 12, vorzugsweise unter verringertem atmosphärischen Druck kondensiert wird.

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Eine andere Möglichkeit bzw. ein anderes Verfahren, die strahlenempfindliche Schicht 14 auf der tragenden Unterlage bzw. dem Substrat 12 aufzubringen, besteht darin, eine Mischung eines geeigneten strahlenempfindlichen Materials wie beispielsweise Arsen-Schwefelverbindung oder -mischung in einem geeigneten flüssigen Lösungsmittel, beispielsweise in einer wässrigen Lösung von Kaliumkarbonat (Pottasche), Amrooniurahydroxyd (Salmiakgeist), Glyzerin oder Wasser zu bereiten und die Oberfläche der Unterlage bzw. des Substrates mit der flüssigen Mischung zu bestreichen oder zu besprühen; wahlweise kann dieser Behandlung eine Verdampfung der Lösung bzw. des flüssigen Lösungsmittels folgen, wodurch auf der Oberfläche der Unterlage eine dünne Schicht eines strahlenempfindlichen Materials verbleibt.

Ein weiteres Verfahren, die Unterlage mit einer strahlenempfindlichen Schicht zu versehen, besteht darin, daß das Substrat mit einer Arsen-Schwefel-Jodmischung besprüht, bestrichen oder in diese eingetaucht wird, wobei die Mischung reich an Jod ist, um flüssig zu sein. Es folgt dann eine Verdampfung des größten Teils des Jods, so daß sich eine an Arsen-Schwefel angereicherte Beschichtung oder Schicht H auf der Unterlage 12 ergibt.

Ein anderes Verfahren ein strahlenempfindliches Element herzustellen, besteht in dem direkten Aufbringen des strahlenempfindlichen Materials, beispielsweise einer aus Arsen-Schwefel bereiteten Mischung in Pulverfora auf die Unterlage, wobei das Pulver einfach auf die Oberfläche der Unterlage aufgestreift wird. Die Arsen-Schwefelmischung wird durch Erhitzen der Elemente in einem Glasbehälter auf eine Temperatur von 350° C hergestellt, wobei nachher das erhaltene Material durch Mahlen und Schleifen in eine Pulverform ge-

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brächt wird. Die Haftung des Pulvers attd <die;. Eäpf inflliichkeit auf Strahlung werden stark vergrößert äürch Aussetzen der beschichteten Platte in Ammoniümdämpfeni Weitere; züsätzliehe Methoden zur Aufbringung der strahlenempfiJidiicheti Schicht auf die Unterlage oder das Substrat sirid beispielsweise elektrostatisches Besprühen* Eerstäübeii und löhenpiattiereni

Die Empfindlichkeit der Schicht 1-4 hinsichtlich elektromagnetischer Einstrahlung wie beispielsweise ijieht kann in mähchen Fällen stark durch eine HitzebehändD-üng vergrößert werden, beispielsweise durch Erhitzein des Elemente^ Άΰ mit tischfolgender schneller Abkühlung des Ulemeiites, wie das in der schon erwähnten schwebenden Anmeldung beschrieben i§i ^

Gemäß der vorliegenden Erfindung ist das auf eiektromaghetische Strahlung empfindliche Element 10 der -fig. i in einer Art modifiziert, wie es schematisch bei TO in Fig* 2 dargestellt ist, nämlich indem die Schicht 14 mit einer modifizierten bzw* umgeänderten Oberfläche 16 wie in Fig.. 2 dargestellt, versehen ist. Diese modifizierte bzw.. umgeänderte Oberfläche 16 ist gebildet worden als Folge des Umstandes, daß die Oberfläche des Überzugs bzw. der Schicht 14 mit irgendeinem einer Anzahl von Elementen, Verbrndungeh oder Mischungen in Kontakt gebracht wurde, die die natürlichen Eigenschaften des strahlenempfindlichen Elementes Wesentli-eh verstärken oder "die in der Lage sind, bei der Schicht 14 Eigenschaften hervorzurufen, die vollkommen verschieden von denen uribehandelter Elemente sind.

Beispiel I

Eine Spule aus körnigem und eloxiertem Aluminium, 72 cm breit und 0,23 mm dick, wurde in einer Verdampfungskammer angebracht* Auf Mblybdän-Heizelemehten wurde eine Anzahl von

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Quarzschiffchen verteilt, wobei jedes Schiffchen eine Grundmischung aus Arsen-Schwefelglas enthielt, welches aus gleichen Gewichtsanteilen von Arsen und Schwefel zusammengesetzt war. Der Luftdruck innerhalb der Kammer wurde auf einen Druck

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von etwa 10 mm ausgepumpt, die Heizelemente in Betrieb gesetzt und die Arsen-Schwefelmischung erhitzte sich, bis sie einheitlich zu verdampfen und sich auf der Spulenoberfläche zu kondensieren begann, wobei die Spule abgewickelt und über die Schiffchen hinübergeführt wurde, und zwar mit der gekörnten und eloxierten Seite in Richtung auf die Schiffchen. P Auf diese Weise wurden ca. 90 laufende Meter Aluminiumspule mit einer festhaftenden strahlenempfindlichen Schicht überzogen. Nachdem die Spule dann in geeignete Abschnitte zerschnitten wurde, erhielt man Proben bzw. Ausführungsbeispiele eines strahlenempfindlichen Elementes entsprechend der in Fig. 1 aargestellten Struktur, die, wenn sie durch eine geeignete Abdeckung bzw. Maske einer Belichtung ausgesetzt sind, positive lithographische Druckplatten ergeben, d.h. beispielsweise Druckplatten, die belichtete Oberflächenbereiche aufweisen, die im wesentlichen oleophil und unbelichteten Oberflächenbereiche, die im wesentlichen hydrophil sind.

ι Solche Proben wurden in eine Vakuumkammer eingebracht und mit einer dünnen Silberschicht durch Verdampfung bei einem Druck von ca. 0,5 x 10 mm überzogen.

Die Dicke dieser Silberschicht lag bei annähernd 0,5 Micron. Die Proben, die nun die in Fig. 3 dargestellte Struktur aufwiesen, d.h. die mit einer modifizierten bzw. umgeänderten Oberfläche 16 als Folge eines Silberniederschlages darauf versehen waren, wurden in einen V&kuumdruckrahraen eingebracht und der Belichtung mit einer Bogenlichtquelle durch eine negative Maske hindurch für ca. 3 Minuten ausgesetzt. Jede der ·

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Proben ergab nach Entnahme aus dem Druckrahmen ein lesbares, einen hohen Kontrast aufweisendes Bild, dabei waren die nichtbelichteten Bereiche etwas metallisch· in ihrer Färbung, während die belichteten Bereiche abgedunkelt waren. Der elektrische' Widerstand einiger der Proben wurde gemessen, und es ergab sich, daß die belichteten, abgedunkelten Bereiche praktisch keine Leitfähigkeit mehr aufwiesen, während die nicht der Beleuchtung ausgesetzten Flächen eine hohe Leitfähigkeit besaßen.

Einige der Proben wurden durch Anfeuchten der Oberfläche mit einer Wasser-Gummiarabikum-Lösung behandelt und nachfolgend an eine solche Befeuchtung der Oberfläche leicht eingefärbt bzw. eine Farbe aufgetragen. Andere Proben wurden nach dem Befeuchten der Oberfläche mit einer Gummiarabikum-Lösung lackiert. Die verschiedenen Proben wurden in eine lithographische Offset-Druckpresse eingebracht und es wurden mehrere tausend Kopien hergestellt, die ein voll eingefärbtes Muster zeigten ohne eine Verschlechterung bzw. ohne eintretende Mangel; diese Proben benahmen sich wie negative lithographische Druckplatten im Gegensatz zu den Proben, die nicht durch einen Silberüberzug umgeändert wurden.

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Die Farblösung, die in dem AnfeuchtungS3ystem der Druckpresse verwendet wurde, bestand aus 87 Vol. $ A'asser, aus 10 °/a Isopropylalkohol und aus 3 i° einer 1 #igen Lösung Gummiarabikum. Jedem Liter der Lösung waren 4g Silbernitrat und 5 g doppelt weinsaurem Kalium beigefügt.

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Beispiel II

Einige der Proben des Beispiels I wurden direkt nach der Belichtung in eine lithographische Offset-Druckpresse eingebracht, ohne Befeuchtung und ohne Einfärben der Oberfläche. Mehrere tausend Kopien von guter Qualität wurden gedruckt, was auf eine gute und naturgetreue Belichtung und Druckfähigkeit der entsprechend der Erfindung hergestellten lithographischen Platten hinweist, da solche Proben, wie herausgefunden wurde, direkt auf der Presse ordnungsgemäß einfärb- W ten bzw. Farbe abgaben.

Beispiel III

Geeignete Unterlagen bzw. Substrat platten wurden durch Abschneiden von Streifen von einer Spule gekörnten und eloxierten Aluminiums erhalten. Die Alurainiurplatten wurden durch Bedampfung mit einer Arsen-Schwefelmischung überzogen, und zwar unter denselben Bedingungen wie weiter vorn im Hinblick auf das Beispiel I ausgeführt. Die Proben wurden in einer- Mischform unter Verwendung verschiedener Arsen- und Schwefelverhältnisse beschichtet, um den Einfluß des jeweiligen unterschiedlichen Gehaltes an Arsen bzw. Schwefel auf die Bildung der strahlenempfindlichen Schicht herauszufinden. Verschiedene Verbindungen wurden verwendet, die den gesamten Bereich zwischen 90 ^c/> Arsen bis 10 # Schwefel und 10 ^c/> Arsen bis 90 ^c/o Schwefel in Gewichtsprozenten jeweils überdeckten, sämtliche Mischungen zeigten in unterschiedlichen Graden eine deutliche Potosensibilität.

Eine Mischung von Proben mit einer lichtempfindlichen Schicht, die angenähert 50 Gew.$ Arsen und 50 Gow.# Schwofel enthielt, wurde ausgewählt. Die Oberfläche der strahlenempfindlichen Schicht jeder Probe wurde mit einem Schwamm abgewischt, welcher eine wässrige Lösung aus 1000 ml destilliertem Wusser,

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30 ml einer 1 $igen Gummiarabikum-Lösung, 10 g Silbernitrat und 3 Tropfen konzentrierter Salpetersäure enthielt. Es wurde herausgefunden, daß die geringe Menge an Salpetersäurein der Lösung sich als wünschenswert herausgestellt hat,* um eine Reaktion der Lösung mit der Arsen^-SchwefelOberfläche zu vergrößern. Ähnliche Ergebnisse-wurden bei Erhitzung der' ' Lösung erreicht. - ■ ■ "■"-"

Die mit der Lösung befeuchtete Oberfläche wurde braun und durch geeignete Versuchungen wurde festgestellt, daß die Oberfläche stark hydrophil war, wodurch sich auf diese Weise eine Umkehrung von normalerweise oleophil zu hydrophil ergab. Das strahlenenipfindliche Element wurde,.wie im Hinblick auf Beispiel I schon erläutert, belichtet und nach der Belichtung ergab sich eine Aufhellung in der Earbe bei den belichteten Bereichen im Gegensatz zu den unbelichteten Teilen, wodurch sich·eine Desbare Platte ergab. Es stellt& sich heraus, daß die belichteten Bereiche bereit waren, Farbe anzunehmen bzw. relativ oleophil wären, nachdem die Oberfläche der Platte mit derGummiarabikum-Lösung■befeuchtet wurde. Es ergab· sich weiterhin, daß die Oberfläche der J-latte auch·trocken mit Farbe versehen werden konnte und daß sich dann, bei nach-, folgernder Befeuchtung eine ordnungsgemäße Trennung und saubere; -Far.bwirk.ung der Platte ergab, wenn diese in einer Druckpresse, in Betrieb genommen wurde. .

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•;n».■- ,:-■ -: Beispiel IV . .- · . , ' ■ Einige Proben der gekörnten Äluminiumplatte, die mit einem Film einer 50 Gew.^ zu 50 Gew.$ Arsen-Schwefelmischung versehenw,ar, und zwar auf die in Beispiel III beschriebene Methode, wurden ober einem Kolben· bzw. über einer erhitzte Jodkristalle enthaltende Laborflasche angeordnet und den Jodd.ämpf en, ausgesetzt. Die.se Proben wurden dann nach einer durch'

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eine Maske erfolgenden Belichtung, wie weiter vorn beschrieben, und nach Befeuchten und Einfärben der Oberfläche als lithographische Platte in einer .Offset-Druckpresse verwendet. Wie herausgefunden wurde, ergaben sich negative Druckplatten guter Qualität, jedoch von einer etwas geringeren Qualität als die Platten, die entsprechend den Beispielen I und III bereitet wurden.

Beispiel V

k Andere Proben bzw. Ausführungsbeispiele wurden mit einer 50 $igen Arsen-Schwefelmischung als Beschichtng versehen und mit einer wässrigen Lösung von 10 VoI.^ Brom angefeuchtet. Nach Belichtung, Befeuchtung und Einfärbung wurden sie in einer Druckpresse als lithographische Platten verwendet und es ergab sich» daß sie in ihrer Qualität als negative Druckplatten der Qualität der nach Beispiel IV gewonnene Druckplatten ähnelten.

Beispiel VI

Eine Lösung aus 500 ml von konzentriertem Ammoniuinhydroxyd (Salmiakgeist) und 25 g eines Arsen-Trisulfidpulvers wurde ' bereitet. Verschiedene Unterlagen aus verschiedenen Materia- ^ lien wurden mit der Lösung bestrichen oder abwechselnd in die Lösung eingetaucht. Es wurden so eine ganze Anzahl von Proben bereitet, die letzlich in negativer Form lithographische Eigenschaften aufwiesen. Die Oberfläche wurde bei einigen der Proben entsprechend dem in Beispiel I beschriebenen Verfahren modifiziert bzw. abgeändert, und die Oberfläche anderer Proben wurde entsprechend dem in Beispiel III, IV und V beschriebenen Verfahren abgeändert und modifiziert. Sämtliche modifizierte Proben wiesen in negativer Arbeitsform lithographische Eigenschaften auf, die stark verbessert bzw. verstärkt waren im Hinblick auf die lithographischen

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Eigenschaften unbehandelter Proben, und sämtliche behandelten Proben ergaben lesbare Bilder, was bei den unbehandelten Proben nicht der Fall war.

Einige der Proben wurden unter Verwendung der bevorzugten Unterlage, d.h. gekörnten Aluminiums, entweder eloxiert oder silifiziert, hergestellt. Andere Proben wurden unter Verwendung von Papier, Polyesterfilm (Mylar), Glas und geätzten gekörnten Aluminiums hergestellt, und es ergab sieh, daß sie sämtlich von hervorragender Qualität waren. · ·

Beispiel VII ' -

Weitere Proben bzw. Ausführungsbeispiele lithographischer Platten wurden durch Verdampfen von AntimontrisulfId und Überziehen von gekörnten Aluminiumplatten in einer Atmosphäre bei einem Druck von 0,1 Micron hergestellt, wobei die Antimontrisulf idschicht eine Dicke von 7 500 Angström aufwies. Die Oberfläche der Antimontrisulfidbeschicht-ung wurde mit einer Lösung, die 16 g Silbernitratkristalle auf 1 1 destillierten Wassers enthielt, welcher noch 40 mg einsr 1 folgen Gummiarabikum-Lösung hinzugefügt wurde, abgewischt. Die Oberfläche der Platte wurde dann an der Luft getrocknet und die Platte einer Belichtung wie weiter vorn beschrieben ausgesetzt. Nach der Belichtugg wurde die Platte angefeuchtet und eingefärbt. Die so erhaltene lithographische Platte stellte eich als eine negative Arbeitsplatte heraus.

Beispiel VIII

Probeplatten bzw. Ausführungsbeispiele mit einer .strahlenempfindlichen Schicht von 50 i<> As - 50 $ S Dampf, der, wie weiter vorn beschrieben, abgelagert wurde, wurden mit einer milden konzentrierten wässrigen Lösung von Kupfernitrat, )₂ fflit einem Zusatz von Gummiarabikum behandelt. Wurde

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diese Lösung auf die Oberfläche der Proben aufgebracht, dann ergaben sich, wie herausgefunden wurde, dieselben Resultate, die mit der weiter vorn beschriebenen Silbernitratlösung erreicht wurden; es ergaben sich somit fotolithographische Platten in negativer Arbeitsform. Die modifizierte bzw. umgeänderte Oberfläche des strahlenempfindlichen Materials war oTeophil in den Bereichen, die einer Belichtung ausgesetzt gewesen waren, während die nichtbelichteten Bereiche klar hydrophil waren, wodurch die für ordnungsgemäße Druckeigenschaften lithographischer Platten notwendige Farb-Wasser-" trennung erzielt wurde.

Beispiel IX

Es wurde herausgefunden, daß eine mildkonzentrierte wässrige Lösung vron Silbersulfat auf die gleiche Weise in ihrer Wirkung zu beurteilen ist, wie die weiter vorn beschriebene Silbernitratlösung, um eine modifizierte bzw. umgeänderte Oberfläche einer, eine negative Arbeitsform aufweisenden lithographischen Platte zu erzielen.

Beispiel X

^ Es wurde eine mildkonzentrierte v/ässrige Lösung von Silberazetat, AgCpH-jOp» bereitet. Auch bei Verwendung dieser Lösung für die Umwandlung bzw. Modifizierung der Oberfläche eines strahlenempfindlichen Elementes wurde herausgefunden, daß sich hierbei dieselben Ergebnisse erzielen ließen, wie mit einer Lösung von Silbernitrat.

Beispiel XI

Eine gesättigte wässrige Lösung aus Kaliumpermänganat wurde vorbereitet und auf die Oberfläche von Proben bzw. Ausführungsbeispielen von Platten gestrichen bzw. aufgebracht, die

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eine Arsen-Schwefelschicht über Aluminium aufwiesen. Die normalerweise oleophile Oberfläche der Arsen-Schwefelschicht wurde, wie sich herausfand, aufgrund der Behandlung mit der erv/ähnten Lösung relativ hydrophil, wurden jedoch die Proben wie·weiter vorn beschrieben einer Belichtung ausgesetzt, dann ergab sich im wesentlichen keine ausreichende Oleophilie der belichteten Flächen, um die Platten praktisch zu Druckereizwecken zu verwenden.

Beispiel XII ■

Eine gekörnte und eloxierte Aluminiumplatte wurde mit einem feinen Pulver aus einer'vorbereiteten Arsen-Schwefelmischung, enthaltend 60 Gew.$ Arsen und 40 Gew.# Schwefel, eingerieben. Die Hälfte der Probenoberfläche wurde dem Einfluß von Ammoniumdämpfen aus einem Ammoniumhydroxyd enthaltenen Kolben ausgesetzt, die andere Hälfte der Probenoberfläche wurde abgedeckt. Es stellte sich heraus, daß der Teil der Arsen-Schwefeloberfläche der den Ammoniumdämpfen ausgesetzt war, eine wesentlich stärkere Haftung hinsichtlich der Unterlage aufwies, verglichen mit den abgedeckten Teilen, es stellte sich weiterhin heraus, daß die den Ammoniumdämpfen ausgesetzten Bereiche sich als eine negative lithographische Druckplatte guter Qualität erwies, obwohl die Qualität etwas geringer als die der weiter vo-rn beschriebenen, mit Silbernitrat behandelten Proben war.

Beispiel XIII

.Proben von gekörnten, elektrosilifizierten Alurainiumfolieh bzw, -blättchen, die unter Vakuumbedingungen (bei ca. 0,1 Mikron) mit einer Arsentrisulfldbeschichtung (AGpS.,) versehen waren, wurden mit einer Konversionslösung bzw.. einer Umwandlungslösung, die aus 260 ml Wasser, 5 ml einer einprozentigen Gummiarabikum-Lösung, 1 g Stannochlorid (Zinnsalz), einem

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sehr kleinen Betrag, "beispielsweise einigen Tropfen einer Phosphorsäure und weiterhin aus 10 bis 50 g Zinknitrat bestand, behandelt. Die behandelten Platten ergaben nach Belichtung und Benutzung in einer Offsetdruckplätte in Verbindung mit einer Lösung, die aus 2 600 ml Wasser, 50 cur einer einprozentigen Lösung von Gummiarabikum, 12 g Stannochlorid, 600 ml Isopropylalkohol und 10 g Zinknitrat bestand, dazu eine sehr geringe Menge von Phosphorsäure, eine negative Druckplatte hoher Qualität, die in der Lage war, den von der lithographischen Industrie an Reproduktionen gestellten Qualitätsanordnung zu entsprechen.

Es wurde herausgefunden, daß Zinknitrat nicht die einzige Verbindung ist, die in der Lage ist, eine ordnungsgemäße modifizierte bzw. umgeänderte Oberfläche zu erzeugen. Dia Nitrate von Litium, Magnesium, Natrium, Kalium, Kadmium und zu einem etwas schwächeren Grade auch Kupfer, Blei, Wismut, können das Zinknitrat ersetzen.

Beispiel XIV

Mehrere Platten, die wie weiter vorn beschrieben, mit einer modifizierten bzw. umgeänderten Oberfläche versehen worden waren, wurden vaterhin mit einem Überzug bzw. mit einer Deckschicht auf der modifizierten Oberfläche versehen. Die Struktur dieser Proben ist in übertriebener Darstellung schematisch in Fig. 3 dargestellt und führt zu Probenplat-

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ten 10 , die aus einer Unterlage bzw. einem Substrat 12 bestehen, die eine mit dieser verbundene Schicht eines strahlenempfindlichen Materials 14 an deren Oberfläche aufweist, ' die Schicht 14 hat eine modifizierte bzw. umgeänderte Oberfläche wie weiter vorn erklärt und wie mit 16 bezeichnet, die dann wiederum mit einer tlberschicht bzw. mit einem Schutz- ' material 18 verseilen ist.

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Als typisches Beispiel wurden einige Platten mit einer Unterlage bzw. einem Substrat aus gekörntem eloxiertem Aluminium'bereitet, die' mit einer 50 - 50 $igen Arsen-Schwefelbeschichtung bzw. Schicht 14 überzogen waren, wobei die Oberfläche dieser Schicht wiederum, wie weiter Vorn' beschrieben, mit einer Lösung aus Silbernitrat modifiziert bzw. umgeändert war, so daß sich eine modifizierte^.Oberfläche 16 ergab. Auf diese umgeänderte Oberfläche 16 der aus strahlenempfindlichen] Material bestehenden Schicht wurde eine Überschieht 18 aufgebracht, und zwar durch Aufwalzen bzw. durch Bestreichen der Oberfläche mit Mineral- ' pech, das in einer geeigneten Lösung wie beispielsweise Xylol gelöst war, beispielsweise 30 Gew.fo Mineralpech und 70 Gew.<?o Xylol. Diese Probepiatten wurden nach der Belichtung in eine Offsetdruckpresse eingebaut, und wurden'zur Herstellung von mehreren tausend guter Kopien verwendet, ohne irgendeine weitere Behandlung vor der Einlage in. die " Presse. Zum Benetzen wurde eine geeignete Lösung wie weiter vorn beschrieben verwendet, obwohl verschiedene wässrige Lösungen von Metallsalzen, eingeschlossen Silbernitrat, basische Lösungen verschiedener Art und Sauerstoffträger " wie Kaliumpermanganat in den Benetzerflüssigkeiten verwendet wurden. '

Verschiedene Alternativen für die Verwendung von Mineralpech- und Xylolmischungen wurden untersucht, wobei sich ein unter-' Bchiedlicher Erfolgsgrad herausstellte. Beispiele' von geeigneten Materialien, um einen Schutzüberzug über der strahlenempfindlichen Oberfläche zu erläten, umfassen Materialien wie Firnis, öle, Lacke und dgl.. Der Überzug bzw. die überechicht 18, insbesondere wenn sie aus in Xylol gelöstem Mineralpech besteht, ist oleophil, iot jedoch anscheinend

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nichtsdestoweniger für Wasser durchlässig, so daß also, wenn eine entsprechend der vorliegenden Erfindung hergestellte lithographische Platte, die mit einer Mineralpech-Xylolüberschicht 18 versehen ist, anfangs in einer Offsetpresse gegen eine geeignete Farblösung in Betrieb genommen wird, die oleophile Überschicht der Farblösung erlaubt, bis zu der modifizierten bzw. konvertierten Oberfläche 16 vorzudringen und der Oberflächeneffekt des Wassers, welches sich über die hydrophil umgewandelte Oberfläche ausbreitet, hebt die oleophile Schicht ab, die auf diese Weise automatisch von den Oberflächenbereichen der fotoempfindlichen Schicht, die während der Belichtung dem Licht nicht ausgesetzt waren, entfernt werden. Die oleophile bzw. die Schutzschicht verbleibt anhaftend auf der umgewandelten Oberfläche, die als Folge der Belichtung von einer hydrophilen in eine oleophile Oberfläche umgewandelt worden war, so daß eine Verstärkung dieser belichteten Bereiche oder mindestens ein Schutz im Hinblick auf die relative Oleophilie bzw. auf die Farbempfindlichkeit gegeben ist.

Daraus kann man ersehen, da3 die vorliegende Erfindung es erlaubt, eine Mannigfaltigkeit von strahlenempfindlichen Elementen, die im wesentlichen aus einer Unterlage bzw. einem Substrat, auf welches in einigen Anwendungsbeispielen auch verzichtet werden kann und aus einer Schicht eines strahlenempfindlichen Materials besteht, herzustellen bzw. . zu erhalten, wobei die freie Oberfläche des strahlenempfindlichen Materials in einer solchen Weise modifiziert bzw. umgeändert ist, daß die diesem strahlenempfindlichen Material innewohnenden Eigenschaften verstärkt oder daß solche innewohnenden Eigenschaften im wesentlichen verändert bzw. modifiziert werden. Das Material, welches die strahlenempfindliche Schicht zu formen imstande ist, umfaßt eine Vielzahl

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iron ahOrgaftisehen Verbihduhgeh. und .Mischungen wie. .,b.öispi.eils-. ■weise .Metallsulfide-,. Metallhalogenide, . .Metallselenide, _; , ; Metalltelluride, Metallarsenide,-Arsen-Schwefelverbindünge-n und -mischungen, Selenverbindungen und ^ffiisch-unge.ni ,Arsen- . Schwef e 1-Halο gehve.rbindungen _:und Arsen-Sehwefei-Antiinonoxyd-, . mischüngeh. "Das Mäteriäli das_;zur Erzielung einer modifizierten bzw. .umgeänderten Oberfläche, ."verwendet, wird, ,gehört, zuder allgemeinen Klasse der wässrigen ,oder sonstigen -Lösungen von Metälisalzeh, Metallfilmen, ijämpfen von Jod., Brom, Ammonium und Chlor, Schwefeldioxyd, Hydrogensulfid und einige. basisclie Lösungen von Hatriumhydroxyd* Aramohiümhydröxyd, Karbonaten, Boraten, Phosphaten, Silikatenund ähnliehem, PerroaTnmonsulfat und v/asserlösliche Amine. Pur einige. Anwendungszwecke hat es sich als vorteilhaft herausgestellt, das strahlenempfindliche Material mit einer Überschicht eines : vorzugsweise oleophilen Materials zu versehen,, welches die . . Eigenschaften, insbesondere die fotolithOgräphischcn Eigenschaften, der Struktur verstärkt und verbessert..

Mit besonderem Bezug auf fotolithographische Platten konnte herausgefunden werden, daß fotolithographische Platten, die eine nichtmodifizierte bzw. nichturageänderte strahlenempfindliche Schicht aus einem geeigneten Material aufweisen, wie beispielsweise Arsen-Schwefelmaterial, welches beispielsweise auf dem Substrat durch Bedampfen abgelagert worden ist, sich normalerweise wie positive Arbeitsformen lithographischer Platten benehmen. Wird die Oberfläche der strahlenempfindlichen Schicht dadurch modifiziert bzw. umgeändert, daß sie mit Brom, Jod, Ammonium, Silber, Silbernitrat, Silbersulfat,· Silberazetat oder Kupfernitrat in Kontakt gebracht wird, dann benimmt sich die sich auf diese Weise erzeugte lithographische Platte wie eine negative lithographische Platte. Eine normalerweise negative fotolithographische Platte, die aus

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einer Unterlage und einem Substrat besteht, welches mit einer darauf abgelagerten strahlenempfindlichen Schicht versehen ist, und zwar durch jede andere Methode, ausgenommen der Ablagerungen durch Bedampfung, weist negative Druckeigenschaften auf, die durch Umwandlung bzw. Modifizierung der Oberfläche des strahlenempfindlichen Materials in hohem Maße verstärkt werden können, und zwar als eine Folge der Kontaktierung bzw. der Verbindung mit den soeben erwähnten Elementen bzw. Verbindungen oder mit irgendwelchen von mehreren zusätzlichen Verbindungen. Solche zusätzlichen Verbindungen können beispielsweise sein: Bleinitrat, Kupfersulfat, Kobaltnitrat, Bromnitrat, Kadmiumnitrat, Wismutnitrat, Nickelsulfat, Ammoniumnitrat, Ferroammonsulfat und wasserlösliche Amine.

Zusätzlich zu der Anwendung als fotolithographische Plaste sind die Strukturen der vorliegenden Erfindung noch in weiteren mannigfalten Hinsichten nützlich. Sie erlauben es, Schmuck- bzw. Dekorationsgegenstände herzustellen, aber auch "gedruckte" elektrische Schaltkreise und ähnliches, wie weiter vorn erwähnt. Es ist offensichtlich, daß die lithographischen Fähigkeiten der Strukturen verwendet werden können, beispielsweise um insbesondere Material in einem komplexen Muster zu verteilen, und zwar durch Verbindung solcher Materialien mit einenoleophilen Träger, wie beispielsweise einem Öl, und durch Aufbringen dieser Mischung auf die Oberfläche einer benetzten Struktur. Auf diese Weise ist es möglich, ein komplexes Muster irgendeines Materials wie beispielsweise ein vielschichtiges Muster von Phosphor auf einer Oberfläche aufzubringen, die beispielsweise ausreichend transparent gemacht werdea kann, um von dem Phosphor infolge Erregung mittels eines Elektronenstrahls ausgehende bzw. erzeugte Strahlung zu übertragen, ein solches Element ist

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für Ahwendungsfälle bei Farbfernsehen und ähnlichem zu, verwenden.

Weiterhin ist es offensichtlich, daß die mittels der vorliegenden Erfindung erhaltenen lithographischen Platten und andere Artikel keine Veiterbehandlung bzw. keine weiteren Verfahrensschritte nach der Belichtung benötigen, und daß solche lithographischen Platten in Offsetdruckpressen lange Laufdauer aufweisen.

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Claims (18)

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   Patentansprüche

   (λ). Auf elektromagnetische Strahlung empfindliches Element, gekennzeichnet durch ein erstes anorganisches Material (H), das nach selektiver und diskreter Bestrahlung dish krete bestrahlte Flächenbereiche mit chemischen und physikalischen Eigenschaften aufweist, die sich von diskreten, nicht bestrahlten Flächenbereichen unterscheiden und dadurch, daß das Material vor der Belichtung mit einer modifizierten bzw. konvertierten Oberfläche (16) als Folge einer Reaktion dieses Materials mit einem zweiten modifizierte bzw. abgeänderte chemische und physikalische Eigenschaften der belichteten und der unbelichteten Flächenbereiche bewirkenden Material versehen ist.
2. 2. Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Hydrophilie der belichteten Flächen zu der Hydrophilie der unbelichteten Flächen unterschiedlich ist.
3. 3. Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Oleophilie der belichteten Flächen zu der Oleophilie der unbelichteten Flächen unterschiedlich ist.
4. 4. Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der

   elektrische Widerstand der belichteten Flächen zu dem elektrischen Widerstand der unbelichteten Fliiohen unterschiedlich ist.

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5. 5. Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die belichteten und die unbelichteten Flächen unterschiedliche Löslichkeit in einem bestimmten Lösungsmittel aufweisen.
6. 6. Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das erste Material aus der Gruppe der Metallsulfide, Halogenide, Selenide und Telluride ausgewählt ist.
7. 7. Element nach Anspruch■1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das erste Material aus der Gruppe der Arsensulfide, Antijnonsulfide, Silbersulfide, Wismutsulfide, Ghromsulfide, Bleijodid, Kupferchlorid, Stannochlorid, Quecksilberchlorid, Arsenselenid, Arsen-Schwefel, Selen-Schwefel, Arsen-Schwefel-Halogen und Arsen-Schwefel-Antimonoxydmischunge.n ausgewählt ist.
8. 8. Element nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das erste Material durch Kondensieren von Dämpfen dieses Materials auf der Unterlage bzw. dem Substrat aufgebracht ist*
9. 9. Element nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß das erste Material erhitzt und durch schnelle Abschreckung gekühlt ist. ' "-...
10. 10. Element nach Anspruch 1 bis 9* dadurch gekennzeichnet, daß das erste' Material auf das Substrat durch Überziehen mit einem flüssigen, das Material enthaltenen Trägerstoff aufgebracht ist.
11. 11. Element nach Anspruch 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das erste Material in Pulverform auf dem Substrat aufgebracht ist. . "

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12. 12. Element nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite zur Modifizierung der Oberfläche des ersten Materials verwendete Material aus der Gruppe einer oder mehrerer der Stoffe Brom, Jod, . Ammonium, Silber, Silbersalz, Kupfersalz, Bleisalz, Nickelsalz, Kobaltsalz, Chromsalz, Kadmiumsalz, Wismutsalz, Zinnsalz, Ammoniumsalz, Ferroammonsulfat, wasserlösliche Amine, Kupfernitrat, Kupfersulfat, Silbernitrat, Silbersulfat, Silberazetat, Ammoniumnitrat, Bleinitrat, Kobaltnitrat, Chromnitrat, Kadmiumnitrat, Wismutnitrat, W Stannochlorid und Nickelsulfat ausgewählt ist.
13. 13. Element nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das erste strahlenempfindliche Material als Schicht auf einer Unterlage bzw. Substrat aufgebracht ist, daß die unoelichtete Oberfläche des Materials relativ oleophil und die belichtete Oberfläche relativ hydrophil ist und daß nach Behandlung der Oberfläche mit dem zweiten, eine Konvertierung aufgrund einer Reaktion mit dem ersten Material bewirkenden zweiten Material die unbelichtete Oberfläche relativ hydrophil und die belichtete Oberfläche relativ oleophil ist.
14. H. Element nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß es eine negative lithographische Platte darstellt.
15. 15. Element nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis H, dadurch gekennzeichnet, daß eine nicht fotoempfindliche Uberschicht (18) auf der konvertierten Oberfläche (16) angebracht ist.

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16. 16. Element nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß die Überschicht (18) relativ olep-ph.il" ist.
17. 17. Element nach Anspruch 15 und/oder 16, dadurch gekennzeichnet, daß die Überschicht benetzbar ist und der darunterliegenden Schicht an den belichteten Stellen anhaftet und von den nicht belichteten Stellen lösbar ist.
18. 18. Element nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche der aus dem ersten Material bestehenden Schicht (14) bei Belichtung relativ oleophil und bei Nichtbelichtung relativ hydrophil ist, daß auf dieser Schicht durch Reaktion des ersten Materials mit einem zweiten Material eine konvertierte Oberfläche erzeugbar ist, was zu einer Verstärkung der relativen Hydrophilie bzw. Oleophilie des ersten Materials führt.

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