DE19904592C2 - Strahlteilervorrichtung - Google Patents
StrahlteilervorrichtungInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Strahlteilervorrichtung für ein Laserrastermikroskop
mit einem einen Laserstrahl erzeugenden Laser und einem den Laserstrahl in
Teilstrahlen aufteilenden, teilreflektierenden Spiegel, wobei die Teilstrahlen
die Strahlteilervorrichtung in einer Ebene liegend verlassen und auf die zu
untersuchende Probe geführt werden.
Aus der DE 196 53 413 A1 ist bekannt, mit einem aufgeweiteten Laser
strahl mehrere nebeneinander liegende Mikrolinsen (Mikrolinsenraster) zu
beleuchten, die aus dem einfallenden Strahl die Teilstrahlen ausbilden.
Das bedeutet insbesondere, dass jeder der Teilstrahlen aus einem anderen
Teil des Strahlprofils des einfallenden Strahls hervorgeht.
Die Teilstrahlen werden von den Mikrolinsen im Abstand ihrer Brennweite in
einer oder mehreren dicht hintereinander liegenden Ebenen hinter dem Mi
krolinsenraster fokussiert und breiten sich dann zum Objektiv hin aus, mit
dem sie in die Probe fokussiert werden. Dabei überstrahlen die Teilstrahlen
die Apertur des Objektivs. Anzahl und Abstand der Teilstrahlen ist bei dem
bekannten Mikroskop durch die Beschaffenheit des Mikrolinsenrasters fest
vorgegeben.
Typischerweise ist bei einer solchen optischen Vorrichtung zwischen der
Lichtquelle für den Laserstrahl und einer Probe eine Verzweigung des
Strahlengangs der Teilstrahlen vorgesehen, so dass das von der Probe
stammende Fluoreszenzlicht seitlich aus der Richtung der Teilstrahlen des
Laserstrahls zu einem Photosensor ausgelenkt wird. Zur Auslenkung des
Fluoreszenzlichts auf den Photosensor ist ein im Strahlengang angeordneter
teildurchlässiger Umlenkspiegel vorgesehen.
Ein Problem des bekannten Mikroskops ist es, dass die einzelnen Teil
strahlen erheblich unterschiedliche Intensitäten besitzen. Laserstrahlen
weisen eine Verteilung der Lichtintensität über den Strahlquerschnitt auf.
Die in der Rastermikroskopie eingesetzten Laser haben typischerweise ein
gaußförmiges Strahlprofil. Das heißt, dass die Teilstrahlen, die mit Hilfe
eines Mikrolinsenrasters aus dem Zentrum des Laserstrahls ausgebildet wer
den, intensiver sind, als die Teilstrahlen, die aus dem Rand des aufge
weiteten Strahls ausgebildet werden. Das beobachtete Signal ist die Fluo
reszenz, die durch die Teilstrahlen angeregt wird. Dieses Signal ist im Falle
von 1-Photonen-Anregung ebenso unterschiedlich wie die Intensität der an
regenden Teilstrahlen.
Bei nichtlinearen Mikroskopietechniken (2, 3 oder Mehr-Photonen-Anregung)
tritt dieser Effekt quadratisch bzw. zur dritten Potenz in Erscheinung. Haben
zum Beispiel zwei Teilstrahlen eine um einen Faktor 4 unterschiedliche In
tensität, sind die von diesen Strahlen erzeugten Signale, um einen Faktor 4
(1-Ph.-Anr.), 16 (2-Ph.-Anr.) oder 64 (3-Ph.-Anr.) unterschiedlich. Dies
stellt ein Problem der Erzeugung der Teilstrahlen durch Mikrolinsen, beson
ders in der nichtlinearen Rastermikroskopie, dar.
Ein weiteres Problem des bekannten Mikroskops ist es, dass die Auflösung,
die erreicht wird, schlechter ist, als es der Beugungsbegrenzung des ver
wendeten Objektivs entspräche.
Die laterale Auflösung bei der Rastermikroskopie ist durch die volle Halb
wertsbreite der in der Probe erzeugten Foki gegeben. Bei dem bekannten
Mikroskop wird die Größe der Foki nicht nur durch die Apertur des verwen
deten Objektivs sondern auch durch Form und Größe der Mikrolinsen fest
gelegt, da die Mikrolinsen die begrenzende beugende Öffnung für jeden
Teilstrahl darstellen. Dies bedeutet insbesondere, daß die Auflösung immer
schlechter wird, wenn die Anzahl der Teilstrahlen steigt, da sich dann die
Größe der Mikrolinsen verringert und damit der Durchmesser der Foki steigt.
Zudem werden die Mikrolinsen nicht symmetrisch beleuchtet, sondern mit
einem Teil des Strahlprofils des aufgeweiteten Laserstrahls, das im all
gemeinen zum Rand hin abfällt. Dies führt dazu, dass auch die Foki in der
Probe eine asymmetrische Intensitätsverteilung bekommen.
Da die Auflösung einen der wichtigsten Parameter bei der Mikroskopie dar
stellt, ist dies ein nicht unerhebliches Problem.
Ein weiteres Problem des bekannten Mikroskops ist es, dass die Energie des
einfallenden Laserstrahls nicht vollständig genutzt wird.
Ein Teil des aufgeweiteten Laserstrahls wird vom Rand des Mikrolinsen
rasters und vom Rand der einzelnen Mikrolinsen abgeschnitten. Diese Ver
luste summieren sich auf, so dass z. B. von 1,4 W Ausgangsleistung des La
sers nur etwa 125 mW (9%) die Probe erreichen (Jörg Bewersdorf, Rainer
Pick, Stefan W. Hell, "Multifocal multiphoton microscopy", Optics Letters,
Vol. 23, No. 9 (1998)).
Der Verlust der Laserenergie reduziert die Effizienz des Mikroskops erheb
lich, da die benötigte Meßzeit vom Ausnutzungsgrad der Laserenergie ab
hängt.
Für biologische Anwendungen der Laserrastermikroskopie, bei denen Vor
gänge in lebenden Zellen untersucht werden, ist auch die Meßzeit, die für
ein Bild benötigt wird, ein wichtiges Kriterium, weil sie die maximale Ge
schwindigkeit der Vorgänge, die noch beobachtbar sind, vorgibt. Die Unter
suchung von Reizleitung in Nervenzellen (R. Yuste, W. Denk, "Dentritic
spines as basic functional units of neuronal integration", Nature Vol. 375,
pp. 682-684 (1995) ist ein Beispiel. Hier wird die Laserrastermikroskopie
benötigt, um hochauflösende Bilder aus tief liegenden Schichten intakten
Nervengewebes zu liefern. Diesem vorteilhaften Einsatz der Laserraster
mikroskopie steht aber gegenüber, dass es die langsame Bildaufnahme ver
hindert, die Reizleitung in den Nervenzellen bildgebend zu verfolgen. Gelingt
es daher die Geschwindigkeit der Bildaufnahme zu steigern, stellt dies eine
Erweiterung des Einsatzbereichs der Laserrastermikroskopie dar.
Entscheidend für die Geschwindigkeit der Bildaufnahme ist die Laserleistung
in der Probe. Da sich die Leistung in einem Strahl, mit dem die Probe be
leuchtet wird, nicht beliebig steigern läßt, ohne die Probe zu zerstören,
kann die Leistung in der Probe nur dadurch wesentlich erhöht werden, dass
man mehrere Strahlen zur simultanen Beleuchtung mehrerer Punkte verwen
det.
Die Effizienz bei der Strahlaufteilung bestimmt (bei gegebener Ausgangs
leistung des Lasers) die maximale Anzahl der Teilstrahlen.
Ein weiteres Problem des bekannten Mikroskops ist es, dass Abstand und
s Anzahl der Teilstrahlen durch die Beschaffenheit des Mikrolinsenrasters fest
vorgegeben sind. Je nach Anwendungsfall kann jedoch ein kleiner oder ein
größerer Strahlabstand sinnvoll sein.
Einzelne Zellen können mit maximaler Geschwindigkeit untersucht werden,
indem alle Strahlen auf die eine Zelle, die untersucht werden soll, gelenkt
werden. In diesem Fall ist ein Abstand von etwa 2 µm sinnvoll.
Sollen mikrostrukturierte Substrate zur Analyse biochemischer Reaktionen
(Biochips) ausgelesen werden, ist ein Strahlabstand von der Strukturgröße
des Substrats sinnvoll (ca. 20 µm). Die Strahlvervielfachung auf die bekan
nte Art bietet nicht die Möglichkeit, Anzahl und Abstand der Strahlen leicht
zu variieren.
Aus dem Stand der Technik ist weiterhin die DE 39 18 412 A1 bekannt,
die eine Strahlteilervorrichtung für ein Laserrastermikroskop zeigt, mit ei
nem einen Laserstrahl erzeugenden Laser und einem den Laserstrahl in Teil
strahlen aufteilenden, teilreflektierenden Spiegel, wobei die Teilstrahlen die
Strahlteilervorrichtung in einer Ebene liegend verlassen und über die zu un
tersuchende Probe geführt werden.
Die DE 195 35 525 A1 zeigt einen Strahlvervielfacher mit einer teildurch
lässigen und einer vollreflektierenden Reflektorschicht, wobei die teildurch
lässige Schicht der vollreflektierenden Schicht im Strahlengang vorgeschal
tet ist und auf diese zurück reflektiert und einen mit zunehmender Re
flexionsnummer ansteigendem Transmissionsgrad aufweist, um den ent
stehenden Teilstrahlen gleiche Intensität zu verleihen.
Die EP 03 86 643 A2 zeigt einen Strahlvervielfacher mit einer teildurch
lässigen und einer vollreflektierenden Reflektorschicht, wobei die teildurch
lässige Schicht der vollreflektierenden Schicht im Strahlengang vorge
schaltet ist und in Ausgestaltungen gegenüber der teildurchlässigen Schicht
gekippt oder stufig ausgebildet ist, und wobei in einer weiteren Ausge
staltung zwei um 90 Grad zueinander verdrehte Strahlvervielfacher vorge
sehen sind, um eine zweidimensionale Beleuchtungsmatrix zu erzeugen.
In der DE 38 76 344 T2 ist ein Optoverteiler mit einer teildurchlässigen
Schicht konstanter Transmissionen zwischen zwei vollreflektierenden
Schichten beschrieben, wobei die Schichten parallel zueinander angeordnet
sind und die teildurchlässige Schicht das anfallende Licht unter jeweils glei
cher Abschwächung zu dem einen hochreflektierenden Spiegel transmittiert
und zum anderen hochreflektierenden Spiegel reflektiert und erneut und
wiederholt unter jeweils gleicher Abschwächung zu dem einen hochreflek
tierenden Spiegel transmittiert und zum anderen hochreflektierenden Spie
gel reflektiert.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Strahlteilervorrichtung für
ein Laserrastermikroskop anzugeben, mit dem Anzahl und Abstand der Teil
strahlen voneinander auf einfache Weise zu variieren sind.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass der teildurch
lässige Spiegel eine konstante Transmission aufweist und zwischen zwei
hochreflektierenden Spiegeln angeordnet ist und den Laserstrahl unter je
weils gleicher Abschwächung zu dem einen hochreflektierenden Spiegel re
flektiert und zum anderen hochreflektierenden Spiegel transmittiert und er
neut und wiederholt unter jeweils im Wesentlichen gleicher Abschwächung
zu dem einen hochreflektierenden Spiegel reflektiert und zum anderen hoch
reflektierenden Spiegel transmittiert, dass der teilreflektierende Spiegel von
den beiden hochreflektierenden Spiegeln unterschiedlich beabstandet ist
und/oder die beiden hochreflektierenden Spiegel gegenüber dem teilreflek
tierenden Spiegel unterschiedlich stark gekippt sind und somit Teilstrahlen,
die von dem teilreflektierenden Spiegel reflektiert wurden nicht mit Teil
strahlen zusammenfallen, die von den hochreflektierenden Spiegeln reflek
tiert wurden, und dass am Austrittsbereich der Teilstrahlen aus der Strahl
teilervorrichtung die Endkante des teilreflektierenden Spiegels gegenüber
der Endkante des einen hochreflektierenden Spiegels in Austrittsrichtung
zurückversetzen und gegenüber der Endkante des anderen hochreflek
tierenden Spiegels vorversetzt ist.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus den
Unteransprüchen.
Diese Art, den Strahl in Teilstrahlen aufzuspalten, besitzt folgende Vorteile:
- 1. Die Energie des einfallenden Lasers wird vollständig genutzt und auf die einzelnen Teilstrahlen aufgeteilt;
- 2. jeder Teilstrahl besitzt das gleiche Strahlprofil, wie der einfallende Strahl;
- 3. teilt der teildurchlässige Spiegel die Intensität der Strahlen im Verhältnis 1 : 1, so sind auch die Teilstrahlen gleich intensiv;
- 4. befinden sich die Spiegel zueinander parallel, so sind auch die erzeugten Teilstrahlen parallel. Werden einer oder beide hochreflektierende Spiegel gegenüber dem teildurchlässigen Spiegel verkippt, weisen die erzeugten Teilstrahlen einen Winkel relativ zueinander auf. Der Winkel der Teilstrahlen legt die Abstände der vom Objektiv in der Probe erzeugten Foki fest, d. h. durch Verkippen der hochreflektierenden Spiegel, können die Abstände der Foki verändert werden;
- 5. der Abstand der Teilstrahlen beim Austritt aus der optischen Anordnung zur Teilung des Laserstrahls in Teilstrahlen ist durch die Differenz der Abstände der hochreflektierenden Spiegel zum halbdurchlässigen Umlenkspiegel gegeben.
Allgemein gilt, daß eine besonders hohe Effizienz der Strahlaufspaltung und
eine gleichmäßige Intensität der Teilstrahlen beim Einsatz in der Laserraster
mikroskopie sehr vorteilhaft ist und zu einer Beschleunigung der Bildauf
nahme führt. Die Möglichkeit, die Abstände der Foki zu verändern, bildet
die nötige Flexibilität, um den Erfordernissen der jeweiligen Anwendung ge
recht zu werden.
Fig. 1 zeigt eine optische Anordnung aus zwei hochreflektierenden Spie
geln und einem dazwischen angeordneten teildurchlässigen Spie
gel;
Fig. 2 zeigt eine Reihenanordnung von zwei optischen Anordnungen zur
Teilung des Laserstrahles, wobei zwischen den beiden optischen
Anordnungen ein Periskop im Strahlengang vorgesehen ist;
Fig. 3 zeigt die Strahlaufteilung mit einem Laserrastermikroskop;
Fig. 4 zeigt eine Anordnung von mehreren in Reihe geschalteten hoch
reflektierenden Spiegeln mit dazwischen angeordneten mehreren
teildurchlässigen Spiegeln.
Gemäß der Fig. 1 ist eine Ausführungsform erkennbar, bei der der ein
fallende Strahl 1 in acht Teilstrahlen 5 aufgespalten wird. Die Strahlen 5
liegen auf einer Linie nebeneinander. Hierbei ist der mit 3 bezeichnete hoch
reflektierende Spiegel mit einer Stufe versehen, d. h. der Abstand dieses
Spiegels ist hierbei gegenüber dem hochreflektierenden Spiegel 4 bzw. dem
dazwischenliegenden teildurchlässigen Spiegel 2 durch diese Stufe 3 vari
abel.
Bei der Ausführungsform gemäß Fig. 2 ist zwischen zwei optischen An
ordnungen zur Teilung des Laserstrahles ein Periskop 6 vorgesehen. Auf
dieses Periskop 6 treffen die Teilstrahlen 5, wobei ein Teilstrahl durch das
Periskop zu der zweiten optischen Anordnung zur Teilung dieses Strahles
geführt wird. Durch diese zweite optische Anordnung wird jeder Laserstrahl
wieder in mehrere Teilstrahlen 5 unterteilt, so dass sich ein im Prinzip zwei
dimensionales Raster von Teilstrahlen ergibt. Das gleiche Ergebnis wird im
Übrigen erzielt, wenn die beiden optischen Anordnungen zur Teilung des
Laserstrahles jeweils um einen Winkel, insbesondere um einen Winkel von
90 Grad zueinander versetzt sind.
Bei der Darstellung gemäß Fig. 3 sind die Strahlen bei einem Laserraster
mikroskop dargestellt. Hierbei ist zwischen der Probe 9 und dem Photo
sensor 12 ein Umlenkspiegel 10 vorgesehen, der teildurchlässig ausgebildet
ist. Das heißt, dass dieser Spiegel derart teildurchlässig ausgebildet ist,
dass er die von der optischen Anordnung zur Teilung des Laserstrahles in
Teilstrahlen 5 auftreffenden Strahlen unmittelbar auf die Probe reflektiert,
die von der Probe ausgesendeten Strahlen durch den Umlenkspiegel 10 auf
grund ihrer unterschiedlichen Wellenlänge zu dem Photosensor 12 durchge
lassen werden. Vor dem Photosensor 12 befindet sich - wie aus Fig. 3 er
kennbar - eine Tubuslinse 11.
Die Darstellung gemäß Fig. 4 unterscheidet sich nur unwesentlich gegen
über der gemäß Fig. 1; hier ist lediglich eine Aufteilung der hochreflek
tierenden und teildurchlässigen Spiegel in mehrere einzelne hintereinander
angeordnete Spiegel vorgenommen worden. Das Ergebnis in Bezug auf die
Strahlaufteilung eines Laserstrahles ist das Gleiche, wie gemäß Fig. 1.
1
Laserstrahl
2
teildurchlässiger Spiegel
3
hochreflektierender Spiegel
4
hochreflektierender Spiegel
5
Teilstrahl
6
Periskop
7
Objektiv
8
Fokuspunkt
9
Probe
10
Umlenkspiegel
11
Tubuslinse
12
Photosensor
Claims (5)
1. Strahlteilervorrichtung für ein Laserrastermikroskop, mit einem einen
Laserstrahl (1) erzeugenden Laser und einem den Laserstrahl (1) in
Teilstrahlen (5) aufteilenden, teilreflektierenden Spiegel (2), wobei die
Teilstrahlen (5) die Strahlteilervorrichtung in einer Ebene liegend ver
lassen und auf die zu untersuchende Probe geführt werden,
dadurch gekennzeichnet,
dass der teildurchlässige Spiegel (2) eine konstante Transmission auf
weist und zwischen zwei hochreflektierenden Spiegeln (3, 4) angeord
net ist und den Laserstrahl (1) unter jeweils gleicher Abschwächung zu
dem einen hochreflektierenden Spiegel (3) reflektiert und zum anderen
hochreflektierenden Spiegel (4) transmittiert und erneut und wiederholt
unter jeweils im Wesentlichen gleicher Abschwächung zu dem einen
hochreflektierenden Spiegel (3) reflektiert und zum anderen hochreflek
tierenden Spiegel (4) transmittiert, dass der teilreflektierende Spiegel
(2) von den beiden hochreflektierenden Spiegeln (3, 4) unterschiedlich
beabstandet ist und/oder die beiden hochreflektierenden Spiegel (3, 4)
gegenüber dem teilreflektierenden Spiegel (2) unterschiedlich stark ge
kippt sind und somit Teilstrahlen (5), die von dem teilreflektierenden
Spiegel (2) reflektiert wurden nicht mit Teilstrahlen (5) zusammen
fallen, die von den hochreflektierenden Spiegeln (3, 4) reflektiert wur
den, und dass am Austrittsbereich der Teilstrahlen (5) aus der Strahl
teilervorrichtung die Endkante des teilreflektierenden Spiegels (2)
gegenüber der Endkante des einen hochreflektiereden Spiegels (3) in
Austrittsrichtung zurückversetzt und gegenüber der Endkante des an
deren hochreflektierenden Spiegels (4) vorversetzt ist.
2. Strahlteilervorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
dass mehrere Strahlteilervorrichtungen hintereinander geschaltet sind
und alle Teilstrahlen (5) die Strahlteilervorrichtung in einer Ebene lie
gend verlassen.
3. Strahlteilervorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
dass zwei, vorzugsweise um einen Winkel von 90 Grad gegen
einander verkippte Strahlteilervorrichtungen hintereinander geschaltet
sind, wobei alle Teilstrahlen (5) einer jeden Strahlteilervorrichtung die
se in einer Ebene liegend verlassen und wobei die Teilstrahlen (5) bei
der Strahlteilervorrichtungen insgesamt eine zweidimensionale
Beleuchtungsmatrix erzeugen.
4. Strahlteilervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
dass das Objektiv des Laserrastermikroskops die Teilstrahlen in unter
schiedlichen Brennpunkten fokussiert.
5. Strahlteilervorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Teilstrahlen vor Eintritt in das Objektiv des
Laserrastermikroskops in ihren Durchmessern verändert sind.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19904592A DE19904592C2 (de) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | Strahlteilervorrichtung |
US09/492,641 US6219179B1 (en) | 1999-02-05 | 2000-01-27 | Beam splitter device |
JP2000061147A JP4117594B2 (ja) | 1999-02-05 | 2000-02-01 | ビームスプリッタ装置 |
GB0002685A GB2346453B (en) | 1999-02-05 | 2000-02-04 | Beam splitting device |
FR0001405A FR2789498B1 (fr) | 1999-02-05 | 2000-02-04 | Systeme diviseur de faisceau |
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DE19904592A DE19904592C2 (de) | 1999-02-05 | 1999-02-05 | Strahlteilervorrichtung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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DE19904592A1 DE19904592A1 (de) | 2000-09-28 |
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FR (1) | FR2789498B1 (de) |
GB (1) | GB2346453B (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10223911B4 (de) * | 2002-05-29 | 2007-05-10 | Lavision Biotec Gmbh | Verfahren zur Teilung eines Laserstrahles |
WO2011116901A2 (de) | 2010-03-26 | 2011-09-29 | Carl Zeiss Microimaging Gmbh | Mikroskop und verfahren zur erfassung von probenlicht |
DE102014003773A1 (de) | 2014-03-15 | 2015-09-17 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Mikroskop und Bauelement zur Mehrstrahlabtastung |
Families Citing this family (33)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10050540A1 (de) * | 2000-10-11 | 2002-05-02 | Lavision Biotec Gmbh | Verfahren zur flächigen Anregung von Strahlungsemission in einer Ebene |
FR2821678B1 (fr) * | 2001-03-02 | 2004-06-18 | Teem Photonics | Module de deflexion optique |
US6888148B2 (en) * | 2001-12-10 | 2005-05-03 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Arrangement for the optical capture of excited and /or back scattered light beam in a sample |
US6947127B2 (en) | 2001-12-10 | 2005-09-20 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Arrangement for the optical capture of excited and/or back scattered light beam in a sample |
DE10215162B4 (de) * | 2002-04-05 | 2006-01-05 | Lavision Biotec Gmbh | Strahlteilervorrichtung und Laserrastermikroskop |
US6801299B2 (en) * | 2002-07-31 | 2004-10-05 | Asml Holding N.V. | System for laser beam expansion without expanding spatial coherence |
US7116400B2 (en) * | 2004-06-02 | 2006-10-03 | Asml Netherlands B.V. | Illumination assembly, method for providing a radiation beam, lithographic projection apparatus and device manufacturing method |
DE102004034959A1 (de) * | 2004-07-16 | 2006-02-16 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Lichtrastermikroskop mit punktförmiger Lichtquellenverteilung und Verwendung |
DE102004034961A1 (de) * | 2004-07-16 | 2006-02-02 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Lichtrastermikroskop mit linienförmiger Abtastung und Verwendung |
DE102004034987A1 (de) * | 2004-07-16 | 2006-02-02 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Lichtrastermikroskop und Verwendung |
DE102004039564B4 (de) * | 2004-08-13 | 2006-06-29 | Institut für Lasertechnologien in der Medizin und Meßtechnik an der Universität Ulm | Vorrichtung zum optischen Screening von Oberflächen biologischer Proben in zweidimensionaler Anordnung |
GB0428185D0 (en) * | 2004-12-23 | 2005-01-26 | Micromass Ltd | Mass spectrometer |
DE102005000840B4 (de) * | 2005-01-05 | 2007-12-27 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren und Vorrichtung zur Elementanalyse mittels Laser-Emissionsspektrometrie |
JP5060733B2 (ja) * | 2005-03-28 | 2012-10-31 | オリンパス株式会社 | 光パルス多重化ユニット、それを用いた光パルス発生器、及び光パルス多重化方法 |
JP2006275908A (ja) * | 2005-03-30 | 2006-10-12 | Olympus Corp | 信号光パルス多重化ユニット及びそれを用いた時間分解計測装置 |
EP1710609A1 (de) * | 2005-04-08 | 2006-10-11 | Deutsches Krebsforschungszentrum Stiftung des öffentlichen Rechts | Optische Scanvorrichtung und zugehöriges Entwicklungsverfahren |
US20070057211A1 (en) | 2005-05-25 | 2007-03-15 | Karsten Bahlman | Multifocal imaging systems and method |
JP4889417B2 (ja) * | 2006-09-13 | 2012-03-07 | オリンパス株式会社 | 光パルス多重化ユニット |
JP5004545B2 (ja) * | 2006-10-11 | 2012-08-22 | オリンパス株式会社 | 光パルス多重化ユニット |
KR100862448B1 (ko) * | 2007-04-11 | 2008-10-08 | 삼성전기주식회사 | 다중 빔 레이저 장치 |
KR100862449B1 (ko) | 2007-04-16 | 2008-10-08 | 삼성전기주식회사 | 다중 빔 레이저 장치 |
KR100862522B1 (ko) | 2007-04-16 | 2008-10-08 | 삼성전기주식회사 | 레이저가공 장치 및 기판 절단 방법 |
KR100900684B1 (ko) | 2007-07-19 | 2009-06-01 | 삼성전기주식회사 | 라인 빔 레이저 장치 및 이를 이용한 표면 측정 장치 |
US8941048B2 (en) | 2009-09-24 | 2015-01-27 | Koninklijke Philips N.V. | Pulse splitter with dispersion compensation |
DE102010047353A1 (de) | 2010-10-01 | 2012-04-05 | Carl Zeiss Microimaging Gmbh | Laser-Scanning-Mikroskop mit umschaltbarer Betriebsweise |
DE102011013613A1 (de) | 2010-10-01 | 2012-04-05 | Carl Zeiss Microimaging Gmbh | Mikroskop und Mikroskopierverfahren |
DE102011109653B4 (de) | 2011-08-06 | 2021-11-25 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Laser-Scanning-Mikroskop mit einem Beleuchtungsarray |
DE102011109999A1 (de) | 2011-08-11 | 2013-02-14 | Lavision Biotec Gmbh | Laseranordnung |
DE102011114754A1 (de) | 2011-09-29 | 2013-04-04 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | "Laser-Scanning-Mikroskop" |
DE102012019464A1 (de) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Konfokales Auflicht-Rastermikroskop zur Multifleck-Abtastung |
EP3049859B1 (de) * | 2013-09-26 | 2020-04-22 | Ecole Polytechnique Federale de Lausanne (EPFL) | Optisches prisma zur erzeugung mehrerer ansichten eines bildes |
EP3268715A1 (de) | 2015-03-11 | 2018-01-17 | Timothy Ragan | System und verfahren zur seriellen färbung und bildgebung |
GB2616306A (en) * | 2022-03-04 | 2023-09-06 | Envisics Ltd | System and device |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3918412A1 (de) * | 1988-08-03 | 1990-02-08 | Jenoptik Jena Gmbh | Rastermikroskop fuer durch- und auflicht |
EP0386643A2 (de) * | 1989-03-06 | 1990-09-12 | Toshihiro Kubota | Strahlenteiler |
DE19535525A1 (de) * | 1995-09-25 | 1997-03-27 | Lo Laseroptik Gmbh | Strahlvervielfacher |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2267948A (en) * | 1936-02-24 | 1941-12-30 | Kislyn Corp | Optical system |
US2359694A (en) * | 1943-02-22 | 1944-10-03 | Bausch & Lomb | Optical instrument |
US3449039A (en) * | 1965-07-02 | 1969-06-10 | Ibm | Non-parallel surfaced light-deflector selector |
FR2585480B1 (fr) * | 1985-07-24 | 1994-01-07 | Ateq Corp | Generateur de modeles a laser |
US4745591A (en) * | 1987-02-24 | 1988-05-17 | Gte Laboratories Incorporated | Multiple channel wavelength division multiplexer/demultiplexer |
US5165080A (en) * | 1987-09-11 | 1992-11-17 | British Telecommunications Public Limited Company | Optical distributor |
GB8721472D0 (en) * | 1987-09-11 | 1987-10-21 | British Telecomm | Optical distributor |
JPH0218518A (ja) * | 1988-07-07 | 1990-01-22 | Think Lab Kk | 光ビーム分割器 |
US5214536A (en) * | 1991-03-11 | 1993-05-25 | International Business Machines Corporation | Illumination device for a document line scanner |
US5671047A (en) * | 1995-05-15 | 1997-09-23 | Bio-Rad Laboratories | Laser beamsplitter for generating a plurality of parallel beams |
DE19653413C2 (de) | 1996-12-22 | 2002-02-07 | Stefan Hell | Rastermikroskop, bei dem eine Probe in mehreren Probenpunkten gleichzeitig optisch angeregt wird |
JP3816632B2 (ja) * | 1997-05-14 | 2006-08-30 | オリンパス株式会社 | 走査型顕微鏡 |
-
1999
- 1999-02-05 DE DE19904592A patent/DE19904592C2/de not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-01-27 US US09/492,641 patent/US6219179B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-01 JP JP2000061147A patent/JP4117594B2/ja not_active Expired - Fee Related
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- 2000-02-04 GB GB0002685A patent/GB2346453B/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3918412A1 (de) * | 1988-08-03 | 1990-02-08 | Jenoptik Jena Gmbh | Rastermikroskop fuer durch- und auflicht |
EP0386643A2 (de) * | 1989-03-06 | 1990-09-12 | Toshihiro Kubota | Strahlenteiler |
DE19535525A1 (de) * | 1995-09-25 | 1997-03-27 | Lo Laseroptik Gmbh | Strahlvervielfacher |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10223911B4 (de) * | 2002-05-29 | 2007-05-10 | Lavision Biotec Gmbh | Verfahren zur Teilung eines Laserstrahles |
WO2011116901A2 (de) | 2010-03-26 | 2011-09-29 | Carl Zeiss Microimaging Gmbh | Mikroskop und verfahren zur erfassung von probenlicht |
DE102010013829A1 (de) | 2010-03-26 | 2011-09-29 | Carl Zeiss Microlmaging Gmbh | Mikroskop und Verfahren zur Erfassung von Probenlicht |
US9097889B2 (en) | 2010-03-26 | 2015-08-04 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Microscope and method for detecting sample light |
DE102014003773A1 (de) | 2014-03-15 | 2015-09-17 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Mikroskop und Bauelement zur Mehrstrahlabtastung |
DE102014003773B4 (de) | 2014-03-15 | 2024-05-08 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Mikroskop und Baugruppe zur Mehrstrahlabtastung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2789498A1 (fr) | 2000-08-11 |
GB2346453A (en) | 2000-08-09 |
GB2346453B (en) | 2001-04-11 |
JP4117594B2 (ja) | 2008-07-16 |
DE19904592A1 (de) | 2000-09-28 |
JP2000275531A (ja) | 2000-10-06 |
US6219179B1 (en) | 2001-04-17 |
GB0002685D0 (en) | 2000-03-29 |
FR2789498B1 (fr) | 2001-05-11 |
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