DE19810076C2 - Extrusionsdüse zum Extrudieren eines keramischen Körpers und Verfahren zur Herstellung der Extrusionsdüse - Google Patents
Extrusionsdüse zum Extrudieren eines keramischen Körpers und Verfahren zur Herstellung der ExtrusionsdüseInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Extrusionsdüse
zum Extrudieren eines keramischen Körpers mit bienenwabenartiger
Struktur und auf ein Verfahren zur Herstellung der
Extrusionsdüse. Insbesondere bezieht sich die vorliegende
Erfindung auf eine Extrusionsdüse und ein Verfahren zu ihrer
Herstellung, mit welcher Extrusionsdüse mit einem geringen
Druckverlust ein Körper mit bienenwabenartiger Struktur einer
vorbestimmten Festigkeit in einer genauen Gestalt extrudiert
werden kann, ohne diese während des Extrudierens zu verformen.
Generell ist als eine Extrusionsdüse zum Extrudieren eines
keramischen Körpers mit bienenwabenartiger Struktur bekannt, bei
der eine Vielzahl von sich überschneidenden mit Hilfe von
Zellblöcken an ihrer Vorderoberfläche ausgebildeten Schlitzen
vorgesehen ist und eine Vielzahl von mit den Schlitzen
verbundenen Rohmateriallöchern in ihrer Rückoberfläche
eingerichtet ist. Bei der durch die japanische Patentver
öffentlichung Nr. 61-39167 (JP 61-39167 B2) oder die US-PS 4 861 626
bekannten Extrusionsdüse hat jeder der Zellblöcke einen an
seinen Ecken gebildeten abgerundeten Abschnitt, um die
Festigkeit eines keramischen Körpers mit bienenwabenartiger
Struktur nach der Extrusion zu steigern und um dessen
Formbarkeit zu verbessern. Überdies gibt es eine Technik gemäß
der japanischen Offenlegungsschrift Nr. 60-145804 (JP 60-145804 A)
oder der EP 0 149 318 A1, bei der jeder der Zellblöcke durch
Beschichten eines Zellblockgrundkörpers mit Eisenborid,
Chromkarbid, Aluminiumoxid, Titankarbid, Titannitrid oder
Titannitridkarbid mittels chemischer Abscheidung aus der
Gasphase (CVD-Beschichtungstechnik) gebildet wird.
Um bisher eine strenge Abgasregulierung zu erfüllen oder um
Abgasreinigungseigenschaften zu verbessern, gibt es einen
Bedarf, daß ein keramischer Bienenwabenstrukturkörper nach der
Extrusion eine Zellwand hat, die möglichst dünn ist, also dünner
ist als die bekannte Zellwanddicke. Ebenso gibt es einen Bedarf,
daß eine Extrusionsdüse zum Extrudieren eines keramischen
Bienenwabenstrukturkörpers mit solch einer dünnen Zellwand und
ein Verfahren zur Herstellung der Extrusionsdüse entwickelt
werden.
Jedoch ist es in der Technik nach JP 61-39167 B2, in der eine
Schlitzbreite durch eine mittels chemischer Metallabscheidung
erzeugten Schicht vorgegeben bzw. gesteuert wird, ein Nachteil,
daß eine Extrusionsdüse, die einen keramischen Bienenwaben
strukturkörper mit einer dem Bedarf entsprechenden dünnen
Zellwand extrudieren kann, nicht erhalten wird, sofern dieses
Verfahren so wie es ist angewendet wird.
Überdies gibt es in der in der JP 60-145804 A gezeigten Technik,
in der eine die Dicke einer Zellwand bestimmende Schlitzbreite
durch eine mittels chemischer Abscheidung aus der Gasphase
(chemical vapor deposition; nachstehend auch als CVD-
Beschichtung bezeichnet) erzeugten Schicht vorgegeben bzw.
gesteuert wird, die folgenden Nachteile. So wird eine dicke
Beschichtungsschicht nicht nur durch CVD-Beschichtung gebildet
und ist diese größtenfalls 30 µm, wie in der JP 60-145804 A
gezeigt. Daher ist es notwendig, einen Metallblock, beispiels
weise mit Hilfe einer elektrischen Entladebearbeitung oder einem
Schleifen, vorbereitend zu bearbeiten, um einen Schlitz mit
einer relativ kleinen Breite zu bilden. Selbst wenn jedoch eine
Dicke einer CVD-Beschichtungsschicht zur letztendlichen Vorgabe
bzw. Steuerung einer Schlitzbreite berücksichtigt wird, ist es
nicht möglich, eine solche vorbereitende Schlitzbearbeitung
lediglich durch das bekannte elektrische Entladebearbeiten oder
Schleifen durchzuführen. Überdies ist es nicht möglich, einen
abgerundeten Abschnitt an Ecken von jedem der Zellblöcke zu
bilden, die die Schlitze lediglich durch eine CVD-Beschichtung
bestimmen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, die oben erwähnten
Nachteile zu beseitigen und eine Extrusionsdüse für Körper mit
bienenwabenartiger Struktur und ein Verfahren zur Herstellung
der Extrusionsdüse zu schaffen, mit welcher Extrusionsdüse ein
keramischer Körper mit bienenwabenartiger Struktur mit besonders
dünnen Zellwänden gebildet werden kann.
Gemäß der Erfindung hat eine Extrusionsdüse zum Extrudieren
eines Körpers mit bienenwabenartiger Struktur eine Vielzahl von
an ihrer Vorderoberfläche vorgesehenen, sich überschneidenden
Schlitzen, wobei jeder der Schlitze mit Hilfe von Zellblöcken
ausgebildet ist; eine Vielzahl von in ihrer Rückoberfläche
vorgesehenen Rohmaterialzufuhrlöchern, wobei jedes der
Rohmaterialzufuhrlöcher mit den Schlitzen verbunden ist; und
einen an den Ecken von jedem der Zellblöcke gebildeten
abgerundeten Abschnitt; wobei jeder der Zellblöcke einen
Zellblockgrundkörper, eine durch chemische Metallabscheidung an
dem Zellblockgrundkörper gebildete erste Beschichtungsschicht
und eine durch chemische Abscheidung aus der Gasphase (chemical
vapor deposition; nachstehend auch als CVD-Beschichtung
bezeichnet) an der ersten Beschichtungsschicht gebildete zweite
Beschichtungsschicht hat und die Breite von jedem der Schlitze
45 bis 120 µm beträgt.
Gemäß der Erfindung hat ein Verfahren zur Herstellung einer
Extrusionsdüse zum Extrudieren eines Körpers mit
bienenwabenartiger Struktur die folgenden Schritte: Formung
einer Vielzahl von sich überschneidenden Schlitzen in der
Vorderoberfläche der Extrusionsdüse, wobei jeder der Schlitze
mit Hilfe von Zellblockgrundkörpern bestimmt wird Formung einer
Vielzahl von Rohmaterialzufuhrlöchern in der Rückoberfläche der
Extrusionsdüse, wobei jedes der Rohmaterialzufuhrlöcher mit den
Schlitzen verbunden ist; Formung einer ersten Beschich
tungsschicht an jedem der Zellblockgrundkörper durch chemische
Metallabscheidung; und Formung einer zweiten Beschichtungs
schicht an der ersten Beschichtungsschicht durch chemische
Abscheidung aus der Gasphase, um eine Breite von jedem der
Schlitze von 45 bis 120 µm zu erzielen.
In der vorliegenden Erfindung wird eine Schlitzbreite vorgegeben
bzw. gesteuert durch Anordnen der ersten Beschichtungsschicht,
die vorzugsweise aus einer Nickel-Beschichtungsschicht besteht,
die durch chemische Metallabscheidung gebildet wird, und einer
zweiten Beschichtungsschicht, die vorzugsweise aus einer TiCN-
oder W2C-Beschichtungsschicht besteht, die durch Abscheidung aus
der Gasphase (CVD-Beschichtung) an jedem der Zellblockgrund
körper gebildet ist, die mittels der bekannten elektrischen
Entladebearbeitung oder einem Schleifen vorbereitet bearbeitet
worden sind. Daher kann ein Schlitz mit einer vorbestimmten
Schlitzbreite erhalten werden, und zwar durch ein relativ
engeres Gestalten einer Schlitzbreite durch die durch chemische
Metallabscheidung gebildete erste Beschichtungsschicht, welche
eine relativ dicke Schicht bilden kann, und anschließend durch
Anordnen der durch Abscheidung einer aus der Gasphase (CVD-
Beschichtung) gebildeten zweiten Beschichtungsschicht, die
lediglich eine relativ dünne Schicht bilden kann, auf der ersten
Beschichtungsschicht. In dieser Weise ist es möglich, eine
Extrusionsdüse mit einer Schlitzbreite von 45 bis 120 µm zu
erhalten, die einen keramischen Bienenwabenstrukturkörper mit
einer dünnen Zellwand von etwa 45 bis 120 µm bilden kann. Da
überdies in der vorliegenden Erfindung die erste Beschich
tungsschicht durch chemische Metallabscheidung gebildet wird,
sind Ecken der an dem Zellblockgrundkörper gebildeten ersten
Beschichtungsschicht natürlicherweise abgerundet. Da an
schließend die dünne zweite Beschichtungsschicht mit einer
gleichbleibenden Dicke auf der ersten Beschichtungsschicht
erzeugt wird, ist es möglich, eine Extrusionsdüse mit einem
abgerundeten Abschnitt an den Ecken jedes der Zellblöcke zu
erhalten, wobei zudem eine Schlitzbreite von 45 bis 120 µm in
problemloser Weise erreichbar ist.
Es zeigen:
Fig. 1a und 1b jeweils eine Draufsicht und eine Quer
schnittsansicht entlang der Linie A-A eines Ausführungsbeispiels
einer Extrusionsdüse gemäß der Erfindung;
Fig. 2 eine teilweise vergrößerte schematische Ansicht eines
Ausführungsbeispiels der erfindungsgemäßen Extrusionsdüse; und
Fig. 3 einen Graphen, der Meßergebnisse des erfindungsgemäßen
Beispiels abbildet.
In dem Ausführungsbeispiel gemäß den Fig. 1a und 1b hat eine
Extrusionsdüse 1 eine Vielzahl von in der Vorderoberfläche der
Extrusionsdüse 1 vorgesehenen, sich überschneidenden Schlitzen
2, die durch Zellblöcke 3 gebildet sind, und eine Vielzahl von
in der Rückoberfläche der Extrusionsdüse 1 vorgesehenen
Rohmaterialzufuhrlöcher 4, die mit den Schlitzen an sich
überschneidenden Stellen der Schlitze 2 verbunden sind. Zu
extrudierende Rohmaterialien werden durch die in einer
Rückoberfläche eingerichteten Rohmaterialzufuhrlöcher 4 in die
Extrusionsdüse 1 gespeist, wobei ein Bienenwabenstrukturkörper
aus den in der Vorderoberfläche eingerichteten Schlitzen 2
extrudiert wird.
Gemäß den in Fig. 2 gezeigten Merkmalen der Extrusionsdüse 1 hat
jeder der Zellblöcke 3 einen Zellblockgrundkörper 11, eine erste
Beschichtungsschicht 12, die durch chemische Metallabscheidung,
vorzugsweise eine chemische Nickelmetallabscheidung, an dem
Zellblockgrundkörper 11 gebildet ist, und eine zweite
Beschichtungsschicht 13, die durch eine CVD-Beschichtung,
vorzugsweise TiCN- oder W2C-CVD-Beschichtung, an der ersten
Beschichtungsschicht 12 gebildet ist. In dieser Weise wird ein
abgerundeter Abschnitt an den Ecken 3a jedes der Zellblöcke 3
gebildet, wobei eine Schlitzbreite W auf 45 bis 120 µm festgelegt
wird.
In diesem Ausführungsbeispiel ist eine Gesamtdicke der ersten
Beschichtungsschicht 12 und der zweiten Beschichtungsschicht 13
nicht speziell begrenzt. Da es jedoch notwendig ist, einen
abgerundeten Abschnitt an den Ecken der Zellblöcke 3 durch
chemische Metallabscheidung zu bilden, und da eine CVD-
Beschichtungsschicht, die durch die CVD-Beschichtung (chemische
Abscheidung aus der Gasphase) einen herausragenden Verschleiß
widerstand hat, jedoch aufgrund ihres Filmbildungsmechanismus
keine dicke Schicht bildet, und da Ausbildungen der durch
chemische Metallabscheidung gebildeten ersten Beschichtungs
schicht 12 und der durch CVD-Beschichtung gebildeten zweiten
Beschichtungsschicht 13 kompliziert sind und kostenintensiv sind
und somit eine vorbeschriebene Gesamtdicke erstrebenswerterweise
so dünn wie möglich ist, ist es bevorzugt, eine solche Gesamt
dicke auf 20 bis 70 µm festzulegen. Überdies ist ein Krümmungs
radius des abgerundeten Abschnitts nicht speziell begrenzt.
Jedoch ist es zur Erleichterung einer Herstellung und zum
Erreichen einer angestrebten Festigkeit bevorzugt, einen
Krümmungsradius des abgerundeten Abschnitts auf 15 bis 80 µm
festzulegen.
Bei der erfindungsgemäßen Extrusionsdüse 1 mit der vorbe
schriebenen Konstruktion ist es möglich, eine Düse mit einer
Schlitzbreite W von 45 bis 120 µm zu bilden, die nicht nur durch
chemische Metallabscheidung gebildet ist. Das heißt, daß eine
erste Beschichtungsschicht 12 durch chemische Metallabscheidung
bis zu einer Maximaldicke gebildet wird, die durch chemische
Metallabscheidung erreichbar ist, um eine vorläufige Schlitz
breite W zu erhalten, wobei die vorläufige Schlitzbreite W enger
gemacht wird, indem eine zweite Beschichtungsschicht 13 mittels
CVD-Beschichtung an der ersten Beschichtungsschicht 12 ausgebil
det wird. Wenn daher die erfindungsgemäße Extrusionsdüse 1 ver
wendet wird, ist es möglich, einen keramischen Bienenwaben
strukturkörper mit einer dünnen Zellwand zu extrudieren, wobei
die Dicke der Zellwand 45 bis 120 µm beträgt. Der somit
extrudierte Bienenwabenstrukturkörper mit einer Zellwanddicke
von 45 bis 120 µm weist eine geringe Festigkeit auf, da er eine
dünne Zellwand hat. Um diesen Nachteil zu beseitigen, hat die
Extrusionsdüse 1 gemäß der Erfindung einen abgerundeten
Abschnitt an sich überschneidenden Stellen der Zellwände. Da in
der vorliegenden Erfindung die erste Beschichtungsschicht 12
mittels chemischer Metallabscheidung an dem Zellblockgrundkörper
11 gebildet wird, kann der abgerundete Abschnitt natürlicher
weise an Abschnitten ausgebildet werden, die den Ecken von jedem
der Zellblockkörper 11 entsprechen. Ein Krümmungsradius des
abgerundeten Abschnitts kann in beliebiger Weise durch Variieren
einer Konzentration einer Elektrolytlösung, durch Beschichten
von Materialien und so weiter eingestellt werden.
Die Extrusionsdüse 1 gemäß der Erfindung kann wie folgt gebildet
werden. Zunächst wird eine Oberfläche eines Zellblockgrund
körpers 11 einer elektrischen Entladebearbeitung (electrical
discharge machining; kurz: EDM) und/oder einem Schleifen
unterworfen, um eine vorbestimmte Anzahl von sich in X- und Y-
Richtungen überschneidenden Schlitzen 2 zu bilden. Jeder der
Schlitze 2 hat eine vorbestimmte Breite W und eine vorbestimmte
Länge. Danach wird der so bearbeitete Zellblockgrundkörper 11
mit einer Vielzahl von sich überschneidenden Schlitzen 2 einer
chemischen Metallabscheidung, vorzugsweise einer chemischen Ni-
Metallabscheidung, unterworfen, um eine erste Beschichtungs
schicht 12 mit einer vorbestimmten Dicke an dem Zellblockgrund
körper 11 zu bilden. Die erste Beschichtungsschicht 12 hat einen
abgerundeten Abschnitt mit einem vorbestimmten Radius der an
Abschnitten entsprechend der Ecken 3a von jedem Zellblock 3
gelegenen Krümmung. Anschließend wird der Zellblockgrundkörper
11 mit der ersten Beschichtungsschicht 12 einer CVD-Beschichtung
(chemische Abscheidung aus der Gasphase), vorzugsweise einer
TiC- oder W2C-CVD-Beschichtung, unterworfen, um eine zweite
Beschichtungsschicht 13 auf der ersten Beschichtungsschicht 12
zu bilden. Ferner wird die andere Oberfläche des Zellblockgrund
körpers 11 einer elektrochemischen Bearbeitung (electrical
chemical machining; kurz: ECM) unterworfen, um Rohmaterialzu
fuhrlöcher 4 zu bilden, die mit sich überschneidenden Ab
schnitten der Schlitze 2 in Verbindung stehen. In der vorbe
schriebenen Weise ist es möglich, die Extrusionsdüse 1 mit einer
vorbestimmten Schlitzbreite und einem abgerundeten Abschnitt mit
einem vorbestimmten Krümmungsradius zu erhalten. In der vorbe
schriebenen Herstellung ist es bevorzugt, eine durch EDM
und/oder durch Schleifen gebildete Schlitzbreite W auf 15 bis
300 µm festzulegen. Überdies ist es bevorzugt, eine Dicke der
ersten Beschichtungsschicht 12 auf 10 bis 70 µm festzulegen, die
durch chemische Metallabscheidung, vorzugsweise chemische Ni-
Metallabscheidung, gebildet ist. Ferner ist es bevorzugt, eine
Dicke der zweiten Beschichtungsschicht 13 auf 5 bis 30 µm
festzulegen, die durch CVD-Beschichtung, vorzugsweise durch
TiCN- oder W2C-CVD-Beschichtung, gebildet wird.
Nachstehend werden tatsächliche Beispiele erklärt.
Ein aus rostfreiem Stahl C-450 angefertigtes Plattenelement
wurde durch eine Dreh- und Schleifmaschine bearbeitet, um eine
quadratische Platte mit einer Dicke von 15 mm und einer
Seitenlänge von 215 mm zu erhalten. Eine Hauptoberfläche der
quadratischen Platte wurde einer elektrischen Entladebearbeitung
(EDM) und einem Schleifen unterworfen, um 226 parallel
zueinander eingerichtete Schlitze zu bilden. Jeder der Schlitze
hatte eine Breite von 180 µm und eine Länge von 3,0 mm, wobei der
Abstand der Schlitze 0,94 mm betrug. Überdies wurden Schlitze,
die die so gebildeten Schlitze schneiden, in der gleichen
Oberfläche der quadratischen Platte in derselben
vorbeschriebenen Weise gebildet. Anschließend wurde die andere
Hauptoberfläche der quadratischen Platte einer elektrochemischen
Bearbeitung (ECM) unterworfen, um Löcher an jeder zweiten der
sich überschneidenden Stellen der Schlitze zu bilden. Jeder der
Löcher hatte einen Durchmesser von 0,7 mm, eine Länge von 12,3 mm
und einen Abstand von 0,94 mm. Die Anzahl der Löcher betrug
(226 . 226) : 2 ≅ 26.000.
Anschließend wurde für eine Installation an einer
Formungsvorrichtung die quadratische Platte mit sich
überschneidenden Schlitzen und Löcher einer EDM unterworfen, um
eine kreisförmige Düse mit einem Außendurchmesser von 215 mm zu
erhalten. Anschließend wurde die so erhaltene Düse einer
chemischen Ni-Metallabscheidung unterworfen, um eine Ni-
Beschichtungsschicht mit einer Dicke von 25 µm zu bilden. Ferner
wurde die Düse einer TiCN-CVD-Beschichtung unterworfen, um eine
TiCN-CVD-Schicht mit einer Dicke von 10 µm zu bilden. Als ein
Ergebnis konnte eine Extrusionsdüse erhalten werden, in der eine
Schlitzbreite W 180 - (25 + 10). 2 = 110 µm betrug und ein abgerun
deter Abschnitt mit einem Krümmungsradius von 25 + 10 = 35 µm an
Ecken von jedem der Zellblöcke ausgestaltet wurde. Unter Anwen
dung der somit erhaltenen Extrusionsdüse wurde ein aus Kordierit
angefertigter Bienenwabenstrukturkörper extrudiert und hatte der
so extrudierte Kordierit-Bienenwabenstrukturkörper eine Zell
wanddicke von 100 µm.
Um eine Wirkung eines Krümmungsradius des abgerundeten Ab
schnitts zu untersuchen, wurden Extrusionsdüsen mit Krümmungs
radien des abgerundeten Abschnitts von jeweils 0, 40, 80, 120
und 160 µm in der gleichen Weise wie im Beispiel 1 hergestellt.
Unter Anwendung der somit hergestellten Extrusionsdüsen wurden
Bienenwabenstrukturkörper extrudiert, wobei die somit ex
trudierten Bienenwabenstrukturkörper getrocknet und gebrannt
wurden, um Bienenwabenstrukturkörper als Werkstücke mit einer
Zellwanddicke von 100 µm zu bilden. Bezüglich der somit
gebildeten Bienenwabenstrukturkörper wurde ein isostatischer
Festigkeitsversuch (ISO), ein Druckfestigkeitsversuch (Cr), ein
Wärmestoßwiderstandsversuch (Elektroofen-Spoolbetrieb; kurz ESP)
und ein Verformungsbetrag-Versuch durchgeführt. Die Ergebnisse
werden in der folgenden Tabelle 1 und auch in Fig. 3 gezeigt.
Hierbei wurde der isostatische Festigkeitsversuch (ISO)
durchgeführt, indem der Bienenwabenstrukturkörper unter
Wasser gesetzt wurde, ein isostatischer Druck auf den
Bienenwabenstrukturkörper durch Druckausübung auf Wasser
ausgeübt wurde und eine Bruchfestigkeit des
Bienenwabenstrukturkörpers (ISO-Festigkeit) gemessen wurde. Wenn
der Bienenwabenstrukturkörper fester wird, d. h. wenn ein
Krümmungsradius des abgerundeten Abschnitts der Zellwand größer
wird, wird die ISO-Festigkeit größer. Die ISO-Festigkeit wird
zur Bestimmung dafür verwendet, ob der Bienenwabenstrukturkörper
einem isostatischen Druck standhält oder nicht, der erzeugt
wird, wenn der Bienenwabenstrukturkörper in einen Topf eines
Motorabgassystems gesetzt wird.
Überdies wurde der Druckfestigkeitsversuch (Cr) durchgeführt,
indem der Bienenwabenstrukturkörper mittels eines Drahtgewebes
umgeben wurde, um einen isostatischen Druck auf den
Bienenwabenstrukturkörper auszuüben, indem ein Druck von einer
oberen Seite des Bienenwabenstrukturkörpers mit Hilfe einer
Kompressionsversuchsmaschine ausgeübt wurde, und indem eine
Bruchfestigkeit des Bienenwabenstrukturkörpers als Cr-Festigkeit
(Druckfestigkeit) gemessen wurde. Wenn die Konstruktion des
Bienenwabenstrukturkörpers fester wird, d. h. wenn ein
Krümmungsradius der Zellwand größer wird, wird die Cr-Festigkeit
stärker. Die Cr-Festigkeit wird zur Bestimmung dafür verwendet,
ob der Bienenwabenstrukturkörper einer äußeren Beanspruchung,
wie etwa einer Fahrvibration, standhält oder nicht, wenn der
Bienenwabenstrukturkörper in Fahrzeugen installiert ist.
Ferner wurde der Wärmestoßwiderstandsversuch (ESP) durchgeführt,
indem ein Wärmestoß (Erwärmen/Abkühlen) auf den
Bienenwabenstrukturkörper ausgeübt wurde und indem eine
Festigkeit bezüglich des so ausgeübten Wärmestoßes (ESP-
Festigkeit) gemessen wurde. Das heißt, daß, wenn eine
Temperaturdifferenz von einer Raumtemperatur bis zu einer
Brucherzeugung des Bienenwabenstrukturkörpers größer ist, der
Bienenwabenstrukturkörper fester wird. Die ESP-Festigkeit wird
dafür verwendet, um zu bestimmen, ob der
Bienenwabenstrukturkörper gegenüber einer Erwärmung beständig
ist oder nicht, indem er einem Hochtemperaturabgas von einem
Motor oder einem Kühlen aufgrund eines Motorstops ausgesetzt
wird, wenn der Bienenwabenstrukturkörper in Fahrzeugen
installiert ist. In diesem Falle wird der Wärmestoß kleiner,
wenn der Bienenwabenstrukturkörper eine gleichmäßige Form hat,
d. h. wenn ein Krümmungsradius des abgerundeten Abschnitts der
Zellwand kleiner wird. Überdies wird, wenn der abgerundete
Abschnitt am Zellenüberschneidungsabschnitt kleiner wird, eine
Wärmekapazität gleichmäßig und die ESP-Festigkeit größer.
Überdies wurde der Verformungsbetrag-Versuch durchgeführt, indem
eine Differenz zwischen dem Standardwert und dem tatsächlich
gemessenen Wert einer Außengröße des Innenwabenstrukturkörpers
als ein Verformungsbetrag gemessen wurde. Die Größe wurde mit
Hilfe einer automatischen Größenmeßvorrichtung unter Anwendung
eines Lasers oder mit Hilfe einer Schublehre gemessen. Wenn der
Bienenwabenstrukturkörper konstruktionsbedingt schwach ist, d. h.
wenn ein Krümmungsradius des abgerundeten Abschnitts der
Zellwand kleiner wird, wird der Bienenwabenstrukturkörper
während des Extrudierens aufgrund seines Gewichts verformt
(eingedrückt), so daß sich der Bienenwabenstrukturkörper nach
dem Brennen nicht innerhalb einer Größentoleranz befindet. Der
Verformungsbetrag wird zur Überprüfung verwendet, ob der
Bienenwabenstrukturkörper präzise in einem Topf eines
Motorabgassystems festgelegt werden kann oder nicht.
Aus den Ergebnissen in der Tabelle 1 und in Fig. 3 ist
verständlich, daß, wenn ein Krümmungsradius des abgerundeten
Abschnitts größer wird, die Cr-Festigkeit, die ISO-Festigkeit
und der Verformungsbetrag verbessert werden, jedoch die ESP-
Festigkeit nicht verbessert wird. Daher kann ein bevorzugter
Bereich eines Krümmungsradius des abgerundeten Abschnitts aus
einem Bereich erhalten werden, in dem alle oben erwähnten
Parameter nahezu einen herausragenden Wert annehmen. In diesem
Falle sind Zieleigenschaften des Bienenwabenstrukturkörpers als
ein Werkstück in der folgenden Tabelle 2 gezeigt.
Wenn aus der Fig. 3 ein die Zieleigenschaften gemäß Tabelle 2
zufriedenstellender Bereich bestimmt wird, kann ein
Krümmungsradius des abgerundeten Abschnitts bei 15 bis 80 µm
erhalten werden, wobei dieser Bereich für einen Krümmungsradius
des abgerundeten Abschnitts als bevorzugt gilt.
Wie aus den obigen Erklärungen klar verständlich ist, wird
erfindungsgemäß die durch chemische Metallabscheidung,
vorzugsweise chemische Ni-Metallabscheidung, gebildete erste
Beschichtungsschicht an dem Zellblockgrundkörper eingerichtet,
der durch die bekannte elektrische Entladebearbeitung oder ein
Schleifen gebildet wurde, wobei die durch CVD-Beschichtung,
vorzugsweise TiCN- oder W2C-CVD-Beschichtung, gebildete zweite
Beschichtungsschicht an der ersten Beschichtungsschicht
eingerichtet wird, um die Schlitzbreite vorzugeben bzw. zu
steuern.
Daher kann ein Schlitz mit einer vorbestimmten Schlitzbreite
erhalten werden, indem eine Schlitzbreite relativ enger
gestaltet wird durch die dicke erste Beschichtungsschicht, die
durch CVD-Beschichtung an der ersten Beschichtungsschicht
gebildet wurde. In dieser Weise ist es möglich, eine
Extrusionsdüse mit einer Schlitzbreite von 45 bis 120 µm
zu erhalten, die einen keramischen Bienenwabenstrukturkörper mit
einer 45 bis 120 µm dünnen Zellwand bilden kann.
Da überdies in der vorliegenden Erfindung die erste Beschich
tungsschicht durch chemische Metallabscheidung gebildet wird,
werden Ecken der an dem Zellblockgrundkörper gebildeten ersten
Beschichtungsschicht natürlicherweise abgerundet. Da an
schließend die dicke zweite Beschichtungsschicht mit einer
konstanten Dicke an der ersten Beschichtungsschicht eingerichtet
ist, ist es möglich, eine Extrusionsdüse mit einem abgerundeten
Abschnitt an Ecken von jedem der Zellblöcke zu erhalten, wobei
ebenso eine Schlitzbreite von 45 bis 120 tun in problemloser Weise
erhalten werden kann.
Es wird die Extrusionsdüse 1 zum Extrudieren eines
Bienenwabenstrukturkörpers offenbart, mit einer Vielzahl von an
ihrer Vorderoberfläche vorgesehenen, sich überschneidenden
Schlitzen 2, wobei jeder der Schlitze 2 mit Hilfe von
Zellblöcken 3 ausgebildet ist; einer Vielzahl von in ihrer
Rückoberfläche vorgesehenen Rohmaterialzufuhrlöchern 4, wobei
jedes der Rohmaterialzufuhrlöcher 4 mit den Schlitzen 2
verbunden ist; und dem an Ecken 3a von jedem der Zellblöcke 3
gebildeten abgerundeten Abschnitt. In der Extrusionsdüse 1 weist
jeder der Zellblöcke 3 den Zellblockgrundkörper 11, die durch
chemische Metallabscheidung an dem Zellblockgrundkörper 11
gebildete erste Beschichtungsschicht 12 und die durch chemische
Abscheidung aus der Gasphase an der ersten Beschichtungsschicht
12 gebildete zweite Beschichtungsschicht 13 auf und beträgt eine
Breite von jedem der Schlitze 45 bis 120 µm.
Claims (8)
1. Extrusionsdüse zum Extrudieren eines Körpers mit einer
bienenwabenartigen Struktur, mit:
einer Vielzahl von an ihrer Vorderoberfläche einge richteten sich überschneidenden Schlitzen, wobei jeder der Schlitze mit Hilfe von Zellblöcken ausgebildet ist;
einer Vielzahl von in ihrer Rückoberfläche vorge sehenen Rohmaterialzufuhrlöchern, wobei jedes der Rohmate rialzufuhrlöcher mit den Schlitzen verbunden ist; und
einem an den Ecken von jedem der Zellblöcke gebildeten abgerundeten Abschnitt; wobei
jeder der Zellblöcke einen Zellblockgrundkörper, eine durch chemische Metallabscheidung an dem Zellblockgrund körper gebildete erste Beschichtungsschicht und eine durch chemische Abscheidung aus der Gasphase an der ersten Be schichtungsschicht gebildete zweite Beschichtungsschicht hat, und
die Breite von jedem der Schlitze 45 bis 120 µm beträgt.
einer Vielzahl von an ihrer Vorderoberfläche einge richteten sich überschneidenden Schlitzen, wobei jeder der Schlitze mit Hilfe von Zellblöcken ausgebildet ist;
einer Vielzahl von in ihrer Rückoberfläche vorge sehenen Rohmaterialzufuhrlöchern, wobei jedes der Rohmate rialzufuhrlöcher mit den Schlitzen verbunden ist; und
einem an den Ecken von jedem der Zellblöcke gebildeten abgerundeten Abschnitt; wobei
jeder der Zellblöcke einen Zellblockgrundkörper, eine durch chemische Metallabscheidung an dem Zellblockgrund körper gebildete erste Beschichtungsschicht und eine durch chemische Abscheidung aus der Gasphase an der ersten Be schichtungsschicht gebildete zweite Beschichtungsschicht hat, und
die Breite von jedem der Schlitze 45 bis 120 µm beträgt.
2. Extrusionsdüse nach Anspruch 1, wobei die erste Be
schichtungsschicht eine durch chemische Metallabscheidung
gebildete Nickelbeschichtungsschicht und die zweite Be
schichtungsschicht eine durch chemische Abscheidung aus der
Gasphase gebildete TiCN- oder W2C-Beschichtungsschicht ist.
3. Extrusionsdüse nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Gesamt
dicke der ersten Beschichtungsschicht und der zweiten Be
schichtungsschicht 20 bis 70 µm beträgt.
4. Extrusionsdüse nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei
der Krümmungsradius des abgerundeten Abschnitts 15 bis 80
µm beträgt.
5. Verfahren zur Herstellung einer Extrusionsdüse zum
Extrudieren eines Körpers mit einer bienenwabenartigen
Struktur mit den Schritten:
Formung einer Vielzahl von sich überschneidenden Schlitzen in einer Vorderoberfläche der Extrusionsdüse, wobei jeder der Schlitze mittels Zellblockgrundkörper bestimmt wird;
Formung einer Vielzahl von Rohmaterialzufuhrlöchern in einer Rückoberfläche der Extrusionsdüse, wobei jedes der Rohmaterialzufuhrlöcher mit den Schlitzen verbunden ist;
Formung einer ersten Beschichtungsschicht an jedem der Zellblockgrundkörper durch chemische Metallabscheidung; und
Formung einer zweiten Beschichtungsschicht an der ersten Beschichtungsschicht durch chemische Abscheidung aus der Gasphase, um eine Breite von jedem der Schlitze von 45 bis 120 µm zu erzielen.
Formung einer Vielzahl von sich überschneidenden Schlitzen in einer Vorderoberfläche der Extrusionsdüse, wobei jeder der Schlitze mittels Zellblockgrundkörper bestimmt wird;
Formung einer Vielzahl von Rohmaterialzufuhrlöchern in einer Rückoberfläche der Extrusionsdüse, wobei jedes der Rohmaterialzufuhrlöcher mit den Schlitzen verbunden ist;
Formung einer ersten Beschichtungsschicht an jedem der Zellblockgrundkörper durch chemische Metallabscheidung; und
Formung einer zweiten Beschichtungsschicht an der ersten Beschichtungsschicht durch chemische Abscheidung aus der Gasphase, um eine Breite von jedem der Schlitze von 45 bis 120 µm zu erzielen.
6. Verfahren nach Anspruch 5, wobei die erste Beschich
tungsschicht durch chemische Nickel-Metallabscheidung
gebildet wird und die zweite Beschichtungsschicht durch
chemische Abscheidung von TiCN oder W2C aus der Gasphase
gebildet wird.
7. Verfahren nach Anspruch 5 oder 6, wobei eine Gesamtdicke
der ersten Beschichtungsschicht und der zweiten Beschich
tungsschicht auf 20 bis 50 µm festgelegt wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 5 bis 7, wobei ein
Krümmungsradius des abgerundeten Abschnitts auf 15 bis 80
µm festgelegt wird.
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