DE19808762A1 - Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supraleiteranisotropie und Verfahren zur Herstellung des Supraleiters - Google Patents

Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supraleiteranisotropie und Verfahren zur Herstellung des Supraleiters

Info

Publication number
DE19808762A1
DE19808762A1 DE19808762A DE19808762A DE19808762A1 DE 19808762 A1 DE19808762 A1 DE 19808762A1 DE 19808762 A DE19808762 A DE 19808762A DE 19808762 A DE19808762 A DE 19808762A DE 19808762 A1 DE19808762 A1 DE 19808762A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
anisotropy
superconductor
superconductivity
superconducting
charge reservoir
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE19808762A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideo Ihara
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Publication of DE19808762A1 publication Critical patent/DE19808762A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/45Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on copper oxide or solid solutions thereof with other oxides
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00Superconducting devices
    • H10N60/80Constructional details
    • H10N60/85Superconducting active materials
    • H10N60/855Ceramic superconductors
    • H10N60/857Ceramic superconductors comprising copper oxide

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)
  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Hochtemperatur-Supraleiter, der eine niedrige Supraleitungsanisotropie, eine hohe kritische Stromdichte (Jc), ein starkes irreversibles Feld (Hirr) und eine lange Kohärenzlänge ξc in einer Richtung senkrecht zu der Ebene (wobei die Richtung die c-Ach­ sen-Richtung und die Grenzflächenebene die ab-Achse ist) und eine Su­ praleitungssprungtemperatur (Tc) von beispielsweise 100 K oder mehr aufweist, und ein Verfahren zur Herstellung des Supraleiters.
Es ist angenommen worden, daß eine hohe Tc eng mit der hohen Supra­ leitungsanisotropie (Zweidimensionalität) von Supraleitungseigenschaften in Beziehung steht. Bekannte Hochtemperatur-Supraleiter, die einen zwei­ dimensionalen, geschichteten Aufbau aufweisen, der aus Ladungsreser­ voirschichten und supraleitenden Schichten besteht, umfassen Kupfer­ oxidsupraleiter auf Y-, Bi-, Tl- und Hg-Basis.
Weil außerdem in diesen Supraleitern, die einen geschichteten Aufbau aufweisen, die Ladungsreservoirschicht eine Isolationsschicht oder nicht supraleitende Schicht mit niedriger Supraleitungskopplung in der c-Ach­ sen-Richtung und deshalb einem kleinen Wechselwirkungseffekt zwischen supraleitenden Schichten ist, weshalb zusätzlich dazu die Kohärenzlänge entlang der c-Achse kurz ist, ist die Supraleitungsanisotropie γ groß, wo­ bei sie in der Größenordnung von 4-5 bis 300 liegt (für γ, das als das Verhältnis der Kohärenzlänge, die Quadratwurzel aus dem effektiven Elektronenmassenverhältnis oder das Magnetfeldeindringtiefenverhältnis definiert ist, gilt γ = ξab/ξc = (mc/mab)1/2 = λc/λab).
Als solches werden die Jc, insbesondere die Jc unter einem starken Ma­ gnetfeld, und das Hirr, das obere Grenzmagnetfeld, bei dem elektrischer Widerstand erzeugt wird, klein, was viele Probleme für den praktischen Gebrauch als Draht oder supraleitendes Vorratsmaterial aufwirft.
Des weiteren bedeutet die große Supraleitungsanisotropie, daß die Kohä­ renzlänge ξc in der c-Achsen-Richtung klein ist, so daß, wenn es als Mate­ rial für eine supraleitende Vorrichtung verwendet wird, die Eigenschaften, insbesondere die Josephson-Stromdichte, der supraleitenden Vorrichtung vom Typ mit geschichtetem Aufbau ungeeignet sind. In der JP-A-Hei 8-183614 schlugen die Erfinder, die den gegenwärtigen Erfinder mit ein­ schließen, einen Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supraleitungs­ anisotropie, einer langen Kohärenzlänge in der c-Achsen-Richtung und einer großen Stromdichte unter einem starken Magnetfeld vor, wobei eine Matrix aus Kupfer, Sauerstoff und Erdalkalimetallelementen statt Tl, Hg oder anderen derartigen Elementen, die schädlich und selten sind, ver­ wendet wird.
Es gibt Berichte, die niedrige Supraleitungsanisotropie in bezug auf so­ wohl Hg-1201-Supraleiter auf Hg-Basis (HgBa2CuO4+y) als auch Supralei­ ter mit infinitem Schichtaufbau (Sr1-xLaxCuO2) in Anspruch nehmen, je­ doch sind auf der Grundlage der Forschung des Erfinders derartige Su­ praleiter keine Supraleiter mit niedriger Anisotropie.
Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen Hochtemperatur- Supraleiter zu schaffen, dessen Supraleitungsanisotropie niedrig ist, wobei supraleitende Elektronen in der Lage sind, sich nicht nur in der Ebene der Schichten (ab-Achsen-Richtung) sondern auch senkrecht zu dieser zu be­ wegen, und der eine brauchbar große kritische Stromdichte unter Bedin­ gungen einer hohen Temperatur und eines starken Magnetfeldes zeigt, und ein Verfahren zur Herstellung des Supraleiters zu schaffen.
Eine andere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen Hochtempe­ ratur-Supraleiter zu schaffen, der eine niedrige Supraleitungsanisotropie und ausgezeichnete magnetische Eigenschaften aufweist, was eine starke Kopplung zwischen den supraleitenden Schichten, die durch die Ladungs­ reservoirschicht vermittelt wird, eine starke Magnetflußanhaftungsfähig­ keit und ein starkes Null-Widerstand-Magnetfeld erzeugt, und ein Verfah­ ren zur Herstellung des Supraleiters zu schaffen.
Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen Hochtempe­ ratur-Supraleiter mit niedriger Supraleitungsanisotropie zu schaffen, der eine lange Kohärenzlänge in der c-Achsen-Richtung aufweist, und ein Verfahren zur Herstellung des Supraleiters zu schaffen.
Erfindungsgemäß wird die obige Aufgabe erfüllt, indem ein Hochtempe­ ratur-Supraleiter mit niedriger Supraleitungsanisotropie geschaffen wird, der einen zweidimensionalen, geschichteten Aufbau aus Gittereinheitszel­ len umfaßt, die jeweils durch ein Paar aus einer supraleitenden Schicht und einer Ladungsreservoirschicht, die senkrecht zu der supraleitenden Schicht vorgesehen ist, gebildet sind, wobei mindestens ein Teil der Ato­ me, welche die Ladungsreservoirschicht umfaßt, durch Atome ersetzt ist, die Supraleitfähigkeit ergeben, wodurch die Ladungsreservoirschicht me­ tallisiert oder supraleitend gemacht wird, wobei die Dicke der supraleiten­ den Schicht vergrößert ist und deshalb die Kohärenzlänge in Richtung der Dicke auf der Grundlage des Unbestimmtheitsprinzips vergrößert ist, wo­ durch die Supraleitungsanisotropie verringert ist.
Kupfer und Sauerstoff sind Beispiele von Atomen, die Supraleitfähigkeit ergeben. Der Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supraleitungsan­ isotropie kann durch ein Verfahren hergestellt werden, das umfaßt, daß das Ausgangsmaterial des Supraleiters auf ein Einkristallsubstrat oder ein kristallorientiertes Substrat aufgebracht wird, daß das Substrat in einer oxidationsbeständigen Kapsel versiegelt wird, und daß ein vorgeschriebe­ ner Druck und eine vorgeschriebene Wärme auf die Kapsel angewandt werden.
Wie es im vorhergehenden beschrieben ist, wird durch Vergrößern der Dicke der supraleitenden Schicht des erfindungsgemäßen Supraleiters der Unbestimmtheitsbereich (die Dicke) der supraleitenden Elektronen in der senkrechten Richtung (c-Achsen-Richtung) gemäß dem Unbestimmtheits­ prinzip ausgedehnt, was es möglich macht, die Kohärenzlänge in Richtung der c-Achse zu vergrößern, wodurch die Supraleitungsanisotropie auf ein sehr niedriges Niveau verringert werden kann.
Indem einige oder alle Atome, welche die Ladungsreservoirschicht bilden, die abwechselnd mit der supraleitenden Schicht vorhanden ist, durch Atome, die Supraleitfähigkeit ergeben, ersetzt werden, wodurch die La­ dungsreservoirschichten metallisiert oder supraleitend gemacht werden, wird die Supraleitungskopplung verstärkt und eine freie Bewegung der supraleitenden Elektronen gestattet.
Die Erfindung wird im folgenden beispielhaft anhand der Zeichnung be­ schrieben, in dieser zeigt:
Fig. 1 ein Schaubild, das ein Beispiel eines Modells einer Kri­ stalleinheitszelle eines erfindungsgemäßen Hochtempe­ ratur-Supraleiters mit niedriger Supraleitungsanisotro­ pie zeigt,
Fig. 2(a) eine graphische Darstellung, welche die Temperaturab­ hängigkeit des spezifischen elektrischen Widerstandes einer Cu1-xTlx-1234-Probe zeigt, bei der x 0,4 beträgt,
Fig. 2(b) eine graphische Darstellung, welche die Temperaturab­ hängigkeit des spezifischen elektrischen Widerstandes einer Cu1-xTlx-1234-Probe zeigt, bei der x 0,5 beträgt,
Fig. 2(c) eine graphische Darstellung, welche die Temperaturab­ hängigkeit des spezifischen elektrischen Widerstandes einer Cu1-xTlx-1234-Probe zeigt, bei der x 0,6 beträgt,
Fig. 3 ein Schaubild, das die Supraleitungssprungtemperatur über die Tl-Konzentration x einer Cu1-xTlx-1234-Probe aufgetragen zeigt,
Fig. 4 den Zusammenhang zwischen der Temperatur und der Supraleitungsanisotropie (γ = ξc/χb), die aus dem ma­ gnetischen Suszeptibilitätsverhältnis einer Cu1-xTlx-1234-Probe erhalten wird,
Fig. 5(a) ein Röntgenbeugungsmuster, das die starke (OOℓ-Orien­ tierung eines Cu1-xTlx-1223-Dünnfilms zeigt,
Fig. 5(b) ein Röntgenbeugungsmuster, das die starke (OOℓ-Orien­ tierung eines Cu1-xTlx-1234-Dünnfilms zeigt,
Fig. 5(c) ein Röntgenbeugungsmuster, das die starke ab-Achsen- Orientierung eines Cu1-xTlx-1234-Dünnfilms zeigt,
Fig. 6(a) ein Schaubild, das die Temperaturabhängigkeit des spe­ zifischen elektrischen Widerstandes eines Cu1-xTlx-1223- Dünnfilms mit Tc = 112 K zeigt,
Fig. 6(b) ein Schaubild, das die Temperaturabhängigkeit des spe­ zifischen elektrischen Widerstandes eines Cu1-xTlx-1234- Dünnfilms mit Tc = 115 K zeigt,
Fig. 7 ein Röntgenbeugungsmuster einer Cu-1245-Pulverprobe, der eine c-Achsen-Orientierung gegeben worden ist, und
Fig. 8 den Zusammenhang zwischen der Temperatur und der Supraleitungsanisotropie, die aus dem magnetischen Suszeptibilitätsverhältnis einer Cu-1245-Probe mit einer c-Achsen-Orientierung erhalten wird.
Fig. 1 ist ein Schaubild, das ein Beispiel eines Modells einer Kristallein­ heitszelle eines erfindungsgemäßen Hochtemperatur-Supraleiters mit niedriger Supraleitungsanisotropie zeigt. Wie es in der Zeichnung gezeigt ist, umfaßt eine Einheitszelle 1 ein Paar aus einer supraleitenden Schicht 2 und einer Ladungsreservoirschicht 3, die entlang der c-Achse vorgese­ hen sind. Die supraleitende Schicht 2 weist fünf CuO2-Schichten 4 auf. Diese Einheitszellen, die jeweils ungefähr 3,85 × 3,85 × 18,0 Å messen, sind so miteinander verbunden, daß sich die Schichten 2 und 3 abwech­ seln, um abhängig davon, wofür der Supraleiter verwendet werden wird, einen Hochtemperatur-Supraleiter in Einkristall-, Film- oder Materialvor­ ratsform zu bilden. Erfindungsgemaß wird durch Vergrößern der Dicke der supraleitenden Schicht 2, die einen geschichteten Aufbau aufweist, der Unbestimmtheitsbereich (die Dicke) der supraleitenden Elektronen in der c-Achsen-Richtung gemäß dem Unbestimmtheitsprinzip ausgedehnt, was es hinsichtlich des Kristallaufbaus möglich macht, die Kohärenzlänge ξc in der c-Achsen-Richtung zu vergrößern, wodurch die Supraleitungsan­ isotropie γ auf ein sehr niedriges Niveau verringert werden kann.
Außerdem sind einige oder alle Atome, welche die Ladungsreservoirschicht bilden, durch Atome ersetzt, die Supraleitfähigkeit ergeben, um die La­ dungsreservoirschicht zu metallisieren oder supraleitend zu machen. Auf der Grundlage einer anderen Schlußfolgerung, die aus dem Unbestimmt­ heitsprinzip abgeleitet wird, gilt jedoch, daß, weil die Supraleitungs-Kohä­ renzlänge proportional zur Fermi-Geschwindigkeit VF ist, ein Metallisieren oder Supraleitendmachen der Ladungsreservoirschicht die VF-Komponente in der c-Achsen-Richtung vergrößert, was hinsichtlich des Elektronenauf­ baus die Kohärenzlänge ξc vergrößert, wodurch es ermöglicht wird, daß die Supraleitungsanisotropie verringert wird.
Ein Kupferoxid, das durch die Formel Cu1-xMx(Ba1-ySry)2(Ca1-zLz)n-1CunO2n+4-w dargestellt ist (wobei M ein oder mehrere Elemente sind, die aus der Gruppe ausgewählt sind, die aus Tl, Hg, Bi, Pb, Au, In, Sn, Ag, Mo, Re, Os, Cr, V, Fe und Lanthanidenelemen­ ten besteht, L ein oder mehrere Elemente sind, die aus der Gruppe aus­ gewählt sind, die aus Li, Na, Y und Lanthanidenelementen besteht, 0 ≦ x < 1, 0 ≦ y ≦ 1, 0 ≦ z ≦ 1, 0 ≦ w ≦ 4 und 3 ≦ n ≦ 16), kann als ein Bei­ spiel einer bevorzugten Zusammensetzung für den Supraleiter dieser Er­ findung angeführt werden.
Im Fall dieses Kupferoxidsupraleiters ist die Kopplung zwischen der La­ dungsreservoirschicht und der supraleitenden Schicht des Supraleiters dadurch verstärkt, daß die Anzahl n von (Ca1-zLz)n-1CunO2n-Schichten ver­ größert ist, daß die Ladungsreservoirschicht (Cu1-xMx) (Ba1-ySry)2O4-w, die mit der supraleitenden Schicht verbunden ist, metallisiert ist, und auch durch die ursprüngliche, intrinsische Supraleitfähigkeit der Ladungsre­ servoirschicht. Infolgedessen ist der Unbestimmtheitsbereich (die Dicke) der supraleitenden Elektronen in der c-Achsen-Richtung gemaß dem Un­ bestimmtheitsprinzip vergrößert, wodurch die Kohärenzlänge ξc vergrößert und die Supraleitungsanisotropie verkleinert ist.
Im Fall irgendeines Kupferoxidsupraleiters kann die Kohärenzlänge ξc empirisch ausgedrückt werden als ξc = 0,32(n-1)nm, ξab = 1,6 nm, was eine Supraleitungsanisotropie γ = ξab/ξc = 5/(n-1) ergibt, so kann im Fall von Supraleitern, bei denen n drei oder mehr beträgt, falls die Trägerkon­ zentration ausreicht, eine Supraleitungsanisotropie von γ < 4 verwirklicht werden.
Des weiteren kann in bezug auf die obigen Kupferoxidsupraleiter die Durchschnittsvalenzzahl des Kupfers ausgedrückt werden als Z = 2 + (4 - 2w)/(n + 1) < 2 + 4/(n + 1), und von n = 1 bis 16 wird Z nicht kleiner als 2,25 sein, so daß ein Verkleinern der Konzentration der Sauerstoffleer­ stellen w eine ausreichende Trägerzufuhr ermöglicht, um eine Supralei­ tungsanisotropie von γ < 4 zu verwirklichen.
Außerdem kann diese Erfindung nicht nur auf Kupferoxidsupraleiter an­ gewandt werden, sondern ist universell auf andere Supraleiter anwendbar, die einen geschichteten Aufbau aufweisen. Beispielsweise kann ein Supra­ leiter verwendet werden, der eine Zusammensetzung aufweist, die als Cu1-xMx(Ba1-y-mSryRm)2 ausgedrückt wird (wobei 0 ≦ m ≦ 1 und 0 ≦ y + m ≦ 1) und durch teilweises Ersetzen des Ba in der Cu1-xMx(Ba1-ySry)2O4-w-Ladungsreservoirschicht des obigen Kupferoxidsu­ praleiters durch ein Lanthanidenelement gebildet wird.
Der oben beschriebene Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supra­ leitungsanisotropie kann durch ein bekanntes Ungleichgewichtsverfahren, wie Hochdrucksynthese, Heißpressen, HIP (isostatische Hochtemperatur­ verarbeitung = high-temperature isostatic processing), Sputtern oder La­ serabtragen hergestellt werden. Das Sputtertarget kann ein gesintertes Material sein, das die gleiche Zusammensetzung wie der herzustellende Supraleiter aufweist, oder es kann ein Target aus jedem der Elemente ge­ bildet werden, die lagenweise zu atomaren Schichten verbunden werden sollen. Sputtern oder Laserabtragen wird unter Verwendung von beispiels­ weise Einkristallsubstrat aus SrTiO3, NdGaO3, LaAlO3, YSZ (Y-stabilisier­ tes ZrO2) oder LaSrCaO4 oder dergleichen bei einer Substrattemperatur von 300 bis 800°C und einem Sauerstoffdruck von 0,01 bis 1 Torr durch­ geführt. Eine ideale Anzahl von CuO2-Schichten ist vier bis sechs, was durch Steuern der Zusammensetzungsverhältnisse der Ausgangsmateria­ lien, die Reaktionstemperatur, die Reaktionszeit und andere derartige Be­ dingungen bestimmt ist.
Der erfindungsgemäße Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supra­ leitungsanisotropie ist durch einen Aufbau gekennzeichnet, der durch Ablagern oder Aufbringen der obigen Ausgangsmaterialien des Supralei­ ters auf das oben beschriebene Einkristallsubstrat oder auf das kristall­ orientierte Filmsubstrat zusammengesetzt ist, die dann zusammen mit ei­ nem Beschleuniger für Tl usw. und einem Aufbaustabilisator in einer Gold-, Silber, Inconel-, Hastelloy-, Aluminiumoxid, AlN, BN oder anderen derartigen oxidationsbeständigen Metall- oder Keramikkapsel versiegelt und für 0,01 bis 10 Stunden auf 600 bis 1100°C erhitzt wurden, um da­ durch einen Einkristall oder einen kristallorientierten Film zu erhalten, der mindestens entlang der a-Achse und der c-Achse ausgerichtet ist und eine hohe kritische Stromdichte Jc aufweist. Das Ausgangsmaterial des Supraleiters kann auch auf das Einkristallsubstrat oder das kristallorien­ tierte Filmsubstrat aufgebracht werden, das dann in einer oxidationsbe­ ständigen Kapsel versiegelt und unter einem Druck von 1 bis 10 Atmo­ sphären auf 600 bis 1100°C erhitzt wird, um Vorrats- (bulk) oder Einkri­ stall-Supraleitungsmaterialien mit einer hohen kritischen Stromdichte Jc zu synthetisieren, die entlang von mindestens der a-Achse und der c-Achse ausgerichtet sind.
Es kann auch ein Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supralei­ tungsanisotropie und einer hohen kritischen Stromdichte Jc erhalten werden, dessen Körner mindestens entlang der a-Achse und der c-Achse ausgerichtet sind, indem amorphes Supraleitermaterial statt des Aus­ gangsmaterials auf das Substrat aufgebracht wird, das dann in einer oxi­ dationsbeständigen Kapsel versiegelt und wie oben beschrieben gepreßt und erhitzt wird.
Erfindungsgemäß kann ein Hochtemperatur-Supraleiter erhalten werden, der eine bisher unerreichbare Supraleitungsanisotropie γ von 4 oder weni­ ger oder selbst eine quasi-isotropische, niedrige Supraleitungsanisotropie in der Nähe von 1 aufweist, wodurch es möglich gemacht wird, einen Draht, ein Vorratsmaterial oder eine Vorrichtung unter Verwendung eines Hochtemperatur-Supraleitungsmaterials zu entwickeln, das eine lange Kohärenzlänge von ξc = 1 nm aufweist, was es zu einem idealen Material macht, um Josephson-Vorrichtungen vom Mehrschicht-Übergangstyp mit einer hohen Jc und Grenzflächenisotropie herzustellen.
Während es außerdem früher akzeptiertes Wissen war, daß eine hohe Tc eng mit hoher Supraleitungsanisotropie (Zweidimensionalität) in Bezie­ hung steht, ist dieses akzeptierte Wissen durch diese Erfindung umgesto­ ßen, gemäß welcher ein Hochtemperatur-Supraleiter erhalten werden kann, der eine Supraleitungsanisotropie aufweist, die so niedrig ist, daß sie dicht bei Isotropie liegt. Daher ist die wissenschaftliche Auswirkung der Erfindung bedeutend, und sie schafft auch einen wichtigen Indikator in bezug auf eine Erklärung des Mechanismus von Hochtemperatur-Su­ praleitfähigkeit.
Die folgenden Beispiele beschreiben bevorzugte Ausführungsformen dieser Erfindung. Jedoch sind die Beispiele nicht als die Erfindung begrenzend aufzufassen.
Beispiel 1
Es wurden Proben aus Cu1-xTlxBa2Ca3Cu4O12-w(Cu1-xTlx-1234), das unter Cu1-xTlxBa2Can-1CunO2n+4-w die höchste Tc aufweist, hergestellt, indem als Ausgangsmaterial eine Mischung des Vorläufers aus Ba2Ca3Cu4O9, CuO und Tl2O3 verwendet wurde, die eingestellt worden war, um sechs Mi­ schungen mit einem x von jeweils 0, 0,24, 0,4, 0,5, 0,6 und 0,75 zu erzeu­ gen. Um die Sauerstoffkonzentration zu steuern, wurde Cu2O als Redukti­ onsmittel und AgO als Oxidationsmittel verwendet. Die Proben wurden hergestellt, indem die Mischungen für 1 bis 3 Stunden auf 900 bis 1100°C unter einem Druck von 3 GPa erhitzt wurden.
Fig. 2 zeigt den Zusammenhang zwischen der Temperatur und dem spezi­ fischen elektrischen Widerstand der Proben in bezug auf Proben, bei de­ nen x 0,4 im Fall von Fig. 2(a), 0,5 im Fall von Fig. 2(b) und 0,6 im Fall von Fig. 2(c) beträgt. Im Zustand, wie gesintert, zeigten die Proben mit der ho­ hen Sauerstoffkonzentration (hohe Trägerkonzentration) eine Tc von 123 K (Fig. 2(a), 2(b), 2(c)), wobei ausgeheilte (annealed) Proben, die eine opti­ male Trägerkonzentration aufwiesen, die höchste Tc von 126 K zeigten (Fig. 2(a)).
Wie es in Fig. 3 gezeigt ist, wiesen alle Proben, bei denen x im Bereich von 0 ≦ x ≦ 1 lag, eine Tc auf, die im Bereich von 118K bis 126K lag. Wie es in Fig. 4 gezeigt ist, konnte Proben, bei denen x 0,4 betrug, auch eine Supra­ leitungsanisotropie von γ < 4 bei 20 bis 40 K gegeben werden. Die hier ge­ zeigten Supraleitungsanisotropiewerte wurden auf der Grundlage von Pro­ ben erhalten, die mit einer optimalen Trägermenge dotiert waren, um die Tc zu erhöhen. Supraleiter mit einer noch niedrigeren Supraleitungsani­ sotropie können durch Vergrößern der Trägerkonzentration erhalten wer­ den.
Beispiel 2
Das Cu1-xTlx-1234 von Beispiel 1 und Cu1-xTlxBa2Ca2Cu3O10-w(Cu1-xTlx-1223) wurde hergestellt, indem ein Hoch­ leistungsniederdruck-Heißpreßprozeß (bis zu 1 GPa) verwendet wurde. Die Sauerstoffkonzentration wurde unter Verwendung von Cu2O als Reduk­ tionsmittel und AgO als Oxidationsmittel reguliert. Durch Verwenden ei­ nes x von 0,25, 0,4, 0,5, 0,6 und 0,75 wurden gesinterte Proben erhalten, die eine Tc aufwiesen, die im Bereich von 110 K bis 125 K lag. Es kann erwartet werden, daß die derart erhaltenen, gesinterten Supraleiter die gleiche Supraleitungsanisotropie von γ < 4 zeigen, wie die, die unter Ver­ wendung des Hochdrucksyntheseprozesses von Beispiel 1 erhalten wird.
Beispiel 3
Es wurde ein Ba2Ca2Cu4O6- oder Ba2Ca2Cu5O10-Target verwendet, um ei­ nen amorphen Film auf einem Substrat aus SrTiO3, NdGaO3, LaAlO3, YSZ (Y-stabilisiertes ZrO2) oder LaSrGaO4 zu bilden. Der amorphe Film wurde dann zusammen mit einem Preßling aus Tlx-1223 oder Tlx-1234 (x = 0,1 bis 2) in eine versiegelte Kapsel aus Au, Ag, Inconel, Hastelloy, Alumini­ umoxid, AlN, BN oder desgleichen versiegelt und für 0,5 Minuten bis 10 Stunden auf 700 bis 920°C erhitzt, um Dünnfilme aus Cu1-xTlx-1234 und Cu1-xTlx-1223 zu erzeugen. Aus Fig. 5 ist zu sehen, daß diese Dünnfilme gute Eigenschaften in bezug auf die an der c-Achse ausgerichteten und an der ab-Achse ausgerichteten Proben zeigten. Wie es in Fig. 6 gezeigt ist, zeigten die Cu1-xTlx-1223- und Cu1-xTlx-1234-Dünnfilme jeweils eine Tc von 112 K bzw. 115 K. Wie im Fall eines Materialvorrats-Supraleiters (Bulk-Supraleiter) kann von den Dünnfilmen eine Supraleitungsanisotro­ pie von γ < 4 erwartet werden.
Beispiel 4
In bezug auf (Cu1-xTlx)(Ba1-ySry) Can-1CunO2n+4-w wurden Proben mittels des gleichen Syntheseprozesses wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei als Aus­ gangsmaterial eine Mischung aus dem Vorläufer von (Ba1-ySry)2Ca2Cu3O7 oder (Ba1-ySry)2Ca3Cu4O9 mit geeigneten Mengen an Tl2O3 und CuO oder Cu2O (mit AgO als Oxidationsmittel, wenn es wenig Tl2O3 gab) verwendet wurde, um (Cu1-xTlx)-1223 und (Cu1-xTlx)-1234 zu erzeugen, bei denen x 0,25 bis 0,75 betrug und y 0,25, 0,5 oder 0,75 be­ trug.
Beispiel 5
In bezug auf (Cu1-xTlx)Ba2(Ca1-zLiz)n-1CunO2n+4-w wurden Proben hergestellt, wobei als Ausgangsmaterial eine Mischung des Vorläufers aus Ba2(Ca1-zLiz)2Cu3O7 oder Ba2(Ca1-zLiz)3Cu4O7 und Tl2O3 und CuO oder Cu2O verwendet wurde, wobei AgO als Oxidationsmittel hinzugefügt wur­ de, wenn es wenig Tl2O3 gab. Das Hinzufügen des Li verkleinerte die Tc geringfügig, jedoch konnte eine Tc von mindestens 100 K erhalten werden. Wie bei dem Ersetzen von Cu durch Tl förderte das Ersetzen von Li- durch Ca-Stellen die Reaktion, bewirkte ein Absenken der Reaktionstemperatur und diente dazu, die Tl-Konzentration zu verkleinern.
Beispiel 6
In bezug auf (Cu1-xHgx)Ba2Can-1CunO2n+4-w wurden Proben hergestellt, in­ dem eine Hochdrucksynthese von Cu1-xHgx-1223-, -1234- und -1245-Zu­ sammensetzungen mit einem x von 0,25, 0,5 und 0,75 verwendet wurde, was zu einem Cu0,5-Hg0,5-1223-Supraleiter führte, der eine Tc von 120 K und ein γ von 4,0 zeigte. Es sollte möglich sein, die Tc weiter zu verbessern und die Supraleitungsanisotropie zu verkleinern, indem die Trägerkonzen­ tration optimiert wird.
Beispiel 7
In bezug auf (Cu1-xMx)Ba2Can-1CunO2n+4-w, bei dem das M Ag, Au, Bi, Pb, In, Sn, B, C, N, S, V, Cr, Mo, Re, OS oder Fe war, wurde eine Zusammen­ setzung erhalten, die bezüglich n = 3 und 4 im Bereich von x < 0,25 im wesentlichen einphasig war. Die Tc war im Fall eines Wertes von x < 0 niedriger. Deshalb sind diese Ersatzelemente wirksam, um Magnetflußan­ haftungszentren (Pinning-Zentren) zu bilden und sind als solche von praktischer Bedeutung.
Beispiel 8
Cu1-xMx(Ba1-y-mSryRm)2(Ca1-zLz)n-1CunO2n+4-w, bei dem M Tl war, R La, Pr, Ce oder Nd war, Y = 0 und m < 0,25 war, zeigte eine niedrigere Tc als Proben, bei denen m = 0. Diese Ersatzelemente sind darin wirksam, daß sie Ma­ gnetflußanhaftungszentren bilden.
Beispiel 9
Es wurden Proben hergestellt, die fünf CuO2-Schichten aus CuBa2Ca4Cu5O14-y(Cu-1245) aufwiesen, die durch Mischen des Vorläufers von Ba2Ca3Cu5Oy oder Ba2Ca4Cu Oy mit einer geeigneten Menge an AgO und Erhitzen der Zubereitungen für 1 bis 5 Stunden unter einem Druck von 3 bis 4,5 GPa auf 1100 bis 1150°C erzeugt wurden. Wie es in Fig. 7 gezeigt ist, war die Hauptkomponente der derart erhaltenen Proben eine Cu-1245-Phase. Die Tc betrug 115 K und die Supraleitungsanisotropie, wie sie aus dem magnetischen Suszeptibilitätsverhältnis gemessen wurde, betrug γ = 1,9, wie es in Fig. 8 gezeigt ist. Diese war höher als der abge­ schätzte Wert von 1,3, jedoch sollte es möglich sein, durch Vergrößern der Sauerstoffkonzentration und der Trägerkonzentration die Supraleitungs­ anisotropie weiter zu verringern.
Zusammengefaßt weist ein Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Su­ praleitungsanisotropie einen zweidimensionalen, geschichteten Aufbau aus Kristalleinheitszellen auf, die jeweils aus einem Paar aus einer supra­ leitenden Schicht und einer Ladungsreservoirschicht bestehen. Minde­ stens ein Teil der Atome der Ladungsreservoirschicht ist durch Atome er­ setzt, die Supraleitfähigkeit ergeben, was die Ladungsreservoirschicht su­ praleitend macht und die Supraleitungsanisotropie verringert, indem die Kohärenzlänge in Richtung der Dicke vergrößert ist.

Claims (5)

1. Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supraleitungsanisotropie, der einen zweidimensionalen, geschichteten Aufbau aus Kristallein­ heitszellen umfaßt, die jeweils durch ein Paar aus einer supraleiten­ den Schicht und einer Ladungsreservoirschicht, die senkrecht zu der supraleitenden Schicht vorgesehen ist, gebildet sind, wobei min­ destens ein Teil der Atome, welche die Ladungsreservoirschicht umfaßt, durch Atome ersetzt ist, die Supraleitfähigkeit ergeben, wo­ durch die Ladungsreservoirschicht metallisiert oder supraleitend gemacht ist, wobei die Dicke der supraleitenden Schicht vergrößert ist und deshalb die Kohärenzlänge in Richtung der Dicke auf der Grundlage des Unbestimmtheitsprinzips vergrößert ist, wodurch die Supraleitungsanisotropie verringert ist.
2. Supraleiter nach Anspruch 1, der einen Kupferoxidsupraleiter umfaßt, der eine Zusammensetzung aufweist, die ausgedrückt ist durch eine Formel Cu1-xMx(Ba1-ySry)2(Ca1-zLz)n-1CunO2n+4-w (wobei M mindestens ein Element ist, das aus einer Gruppe ausgewählt ist, die aus Tl, Hg, Bi, Pb, Au, In, Sn, Ag, Mo, Re, Os, Cr, V, Fe und Lanthanidenelementen besteht, L mindestens ein Element ist, das aus einer Gruppe ausge­ wählt ist, die aus Li, Na, Y und Lanthanidenelementen besteht, 0 ≦ x ≦ 1, 0 ≦ y ≦ 1, 0 ≦ z ≦ 1, 0 ≦ w ≦ 4 und 3 ≦ n ≦ 16).
3. Supraleiter nach Anspruch 1, der eine Zusammensetzung aufweist, die ausgedrückt ist durch eine Formel Cu1-xMx(Ba1-y-mSryRm)2(Ca1-zLz)n-1CunO2n+4-w (wobei M minde­ stens ein Element ist, das aus einer Gruppe ausgewählt ist, die aus Tl, Hg, Bi, Pb, Au, In, Sn, Ag, Mo, Re, Os, Cr, V, Fe und Lanthani­ denelementen besteht, R La, Pr, Ce oder Nd ist, L mindestens ein Element ist, das aus einer Gruppe ausgewählt ist, die aus Li, Na, Y und Lanthanidenelementen besteht, 0 ≦ x ≦ 1, 0 ≦ y ≦ 1, 0 ≦ z ≦ 1, 0 ≦ m ≦ 1, 0 ≦ y + m ≦ 1, 0 ≦ w ≦ 4 und 3 ≦ n ≦ 16).
4. Verfahren zum Herstellen eines Hochtemperatur-Supraleiters mit niedriger Supraleitungsanisotropie, der durch einen Einkristall oder einen kristallorientierten Film gebildet ist, der mindestens entlang einer a-Achse und einer c-Achse ausgerichtet ist und eine hohe kri­ tische Stromdichte Jc aufweist, das umfaßt, daß die Supraleiterzu­ sammensetzung von Anspruch 2 oder 3 auf ein Substrat aufge­ bracht wird, daß das Substrat in einer oxidationsbeständigen Kap­ sel versiegelt wird, und daß es in einem versiegelten Zustand für 0,01 bis 10 Stunden auf 600 bis 1100°C erhitzt wird.
5. Verfahren zum Herstellen eines Hochtemperatur-Supraleiters mit einer niedrigen Supraleitungsanisotropie, der durch einen Einkri­ stall- oder Materialvorrats-Supraleiter gebildet ist, der mit mindestes der a-Achse und der c-Achse ausgerichtet ist und eine hohe kriti­ sche Stromdichte Jc aufweist, das umfaßt, daß die Supraleiterzu­ sammensetzung von Anspruch 2 oder 3 auf ein Substrat aufge­ bracht wird, daß das Substrat in einer sauerstoffbeständigen Kapsel versiegelt wird, und daß es einem Druck von mindestens einer At­ mosphäre ausgesetzt wird.
DE19808762A 1997-02-28 1998-03-02 Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supraleiteranisotropie und Verfahren zur Herstellung des Supraleiters Ceased DE19808762A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP04452197A JP3289134B2 (ja) 1997-02-28 1997-02-28 不確定性原理に基づく低異方性高温超伝導体とその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE19808762A1 true DE19808762A1 (de) 1998-09-03

Family

ID=12693848

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19808762A Ceased DE19808762A1 (de) 1997-02-28 1998-03-02 Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supraleiteranisotropie und Verfahren zur Herstellung des Supraleiters

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6444620B2 (de)
JP (1) JP3289134B2 (de)
DE (1) DE19808762A1 (de)
FR (1) FR2760290B1 (de)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0987771A2 (de) * 1998-09-14 2000-03-22 Agency of Industrial Science and Technology of Ministry of International Trade and Industry Hochtemperatur-Supraleiter-Material auf Kupfer-Basis
EP1174391A1 (de) * 1999-03-26 2002-01-23 Japan Science and Technology Corporation Hochtemperatur supraleiter vom selektiv reduzierten typ und verfahren zur herstellung desselben.
RU2442837C1 (ru) * 2010-09-10 2012-02-20 Учреждение Российской академии наук ИНСТИТУТ ФИЗИКИ ТВЕРДОГО ТЕЛА РАН (ИФТТ РАН) Способ получения высокотемпературного сверхпроводника в системе литий-теллурид сурьмы

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2939544B1 (ja) * 1998-03-27 1999-08-25 工業技術院長 Mgドープ低異方性高温超伝導体とその製造方法
JP3579690B2 (ja) 2000-09-01 2004-10-20 独立行政法人 科学技術振興機構 複合酸化物系薄膜の作製方法及びその装置並びにそれにより作製した複合酸化物系薄膜。
US20040152599A1 (en) * 2002-11-21 2004-08-05 Allan Rosencwaig High-temperature superconductivity devices and methods
ES2553261T3 (es) * 2005-07-29 2015-12-07 American Superconductor Corporation Cables y bobinas superconductores a altas temperaturas

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2703036B2 (ja) * 1989-03-03 1998-01-26 株式会社日立製作所 超伝導物質
JP2859516B2 (ja) * 1993-06-25 1999-02-17 住友電気工業株式会社 酸化物超電導体およびその製造方法
JP2723173B2 (ja) 1993-12-07 1998-03-09 工業技術院長 高温超伝導体およびその製造方法
US5919735A (en) * 1994-11-04 1999-07-06 Agency Of Industrial Science And Technology High temperature superconductor

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0987771A2 (de) * 1998-09-14 2000-03-22 Agency of Industrial Science and Technology of Ministry of International Trade and Industry Hochtemperatur-Supraleiter-Material auf Kupfer-Basis
EP0987771A3 (de) * 1998-09-14 2004-01-28 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Independent Administrative Institution Hochtemperatur-Supraleiter-Material auf Kupfer-Basis
EP1174391A1 (de) * 1999-03-26 2002-01-23 Japan Science and Technology Corporation Hochtemperatur supraleiter vom selektiv reduzierten typ und verfahren zur herstellung desselben.
EP1174391A4 (de) * 1999-03-26 2006-06-21 Japan Science & Tech Agency Hochtemperatur supraleiter vom selektiv reduzierten typ und verfahren zur herstellung desselben.
RU2442837C1 (ru) * 2010-09-10 2012-02-20 Учреждение Российской академии наук ИНСТИТУТ ФИЗИКИ ТВЕРДОГО ТЕЛА РАН (ИФТТ РАН) Способ получения высокотемпературного сверхпроводника в системе литий-теллурид сурьмы

Also Published As

Publication number Publication date
FR2760290A1 (fr) 1998-09-04
FR2760290B1 (fr) 2003-07-25
JPH10236821A (ja) 1998-09-08
JP3289134B2 (ja) 2002-06-04
US6444620B2 (en) 2002-09-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69027005T2 (de) Eine supraleitende Dünnschicht
DE68922920T2 (de) Hochtemperatursupraleitendes Oxyd.
DE3855305T2 (de) Schichten von Supraleiteroxyden mit hohem Tc und Verfahren zu deren Herstellung
DE3854358T2 (de) Supraleitendes Oxid.
DE68911455T2 (de) Verfahren zum Herstellen eines Oxid-Supraleiters vom Bismut-Typ.
DE69016283T2 (de) Substrat mit einer supraleitenden Schicht.
DE69115957T2 (de) Verfahren zum Herstellen hochtemperatursupraleitender Dünnschichten
DE69121457T2 (de) Supraleitendes Oxid und Verfahren zu seiner Herstellung
DE69112520T2 (de) Supraleitende Dünnschicht-Oxydverbindung und Verfahren zu deren Herstellung.
DE3810243C2 (de) Supraleitende Dünnfilme und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE69017112T2 (de) Supraleitende Dünnschicht aus Oxid und Verfahren zu deren Herstellung.
DE19808762A1 (de) Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supraleiteranisotropie und Verfahren zur Herstellung des Supraleiters
DE68927895T2 (de) Verfahren zum Herstellen eines einkristallinen oxidischen Supraleitermaterials
DE3853900T2 (de) Supraleitendes Material und Verfahren zu seiner Herstellung.
DE69509844T2 (de) Oxidischer Supraleiter und Verfahren zu seiner Herstellung
DE69224064T2 (de) Verfahren zur herstellung von formkörpern aus hochtemperatursupraleitern mit hohen kritischen stromdichten
DE68913787T2 (de) Isolierende oxidische Zusammensetzung zur Verwendung in einer supraleitenden Anordnung.
DE3854493T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Dünnschichtsupraleiters.
DE68908256T2 (de) Supraleitende dünne Schichten mit hoher Stromdichte und Verfahren zur ihrer Herstellung.
DE68907295T2 (de) Verfahren zum Herstellen einer supraleitenden Dünnschicht vom Wismut-Typ.
DE68914921T2 (de) Prozess zur Herstellung thalliumartiger supraleitender Dünnfilme.
DE3885153T2 (de) Methode zur Herstellung einer supraleitenden Dünnschicht.
DE68928256T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer supraleitenden Dünnenschicht des Perovskit-Typs
DE69103853T2 (de) Oxidische Supraleiter und Verfahren zu ihrer Herstellung.
DE69014437T3 (de) Verfahren zur herstellung eines supraleitfähigen drahts vom keramischen typ.

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8131 Rejection