DE19808762A1 - Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supraleiteranisotropie und Verfahren zur Herstellung des Supraleiters - Google Patents
Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supraleiteranisotropie und Verfahren zur Herstellung des SupraleitersInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft einen Hochtemperatur-Supraleiter, der
eine niedrige Supraleitungsanisotropie, eine hohe kritische Stromdichte
(Jc), ein starkes irreversibles Feld (Hirr) und eine lange Kohärenzlänge ξc
in einer Richtung senkrecht zu der Ebene (wobei die Richtung die c-Ach
sen-Richtung und die Grenzflächenebene die ab-Achse ist) und eine Su
praleitungssprungtemperatur (Tc) von beispielsweise 100 K oder mehr
aufweist, und ein Verfahren zur Herstellung des Supraleiters.
Es ist angenommen worden, daß eine hohe Tc eng mit der hohen Supra
leitungsanisotropie (Zweidimensionalität) von Supraleitungseigenschaften
in Beziehung steht. Bekannte Hochtemperatur-Supraleiter, die einen zwei
dimensionalen, geschichteten Aufbau aufweisen, der aus Ladungsreser
voirschichten und supraleitenden Schichten besteht, umfassen Kupfer
oxidsupraleiter auf Y-, Bi-, Tl- und Hg-Basis.
Weil außerdem in diesen Supraleitern, die einen geschichteten Aufbau
aufweisen, die Ladungsreservoirschicht eine Isolationsschicht oder nicht
supraleitende Schicht mit niedriger Supraleitungskopplung in der c-Ach
sen-Richtung und deshalb einem kleinen Wechselwirkungseffekt zwischen
supraleitenden Schichten ist, weshalb zusätzlich dazu die Kohärenzlänge
entlang der c-Achse kurz ist, ist die Supraleitungsanisotropie γ groß, wo
bei sie in der Größenordnung von 4-5 bis 300 liegt (für γ, das als das
Verhältnis der Kohärenzlänge, die Quadratwurzel aus dem effektiven
Elektronenmassenverhältnis oder das Magnetfeldeindringtiefenverhältnis
definiert ist, gilt γ = ξab/ξc = (mc/mab)1/2 = λc/λab).
Als solches werden die Jc, insbesondere die Jc unter einem starken Ma
gnetfeld, und das Hirr, das obere Grenzmagnetfeld, bei dem elektrischer
Widerstand erzeugt wird, klein, was viele Probleme für den praktischen
Gebrauch als Draht oder supraleitendes Vorratsmaterial aufwirft.
Des weiteren bedeutet die große Supraleitungsanisotropie, daß die Kohä
renzlänge ξc in der c-Achsen-Richtung klein ist, so daß, wenn es als Mate
rial für eine supraleitende Vorrichtung verwendet wird, die Eigenschaften,
insbesondere die Josephson-Stromdichte, der supraleitenden Vorrichtung
vom Typ mit geschichtetem Aufbau ungeeignet sind. In der JP-A-Hei
8-183614 schlugen die Erfinder, die den gegenwärtigen Erfinder mit ein
schließen, einen Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supraleitungs
anisotropie, einer langen Kohärenzlänge in der c-Achsen-Richtung und
einer großen Stromdichte unter einem starken Magnetfeld vor, wobei eine
Matrix aus Kupfer, Sauerstoff und Erdalkalimetallelementen statt Tl, Hg
oder anderen derartigen Elementen, die schädlich und selten sind, ver
wendet wird.
Es gibt Berichte, die niedrige Supraleitungsanisotropie in bezug auf so
wohl Hg-1201-Supraleiter auf Hg-Basis (HgBa2CuO4+y) als auch Supralei
ter mit infinitem Schichtaufbau (Sr1-xLaxCuO2) in Anspruch nehmen, je
doch sind auf der Grundlage der Forschung des Erfinders derartige Su
praleiter keine Supraleiter mit niedriger Anisotropie.
Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen Hochtemperatur-
Supraleiter zu schaffen, dessen Supraleitungsanisotropie niedrig ist, wobei
supraleitende Elektronen in der Lage sind, sich nicht nur in der Ebene der
Schichten (ab-Achsen-Richtung) sondern auch senkrecht zu dieser zu be
wegen, und der eine brauchbar große kritische Stromdichte unter Bedin
gungen einer hohen Temperatur und eines starken Magnetfeldes zeigt,
und ein Verfahren zur Herstellung des Supraleiters zu schaffen.
Eine andere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen Hochtempe
ratur-Supraleiter zu schaffen, der eine niedrige Supraleitungsanisotropie
und ausgezeichnete magnetische Eigenschaften aufweist, was eine starke
Kopplung zwischen den supraleitenden Schichten, die durch die Ladungs
reservoirschicht vermittelt wird, eine starke Magnetflußanhaftungsfähig
keit und ein starkes Null-Widerstand-Magnetfeld erzeugt, und ein Verfah
ren zur Herstellung des Supraleiters zu schaffen.
Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen Hochtempe
ratur-Supraleiter mit niedriger Supraleitungsanisotropie zu schaffen, der
eine lange Kohärenzlänge in der c-Achsen-Richtung aufweist, und ein
Verfahren zur Herstellung des Supraleiters zu schaffen.
Erfindungsgemäß wird die obige Aufgabe erfüllt, indem ein Hochtempe
ratur-Supraleiter mit niedriger Supraleitungsanisotropie geschaffen wird,
der einen zweidimensionalen, geschichteten Aufbau aus Gittereinheitszel
len umfaßt, die jeweils durch ein Paar aus einer supraleitenden Schicht
und einer Ladungsreservoirschicht, die senkrecht zu der supraleitenden
Schicht vorgesehen ist, gebildet sind, wobei mindestens ein Teil der Ato
me, welche die Ladungsreservoirschicht umfaßt, durch Atome ersetzt ist,
die Supraleitfähigkeit ergeben, wodurch die Ladungsreservoirschicht me
tallisiert oder supraleitend gemacht wird, wobei die Dicke der supraleiten
den Schicht vergrößert ist und deshalb die Kohärenzlänge in Richtung der
Dicke auf der Grundlage des Unbestimmtheitsprinzips vergrößert ist, wo
durch die Supraleitungsanisotropie verringert ist.
Kupfer und Sauerstoff sind Beispiele von Atomen, die Supraleitfähigkeit
ergeben. Der Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supraleitungsan
isotropie kann durch ein Verfahren hergestellt werden, das umfaßt, daß
das Ausgangsmaterial des Supraleiters auf ein Einkristallsubstrat oder ein
kristallorientiertes Substrat aufgebracht wird, daß das Substrat in einer
oxidationsbeständigen Kapsel versiegelt wird, und daß ein vorgeschriebe
ner Druck und eine vorgeschriebene Wärme auf die Kapsel angewandt
werden.
Wie es im vorhergehenden beschrieben ist, wird durch Vergrößern der
Dicke der supraleitenden Schicht des erfindungsgemäßen Supraleiters der
Unbestimmtheitsbereich (die Dicke) der supraleitenden Elektronen in der
senkrechten Richtung (c-Achsen-Richtung) gemäß dem Unbestimmtheits
prinzip ausgedehnt, was es möglich macht, die Kohärenzlänge in Richtung
der c-Achse zu vergrößern, wodurch die Supraleitungsanisotropie auf ein
sehr niedriges Niveau verringert werden kann.
Indem einige oder alle Atome, welche die Ladungsreservoirschicht bilden,
die abwechselnd mit der supraleitenden Schicht vorhanden ist, durch
Atome, die Supraleitfähigkeit ergeben, ersetzt werden, wodurch die La
dungsreservoirschichten metallisiert oder supraleitend gemacht werden,
wird die Supraleitungskopplung verstärkt und eine freie Bewegung der
supraleitenden Elektronen gestattet.
Die Erfindung wird im folgenden beispielhaft anhand der Zeichnung be
schrieben, in dieser zeigt:
Fig. 1 ein Schaubild, das ein Beispiel eines Modells einer Kri
stalleinheitszelle eines erfindungsgemäßen Hochtempe
ratur-Supraleiters mit niedriger Supraleitungsanisotro
pie zeigt,
Fig. 2(a) eine graphische Darstellung, welche die Temperaturab
hängigkeit des spezifischen elektrischen Widerstandes
einer Cu1-xTlx-1234-Probe zeigt, bei der x 0,4 beträgt,
Fig. 2(b) eine graphische Darstellung, welche die Temperaturab
hängigkeit des spezifischen elektrischen Widerstandes
einer Cu1-xTlx-1234-Probe zeigt, bei der x 0,5 beträgt,
Fig. 2(c) eine graphische Darstellung, welche die Temperaturab
hängigkeit des spezifischen elektrischen Widerstandes
einer Cu1-xTlx-1234-Probe zeigt, bei der x 0,6 beträgt,
Fig. 3 ein Schaubild, das die Supraleitungssprungtemperatur
über die Tl-Konzentration x einer Cu1-xTlx-1234-Probe
aufgetragen zeigt,
Fig. 4 den Zusammenhang zwischen der Temperatur und der
Supraleitungsanisotropie (γ = ξc/χb), die aus dem ma
gnetischen Suszeptibilitätsverhältnis einer
Cu1-xTlx-1234-Probe erhalten wird,
Fig. 5(a) ein Röntgenbeugungsmuster, das die starke (OOℓ-Orien
tierung eines Cu1-xTlx-1223-Dünnfilms zeigt,
Fig. 5(b) ein Röntgenbeugungsmuster, das die starke (OOℓ-Orien
tierung eines Cu1-xTlx-1234-Dünnfilms zeigt,
Fig. 5(c) ein Röntgenbeugungsmuster, das die starke ab-Achsen-
Orientierung eines Cu1-xTlx-1234-Dünnfilms zeigt,
Fig. 6(a) ein Schaubild, das die Temperaturabhängigkeit des spe
zifischen elektrischen Widerstandes eines Cu1-xTlx-1223-
Dünnfilms mit Tc = 112 K zeigt,
Fig. 6(b) ein Schaubild, das die Temperaturabhängigkeit des spe
zifischen elektrischen Widerstandes eines Cu1-xTlx-1234-
Dünnfilms mit Tc = 115 K zeigt,
Fig. 7 ein Röntgenbeugungsmuster einer Cu-1245-Pulverprobe,
der eine c-Achsen-Orientierung gegeben worden ist, und
Fig. 8 den Zusammenhang zwischen der Temperatur und der
Supraleitungsanisotropie, die aus dem magnetischen
Suszeptibilitätsverhältnis einer Cu-1245-Probe mit einer
c-Achsen-Orientierung erhalten wird.
Fig. 1 ist ein Schaubild, das ein Beispiel eines Modells einer Kristallein
heitszelle eines erfindungsgemäßen Hochtemperatur-Supraleiters mit
niedriger Supraleitungsanisotropie zeigt. Wie es in der Zeichnung gezeigt
ist, umfaßt eine Einheitszelle 1 ein Paar aus einer supraleitenden Schicht
2 und einer Ladungsreservoirschicht 3, die entlang der c-Achse vorgese
hen sind. Die supraleitende Schicht 2 weist fünf CuO2-Schichten 4 auf.
Diese Einheitszellen, die jeweils ungefähr 3,85 × 3,85 × 18,0 Å messen,
sind so miteinander verbunden, daß sich die Schichten 2 und 3 abwech
seln, um abhängig davon, wofür der Supraleiter verwendet werden wird,
einen Hochtemperatur-Supraleiter in Einkristall-, Film- oder Materialvor
ratsform zu bilden. Erfindungsgemaß wird durch Vergrößern der Dicke
der supraleitenden Schicht 2, die einen geschichteten Aufbau aufweist,
der Unbestimmtheitsbereich (die Dicke) der supraleitenden Elektronen in
der c-Achsen-Richtung gemäß dem Unbestimmtheitsprinzip ausgedehnt,
was es hinsichtlich des Kristallaufbaus möglich macht, die Kohärenzlänge
ξc in der c-Achsen-Richtung zu vergrößern, wodurch die Supraleitungsan
isotropie γ auf ein sehr niedriges Niveau verringert werden kann.
Außerdem sind einige oder alle Atome, welche die Ladungsreservoirschicht
bilden, durch Atome ersetzt, die Supraleitfähigkeit ergeben, um die La
dungsreservoirschicht zu metallisieren oder supraleitend zu machen. Auf
der Grundlage einer anderen Schlußfolgerung, die aus dem Unbestimmt
heitsprinzip abgeleitet wird, gilt jedoch, daß, weil die Supraleitungs-Kohä
renzlänge proportional zur Fermi-Geschwindigkeit VF ist, ein Metallisieren
oder Supraleitendmachen der Ladungsreservoirschicht die VF-Komponente
in der c-Achsen-Richtung vergrößert, was hinsichtlich des Elektronenauf
baus die Kohärenzlänge ξc vergrößert, wodurch es ermöglicht wird, daß
die Supraleitungsanisotropie verringert wird.
Ein Kupferoxid, das durch die Formel
Cu1-xMx(Ba1-ySry)2(Ca1-zLz)n-1CunO2n+4-w dargestellt ist (wobei M ein oder
mehrere Elemente sind, die aus der Gruppe ausgewählt sind, die aus Tl,
Hg, Bi, Pb, Au, In, Sn, Ag, Mo, Re, Os, Cr, V, Fe und Lanthanidenelemen
ten besteht, L ein oder mehrere Elemente sind, die aus der Gruppe aus
gewählt sind, die aus Li, Na, Y und Lanthanidenelementen besteht,
0 ≦ x < 1, 0 ≦ y ≦ 1, 0 ≦ z ≦ 1, 0 ≦ w ≦ 4 und 3 ≦ n ≦ 16), kann als ein Bei
spiel einer bevorzugten Zusammensetzung für den Supraleiter dieser Er
findung angeführt werden.
Im Fall dieses Kupferoxidsupraleiters ist die Kopplung zwischen der La
dungsreservoirschicht und der supraleitenden Schicht des Supraleiters
dadurch verstärkt, daß die Anzahl n von (Ca1-zLz)n-1CunO2n-Schichten ver
größert ist, daß die Ladungsreservoirschicht (Cu1-xMx) (Ba1-ySry)2O4-w, die
mit der supraleitenden Schicht verbunden ist, metallisiert ist, und auch
durch die ursprüngliche, intrinsische Supraleitfähigkeit der Ladungsre
servoirschicht. Infolgedessen ist der Unbestimmtheitsbereich (die Dicke)
der supraleitenden Elektronen in der c-Achsen-Richtung gemaß dem Un
bestimmtheitsprinzip vergrößert, wodurch die Kohärenzlänge ξc vergrößert
und die Supraleitungsanisotropie verkleinert ist.
Im Fall irgendeines Kupferoxidsupraleiters kann die Kohärenzlänge ξc
empirisch ausgedrückt werden als ξc = 0,32(n-1)nm, ξab = 1,6 nm, was
eine Supraleitungsanisotropie γ = ξab/ξc = 5/(n-1) ergibt, so kann im Fall
von Supraleitern, bei denen n drei oder mehr beträgt, falls die Trägerkon
zentration ausreicht, eine Supraleitungsanisotropie von γ < 4 verwirklicht
werden.
Des weiteren kann in bezug auf die obigen Kupferoxidsupraleiter die
Durchschnittsvalenzzahl des Kupfers ausgedrückt werden als Z = 2 + (4 -
2w)/(n + 1) < 2 + 4/(n + 1), und von n = 1 bis 16 wird Z nicht kleiner als
2,25 sein, so daß ein Verkleinern der Konzentration der Sauerstoffleer
stellen w eine ausreichende Trägerzufuhr ermöglicht, um eine Supralei
tungsanisotropie von γ < 4 zu verwirklichen.
Außerdem kann diese Erfindung nicht nur auf Kupferoxidsupraleiter an
gewandt werden, sondern ist universell auf andere Supraleiter anwendbar,
die einen geschichteten Aufbau aufweisen. Beispielsweise kann ein Supra
leiter verwendet werden, der eine Zusammensetzung aufweist, die als
Cu1-xMx(Ba1-y-mSryRm)2 ausgedrückt wird (wobei 0 ≦ m ≦ 1 und
0 ≦ y + m ≦ 1) und durch teilweises Ersetzen des Ba in der
Cu1-xMx(Ba1-ySry)2O4-w-Ladungsreservoirschicht des obigen Kupferoxidsu
praleiters durch ein Lanthanidenelement gebildet wird.
Der oben beschriebene Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supra
leitungsanisotropie kann durch ein bekanntes Ungleichgewichtsverfahren,
wie Hochdrucksynthese, Heißpressen, HIP (isostatische Hochtemperatur
verarbeitung = high-temperature isostatic processing), Sputtern oder La
serabtragen hergestellt werden. Das Sputtertarget kann ein gesintertes
Material sein, das die gleiche Zusammensetzung wie der herzustellende
Supraleiter aufweist, oder es kann ein Target aus jedem der Elemente ge
bildet werden, die lagenweise zu atomaren Schichten verbunden werden
sollen. Sputtern oder Laserabtragen wird unter Verwendung von beispiels
weise Einkristallsubstrat aus SrTiO3, NdGaO3, LaAlO3, YSZ (Y-stabilisier
tes ZrO2) oder LaSrCaO4 oder dergleichen bei einer Substrattemperatur
von 300 bis 800°C und einem Sauerstoffdruck von 0,01 bis 1 Torr durch
geführt. Eine ideale Anzahl von CuO2-Schichten ist vier bis sechs, was
durch Steuern der Zusammensetzungsverhältnisse der Ausgangsmateria
lien, die Reaktionstemperatur, die Reaktionszeit und andere derartige Be
dingungen bestimmt ist.
Der erfindungsgemäße Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supra
leitungsanisotropie ist durch einen Aufbau gekennzeichnet, der durch
Ablagern oder Aufbringen der obigen Ausgangsmaterialien des Supralei
ters auf das oben beschriebene Einkristallsubstrat oder auf das kristall
orientierte Filmsubstrat zusammengesetzt ist, die dann zusammen mit ei
nem Beschleuniger für Tl usw. und einem Aufbaustabilisator in einer
Gold-, Silber, Inconel-, Hastelloy-, Aluminiumoxid, AlN, BN oder anderen
derartigen oxidationsbeständigen Metall- oder Keramikkapsel versiegelt
und für 0,01 bis 10 Stunden auf 600 bis 1100°C erhitzt wurden, um da
durch einen Einkristall oder einen kristallorientierten Film zu erhalten,
der mindestens entlang der a-Achse und der c-Achse ausgerichtet ist und
eine hohe kritische Stromdichte Jc aufweist. Das Ausgangsmaterial des
Supraleiters kann auch auf das Einkristallsubstrat oder das kristallorien
tierte Filmsubstrat aufgebracht werden, das dann in einer oxidationsbe
ständigen Kapsel versiegelt und unter einem Druck von 1 bis 10 Atmo
sphären auf 600 bis 1100°C erhitzt wird, um Vorrats- (bulk) oder Einkri
stall-Supraleitungsmaterialien mit einer hohen kritischen Stromdichte Jc
zu synthetisieren, die entlang von mindestens der a-Achse und der
c-Achse ausgerichtet sind.
Es kann auch ein Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supralei
tungsanisotropie und einer hohen kritischen Stromdichte Jc erhalten
werden, dessen Körner mindestens entlang der a-Achse und der c-Achse
ausgerichtet sind, indem amorphes Supraleitermaterial statt des Aus
gangsmaterials auf das Substrat aufgebracht wird, das dann in einer oxi
dationsbeständigen Kapsel versiegelt und wie oben beschrieben gepreßt
und erhitzt wird.
Erfindungsgemäß kann ein Hochtemperatur-Supraleiter erhalten werden,
der eine bisher unerreichbare Supraleitungsanisotropie γ von 4 oder weni
ger oder selbst eine quasi-isotropische, niedrige Supraleitungsanisotropie
in der Nähe von 1 aufweist, wodurch es möglich gemacht wird, einen
Draht, ein Vorratsmaterial oder eine Vorrichtung unter Verwendung eines
Hochtemperatur-Supraleitungsmaterials zu entwickeln, das eine lange
Kohärenzlänge von ξc = 1 nm aufweist, was es zu einem idealen Material
macht, um Josephson-Vorrichtungen vom Mehrschicht-Übergangstyp mit
einer hohen Jc und Grenzflächenisotropie herzustellen.
Während es außerdem früher akzeptiertes Wissen war, daß eine hohe Tc
eng mit hoher Supraleitungsanisotropie (Zweidimensionalität) in Bezie
hung steht, ist dieses akzeptierte Wissen durch diese Erfindung umgesto
ßen, gemäß welcher ein Hochtemperatur-Supraleiter erhalten werden
kann, der eine Supraleitungsanisotropie aufweist, die so niedrig ist, daß
sie dicht bei Isotropie liegt. Daher ist die wissenschaftliche Auswirkung
der Erfindung bedeutend, und sie schafft auch einen wichtigen Indikator
in bezug auf eine Erklärung des Mechanismus von Hochtemperatur-Su
praleitfähigkeit.
Die folgenden Beispiele beschreiben bevorzugte Ausführungsformen dieser
Erfindung. Jedoch sind die Beispiele nicht als die Erfindung begrenzend
aufzufassen.
Es wurden Proben aus Cu1-xTlxBa2Ca3Cu4O12-w(Cu1-xTlx-1234), das unter
Cu1-xTlxBa2Can-1CunO2n+4-w die höchste Tc aufweist, hergestellt, indem als
Ausgangsmaterial eine Mischung des Vorläufers aus Ba2Ca3Cu4O9, CuO
und Tl2O3 verwendet wurde, die eingestellt worden war, um sechs Mi
schungen mit einem x von jeweils 0, 0,24, 0,4, 0,5, 0,6 und 0,75 zu erzeu
gen. Um die Sauerstoffkonzentration zu steuern, wurde Cu2O als Redukti
onsmittel und AgO als Oxidationsmittel verwendet. Die Proben wurden
hergestellt, indem die Mischungen für 1 bis 3 Stunden auf 900 bis 1100°C
unter einem Druck von 3 GPa erhitzt wurden.
Fig. 2 zeigt den Zusammenhang zwischen der Temperatur und dem spezi
fischen elektrischen Widerstand der Proben in bezug auf Proben, bei de
nen x 0,4 im Fall von Fig. 2(a), 0,5 im Fall von Fig. 2(b) und 0,6 im Fall von
Fig. 2(c) beträgt. Im Zustand, wie gesintert, zeigten die Proben mit der ho
hen Sauerstoffkonzentration (hohe Trägerkonzentration) eine Tc von 123 K
(Fig. 2(a), 2(b), 2(c)), wobei ausgeheilte (annealed) Proben, die eine opti
male Trägerkonzentration aufwiesen, die höchste Tc von 126 K zeigten
(Fig. 2(a)).
Wie es in Fig. 3 gezeigt ist, wiesen alle Proben, bei denen x im Bereich von
0 ≦ x ≦ 1 lag, eine Tc auf, die im Bereich von 118K bis 126K lag. Wie es in
Fig. 4 gezeigt ist, konnte Proben, bei denen x 0,4 betrug, auch eine Supra
leitungsanisotropie von γ < 4 bei 20 bis 40 K gegeben werden. Die hier ge
zeigten Supraleitungsanisotropiewerte wurden auf der Grundlage von Pro
ben erhalten, die mit einer optimalen Trägermenge dotiert waren, um die
Tc zu erhöhen. Supraleiter mit einer noch niedrigeren Supraleitungsani
sotropie können durch Vergrößern der Trägerkonzentration erhalten wer
den.
Das Cu1-xTlx-1234 von Beispiel 1 und
Cu1-xTlxBa2Ca2Cu3O10-w(Cu1-xTlx-1223) wurde hergestellt, indem ein Hoch
leistungsniederdruck-Heißpreßprozeß (bis zu 1 GPa) verwendet wurde. Die
Sauerstoffkonzentration wurde unter Verwendung von Cu2O als Reduk
tionsmittel und AgO als Oxidationsmittel reguliert. Durch Verwenden ei
nes x von 0,25, 0,4, 0,5, 0,6 und 0,75 wurden gesinterte Proben erhalten,
die eine Tc aufwiesen, die im Bereich von 110 K bis 125 K lag. Es kann
erwartet werden, daß die derart erhaltenen, gesinterten Supraleiter die
gleiche Supraleitungsanisotropie von γ < 4 zeigen, wie die, die unter Ver
wendung des Hochdrucksyntheseprozesses von Beispiel 1 erhalten wird.
Es wurde ein Ba2Ca2Cu4O6- oder Ba2Ca2Cu5O10-Target verwendet, um ei
nen amorphen Film auf einem Substrat aus SrTiO3, NdGaO3, LaAlO3, YSZ
(Y-stabilisiertes ZrO2) oder LaSrGaO4 zu bilden. Der amorphe Film wurde
dann zusammen mit einem Preßling aus Tlx-1223 oder Tlx-1234 (x = 0,1
bis 2) in eine versiegelte Kapsel aus Au, Ag, Inconel, Hastelloy, Alumini
umoxid, AlN, BN oder desgleichen versiegelt und für 0,5 Minuten bis 10
Stunden auf 700 bis 920°C erhitzt, um Dünnfilme aus Cu1-xTlx-1234 und
Cu1-xTlx-1223 zu erzeugen. Aus Fig. 5 ist zu sehen, daß diese Dünnfilme
gute Eigenschaften in bezug auf die an der c-Achse ausgerichteten und an
der ab-Achse ausgerichteten Proben zeigten. Wie es in Fig. 6 gezeigt ist,
zeigten die Cu1-xTlx-1223- und Cu1-xTlx-1234-Dünnfilme jeweils eine Tc
von 112 K bzw. 115 K. Wie im Fall eines Materialvorrats-Supraleiters
(Bulk-Supraleiter) kann von den Dünnfilmen eine Supraleitungsanisotro
pie von γ < 4 erwartet werden.
In bezug auf (Cu1-xTlx)(Ba1-ySry) Can-1CunO2n+4-w wurden Proben mittels des
gleichen Syntheseprozesses wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei als Aus
gangsmaterial eine Mischung aus dem Vorläufer von
(Ba1-ySry)2Ca2Cu3O7 oder (Ba1-ySry)2Ca3Cu4O9 mit geeigneten Mengen an
Tl2O3 und CuO oder Cu2O (mit AgO als Oxidationsmittel, wenn es wenig
Tl2O3 gab) verwendet wurde, um (Cu1-xTlx)-1223 und (Cu1-xTlx)-1234 zu
erzeugen, bei denen x 0,25 bis 0,75 betrug und y 0,25, 0,5 oder 0,75 be
trug.
In bezug auf (Cu1-xTlx)Ba2(Ca1-zLiz)n-1CunO2n+4-w wurden Proben hergestellt,
wobei als Ausgangsmaterial eine Mischung des Vorläufers aus
Ba2(Ca1-zLiz)2Cu3O7 oder Ba2(Ca1-zLiz)3Cu4O7 und Tl2O3 und CuO oder
Cu2O verwendet wurde, wobei AgO als Oxidationsmittel hinzugefügt wur
de, wenn es wenig Tl2O3 gab. Das Hinzufügen des Li verkleinerte die Tc
geringfügig, jedoch konnte eine Tc von mindestens 100 K erhalten werden.
Wie bei dem Ersetzen von Cu durch Tl förderte das Ersetzen von Li- durch
Ca-Stellen die Reaktion, bewirkte ein Absenken der Reaktionstemperatur
und diente dazu, die Tl-Konzentration zu verkleinern.
In bezug auf (Cu1-xHgx)Ba2Can-1CunO2n+4-w wurden Proben hergestellt, in
dem eine Hochdrucksynthese von Cu1-xHgx-1223-, -1234- und -1245-Zu
sammensetzungen mit einem x von 0,25, 0,5 und 0,75 verwendet wurde,
was zu einem Cu0,5-Hg0,5-1223-Supraleiter führte, der eine Tc von 120 K
und ein γ von 4,0 zeigte. Es sollte möglich sein, die Tc weiter zu verbessern
und die Supraleitungsanisotropie zu verkleinern, indem die Trägerkonzen
tration optimiert wird.
In bezug auf (Cu1-xMx)Ba2Can-1CunO2n+4-w, bei dem das M Ag, Au, Bi, Pb,
In, Sn, B, C, N, S, V, Cr, Mo, Re, OS oder Fe war, wurde eine Zusammen
setzung erhalten, die bezüglich n = 3 und 4 im Bereich von x < 0,25 im
wesentlichen einphasig war. Die Tc war im Fall eines Wertes von x < 0
niedriger. Deshalb sind diese Ersatzelemente wirksam, um Magnetflußan
haftungszentren (Pinning-Zentren) zu bilden und sind als solche von
praktischer Bedeutung.
Cu1-xMx(Ba1-y-mSryRm)2(Ca1-zLz)n-1CunO2n+4-w, bei dem M Tl war, R La, Pr, Ce
oder Nd war, Y = 0 und m < 0,25 war, zeigte eine niedrigere Tc als Proben,
bei denen m = 0. Diese Ersatzelemente sind darin wirksam, daß sie Ma
gnetflußanhaftungszentren bilden.
Es wurden Proben hergestellt, die fünf CuO2-Schichten aus
CuBa2Ca4Cu5O14-y(Cu-1245) aufwiesen, die durch Mischen des Vorläufers
von Ba2Ca3Cu5Oy oder Ba2Ca4Cu Oy mit einer geeigneten Menge an AgO
und Erhitzen der Zubereitungen für 1 bis 5 Stunden unter einem Druck
von 3 bis 4,5 GPa auf 1100 bis 1150°C erzeugt wurden. Wie es in Fig. 7
gezeigt ist, war die Hauptkomponente der derart erhaltenen Proben eine
Cu-1245-Phase. Die Tc betrug 115 K und die Supraleitungsanisotropie,
wie sie aus dem magnetischen Suszeptibilitätsverhältnis gemessen wurde,
betrug γ = 1,9, wie es in Fig. 8 gezeigt ist. Diese war höher als der abge
schätzte Wert von 1,3, jedoch sollte es möglich sein, durch Vergrößern der
Sauerstoffkonzentration und der Trägerkonzentration die Supraleitungs
anisotropie weiter zu verringern.
Zusammengefaßt weist ein Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Su
praleitungsanisotropie einen zweidimensionalen, geschichteten Aufbau
aus Kristalleinheitszellen auf, die jeweils aus einem Paar aus einer supra
leitenden Schicht und einer Ladungsreservoirschicht bestehen. Minde
stens ein Teil der Atome der Ladungsreservoirschicht ist durch Atome er
setzt, die Supraleitfähigkeit ergeben, was die Ladungsreservoirschicht su
praleitend macht und die Supraleitungsanisotropie verringert, indem die
Kohärenzlänge in Richtung der Dicke vergrößert ist.
Claims (5)
1. Hochtemperatur-Supraleiter mit niedriger Supraleitungsanisotropie,
der einen zweidimensionalen, geschichteten Aufbau aus Kristallein
heitszellen umfaßt, die jeweils durch ein Paar aus einer supraleiten
den Schicht und einer Ladungsreservoirschicht, die senkrecht zu
der supraleitenden Schicht vorgesehen ist, gebildet sind, wobei min
destens ein Teil der Atome, welche die Ladungsreservoirschicht
umfaßt, durch Atome ersetzt ist, die Supraleitfähigkeit ergeben, wo
durch die Ladungsreservoirschicht metallisiert oder supraleitend
gemacht ist, wobei die Dicke der supraleitenden Schicht vergrößert
ist und deshalb die Kohärenzlänge in Richtung der Dicke auf der
Grundlage des Unbestimmtheitsprinzips vergrößert ist, wodurch die
Supraleitungsanisotropie verringert ist.
2. Supraleiter nach Anspruch 1,
der einen Kupferoxidsupraleiter umfaßt, der eine Zusammensetzung
aufweist, die ausgedrückt ist durch eine Formel
Cu1-xMx(Ba1-ySry)2(Ca1-zLz)n-1CunO2n+4-w (wobei M mindestens ein
Element ist, das aus einer Gruppe ausgewählt ist, die aus Tl, Hg, Bi,
Pb, Au, In, Sn, Ag, Mo, Re, Os, Cr, V, Fe und Lanthanidenelementen
besteht, L mindestens ein Element ist, das aus einer Gruppe ausge
wählt ist, die aus Li, Na, Y und Lanthanidenelementen besteht,
0 ≦ x ≦ 1, 0 ≦ y ≦ 1, 0 ≦ z ≦ 1, 0 ≦ w ≦ 4 und 3 ≦ n ≦ 16).
3. Supraleiter nach Anspruch 1,
der eine Zusammensetzung aufweist, die ausgedrückt ist durch eine
Formel Cu1-xMx(Ba1-y-mSryRm)2(Ca1-zLz)n-1CunO2n+4-w (wobei M minde
stens ein Element ist, das aus einer Gruppe ausgewählt ist, die aus
Tl, Hg, Bi, Pb, Au, In, Sn, Ag, Mo, Re, Os, Cr, V, Fe und Lanthani
denelementen besteht, R La, Pr, Ce oder Nd ist, L mindestens ein
Element ist, das aus einer Gruppe ausgewählt ist, die aus Li, Na, Y
und Lanthanidenelementen besteht, 0 ≦ x ≦ 1, 0 ≦ y ≦ 1, 0 ≦ z ≦ 1,
0 ≦ m ≦ 1, 0 ≦ y + m ≦ 1, 0 ≦ w ≦ 4 und 3 ≦ n ≦ 16).
4. Verfahren zum Herstellen eines Hochtemperatur-Supraleiters mit
niedriger Supraleitungsanisotropie, der durch einen Einkristall oder
einen kristallorientierten Film gebildet ist, der mindestens entlang
einer a-Achse und einer c-Achse ausgerichtet ist und eine hohe kri
tische Stromdichte Jc aufweist, das umfaßt, daß die Supraleiterzu
sammensetzung von Anspruch 2 oder 3 auf ein Substrat aufge
bracht wird, daß das Substrat in einer oxidationsbeständigen Kap
sel versiegelt wird, und daß es in einem versiegelten Zustand für
0,01 bis 10 Stunden auf 600 bis 1100°C erhitzt wird.
5. Verfahren zum Herstellen eines Hochtemperatur-Supraleiters mit
einer niedrigen Supraleitungsanisotropie, der durch einen Einkri
stall- oder Materialvorrats-Supraleiter gebildet ist, der mit mindestes
der a-Achse und der c-Achse ausgerichtet ist und eine hohe kriti
sche Stromdichte Jc aufweist, das umfaßt, daß die Supraleiterzu
sammensetzung von Anspruch 2 oder 3 auf ein Substrat aufge
bracht wird, daß das Substrat in einer sauerstoffbeständigen Kapsel
versiegelt wird, und daß es einem Druck von mindestens einer At
mosphäre ausgesetzt wird.
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