DE19801770A1 - Probenanalysegerät - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein Probenanalysegerät, und speziel
ler betrifft sie ein Probenanalysegerät wie ein Rasterelek
tronenmikroskop (nachfolgend als REM bezeichnet), das mit
einem Röntgenstrahlungsanalysator vom Energiedispersionstyp
(nachfolgend als EDX bezeichnet) und einem Laser-Massenspek
trometer versehen ist.
Ein typisches Anwendungsgebiet der Erfindung ist die Halb
leiter-Herstellung. Bei der Halbleiter-Herstellung bilden
Teilchen auf einem Wafer einen der wichtigsten Gründe, die
die Produktausbeute bestimmen. Um Gegenmaßnahmen hinsicht
lich einer Verringerung des Anhaftens von Teilchen zu erden
ken und auszuführen, ist es erforderlich, die Erzeugungs
quelle von Teilchen herauszufinden. Dazu ist es eine effek
tive Maßnahme, Information zur Teilchenzusammensetzung zu
erhalten. Zur Analyse der Teilchenzusammensetzung werden in
großem Umfang REMs mit der Fähigkeit, Röntgenspektralanalyse
vom Energiedispersionstyp auszuführen, verwendet. Wenn die
Zusammensetzungsanalyse für ein Teilchen auf einem Wafer
durch REMs mit dieser Fähigkeit ausgeführt wird, werden
z. B. die folgenden Prozesse ausgeführt.
Ein einer Waferkassette entnommener, zu messender Wafer wird
unter Bezugnahme auf eine ebene Ausrichtungsfläche oder eine
Kerbe am Wafer vorausgerichtet. Die Vorausrichtung ist ein
Vorgang, bei dem die Kristallrichtung des Wafers mit der
Verstellrichtung eines XY-Tischs ausgerichtet wird. Nachdem
die Vorausrichtung ausgeführt wurde, wird der Wafer in einer
unter Vakuum gehaltenen Probenkammer zum XY-Tisch transpor
tiert und auf diesem montiert. Der auf dem XY-Tisch montier
te Wafer wird durch ein optisches Mikroskop ausgerichtet,
das an der Oberseite der Probenkammer montiert ist. Diese
Ausrichtung ist ein Vorgang zum Vornehmen einer Korrektur
zwischen dem Koordinatensystem eines auf dem Wafer ausgebil
deten Musters und demjenigen des Tischs. Genauer gesagt,
wird ein vom optischen Mikroskop aufgenommenes, mehrhundert
fach vergrößertes Bild des auf dem Wafer ausgebildeten Aus
richtungsmusters mit einem zuvor abgespeicherten Referenz
bild für das Ausrichtungsmuster verglichen, und die Positi
onskoordinaten des Tischs werden so eingestellt, daß das
vergrößerte, vom optischen Mikroskop aufgenommene Bild mit
dem Referenzbild überlappt. Nach der Ausrichtung wird der
Wafer zu einem zu analysierenden Teilchen verstellt. Danach
wird ein Elektronenstrahl auf ihn aufgestrahlt, und es wird
ein Röntgenspektrum erzeugt und angezeigt. Durch Betrachten
dieses Röntgenspektrums bestimmt der Betrachter die Zusam
mensetzung des Teilchens unter Bezugnahme auf sein Wissen
und die ihm zugänglich gemachte Information.
Wenn jedoch bei diesem Verfahren die Bedienperson kein Ex
perte ist, ist der Standard bei der Bestimmung der Zusammen
setzung fraglich, so daß das Identifizierungsergebnis nicht
zuverlässig ist; außerdem benötigt eine derartige Analyse
viel Zeit.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Probenanalyse
gerät zu schaffen, das zum genauen, sicheren und schnellen
Identifizieren eines Teilchens unabhängig vom Wissen und der
Geschicklichkeit einer Bedienperson geeignet ist.
Diese Aufgabe ist durch die Geräte gemäß den beigefügten un
abhängigen Ansprüchen 1 und 6 gelöst.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand von durch Figuren ver
anschaulichten Ausführungsbeispielen näher beschrieben.
Fig. 1 ist ein schematisches Diagramm des Grundaufbaus eines
REM mit der Fähigkeit zu Röntgenspektralanalyse vom Energie
dispersionstyp als Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemä
ßen Probenanalysegeräts;
Fig. 2 ist ein Diagramm, das ein Beispiel zum Ablauf des
Analysevorgangs bei der Erfindung zeigt; und
Fig. 3 ist eine erläuternde Ansicht zur Spektrumsauswahl ge
mäß der Erfindung.
Beim REM gemäß Fig. 1 wird ein von einer Elektronenkanone 1
emittierter Elektronenstrahl 2 durch eine Kondensorlinse 3
und eine Objektivlinse 4 so fokussiert, daß auf einer Ebene
eines Wafers 5, der eine Probe darstellt, ein Brennpunkt
ausgebildet wird. Der Elektronenstrahl 2 wird durch einen
Ablenker 6 so abgelenkt, daß ein zweidimensionales oder
eindimensionales Abrastern der Waferoberfläche erfolgt.
Andererseits emittiert der durch den Elektronenstrahl 2 be
strahlte Wafer Sekundärelektronen 7 und charakteristische
Röntgenstrahlung 14. Die Sekundärelektronen 7 werden durch
einen Sekundärelektronendetektor 8 erfaßt, in elektrische
Signale umgesetzt und einer Verstärkung oder dergleichen un
terzogen. Nach dieser Verarbeitung werden die elektrischen
Signale zur Helligkeits- oder Amplitudenmodulation verwen
det. Eine Anzeigevorrichtung 9 wird synchron mit dem Abtas
ten der Waferoberfläche durch den Elektronenstrahl 2 abge
rastert. Wenn ein zweidimensionaler Abtastvorgang vorgenom
men wird, um Helligkeitsmodulation auszuführen, wird auf der
Anzeigevorrichtung ein Probenbild (REM-Bild) erzeugt. Wenn
eindimensionales Abtasten vorgenommen wird, um Amplituden
modulation auszuführen, wird darauf ein Linienprofil er
zeugt.
Die charakteristische Röntgenstrahlung 14 wird durch einen
Halbleiter-Röntgendetektor 15 erfaßt und einer Energieana
lyse unterzogen. Dann wird auf der Anzeigevorrichtung 9 ein
Röntgenspektrum erzeugt. Dieses Verfahren wird als Röntgen
spektralanalyse vom Energiediffusionstyp (als EDX abgekürzt)
bezeichnet.
Fig. 2 zeigt ein Beispiel für den Ablauf von mit 1 bis 12
bezeichneten Analysevorgängen, wie sie von einem Ausfüh
rungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Geräts ausgeführt wer
den. Ein zu messender Wafer 5 wird einer Waferkassette 10
entnommen (Schritt 1). Der Wafer 5 wird vorausgerichtet, und
gleichzeitig wird eine auf ihm erzeugte Wafer-Identifizie
rungsnummer durch einen Wafernummernleser (nicht darge
stellt) gelesen (Schritt 2). Die Wafernummer ist für jeden
Wafer eindeutig. Auf Grundlage der gelesenen Wafernummer
wird eine zugehörig zu diesem Wafer vorab gespeicherte An
leitung ausgelesen (Schritt 3). Diese Anleitung bestimmt den
Analyseablauf und die Analysebedingungen für diesen Wafer.
Ein anschließender Vorgang wird entsprechend dieser Anlei
tung automatisch oder halbautomatisch ausgeführt. Die fol
gende Beschreibung betrifft den Fall eines halbautomatischen
Vorgangs.
Nachdem die Anleitung gelesen wurde, wird der Wafer 5 auf
einen XY-Tisch 12 transportiert, der sich in der unter Va
kuum befindlichen Probenkammer 11 befindet (Schritt 4). Der
auf den XY-Tisch 12 gesetzte Wafer 5 wird unter Verwendung
eines optischen Mikroskops 13 ausgerichtet, das an der Ober
seite der Probenkammer 11 montiert ist (Schritt 5). Bei die
ser Ausrichtung wird ein vom optischen Mikroskop erzeugtes,
mehrhundertfach vergrößertes Bild eines auf dem Wafer 5 aus
gerichteten Ausrichtungsmusters mit einem vorab abgespei
cherten Referenzbild für das Ausrichtungsmuster verglichen,
und die Positionskoordinaten des Tischs werden so korri
giert, daß das vom optischen Mikroskop erzeugte, vergrößer
te Bild mit dem Referenzbild überlappt.
Nachdem die Ausrichtung ausgeführt wurde, wird eine vorab
für diesen Wafer gespeicherte Waferkarte ausgelesen und auf
der Anzeigevorrichtung angezeigt (Schritt 6). Die Waferkarte
kennzeichnet die Position und Größe eines auf diesem Wafer
vorhandenen Teilchens. Nachdem die Waferkarte angezeigt wur
de, spezifiziert eine Bedienperson ein zu analysierendes
Teilchen unter den in der Waferkarte angezeigten Teilchen
(Schritt 7). Wenn das zu analysierende Teilchen spezifiziert
ist, wird der zu messende Wafer 5 durch den Tisch so trans
portiert, daß das spezifizierte Teilchen genau unter dem
Elektronenstrahl liegt (Schritt 8). Danach wird der abras
ternde Elektronenstrahl auf das spezifizierte Teilchen ge
strahlt, um ein REM-Bild zu erzeugen. Das erzeugte REM-Bild
wird mit einem vorab abgespeicherten REM-Referenz-Bild ver
glichen, das dem spezifizierten Analysepunkt entspricht,
ähnlich wie dies beim Ausrichtungsvorgang erfolgte, und dann
wird eine präzise Positionierung des spezifizierten Teil
chens so ausgeführt, daß das REM-Bild mit dem REM-Referenz
bild überlappt (Schritt 9). Diese Positionierung erfolgt
durch eine Feineinstellung des Abtastbereichs des Elektro
nenstrahls.
Wenn die Positionierung des Wafers abgeschlossen ist, liegt
das spezifizierte Teilchen beinahe im Zentrum des Bild
schirms. Bei dienen Bedingungen wird der Elektronenstrahl
auf einmal über das spezifizierte Teilchen gestrahlt, und es
wird die emittierte charakteristische Röntgenstrahlung erfaßt.
Das Spektrum der erfaßten Röntgenstrahlung wird auf
der Anzeigevorrichtung angezeigt (Schritt 10). Das erfaßte
Röntgenspektrum wird mit einem Referenzspektrum verglichen,
dessen Peakpositionen und Reihenfolgen von Peakhöhen vorab
in einer Bibliothek abgespeichert wurden, und es wird dasje
nige Referenzspektrum angegeben, zu dem abgeschätzt wird,
daß es mit dem erfaßten übereinstimmt (Schritt 11).
Für den Vergleich und die Angabe des Referenzspektrums wird
z. B. ein Hardwareaufbau verwendet, wie er im Abschnitt A in
Fig. 1 dargestellt ist. Dabei wird das erfaßte Röntgenspek
trum unter Verwendung eines Prozessors 21 zum Vergleich mit
dem Referenzspektrum überlappt (Schritt 12). Genauer gesagt,
erfolgt der Vergleich dadurch, daß das Referenzspektrum aus
einem Speicher 22 ausgelesen wird und die Spektrumshöhe ge
ändert wird, wie dies in Fig. 3 veranschaulicht ist.
Auf der Anzeigevorrichtung werden aufgelistete Referenzspek
tren zusammen mit Zusatzinformation angezeigt. Diese Zusatz
information entspricht Probenbedingungen wie dem Materialna
men für dieses Spektrum sowie Namen von Prozessen/Ausrüs
tung, bei denen dieses Material verwendet wird. Die Zusatz
information ist im Speicher 22 zusammen mit Tabellen für das
Referenzspektrum, Peakpositionen und die Reihenfolge von
Peakhöhen abgespeichert.
Es existiert der Fall, daß mehrere Spektren aufgelistet
werden, die als übereinstimmend abgeschätzt werden. Wenn Zu
satzinformation zum gerade betrachteten Wafer eingegeben
wird, wie der Name des aktuellen Prozesses, die Prozeßaus
rüstung, der Werdegang und dergleichen, jeweils für den be
trachteten Wafer, kann die Anzahl von Spektren, die als
übereinstimmend betrachtet werden, weiter eingeengt werden.
Wenn mehrere Spektren aufgelistet werden, die als überein
stimmend abgeschätzt werden, wird das betrachtete Spektrum
visuell mit jedem Referenzspektrum verglichen, das als über
einstimmend abgeschätzt wurde. Durch diesen Vergleich kann
die Bedienperson die Anzahl übereinstimmender Spektren
leicht einengen. Um einen Anzeigevorgang für den Vergleich
vorzunehmen, wird z. B. eine Farbanzeige benutzt, bei der
z. B. abweichende Abschnitte zwischen den zwei Spektren mit
Rot angezeigt werden, um den Vergleich und die Ermittlung
von Unterschieden zwischen den zwei Spektren zu erleichtern.
Um eine Einengung der Anzahl von als übereinstimmend abge
schätzten Spektren zu erleichtern, wird Zusatzinformation
zur Anleitung, zu Bildern vom optischen Mikroskop, Bildern,
die durch einen fokussierten Ionenstrahl aufgenommen wurden,
und verschiedene, dem Teilchen entsprechende Analysedaten
als Datei abgelegt. Bei der Analyse können diese Bilder und
Analysedaten ausgelesen und als Referenzinformation ange
zeigt werden.
Nachdem die Analyse des spezifizierten Teilchens abgeschlos
sen ist, wird die Waferkarte erneut auf der Anzeigevorrich
tung angezeigt. Die Bedienperson trägt das Analyseende, das
Analyseergebnis und das Auswählergebnis zum spezifizierten
Teilchen in die Waferkarte ein, woraufhin diese Werte ange
zeigt werden und Einzelheiten zum Analyseergebnis in eine
Analysen-Datenbank eingespeichert werden.
Die Analyse an einer Position wird auf die obenbeschriebene
Weise abgeschlossen. Wenn noch ein zu analysierendes Teil
chen vorhanden ist, wird dieses Teilchen als neues Teilchen
auf der Waferkarte spezifiziert, und nachdem auf die Positi
on dieses spezifizierten Teilchens gewechselt wurde, wird
der in Fig. 2 dargestellte Vorgang wiederholt.
Nun ist der Analysevorgang für einen einzelnen Wafer abge
schlossen. Wenn mehrere noch zu analysierende Wafer in der
Waferkassette verblieben sind, wird dieser der nächste Wafer
entnommen, und die Analyse wird entsprechend den in Fig. 2
dargestellten Schritten wiederholt.
Bei dieser Analyse spezifiziert die Bedienperson jedesmal
während des Ablaufs ein Teilchen, d. h. einen auf der Wafer
karte angegebenen Analysepunkt. Es ist jedoch möglich, eine
automatische Analyse zu verwenden, bei der automatisch zu
einem vorab spezifizierten Analysepunkt übergegangen wird,
um die Analyse allmählich ablaufen zu lassen.
Bei diesem Prozeß wird ebenfalls ein Referenzspektrum aus
gewählt, das als übereinstimmend abgeschätzt wird, und es
wird zusammen mit dem beobachteten Spektrum zum Identifizie
ren eines Teilchens angegeben, wobei es möglich ist, die
Übereinstimmungsprüfung durch gleichzeitiges Anzeigen wegzu
lassen und automatisch zur folgenden Verarbeitung weiterzu
gehen.
Das Referenzspektrum kann selbst während eines Analysevor
gangs zusätzlich oder erneut abgespeichert werden.
Hierbei wird als Referenzspektrum ein Spektrum verwendet,
das vorab vor dem Ablauf abgespeichert wurde. Wenn jedoch
ein beobachtetes Spektrum mit keinem Referenzspektrum über
einstimmt, so daß es als zu einer neuen Substanz gehörig
angesehen werden kann, oder wenn das beobachtete Spektrum
als Referenzspektrum geeigneter ist als ein bisher abgespei
chertes Referenzspektrum, wird das beobachtete Spektrum zu
sätzlich zu den Referenzspektren hinzugefügt oder abgespei
chert. Das neu abgespeicherte Spektrum kann dazu verwendet
werden, anschließende Analyseergebnisse zu klassifizieren,
selbst wenn der Substanzname noch nicht erkannt wurde.
Obwohl hier der Fall angegeben ist, daß für ein einzelnes
Teilchen ein einzelnes Spektrum erfaßt wird, ist es mög
lich, mehrere Spektren für ein einzelnes Teilchen zu erfas
sen. Dies entspricht dem Fall, daß verschiedene Einstrah
lungsbedingungen für den Elektronenstrahl oder verschiedene
Meßpositionsdaten erforderlich sind.
Bei einer Probe, die viel Zeit benötigt, bis beim Einstrah
len eines geladenen Teilchenstrahls die Aufladung in Sätti
gung geht, wie dann, wenn ein Elektronenstrahl oder ein
Ionenstrahl verwendet wird, sollte das beobachtete Bild erst
dann erfaßt werden, nachdem eine Einstrahlung des Strahls
geladener Teilchen für eine vorbestimmte Zeitspanne erfolg
te.
Hinsichtlich der gleichzeitigen Anzeige des beobachteten
Spektrums und des Referenzspektrums ist es zulässig, sie in
verschiedenen Bereichen derselben Anzeigevorrichtung oder
sie auf gesonderten Anzeigevorrichtungen anzuzeigen.
Es wurde ein Verfahren angegeben, bei dem nach dem Ausrich
ten eines Wafers durch ein Lichtbild bei geringer Vergröße
rung die Position desselben auf Grundlage eines REM-Bilds
mit starker Vergrößerung bestimmt wird. Jedoch ist es auch
möglich, eine Funktion bereitzustellen, bei der ein spezifi
ziertes Teilchen unmittelbar auf Grundlage des REM-Bilds
starker Vergrößerung erfaßt wird, wobei, wenn kein spezifi
ziertes Teilchen aufgefunden wird, eine Suche nach einem an
deren Teilchen in der Nachbarschaft ausgeführt wird.
Beim beschriebenen Ausführungsbeispiel wird ein XY-Tisch
verwendet, jedoch läßt sich die Analyse von an einer Mus
terwand anhaftenden Teilchen erleichtern, wenn ein XYT(T be
deutet Kippung)-Tisch verwendet wird.
Obwohl hier ein strukturierter Wafer als Betrachtungsobjekt
verwendet ist, ist es auch möglich, ein Teilchen zu analy
sieren, das an einem blanken Wafer anhaftet. In diesem Fall
wird zum Positionieren eines zu analysierenden Teilchens das
Verfahren der Suche in der Umgebung verwendet. Für das Ana
lyseobjekt besteht keine Beschränkung auf irgendein Teil
chen, sondern es kann sich auch um einen Fehler wie einen
Musterdefekt handeln.
Ferner ist das Analyseobjekt nicht auf Halbleiterwafer be
schränkt. Vielmehr ist die Probe auf keinerlei speziellen
Typ beschränkte sondern es können z. B. Wafer für Aufnahme-Bau
teile oder Anzeigevorrichtungen sein. Andere Konfigura
tionen als die eines Wafers sind ebenfalls möglich.
Obwohl hier durch einen Elektronenstrahl erfaßte Spektral
information verwendet wird, ist es möglich, physikalische
Analysewerte durch einen Ionenstrahl oder einen optischen
Strahl zu erfassen, und es ist auch möglich, chemische Ana
lysemaßnahmen wie Atomabsorptionsspektroskopie oder Massen
spektroskopieanalyse zu verwenden.
Obwohl hier ein Rasterbild zur Ausrichtung verwendet wird,
ist es möglich, ein Bild zu verwenden, das durch ein fokus
siertes optisches System erfaßt wurde.
Beim obigen Ausführungsbeispiel der Erfindung kann, wie es
aus der Beschreibung ersichtlich ist, ein Teilchen genau,
sicher und schnell unabhängig vom Wissen und der Geschick
lichkeit einer Bedienperson identifiziert werden.
Ferner ist es unter Verwendung von Zusatzinformation wie
solcher zu den Probenbedingungen möglich, nicht nur eine
Substanz zu identifizieren, sondern auch den Ort, die Zeit
und dergleichen zum Auftreten leicht und schnell zu erfas
sen.
Die Erfindung schafft ein Probenanalysegerät, das zum genau
en, sicheren und schnellen Identifizieren von Substanzen un
abhängig vom Wissen und der Geschicklichkeit einer Bedien
person geeignet ist.
Claims (9)
1. Probenanalysegerät zum Erzeugen eines Spektrums durch
Analysieren einer Probe, gekennzeichnet durch die folgenden
Funktionen:
- - Registrieren von Referenzspektren als Bibliothek;
- - Lesen eines registrierten Referenzspektrums;
- - Vergleichen des gelesenen Referenzspektrums mit dem er zeugten Spektrum und
- - Auswählen mindestens eines Referenzspektrums, das als mit dem erzeugten Spektrum übereinstimmend abgeschätzt wurde.
2. Gerät nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch die Funk
tion des gleichzeitigen Anzeigens des erzeugten Spektrums
und des ausgewählten Spektrums.
3. Gerät nach einem der vorstehenden Ansprüche, gekenn
zeichnet durch die Funktion des Anzeigens des erzeugten
Spektrums und des ausgewählten Spektrums in solcher Weise,
daß sie einander überlappen.
4. Gerät nach einem der vorstehenden Ansprüche, gekenn
zeichnet durch die folgenden Funktionen:
- - Vergleichen von Peakpositionen und der Reihenfolge von Peakhöhen im erzeugten Spektrum mit solchen im Referenzspek trum; und
- - Auswählen eines Referenzspektrums als übereinstimmendes Spektrum, wenn die Peakpositionen eines Spektrums alle Peak positionen des anderen Spektrums enthalten und die Peakrei henfolgen in beiden Spektren miteinander übereinstimmen.
5. Gerät nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß es so aufgebaut ist, daß dann, wenn
aus den Referenzspektren eines als übereinstimmendes Spek
trum ausgewählt wird, hierzu als Faktor zur Auswahl Zusatz
information verwendet wird, die Probenbedingungen umfaßt.
6. Probenanalysegerät zum Erzeugen eines Spektrums durch
Analysieren einer Probe, dadurch gekennzeichnet, daß es von
den untenangegebenen Funktionen (1) - (18) die Funktionen
(13) - (15) und mindestens eine der anderen Funktionen auf
weist:
- (1) Vorausrichten der Probe;
- (2) Registrieren einer Anleitung zum Ausführen einer Analyse der Probe;
- (3) Lesen einer auf der Probe ausgebildeten Probennummer;
- (4) Lesen der Anleitung entsprechend der gelesenen Proben nummer;
- (5) Ausführen einer Analyse auf Grundlage der gelesenen An leitung;
- (6) Registrieren eines Referenzbilds zur Ausrichtung;
- (7) Erzeugen des Referenzbilds zur Ausrichtung und Ausführen eines Ausrichtungsvorgangs für die Probe durch Vergleichen des Referenzbilds mit dem Bild eines Ausrichtungsmusters auf der Probe;
- (8) vorläufiges Registrieren einer Analysepunktkarte für die Probe;
- (9) Lesen und Anzeigen der registrierten Analysepunktkarte;
- (10) Verstellen der Probe entsprechend einer Spezifikation auf der Analysepunktkarte oder einer Anweisung in der Anlei tung, um den spezifizierten oder angewiesenen Analysepunkt auf eine gewünschte Position zu stellen;
- (11) Registrieren eines Referenzbilds für den spezifizierten oder angewiesenen Analysepunkt;
- (12) Erzeugen eines Positionsbilds zum spezifizierten oder angewiesenen Analysepunkt, und Positionieren des Analyse punkts durch Verifizieren des Positionierungsbilds des spe zifizierten oder angewiesenen Analysepunkts mit einem Posi tionierungs-Referenzbild für den Analysepunkt;
- (13) Erzeugen eines Spektrums durch Analysieren des positio nierten Analysepunkts;
- (14) Registrieren eines Referenzspektrums als Bibliothek;
- (15) Auswählen eines Referenzspektrums, das als mit dem er zeugten Spektrum übereinstimmend abgeschätzt wird;
- (16) gleichzeitiges Anzeigen des als übereinstimmend einge schätzten Referenzspektrums und des erzeugten Spektrums;
- (17) Anzeigen des als übereinstimmend abgeschätzten Refe renzspektrums und des erzeugten Spektrums in solcher Weise, daß sie einander überlappen;
- (18) Anzeigen und/oder Abspeichern des Analyseergebnisses des Analysepunkts und des Auswählergebnisses als Datei.
7. Gerät nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß es so aufgebaut ist, daß es ein Refe
renzspektrum während eines Analysevorgangs registrieren
kann.
8. Gerät nach einem der Ansprüche 6 oder 7, dadurch ge
kennzeichnet, daß es so aufgebaut ist, daß dann, wenn aus
den Referenzspektren eines als übereinstimmendes Spektrum
ausgewählt wird, hierzu als Faktor zur Auswahl Zusatzinfor
mation verwendet wird, die Probenbedingungen umfaßt.
9. Gerät nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß von ihm eine Sonde innerhalb eines spe
zifizierten Zeitintervalls über die Probe (5) gestrahlt
wird, um ein Bild zu erzeugen, wobei als Sonde z. B. ein
Strahl geladener Teilchen verwendet wird.
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