Die vorliegende Erfindung betrifft eine
Einkristallziehvorrichtung, in welcher ein Einkristall aus
Halbleitermaterial aus einer Halbleiterschmelze gezogen wird,
die in einem Tiegel gespeichert ist, und betrifft inbesondere
eine Vorrichtung zum Verhindern des Runterschmelzens
(Schmelzens) leitfähiger Metallelektroden einer
Heizvorrichtung, die zum Heizens des Tiegels verwendet wird.
Das CZ-Wachstumsverfahren ist ein Beispiel für eines der
momentan bekannten Verfahren, um Einkristalle aus
Halbleitermaterial wie beispielsweise Silizium (Si) oder
Galliumarsenid (GaAs) aufwachsen zu lassen.
Da das CZ-Wachstumsverfahren die einfache Erzeugung von
Einkristallen mit großem Durchmesser mit hoher Reinheit
ermöglicht, die keine Versetzungen oder extrem niedrige
Niveaus an Gitterfehlern aufweisen, wird es beim
Aufwachsenlassen verschiedener Halbleiterkristalle häufig
eingesetzt.
In den letzten Jahren wurde infolge der Anforderung,
Einkristalle mit größerem Durchmesser und höherer Reinheit mit
gleichmäßigen Niveaus der Sauerstoffkonzentration und der
Verunreinigungskonzentration herzustellen, eine Verbesserung
des CZ-Wachstumsverfahrens in verschiedenen Hinsichten
durchgeführt, um diese Anforderungen zu erfüllen.
Eine der Verbesserungen, die für das voranstehend geschilderte
CZ-Wachstumsverfahren vorgeschlagen wurden, besteht in einem
CZ-Verfahren mit angelegtem kontinuierlichem Magnetfeld
(nachstehend als CMCZ-Verfahren bezeichnet), bei welchem ein
Doppelschmelztiegel verwendet wird. Diese Vorgehensweise
ermöglicht das Wachstum von Einkristallen mit guten
Schlupffreiheitsverhältnissen und mit einer extrem guten
Kontrolle der Sauerstoffkonzentrationsniveaus, durch Anlegen
eines Magnetfeldes von außen an die Halbleiterschmelze im
Inneren des Schmelztiegels, wodurch die Konvektion in der
Halbleiterschmelze unterdrückt wird, und dieses Verfahren
ermöglicht die einfache Erzeugung langer Einkristalle aus dem
Halbleitermaterial, da eine kontinuierliche Zufuhr an
Ausgangsmaterialien zu einem Ort möglich ist, der sich
zwischen dem äußeren und dem inneren Schmelztiegel befindet.
Daher wird dieses Verfahren als eines der besten Verfahren
angesehen, um Einkristalle mit großem Durchmesser und
erheblicher Länge aus Halbleitermaterialien zu erhalten.
Fig. 4 zeigt ein Beispiel für eine Siliziumeinkristall-Ziehvorrichtung,
die in der ersten Veröffentlichung der
japanischen Patentanmeldung Nr. Hei-4-305091 vorgeschlagen
wurde, wobei das voranstehend geschilderte CMCZ-Verfahren
verwendet wird. Bei dieser Einkristallziehvorrichtung 101 sind
ein Doppelschmelztiegel 103, eine Heizvorrichtung 104 und ein
Ausgangsmaterialzufuhrrohr 105 im Inneren einer hohlen
gasdichten Kammer 102 angeordnet, und befindet sich ein Magnet
106 außerhalb der Kammer 102.
Wie nachstehend noch genauer erläutert wird, ist die
vorliegende Erfindung nicht nur bei einer
Einkristallziehvorrichtung einsetzbar, welche das CMCZ-Verfahren
verwendet, sondern läßt sich auch bei einer
Einkristallziehvorrichtung einsetzen, die das CZ-Verfahren mit
kontinuierlicher Beschickung (CCZ-Verfahren) verwendet, bei
welchem kein Magnetfeld eingelegt wird, oder auch bei einer
Einkristallziehvorrichtung, die nicht mit einem
Doppelschmelztiegel versehen ist, sondern einen einzigen
Schmelztiegel aufweist.
Der Doppelschmelztiegel 103 umfaßt einen annähernd
halbkugelförmigen äußeren Schmelztiegel 111, der aus Quarz
(SiO₂) besteht, sowie einen inneren Schmelztiegel 112 aus
Quarz, der einen zylindrischen Trennkörper bildet, der in das
Innere des äußeren Schmelztiegels 111 eingepaßt ist. Die
Seitenwand des Inneren Schmelztiegels 112 enthält mehrere
Verbindungsöffnungen 113, welche die Fläche zwischen dem
jeweiligen inneren und äußeren Schmelztiegel 112 und 111 (den
Ausgangsmaterialschmelzbereich) mit dem Inneren des inneren
Schmelztiegels 112 (dem Kristallwachstumsbereich) verbinden.
Dieser Doppelschmelztiegel 103 ist auf einer Aufnahme 115
angebracht, die auf einer Vertikalwelle 114 aufsitzt, die im
Zentrum des unteren Abschnitts der Kammer 102 angeordnet ist,
und die in der Horizontalebene mit einer festgelegten
Winkelgeschwindigkeit um die Achse der Welle 114 gedreht
werden kann. Die Halbleiterschmelze 121 (das Ausgangsmaterial
für die Erzeugung von Halbleitereinkristallen, welches durch
Erwärmung geschmolzen ist) wird innerhalb dieses
Doppelschmelztiegels 103 aufbewahrt.
Die im wesentlichen zylindrische Heizvorrichtung 103 erhitzt
und schmilzt das Halbleiterausgangsmaterial im Inneren des
Schmelztiegels, und hält darüber hinaus die Temperatur der so
erzeugten Halbleiterschmelze 121 aufrecht. Es wird eine
normale Widerstandsheizung eingesetzt. Der genaue Aufbau der
Heizvorrichtung 104 wird nachstehend noch erläutert. Das
Ausgangsmaterialzufuhrrohr 105, welches als
Ausgangsmaterialzufuhrvorrichtung dient, wird dazu verwendet,
kontinuierlich ein bestimmtes Volumen an
Halbleiterausgangsmaterial 110 von seiner oberen Endöffnung
auf die Oberfläche der Halbleiterschmelze zwischen dem äußeren
Schmelztiegel 111 und dem inneren Schmelztiegel 112
einzuspritzen.
Beispiele für Ausgangsmaterialien 110, welche durch das
Ausgangsmaterialzufuhrrohr 105 zugeführt werden können, das
voranstehend geschildert wurde, umfassen Polysilizium, welches
in Flockenform durch Brechen in einem Brechwerk umgewandelt
wurde, oder Polysiliziumkörnchen, die aus einem gasförmigen
Ausgangsmaterial unter Einsatz thermischer Zersetzung
abgelagert werden, wobei zusätzlich, je nach Erfordernis,
Zusatzstoffe zugeführt werden können, die als Dotiermittel
bekannt sind, beispielsweise Bor (B) (im Falle der Erzeugung
von Einkristallen aus Silizium des p-Typs) und Phosphor (P) (im
Falle der Erzeugung von Siliziumeinkristallen des n-Typs).
Bei Galliumarsenid (GaAs) ist der Betriebsablauf ebenso wie
voranstehend geschildert, jedoch ist in diesem Fall der
verwendete Zusatzstoff entweder Zink (Zn) oder Silizium (Si).
Bei der voranstehend geschilderten Einkristallziehvorrichtung
101 läßt man einen Impfkristall 125 von einer
Einspannvorrichtung (in den Figuren nicht dargestellt) auf
einer Ziehwelle 124 herabhängen, die oberhalb des inneren
Schmelztiegels 112 und über der Wellenachsenlinie angeordnet
ist, und wächst ein Halbleitereinkristall 126 an der oberen
Oberfläche der Halbleiterschmelze 121 um einen Kern des
Impfkristalls 125 herum.
Wie jedoch in der ersten Veröffentlichung der japanischen
Patentanmeldung Nr. Sho-63-303894 geschildert wurde, ist es
bei dieser Art von Einkristallziehvorrichtung beim
Wachsenlassen von Einkristallen erforderlich, daß zuerst das
polykristalline Ausgangsmaterial, beispielsweise
Polysiliziumklumpen, geschmolzen werden, und die sich
ergebende Halbleiterschmelze 121 im Inneren des äußeren
Schmelztiegels 111 aufbewahrt wird, wobei der
Doppelschmelztiegel 103 dann dadurch ausgebildet wird, daß der
innere Schmelztiegel 112 oberhalb des äußeren Schmelztiegels
111 angeordnet wird, und dann auf dem äußeren Schmelztiegel
111 angebracht wird.
Der Grund dafür, daß der Doppelschmelztiegel 103 ausgebildet
wird, nachdem das polykristalline Ausgangsmaterial geschmolzen
wurde, liegt darin, daß zur Erzielung einer vollständigen
Schmelze des polykristallinen Ausgangsmaterials, um die
Halbleiterschmelze 121 zu erhalten, die Temperatur des
Ausgangsmaterials im Inneren des äußeren Schmelztiegels 111
erhöht werden muß, unter Verwendung der Heizvorrichtung 104,
und zwar auf eine Temperatur oberhalb der
Einkristallwachstumstemperatur. Würde der innere Schmelztiegel
112 auf dem äußeren Schmelztiegel vor der Schmelzstufe
angebracht, so würde eine starke Verformung infolge von
Wärmeeinwirkung des inneren Schmelztiegels 112 auftreten.
Durch Anbringung des inneren Schmelztiegels 112 auf dem
äußeren Schmelztiegel 111 nach dem vollständigen Schmelzen des
Ausgangsmaterials, und dementsprechende Absenkung der Wärme,
die von der Heizvorrichtung 104 aufgebracht wird, können die
hohen Temperaturen vermieden werden, die in der anfänglichen
Ausgangsmaterialschmelzstufe erforderlich sind, und kann die
Verformung des inneren Schmelztiegels unterdrückt werden.
Weiterhin sind die Verbindungsöffnungen 113 des inneren
Schmelztiegels 112 auf eine vorbestimmte Öffnungsfläche
eingestellt, die ausreichend klein ist um sicherzustellen, daß
bei Zufuhr von Ausgangsmaterial die Halbleiterschmelze 121 nur
von dem äußeren Schmelztiegel 111 zum inneren Schmelztiegel
112 fließt. Der Grund für diese Einschränkung besteht darin,
daß dann, wenn durch Konvektion die Halbleiterschmelze vom
Kristallwachstumsbereich zurück zum
Ausgangsmaterialschmelzbereich fließen könnte, die Steuerung
der Verunreinigungskonzentrationen während des
Einkristallwachstums und die Steuerung der Schmelztemperatur
problematisch werden würden.
Die Fig. 5A und 5B sind eine Aufsicht bzw. eine
Seitenansicht eines Beispiels für die voranstehend
geschilderten Heizvorrichtung 104, wogegen Fig. 6 eine
vergrößerte Ansicht eines Elektrodenabschnitts der
Heizvorrichtung 104 darstellt.
Wie aus den Fig. 5A und 5B hervorgeht, ist die Form der
Heizvorrichtung 104 im wesentlichen zylindrisch, und ist die
Heizvorrichtung mit einstückig vorspringenden Abschnitten 1, 2
versehen, die von Abschnitten auf entgegengesetzten Seiten der
Bodenkante der Heizvorrichtung 104 aus vorspringen. Weiterhin
ist die Heizvorrichtung 104 mit mehreren Schlitzen 3 versehen,
die abwechselnd in die Oberkante und dann die Unterkante der
Heizvorrichtung 104 eingeschnitten sind, und in
Vertikalrichtung verlaufen. Das Anlegen einer Spannung über
das Paar der vorspringenden Abschnitte 1, 2 führt daher dazu,
daß ein Strom durch die Heizvorrichtung 104 in der Richtung
fließt, die in Fig. 5B durch die Pfeile D andeutet ist.
Weiterhin sind auch Anordnungen möglich, bei welchen die
vorspringenden Abschnitte 1, 2 ins Innere der Heizvorrichtung
vorspringen.
Bei dem Elektrodenabschnitt der Heizvorrichtung 104 ist, wie
in Fig. 6 gezeigt, der vorspringende Abschnitt 1 der
Heizvorrichtung 104 mit einer Durchgangsöffnung 1a versehen,
kund ist ein Schraubenabschnitt 6a einer
Graphitzwischenelektrode 6 durch die Öffnung 1a eingeführt.
Eine Mutter 7 ist auf den Schraubenabschnitt 6a aufgeschraubt,
und befestigt so die Elektrode an dem vorspringenden Abschnitt
1.
Eine Gewindelochöffnung 6b ist im unteren Ende der
Zwischenelektrode 6 vorgesehen, und ein Gewindeabschnitt 5a
einer Elektrode 5 aus einem leitfähigen Metall ist in diese
Gewindeöffnung 6b eingeschraubt. Die leitfähige
Metallelektrode 5 umfaßt den Gewindeabschnitt 5a am oberen
Ende, einen Flanschabschnitt 5b, und einen
Hauptkörperabschnitt 5c mit geringem Durchmesser. Der
Hauptkörperabschnitt 5c ist mit einem Wasserkühlkanal 5d
versehen, der in Axialrichtung durch den Hauptkörper verläuft.
Die leitfähige Metallelektrode 5 wird typischerweise aus einem
Metall wie beispielsweise Kupfer, einer Kupferlegierung, oder
Edelstahl hergestellt, obwohl sie nicht auf diese Materialien
beschränkt ist.
Ein unteres Ende der Zwischenelektrode 6 steht in Berührung
mit einer oberen Oberfläche des Flanschabschnitts 5b der
leitfähigen Metallelektrode 5. Der Hauptkörperabschnitt 5c mit
geringem Durchmesser ragt durch einen Basisabschnitt 102a der
Kammer 102 (vergleiche Fig. 4), und weiterhin ist um
sicherzustellen, daß der Hauptkörperabschnitt 5c nicht den
Basisabschnitt 102a berührt, eine Muffe 4 aus Isoliermaterial
in dem Basisabschnitt 102a eingepaßt.
Die Konstruktion der Elektrode an dem anderen vorspringenden
Abschnitt 2 der Heizvorrichtung 104 ist identisch zur
Konstruktion der Elektrode an dem vorspringenden Abschnitt 1,
so daß insoweit hier nicht erneut dargestellt und beschrieben
wird.
Unter Verwendung der voranstehend geschilderten Anordnung wird
eine Spannung über die beiden leitfähigen Metallelektroden 5,
5 angelegt (wobei eine Elektrode in den Figuren nicht
dargestellt ist, und eine Elektrode positiv, die andere
negativ ist), was es ermöglicht, daß ein elektrischer Strom
mit vorbestimmter Stärke (beispielsweise 1500 Ampere) durch
die Heizvorrichtung 104 hindurchgeht.
Bei den in Fig. 6 dargestellten Fällen, in welchen infolge
von Faktoren wie beispielsweise Vibrationen der
Heizvorrichtung 104 oder Verschleiß der Zwischenelektrode 6
ein Spalt 8 im unteren Abschnitt der Zwischenelektrode 6 (dem
Gewindeöffnungsabschnitt) auftritt, konzentriert sich die
Zufuhr des elektrischen Stroms von der leitfähigen
Metallelektrode 5 zur Zwischenelektrode 6 auf den
Gewindeabschnitt 6b oberhalb des Spalts 8. Dies führt dazu,
daß die Temperatur des Wassers im Wasserkühlkanal 5d ansteigt,
und ein Teil des Wassers zu sieden beginnt, was zu einem mit
Dampf gefüllten Raum im oberen Abschnitt des Wasserkühlkanals
5d führt. Wenn die elektrische Stromzufuhr zur Heizvorrichtung
in diesem Zustand fortgesetzt wird, nimmt der Kühlwirkungsgrad
jener Abschnitte der leitfähigen Metallelektrode 5 ab, die
nicht in direkter Berührung mit dem Wasser als Kühlmittel
stehen, was zu möglichen Schmelzen oder Herunterschmelzen der
leitfähigen Metallelektrode 5 führen kann. Wenn die leitfähige
Metallelektrode zu schmelzen beginnt, beginnt das
Wasserkühlmittel aus dem Inneren des Wasserkühlkanals 5d
damit, blasenförmig ins Innere der Kammer 102 einzudringen
(vergleiche Fig. 4), was zu Kontaminierungsschwierigkeiten
führt.
Die vorliegende Erfindung berücksichtigt die voranstehend
geschilderten Schwierigkeiten, die bei der momentan
eingesetzten Technik auftreten, und hat als Ziel die
Bereitstellung einer Vorrichtung zum Verhindern des Schmelzens
einer Elektrode einer Heizvorrichtung in einer
Einkristallziehvorrichtung, wodurch das Schmelzen der
leitfähigen Metallelektroden der Heizvorrichtung verhindert
werden kann.
Um das voranstehend geschilderte Ziel zu erreichen weist die
Vorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung zum Verhindern
des Schmelzens der Elektrode einer Heizvorrichtung in einer
Einkristallziehvorrichtung auf:
einen gasdichten Behälter,
einen Schmelztiegel zur Aufbewahrung einer Halbleiterschmelze
im Inneren des gasdichten Behälters,
eine den Schmelztiegel umgebende Heizvorrichtung,
ein Paar leitfähiger Metallelektroden, die jeweils einen
Wasserkühlkanal aufweisen, und jeweils über eine
Gewindeverbindung mit einer Graphitzwischenelektrode verbunden
sind, die an die Heizvorrichtung angeschlossen ist,
einen Schalter, der in einer Schaltung zwischen zumindest
einer leitfähigen Metallelektrode und einer Spannungsquelle
zum Liefern von Energie an das Paar der leitfähigen
Metallelektroden vorgesehen ist,
eine Strommeßvorrichtung zur Messung der Stärke des
elektrischen Stroms, der durch die Heizvorrichtung fließt, und
eine Steuerung, in welche der Wert des elektrischen Stroms
eingegeben wird, der von der Strommeßvorrichtung gemessen
wird, und der den Schalter ausschaltet und so den Stromfluß
unterbricht, falls Schwankungen des Stromwerts außerhalb eines
Toleranzbereiches über die Dauer eines ersten vorbestimmten
Zeitraums andauern, und
wobei der erste vorbestimmte Zeitraum kürzer ist als die Zeit
kontinuierlicher Schwankungen des gemessenen Stromwerts
außerhalb des Toleranzbereiches, die für das Auftreten des
Schmelzens der leitfähigen Metallelektrode erforderlich ist.
Die Erfinder konnten bestätigen, daß gemäß der vorliegenden
Erfindung, wie in den Fig. 2 und 4 gezeigt ist, in solchen
Fällen, in welchen sich ein Spalt 8 im unteren Abschnitt (dem
Gewindeöffnungsabschnitt 6b) der Zwischenelektrode 6
entwickelt, ein elektrischer Entladungseffekt in dem
Spaltabschnitt 8 auftritt, bevor ein Schmelzen der leitfähigen
Metallelektrode 5 erfolgt, was zu kleinen Schwankungen
(Vibrationen) Z des Meßwertes A₁ des elektrischen Stroms
führt, der durch die Heizvorrichtung 104 fließt. Weiterhin
wurde beobachtet, daß die Dauer der Schwankungen Z annähernd
konstant war (beispielsweise 10 Minuten).
Daher wurde der durch die Heizvorrichtung 104 fließende
elektrische Strom ständig unter Verwendung eines Amperemeters
10a gemessen, und wenn Schwankungen Z in dem Meßwert A₁
außerhalb eines Toleranzbereiches H über die Dauer eines
ersten vorbestimmten Zeitraums T₁ (beispielsweise 5 Minuten)
andauerten, wie in Fig. 2 gezeigt, schaltet die Steuerung 12
den Schalter 11 aus, und unterbricht so den Stromfluß von der
Spannungsquelle 9 zu dem Paar der leitfähigen Metallelektroden
5, 5, wodurch ein Schmelzen der leitfähigen Metallelektroden
verhindert wird.
Eine weitere Ausbildung der vorliegenden Erfindung ist mit
einem Alarm versehen, und falls Schwankungen des Stromwerts
außerhalb des Toleranzbereichs über die Dauer eines zweiten
vorbestimmten Zeitintervalls andauern, welches kürzer als das
erste Zeitintervall ist, so aktiviert die Steuerung zuerst den
Alarm.
Wenn bei dieser Ausbildung der Erfindung Schwankungen Z
außerhalb des Toleranzbereiches H für die Dauer des zweiten
vorbestimmten Zeitraums T₂ (beispielsweise 1 Minute) andauern,
der kürzer ist als der erste vorbestimmte Zeitraum T₁, dann
aktiviert zuerst die Steuerung 12 den Alarm 13, und informiert
so unmittelbar den Benutzer über das Vorhandensein des
voranstehend geschilderten Spaltes.
Eine weitere Ausbildung der vorliegenden Erfindung ist mit
einem Meßgerät für die elektrische Leistung versehen, um die
der Heizvorrichtung zugeführte elektrische Leistung zu messen,
und es werden der Wert des elektrischen Stroms, gemessen von
der Meßvorrichtung für den elektrischen Strom, und der Wert
der elektrischen Leistung, gemessen von der Meßvorrichtung für
die elektrische Leistung, ständig in die Steuerung eingegeben,
welche einen Widerstandswert berechnet, und wenn Schwankungen
des Widerstandswerts außerhalb des Toleranzbereiches über die
Dauer des ersten vorbestimmten Zeitraums andauern, schaltet
die Steuerung den Schalter aus.
Die Erfindung ist nicht auf Anordnungen beschränkt, bei
welchen Schwankungen des elektrischen Stroms als Grundlage zur
Aktivierung eines Alarms oder zur Unterbrechung des
Stromflusses zur Heizvorrichtung verwendet werden, und es sind
ebenfalls Anordnungen möglich, bei welchen ein Widerstandswert
aus dem Wert des elektrischen Stroms und der elektrischen
Leistung berechnet wird, die der Heizvorrichtung zugeführt
wird, und Schwankungen dieses Widerstandswertes dann als
Grundlage zur Aktivierung eines Alarms oder zur Unterbrechung
des Stromflusses zur Heizvorrichtung verwendet werden.
Die Erfindung wird nachstehend anhand zeichnerisch
dargestellter Ausführungsbeispiele näher erläutert, aus
welchen weitere Vorteile und Merkmale hervorgehen. Es zeigt:
Fig. 1 ein Steuerblockschaltbild einer Ausführungsform
einer Vorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung
zum Verhindern des Schmelzens der Elektrode einer
Heizvorrichtung in einer
Einkristallziehvorrichtung;
Fig. 2 ein Diagramm, in welchem die Zeit (t) auf der
Horizontalachse und der gemessene Wert des
elektrischen Stroms (A₁) auf der Vertikalachse
aufgetragen ist;
Fig. 3A eine Darstellung von Schwankungen des gemessenen
Wertes des elektrischen Stroms infolge eines
Spaltes, während Fig. 3B Schwankungen des
gemessenen Wertes des elektrischen Stroms infolge
eines Meßgerätefehlers und anderer externer
Störungen zeigt;
Fig. 4 eine Querschnittsansicht eines Beispiels für eine
Siliziumeinkristallziehvorrichtung, bei welcher das
CMCZ-Verfahren verwendet wird;
Fig. 5A eine Aufsicht auf ein Beispiel für die
Heizvorrichtung, wogegen Fig. 5B eine
Seitenansicht dieses Beispiels für die
Heizvorrichtung zeigt; und
Fig. 6 eine vergrößerte Ansicht eines Elektrodenabschnitts
der Heizvorrichtung.
Ein Steuerblockschaltbild einer Ausführungsform der
Vorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung zum Verhindern
des Schmelzens einer Elektrode einer Heizvorrichtung in einer
Einkristallziehvorrichtung ist in Fig. 1 dargestellt, wogegen
ein Diagramm, in welchem die Zeit (t) entlang der
Horizontalachse und der gemessene Wert für den elektrischen
Strom (A₁) entlang der Vertikalachse aufgetragen ist, in Fig.
2 dargestellt ist.
Der Aufbau dieser Ausführungsform ist identisch zu jenem, der
in den Fig. 4 bis 6 gezeigt ist, und bereits voranstehend
erläutert wurde, so daß hier insoweit keine erneute
Beschreibung erfolgt.
Wie in den Fig. 1 und 4 gezeigt ist, liegt eine
Spannungsquelle 9 eine Spannung über ein Paar von
Kupferelektroden (leitfähigen Metallelektroden) 5, 5 an, was
dazu führt, daß ein Strom durch eine Heizvorrichtung 104
fließt. Wärme von der Heizvorrichtung 104 erwärmt und schmilzt
dann ein Halbleiterausgangsmaterial im Inneren eines
Schmelztiegels, und hält dann die Temperatur der sich
ergebenden Halbleiterschmelze 121 aufrecht. Ein Schalter 11
ist in der Schaltung zwischen der Spannungsquelle 9 und einer
der Kupferelektroden 5 vorgesehen. Wenn der Schalter
eingeschaltet ist, fließt Strom von der Spannungsquelle 9 zu
dem Paar der Kupferelektroden 5, 5, wogegen dann, wenn der
Schalter ausgeschaltet ist, der Stromfluß unterbrochen ist.
Das Einschalten und Ausschalten des Schalters 11 wird von
einer Steuerung 12 durchgeführt, die nachstehend genauer
erläutert ist. Ein Amperemeter 10a dient als Meßgerät für den
elektrischen Strom, welches ständig den elektrischen Strom
erfaßt oder mißt, der durch die Heizvorrichtung 104 fließt
(vergleiche Fig. 2 bezüglich der Meßergebnisse).
Ein Wattstundenmeßgerät 10b, welches als Meßgerät für die
elektrische Leistung bei einer nachstehend geschilderten,
unterschiedlichen Ausführungsform dient, ist bei der
vorliegenden Ausführungsform unnötig.
Die Steuerung 12 wird ständig mit einer Eingabe von dem
Amperemeter 10a in Bezug auf den gemessenen elektrischen Strom
A₁ versorgt, der durch die Heizvorrichtung fließt, und in
solchen Fällen, in welchen Schwankungen Z des Meßwertes A₁
außerhalb des Toleranzbereiches H für die Dauer eines ersten
vorbestimmten Zeitraums T₁ (beispielsweise 5 Minuten)
andauern, der nachstehend noch genauer erläutert wird,
schaltet die Steuerung 12 den Schalter 11 aus und unterbricht
so den Stromfluß zur Heizvorrichtung 104. Wenn daher der
Meßwert A₁ über den Toleranzbereich H schwankt, über die Dauer
des vorbestimmten Zeitraums T₁, so schaltet die Steuerung 12
den Schalter 11 aus. Der erste vorbestimmte Zeitraum T₁ ist
ein Zeitraum, der kürzer ist als die Zeit andauernder
Schwankungen des ständig gemessenen Stromwertes A₁ außerhalb
des Toleranzbereiches H, die für das Auftreten des Schmelzens
der Kupferelektrode 5 erforderlich ist (beim vorliegenden
Beispiel annähernd 10 Minuten). Wenn der Meßwert A₁ außerhalb
des Toleranzbereiches H über die Dauer eines zweiten
vorbestimmten Zeitraums T₂ schwankt (beispielsweise 1 Minute),
der kürzer ist als der erste vorbestimmte Zeitraum T₁, so
aktiviert die Steuerung 12 zuerst einen Alarm 13. Dieser Alarm
(Alarmvorrichtung) 13 ist beispielsweise an einem
Bedienungsfeld der Einkristallziehvorrichtung angebracht. Die
Werte für den ersten vorbestimmten Zeitraum T₁ und den zweiten
vorbestimmten Zeitraum T₂ sind in der Steuerung 12
voreingestellt.
Nunmehr erfolgt eine Erläuterung des Betriebs dieser
Ausführungsform der Vorrichtung zum Verhindern des Schmelzens
einer Elektrode der Heizvorrichtung.
Wie in Fig. 2 gezeigt ist, schaltet zum Erwärmen und
Schmelzen des Halbleiterausgangsmaterials im Inneren des
Schmelztiegels und zur nachfolgenden Aufrechterhaltung der
Temperatur der daraufhin erzeugten Halbleiterschmelze 121
(vergleiche Fig. 4) die Steuerung 12 den Schalter 11 ein,
wodurch eine Spannung über das Paar der Kupferelektroden 5, 5
angelegt wird, und ein konstanter elektrischer Standardstrom
A1 (beispielsweise 1500 Ampere) der Heizvorrichtung 104
zugeführt wird. Darüber hinaus wird der elektrische Strom, der
durch die Heizvorrichtung 104 fließt, ständig von dem
Amperemeter 10a überwacht.
In solchen Fällen, in denen infolge verschiedener Faktoren
sich Spalte 8 in dem unteren Abschnitt (Gewindeabschnitt) der
Zwischenelektroden 6 entwickeln (vergleiche Fig. 6), tritt
der Effekt einer elektrischen Entladung in den Spalten 8 auf,
und entwickeln sich kleine Schwankungen (Vibrationen) Z in dem
Meßwert A₁ für den elektrischen Strom.
Liegt diese Schwankung Z außerhalb des Toleranzbereiches, der
durch eine Obergrenze X und eine Untergrenze Y festgelegt ist,
wie in Fig. 3A gezeigt, und dauert darüber hinaus über die
Dauer des zweiten vorbestimmten Zeitraums T₂ an (beim
vorliegenden Beispiel: eine Minute), dann aktiviert die
Steuerung 12 den Alarm 13. Hierdurch kann der Benutzer der
Einkristallziehvorrichtung dahingehend informiert werden, daß
sich die voranstehend geschilderten Spalten entwickeln. Wenn
sich daher eine Schwankung Z außerhalb des Toleranzbereiches H
in dem Wert des elektrischen Stroms einstellt, so führt die
Aktivierung des Alarms am Anfang dazu, daß der Benutzer sofort
bezüglich der Entwicklung von Spalten 8 in einer der
Zwischenelektroden 6 informiert werden kann (vergleiche Fig.
6), und daher beispielsweise sofort die Zwischenelektrode 6
aus tauschen kann, so daß eine Verringerung des
Produktionswirkungsgrades verhindert wird. Eine Schwankung Z
außerhalb des Toleranzbereiches H ist so festgelegt, daß
entweder der Maximalwert der Schwankung Z oberhalb des oberen
Grenzwertes X des Toleranzbereiches H liegt, oder der
Minimalwert der Schwankung Z unterhalb des unteren Grenzwertes
Y des Toleranzbereiches liegt.
Wenn die Art der Schwankungen Z, die in Fig. 3A gezeigt sind,
länger andauern als der erste vorbestimmte Zeitraum T₁ lang
ist (beim vorliegenden Beispiel: 5 Minuten), schaltet die
Steuerung 12 sofort den Schalter 11 aus. Dies ermöglicht es,
ein Schmelzen der Kupferelektroden 5, wie sie beispielsweise
in Fig. 6 gezeigt sind, zu verhindern. In solchen Fällen, in
welchen sich eine vorbestimmte Schwankung des Wertes des
elektrischen Stroms entwickelt, der durch die Heizvorrichtung
104 fließt, wird daher durch Unterbrechung der Stromzufuhr zu
dem Paar der Kupferelektroden 5, 5 der Heizvorrichtung 104 ein
Schmelzen der Kupferelektroden verhindert, kann eine
Blasenbildung des Wasserkühlmittels in das Innere der Kammer
102 herein (vergleiche Fig. 4) vermieden werden. Beim
vorliegenden Beispiel stellen der obere Grenzwert X und der
untere Grenzwert Y jeweils eine Abweichung von ±5% gegenüber
dem Standardwert A₁ für den elektrischen Strom dar.
In solchen Fällen, in welchen sich infolge von Faktoren wie
Meßgerätefehlern und externen Störungen Schwankungen Z
entwickeln, wie sie in Fig. 3B gezeigt sind, wobei die
Schwankungen innerhalb des Toleranzbereiches bleiben, der
durch den oberen Grenzwert X und den unteren Grenzwert Y
begrenzt ist, erkennt die Steuerung diese Schwankungen Z nicht
als solche, die infolge der Entwicklung von Spalten auftreten,
und läßt den Schalter 11 eingeschaltet. In solchen Fällen, in
welchen Fehler der Meßgeräte wie beispielsweise des
Amperemeters 10a oder externe Störungen Schwankungen des
Stromwertes und des Widerstandswertes hervorrufen, dauert
daher der Stromfluß an, ohne eine Herabsetzung des
Produktionswirkungsgrades der Einkristallziehvorrichtung.
Bei der voranstehenden Ausführungsform wurden Schwankungen des
Wertes des elektrischen Stroms als Grundlage zur Aktivierung
des Alarms und zur Unterbrechung des Stromflusses zur
Heizvorrichtung verwendet. Allerdings ist die Erfindung nicht
hierauf beschränkt, und auf dieselbe Weise, auf welche die
Steuerung des Stromflusses auf der Grundlage von Schwankungen
des Wertes des elektrischen Stroms bei dem voranstehend
geschilderten Beispiel durchgeführt wurde, kann der Widerstand
durchgehend aus dem Wert des elektrischen Stroms und dem Wert
der elektrischen Leistung berechnet werden, die der
Heizvorrichtung 104 zugeführt wird, und werden dann
Schwankungen dieses Widerstandswertes als Grundlage zur
Aktivierung des Alarms und zur Unterbrechung des Stromflusses
zur Heizvorrichtung verwendet.
Zusammenfassend wird, wie in Fig. 1 gezeigt, die der
Heizvorrichtung 104 zugeführte elektrische Leistung ständig
durch das Wattstundenmeßgerät 10b gemessen, und wird der Wert
des elektrischen Stroms, gemessen von dem Amperemeter 10a, und
der Wert der elektrischen Leistung, gemessen von dem
Wattstundenmeßgerät 10b, ständig in die Steuerung 12
eingegeben, welche ständig einen Widerstandswert berechnet,
und in solchen Fällen, in welchen Schwankungen des
Widerstandswertes außerhalb des Toleranzbereiches über die
Dauer des ersten vorbestimmten Zeitraums andauern, schaltet
die Steuerung 12 den Schalter 11 aus. Weiterhin aktiviert,
wenn der Widerstandswert über den Toleranzbereich hinaus über
die Dauer des zweiten vorbestimmten Zeitraums schwankt, der
kürzer als der erste vorbestimmte Zeitraum ist, die Steuerung
12 den Alarm 13.
Die bei diesen Ausführungsformen eingesetzte
Einkristallziehvorrichtung verwendete das CMCZ-Verfahren.
Allerdings ist auch der Einsatz anderer
Einkristallerzeugungsverfahren möglich. Beispielsweise ist es
ebenfalls möglich, das CZ-Verfahren mit ständiger Beschickung
(CCZ-Verfahren) einzusetzen, oder eine
Einkristallziehvorrichtung, die nicht mit einem
Doppelschmelztiegel versehen ist.