DE19600427A1 - Ausrichter mit einer Markierungseinrichtung - Google Patents
Ausrichter mit einer MarkierungseinrichtungInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft einen mit einer
Markierungsvorrichtung ausgestatteten Ausrichter und beson
ders einen mit einer Markierungsvorrichtung ausgestatteten
verbesserten Ausrichter, der durch gleichzeitiges Durchfüh
ren eines Ausrichtungsprozesses und eines Markierungspro
zesses hinsichtlich der Belichtung Herstellungskosten ver
ringern und die Produktivität erhöhen kann.
Im allgemeinen ist es während eines Herstellungspro
zesses für Halbleiterwafer nötig, einen Ausrichtungsprozeß
unter Verwendung eines Ausrichters durchzuführen, bevor ein
Belichtungsprozeß durchgeführt wird. Nach dem Belichtungs
prozeß wird ein Markierungsprozeß durchgeführt, der auf das
Markieren einer bestimmten Information wie beispielsweise
einer Losnummer und ähnlichem auf einem Wafer gerichtet
ist.
Fig. 2 zeigt eine herkömmliche Markierungsvorrichtung,
die eine Maske 2 mit verschiedenen Zeichen enthält, die
unter einer Hochdruck-Quecksilberdampflampe 1 angeordnet
ist, die zum Drucken von Zeichen ein bestimmtes dicht er
zeugt. Zum Projizieren des durch die Hochdruck-Quecksilber
dampflampe 1 erzeugten nichts auf einen Wafer W befindet
sich eine Linse 3 unter der Maske 2.
Unter der Linse 3 befindet sich zusätzlich eine Verar
beitungseinheit 4 zum Drucken verschiedener Zeichen auf
einer Oberfläche des Wafers W. Auf einer Seite der Verar
beitungseinheit 4 ist ein Sender 5 zum Laden des Wafers W
angeordnet und auf der anderen Seite der Verarbeitungsein
heit 4 ist ein Empfänger 6 zum Entladen des Wafers W ange
ordnet.
Mit Bezug auf die beigefügten Zeichnungen wird nun die
Arbeitsweise des mit einer Markierungsvorrichtung ausge
statteten Ausrichters erklärt.
Wenn der Wafer W zur Verarbeitungseinheit 4 gebracht
wird, wird zunächst ein bestimmtes, auf den Wafer W zu
druckendes Zeichen ausgewählt. Wenn die Auswahl des be
stimmten Zeichens vollendet ist, wird das Zeichen auf den
Wafer W gedruckt, indem das darauf aufgebrachte lichtemp
findliche Material in Zusammenarbeit mit der Maske 2, der
Linse 3 und der Hochdruck-Quecksilberdampflampe 1 zur Reak
tion gebracht wird.
Der herkömmliche Markierungsprozeß, der nach dem Be
lichtungsprozeß durchgeführt wird, hat jedoch darin einen
Nachteil, daß die Produktivität verringert wird, da er un
abhängig vom Ausrichtungsprozeß durchgeführt wird.
Es ist folglich ein Ziel der vorliegenden Erfindung,
einen mit einer Markierungsvorrichtung ausgestatteten Aus
richter bereitzustellen, der die bei einem herkömmlichen,
mit einer Markierungsvorrichtung ausgestatteten Ausrichter
auftretenden Probleme bewältigt.
Es ist ein weiteres Ziel der vorliegenden Erfindung,
einen verbesserten, mit einer Markierungsvorrichtung ausge
statteten Ausrichter bereitzustellen, der Herstellungsko
sten verringern und Produktivität erhöhen kann, indem er
einen Ausrichtungsprozeß und einen Markierungsprozeß hin
sichtlich der Belichtung gleichzeitig durchführt. Um die
obigen Ziele zu erreichen, wird ein mit einer Markierungs
vorrichtung ausgestatteter Ausrichter bereitgestellt, der
einen Beleuchter mit einem optischen Kabel zur Erzeugung
von Licht; eine Streulinse zum Streuen von daran übertrage
nem Licht; eine Maske mit verschiedenen zu druckenden Zei
chen; ein Maskenmodul zum selektiven Antreiben der Maske;
eine Linse zum Übertragen von Licht auf einen Wafer; einen
Verschluß zum selektiven Blockieren von daran übertragenem
Licht für eine bestimmte Zeit; und eine Arbeitsfläche mit
einer Spannvorrichtung zum Bewegen des Wafers enthält.
Fig. 1 ist eine Draufsicht, die einen mit einer Mar
kierungsvorrichtung ausgestatteten Ausrichter gemäß der
vorliegenden Erfindung zeigt.
Fig. 2 ist eine Draufsicht, die eine herkömmliche Mar
kierungsvorrichtung zeigt.
Fig. 1 zeigt einen mit einer Markierungsvorrichtung ausge
statteten Ausrichter, der einen Beleuchter 10 mit einem an
einem vorherbestimmten Teil des Systems angeordneten opti
schen Kabel 10a enthält. Eine Streulinse 11 ist unterhalb
des optischen Kabels 10a zum Streuen von darauf übertrage
nem Licht angeordnet und eine Maske 12 mit verschiedenen zu
druckenden Zeichen ist unterhalb der Streulinse 11 angeord
net.
Zusätzlich ist unter der Maske 12 ein Maskenmodul 13
zum selektiven Antreiben der Maske 12 angeordnet. Unter dem
Maskenmodul 13 ist eine Linse 14 zum Übertragen von Licht
zum Wafer W angeordnet und unter der Linse 14 ist ein Ver
schluß 15 zum Blockieren von daran übertragenem Licht für
eine bestimmte Zeit angeordnet und eine Arbeitsfläche 16
mit einer Spannvorrichtung 16a ist zum Bewegen des Wafers W
unterhalb des Verschlusses 15 angeordnet.
Die Arbeitsweise des mit einer Markierungsvorrichtung
ausgestatteten Ausrichters wird nun mit Bezug auf die bei
gefügte Zeichnung erläutert.
Wenn der Wafer W zunächst auf die obere Oberfläche der
Spannvorrichtung 16a, die auf der oberen Oberfläche der
Arbeitsfläche 16 angeordnet ist, plaziert wird, bewegt sich
die Arbeitsfläche 16 zur Ausrichtung.
Wenn zusätzlich der Verschluß 15 der Linse 14 geöffnet
wird, wird Licht vom Beleuchter 10 durch die Streulinse 11,
die Maske 12 und die Linse 14 auf das auf der oberen Ober
fläche des Wafers W aufgebrachte lichtempfindliche Material
übertragen, so daß ein Markierungsprozeß durchgeführt wird,
indem das lichtempfindliche Material in Zusammenarbeit mit
dem daran übertragenen Licht zu Reaktion gebracht wird.
Diese Ausführungsform ist auf die gleichzeitige Durch
führung des Ausrichtungsprozesses und des Markierungspro
zesses vor dem Belichtungsprozeß gerichtet, sie ist jedoch
beim Implementieren der Ziele der vorliegenden Erfindung
nicht darauf beschränkt. In einer weiteren Ausführungsform
kann der Markierungsprozeß zu einer bestimmten Stufe nach
der Ausrichtung und Belichtung in einem System ausgeführt
werden.
Wie oben beschrieben, ist der mit einer Markierungs
vorrichtung ausgestattete Ausrichter auf die gleichzeitige
Durchführung des Markierungsprozesses und des Ausrichtungs
prozesses in einem System gerichtet und erhöht somit die
Produktivität und verringert Kosten und Zeitaufwand.
Obwohl die bevorzugten Ausführungsformen der vorlie
genden Erfindung zum Zweck der Darstellung beschrieben wur
den, werden Fachleute erkennen, daß verschiedene Modifika
tionen, Zusätze und Ersetzungen möglich sind, ohne vom Be
reich und vom Geist der Erfindung abzuweichen, wie sie in
den beigefügten Patentansprüchen beschrieben ist.
Claims (1)
- Ausrichter mit einer Markierungseinrichtung, der aufweist:
- - einen Beleuchter (10) mit einer optischen Leitung (10a) zum Erzeugen von Licht;
- - eine Streulinse (11) zum Streuen von zu ihr übertragenem Licht;
- - eine Maske (12) mit verschiedenen zu druckenden Zeichen;
- - ein Maskenmodul (13) zum wahlweisen Bewegen der Maske (12);
- - eine Linse (14) zum Übertragen von Licht zu einem Wafer (W);
- - einen Verschluß (15) zum wahlweisen Blockieren von zu ihm übertragenem Licht für eine bestimmte Zeitdauer; und
- - eine Basis (16) mit einer Spannvorrichtung (16a) zum Bewegen des Wafers (W).
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DE3341747A1 (de) * | 1982-11-19 | 1984-05-24 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Verfahren und vorrichtung zum herabsetzen der ruhezeit einer schrittweise arbeitenden belichtungsvorrichtung |
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Non-Patent Citations (1)
Title |
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JP 6-140305 A. In: Patents Abstr. of Japan, Sect. E, Vol. 18 (1994), Nr. 442 (E-1593) * |
Also Published As
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