DE19533321B4 - Ein aus einem Vorformling für eine optische Komponente herausgeschnittenes Teil und Verfahren zur Herstellung desselben - Google Patents

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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100521897B1 (ko) * 1996-09-30 2005-12-29 가부시키가이샤 니콘 광학소자제조방법
US6332922B1 (en) * 1998-02-26 2001-12-25 Nikon Corporation Manufacturing method for calcium fluoride and calcium fluoride for photolithography
US6168615B1 (en) 1998-05-04 2001-01-02 Micrus Corporation Method and apparatus for occlusion and reinforcement of aneurysms
JP4051474B2 (ja) * 1999-04-01 2008-02-27 株式会社ニコン 紫外用光学部材の透過率測定方法
US6595834B2 (en) * 1999-06-25 2003-07-22 Corning Incorporated Method of making <200nm light transmitting optical fluoride crystals for transmitting less than 200nm light
JP4626117B2 (ja) * 1999-07-05 2011-02-02 株式会社ニコン 石英ガラス部材の製造方法
US6376395B2 (en) * 2000-01-11 2002-04-23 Memc Electronic Materials, Inc. Semiconductor wafer manufacturing process
US6554849B1 (en) 2000-09-11 2003-04-29 Cordis Corporation Intravascular embolization device
US6669536B2 (en) * 2000-12-11 2003-12-30 Corning Incorporated Method of making optical fluoride laser crystal components
TWI250133B (en) * 2002-01-31 2006-03-01 Shinetsu Chemical Co Large-sized substrate and method of producing the same
US8030082B2 (en) * 2006-01-13 2011-10-04 Honeywell International Inc. Liquid-particle analysis of metal materials
JP5585383B2 (ja) * 2010-10-22 2014-09-10 旭硝子株式会社 合成石英ガラスの評価方法
KR20120077330A (ko) * 2010-12-30 2012-07-10 삼성코닝정밀소재 주식회사 패턴드 유리기판 투과율 측정장치
CN110646593A (zh) * 2019-10-10 2020-01-03 厦门钛尚人工智能科技有限公司 一种准确高灵敏的玻璃破碎检测算法
CN111595498A (zh) * 2020-05-25 2020-08-28 东南大学 一种焊接残余应力的测量方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3123452A (en) * 1964-03-03 Glass polish and process of polishing
US4106859A (en) * 1975-06-27 1978-08-15 Bbc Brown Boveri & Company Limited Reflector with light-scattering surface for liquid-crystal displays and method for their manufacture
JPS5982743A (ja) * 1982-11-04 1984-05-12 Seiko Epson Corp ガラス基板
JPS6440267A (en) * 1987-08-07 1989-02-10 Shinetsu Chemical Co Manufacture of precisely polished glass
JPH06127979A (ja) * 1992-10-20 1994-05-10 Furukawa Electric Co Ltd:The ガラス体の表面処理方法
JPH0763680A (ja) * 1993-08-26 1995-03-10 Nikon Corp 内部透過率の測定方法及び分光光度計の調整方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE34406C (de) * H. MÄHLER in Oberbilk-Düsseldorf Einrichtung zur Herstellung grofser Muttern unter dem Fallhammer
JPS396945B1 (ja) * 1961-09-09 1964-05-09
DE2422506A1 (de) * 1974-05-09 1975-11-20 Deutsche Bundespost Verfahren zur messung extrem kleiner verluste in glaesern
US3982917A (en) * 1975-02-04 1976-09-28 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Method of increasing the strength of silicate glass laser rods
US4198788A (en) * 1978-07-28 1980-04-22 The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration Method of forming a sharp edge on an optical device
DE2847935A1 (de) * 1978-11-04 1980-05-14 Herbert Dipl Ing Dr Schreiner Vorrichtung zum automatischen auffinden von fehlern und/oder verschmutzungen an prueflingen aus transparenten plattenfoermigen werkstoffen, insbesondere flachglas
US4911743A (en) * 1986-05-29 1990-03-27 Hughes Aircraft Company Glass structure strengthening by etching
DE8910392U1 (ja) * 1988-09-21 1989-11-09 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen, De

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3123452A (en) * 1964-03-03 Glass polish and process of polishing
US4106859A (en) * 1975-06-27 1978-08-15 Bbc Brown Boveri & Company Limited Reflector with light-scattering surface for liquid-crystal displays and method for their manufacture
JPS5982743A (ja) * 1982-11-04 1984-05-12 Seiko Epson Corp ガラス基板
JPS6440267A (en) * 1987-08-07 1989-02-10 Shinetsu Chemical Co Manufacture of precisely polished glass
JPH06127979A (ja) * 1992-10-20 1994-05-10 Furukawa Electric Co Ltd:The ガラス体の表面処理方法
JPH0763680A (ja) * 1993-08-26 1995-03-10 Nikon Corp 内部透過率の測定方法及び分光光度計の調整方法

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Publication number Publication date
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US6129987A (en) 2000-10-10
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JPH0875649A (ja) 1996-03-22

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