DE19522542A1 - Lichtempfindliche lithographische Druckplatte - Google Patents
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Description
Diese Erfindung betrifft eine lichtempfindliche lithographi
sche Druckplatte vom Positivtyp.
Wird eine lichtempfindliche lithographische Druckplatte mit
einem Aluminiumschichtträger, der zuvor einer Aufrauh- und
Anodisierungsbehandlung unterworfen wurde, und einer darauf
befindlichen Schicht aus einer lichtempfindlichen Harzmasse
vom Positivtyp (im folgenden als "PS-Platte vom Positivtyp"
bezeichnet) durch eine positive durchsichtige Vorlage hin
durch belichtet, erhöht sich bekanntlich die Löslichkeit des
belichteten Bereichs in einer Entwicklerlösung. Wird die be
lichtete PS-Platte vom Positivtyp mit einer Entwicklerlösung
für eine lichtempfindliche Harzmasse vom Positivtyp behan
delt, wird der belichtete Bereich der lichtempfindlichen
Schicht unter Freilegung der hydrophilen Oberfläche des
Schichtträgers entfernt, wobei ein positives Bild entsteht.
Seit einiger Zeit läßt sich bei der Herstellung einer Film
vorlage der Punktbereich in einem Film bei Verwendung eines
Scanners vermindern, so daß man sich um keinen Punktverlust
sorgen muß. Erfolgt ferner bei einem lithographischen Film
niedriger Feststoffdichte ein Punktverlust, verschwinden die
kleinsten Punkte. Wird die Lichtmenge bei der Belichtung
vermindert, um auch die kleinsten Punkte sichtbar zu machen,
wird das Licht am Kantenteil des Films gestreut (Lichthof
bildung), so daß auf einer Platte ein unnötiges Bild dieses
Teils entsteht. Dies macht es erforderlich, das unnötige
Bild nach der Entwicklung mit Hilfe einer Löschlösung zu
löschen. Somit kommt es bei einer üblichen PS-Platte vom
Positivtyp mit einer Chinondiazidverbindung als lichtemp
findlichem Material zwangsläufig zu einem Punktverlust, so
daß die Wiedergabe kleiner Punkte schlecht wird.
Aus der japanischen Patentveröffentlichung Nr. 70813/1993
ist ein Verfahren zur tonwertgerechten Wiedergabe, zur Ver
besserung der Reproduzierbarkeit der kleinsten Punkte und
zur Verhinderung der Bildung von Filmkantenmarken bekannt.
Dies erreicht man durch Anfärben der einer Anodisierungsbe
handlung unterworfenen Oberfläche einer Aluminiumplatte mit
Hilfe eines UV-absorbierenden Überzugs dergestalt, daß bei
einer Absorptionsmaximumwellenlänge von 340-450 nm die Re
flexionsdichte DS um 0,08-0,4 größer ist als bei fehlender
Färbung der Oberfläche.
Bei Anwendung dieser Technik wird jedoch bei hoher optischer
Reflexionsdichte DS die Haftung zwischen der lichtempfindli
chen Schicht und der Körnung (Rauhheit) des Schichtträgers
schrittweise geringer, so daß die Druckdauer in problemati
scher Weise nur kurz ist. Problematisch ist ferner, daß bei
Anwesenheit einer unter dem UV-absorbierenden Überzug lie
genden Haft- bzw. Primerschicht im entwickelten Bereich eine
Restfärbung zurückbleiben kann, so daß der Bildkontrast zu
wünschen übrig läßt.
Der vorliegenden Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, eine
lichtempfindliche lithographische Druckplatte bereitzustel
len, bei welcher durch Verbessern der Löslichkeit der licht
empfindlichen Schicht ohne Verschlechterung der Druckhalt
barkeit bzw. -dauer eine Restfärbung reduziert und der
Kontrast hoch sind.
Die geschilderte Aufgabe der vorliegenden Erfindung läßt
sich lösen mit:
- (1) Einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte mit einem Aluminiumblech, dessen Oberfläche einer Auf rauhbehandlung und anschließend einer Anodisierungsbe handlung unterworfen und mit einer ein UV-Absorptions mittel enthaltenden Lösung derart angefärbt wurde, daß bei einer lokalen Absorptionsmaximumwellenlänge zwi schen 340 und 450 nm die optische Reflexionsdichte DS um 0,02-0,5 größer ist als bei nichtangefärbter Oberfläche, und einer nach dem Anfärben durch Auftragen auf das Aluminiumblech gebildeten Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse vom Positivtyp mit einer o-Chinondiazidverbindung und einer Clathratverbindung;
- (2) der unter (1) beschriebenen lichtempfindlichen litho graphischen Druckplatte, bei der die Clathratverbindung aus Cyclodextrin besteht;
- (3) einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte mit einem Aluminiumblech, dessen Oberfläche einer Auf rauhbehandlung und anschließend einer Anodisierungsbe handlung unterworfen und mit einer ein UV-Absorptions mittel und eine in einer alkalischen wäßrigen Lösung löslichen oder quellbaren Verbindung enthaltenden Lö sung derart angefärbt wurde, daß bei einer lokalen Ab sorptionsmaximumwellenlänge zwischen 340 und 450 nm die optische Reflexionsdichte DS um 0,02-0,5 größer ist als bei nichtangefärbter Oberfläche, und einer nach dem Anfärben durch Auftragen auf das Aluminiumblech gebil deten Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse vom Positivtyp mit einer o-Chinondiazidverbindung;
- (4) der unter (3) beschriebenen lichtempfindlichen litho graphischen Druckplatte, bei der die in einer alkali schen wäßrigen Lösung lösliche oder quellbare Verbin dung aus einem wasserlöslichen Polymer besteht;
- (5) der unter (4) beschriebenen lichtempfindlichen litho graphischen Druckplatte, wobei das wasserlösliche Poly mer aus Stärkesorten, Cellulosesorten, Vinylsorten und/oder Gelatinesorten ausgewählt ist; und
- (6) der unter (3) oder (5) beschriebenen lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte, wobei die in einer alka lischen wäßrigen Lösung lösliche oder quellbare Verbin dung aus einem Novolakharz besteht.
Im folgenden wird die vorliegende Erfindung in ihren Einzel
heiten erläutert.
Als Aluminiumblech, bei dem es sich um den Schichtträger der
lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte handelt,
wird ein solches aus Aluminium oder einer Aluminiumlegierung
verwendet. Als Aluminiumlegierung eignen sich die verschie
densten Aluminiumlegierungen, beispielsweise eine Legierung
aus Aluminium und mindestens einem Metall, ausgewählt aus
der Gruppe Magnesium, Mangan, Silizium, Zink, Blei, Wismut,
Chrom, Eisen, Kupfer und Nickel.
Der erfindungsgemäß zu verwendende Schichtträger wird - wie
allgemein auf dem einschlägigen Fachgebiet üblich - entfet
tet, aufgerauht bzw. körnig gemacht und einer Anodisierungs
behandlung unterworfen. Vorzugsweise wird ein Schichtträger
verwendet, der zunächst aufgerauht bzw. körnig gemacht und
danach anodisiert wurde.
Die Entfettungsbehandlung zur Entfernung von Walzenöl auf
der Aluminiumoberfläche bedient man sich beispielsweise
eines Lösungsmittels, wie Tri-Clene (Warenzeichen der Fa.
Toa Gosei Chemical Industry Co., Ltd.) und eines Verdün
nungsmittels oder einer Emulsion aus beispielsweise Kerosin
und Triethanol. Zur Entfernung von Flecken und eines auf
natürliche Weise entstandenen Oxidfilms, die nicht durch
bloßes Entfetten entfernt werden können, kann man nach einem
alkalischen Ätzen und nach der Entfernung von Schmutz eine
Neutralisationsbehandlung durchführen, indem man den
Schichtträger 5 s bis 10 min in eine 20-90°C warme alka
lische Lösung mit 1-15% Natriumhydroxid und anschließend
5 s bis 5 min in eine 10-50°C warme saure Lösung mit
10-20% Salpetersäure oder Schwefelsäure taucht.
Die Aufrauhbehandlung erfolgt zur Gewährleistung einer guten
Haftung (des Schichtträgers) an einer lichtempfindlichen
Schicht und zur Verbesserung der Wasserabstoßung. Das Auf
rauhen bzw. Körnigmachen kann beispielsweise auf mechani
schem oder elektrochemischem Wege erfolgen. Mechanisch wird
die Oberfläche beispielsweise durch Kugelschleifen, Bürsten,
Strahlen und Schwabbeln behandelt. Beim elektrochemischen
Aufrauhen bzw. Körnigmachen wird beispielsweise der Schicht
träger einer Wechselstrom- oder Gleichstromelektrolyse in
einem Salzsäure oder Salpetersäure enthaltenden Elektrolyten
unterworfen. Der Schichtträger kann nach einer der beiden
Methoden oder mittels einer Kombination beider oder mehrerer
Methoden aufgerauht bzw. körnig gemacht werden.
Auf der Oberfläche des der Aufrauhbehandlung unterworfenen
Schichtträgers sind (durch unsauberes Abziehen) Schmutz
flecken entstanden. Zur Entfernung der Schmutzflecken wird
der Schichtträger im allgemeinen vorzugsweise einer ge
eigneten Behandlung unterworfen, z. B. gewaschen oder alka
lisch geätzt. Beispiele für eine derartige Behandlung sind
das alkalische Ätzverfahren gemäß der japanischen Patentver
öffentlichung Nr. 28123/1973 und die aus der provisorischen
japanischen Patentveröffentlichung Nr. 12739/1978 bekannte
Fleckenbeseitigung mittels Schwefelsäure.
Zur Verbesserung der Abriebbeständigkeit, der Chemikalienbe
ständigkeit und der Wasserabstoßung wird der erfindungsgemäß
vorzugsweise zu verwendende Schichtträger im allgemeinen
einer Anodisierungsbehandlung unterworfen, um darauf einen
Oxidfilm zu bilden. Zur Anodisierungsbehandlung bedient man
sich im allgemeinen vorzugsweise eines Verfahrens, bei wel
chem eine Elektrolyse bei einer Stromdichte von 1-10 A/dm²
unter Verwendung einer wäßrigen Lösung mit 10-50% Schwe
felsäure und/oder Phosphorsäure als Elektrolyt durchgeführt
wird. Ferner kann man sich eines Elektrolyseverfahrens in
Schwefelsäure bei hoher Stromdichte (vgl. US-PS 1 412 768)
bzw. unter Verwendung von Phosphorsäure (vgl. US-PS
3 511 661) bedienen.
Vorzugsweise wird der erfindungsgemäß bevorzugt einzuset
zende Schichtträger nach der Anodisierungsbehandlung einer
Behandlung zur Versiegelung der Poren unterworfen. Die Po
renversiegelungsbehandlung kann in einer Behandlung mit sie
dendem Wasser, in einer Wasserdampfbehandlung, in einer Be
handlung mit Natriumsilikat, in einer Behandlung mit einer
wäßrigen Dichromatlösung, in einer Nitritbehandlung und in
einer Behandlung mit Ammoniumacetat bestehen.
Weiterhin wird der erfindungsgemäß bevorzugt einzusetzende
Schichtträger erfindungsgemäß angefärbt. Auf dem Schichtträ
ger kann auch eine hydrophile Haft- oder Primerschicht vor
gesehen werden. Als hydrophile Haft- oder Primerschicht eig
net sich eine hydrophile Haft- oder Primerschicht mit einem
Alkalimetallsilikat (vgl. US-PS 3 181 461), mit hydrophiler
Cellulose (vgl. US-PS 1 860 426), mit einer Aminosäure und
einem Salz derselben (vgl. provisorische japanische Patent
veröffentlichungen Nr. 149491/1985 und 165183/1988), mit
Aminen mit einer Hydroxylgruppe und Salzen derselben (vgl.
provisorische japanische Patentveröffentlichung Nr.
232998/1985), mit einem Phosphat (vgl. provisorische japani
sche Patentveröffentlichung Nr. 19494/1987) bzw. mit einer
polymeren Verbindung mit einer Monomereneinheit mit einer
Sulfogruppe (vgl. provisorische japanische Patentveröffent
lichung Nr. 101651/1984). Das erfindungsgemäße Anfärben kann
in einer Ausführungsform derart erfolgen, daß der Haft- oder
Primerschicht ein UV-Absorptionsmittel zugesetzt wird.
Die Oberfläche des in der geschilderten Weise behandelten
Aluminiumblechs wird mit einer Lösung mit einem UV-Absorp
tionsmittel (erfindungsgemäße Ausführungsformen (1) und (2))
oder einer Lösung mit einem UV-Absorptionsmittel und einer
in einer wäßrigen alkalischen Lösung löslichen oder quellba
ren Verbindung (erfindungsgemäße Ausführungsformen (3) bis
(6)) derart angefärbt, daß bei einer lokalen Absorptionsma
ximumwellenlänge zwischen 340 und 450 nm die optische Refle
xionsdichte DS um 0,02-0,5 größer ist als bei nichtgefärb
ter Oberfläche.
Vorzugsweise sollte die UV-Absorptionswellenlänge des jewei
ligen Farbstoffs in etwa mit derjenigen der lichtempfindli
chen Komponente zusammenfallen. Vorzugsweise sollte der
Farbstoff UV-Strahlung zwischen 340 und 450 nm, d. h. der
Wellenlänge des im allgemeinen verwendeten o-Chinondiazids,
absorbieren. Insbesondere sollte er ein Absorptionsmaximum
zwischen 340 und 450 nm aufweisen. Der beschriebene Farb
stoff wird zur Zubereitung eines Lösungsgemischs ohne Mit
verwendung von Wasser oder unter Mitverwendung von Wasser
mit einem organischen Lösungsmittel gemischt. Das erhaltene
Lösungsgemisch wird in üblicher bekannter Weise beispiels
weise durch Tauchen, Walzenbeschichten oder Beschichten mit
tels einer Schiene aufgetragen. Die Auftragmenge ist vor
zugsweise derart, daß die optische Reflexionsdichte DS bei
einer lokalen maximalen Wellenlänge der Farbstoffabsorption
im Absorptionsband von o-Chinondiazid um 0,02-0,5, vor
zugsweise 0,02-0,2, höher ist als die ohne Farbstoffauf
trag erreichte Reflexionsdichte DS. Die Auftragmenge beträgt
vorzugsweise 0,5 g/m² oder weniger. Beträgt die Zunahme der
DS weniger als 0,02, ist der Effekt einer Steigerung der
Tonwertwiedergabe gering. Übersteigt sie 0,5, sinkt die Emp
findlichkeit deutlich. Die optische Reflexionsdichte DS wird
mit Hilfe eines Reflexionsspektralphotometers vom integrie
renden Kugeltyp bestimmt.
Als UV-Absorptionsmittel eignen sich die verschiedensten UV-
Absorptionsmittel. Wird ein einbasiger saurer Farbstoff,
d. h. ein saurer Farbstoff mit lediglich einer Sulfongruppe
oder Carboxylgruppe pro Molekül verwendet, läßt sich eine
Restfärbung in hohem Maße vermeiden. Spezielle Beispiele für
einbasige saure Farbstoffe sind:
Diese UV-Absorptionsmittel können alleine oder in Kombina
tion aus zwei oder mehreren zum Einsatz gelangen. Darüber
hinaus können sie erforderlichenfalls auch zusammen mit an
deren Verbindungen, beispielsweise Gummi arabicum, Carboxy
methylcellulose, Carboxyethylcellulose, Carboxymethyl
hydroxyethylcellulose, Alginsäure, Polyacrylsäure und Acryl
säurederivaten, einem Copolymer aus Vinylmethylether und
Maleinsäureanhydrid, einem Copolymer aus Vinylacetat und
Maleinsäureanhydrid, Polyvinylsulfonsäure, einem Salz der
selben und einem wasserlöslichen Metallsalz derselben (bei
spielsweise Zinkacetat) oder feinteiligem Siliziumdioxid
oder Titandioxid, eingesetzt werden.
Ferner kann man pH-Einstellmittel für den Farbstoff, insbe
sondere Amine, Aminosäuren, Aminsalze oder Aminosäuresalze
verwenden. Als Amine seien beispielsweise genannt: Ammoniak,
Methylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Ethylamin, Diethyl
amin, Triethylamin, Propylamin, Dipropylamin, Tripropylamin,
Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Allylamin,
Diallylamin, Triallylamin, Tributylamin, tert.-Butylamin,
Ethylendiamin, Piperidin, Pyridin, Hydrazin, Cyclohexylamin
und Anilin. Als Aminosäuren seien beispielsweise genannt:
Glycin, Alanin, Valin, Leucin, Isoleucin, Dihydroxyethylgly
cin, Serin, Threonin, Asparaginsäure, Glutaminsäure, Lysin,
Arginin, Phenylalanin, Tyrosin, Histidin, Tryptophan, Prolin
und Oxyprolin. Als Säuren zur Salzbildung mit dem Amin oder
der Aminosäure seien beispielsweise genannt:
Chlorwasserstoff-, Salpeter-, Schwefel- und Essigsäure, vor
zugsweise Chlorwasserstoffsäure.
Der pH-Wert der UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung ist
vorzugsweise ein solcher, bei der das Absorptionsvermögen
des UV-Absorptionsmittels hoch ist. Vorzugsweise liegt der
pH-Wert im Bereich von 2,5 und 8,0. Liegt der pH-Wert unter
2,5, wird der Farbstoff fest an den Anodisierungsfilm adsor
biert, wodurch nach der Entwicklung auch Nichtbildbezirke
farbig werden. Liegt der pH-Wert über 8,0, besteht die Ge
fahr, daß die vorhandene o-Chinondiazidverbindung zersetzt
wird. Darüber hinaus kann es auch zu einer Photodissoziation
kommen, bei der eine Verbindung entsteht, die durch Wechsel
wirkung mit dem Farbstoff in der lichtempfindlichen Schicht
eine Änderung des Farbtons bewirkt. Durch Zusatz des genann
ten pH-Einstellmittels läßt sich nicht nur die Absorptions
intensität des Farbstoffs steigern, sondern auch die Wirkung
hinsichtlich einer Verminderung von Restfärbung verstärken.
Bei den erfindungsgemäßen Ausführungsformen (3) bis (6) wer
den zusammen mit dem beschriebenen UV-Absorptionsmittel in
alkalischer wäßriger Lösung lösliche oder quellbare Verbin
dungen mitverwendet.
Bei den in alkalischer wäßriger Lösung löslichen Verbindun
gen handelt es sich um wasserlösliche Polymere. Die wasser
löslichen Polymere werden aus der Gruppe Stärkesorten (z. B.
natürlich vorkommende polymere Stärkesorten), Cellulosesor
ten (beispielsweise halbsynthetische Hydroxypropylcellulose
und Carboxymethylcellulose), Vinylsorten (beispielsweise Po
lyvinylalkohol und Carboxyvinylpolymere) und Gelatinesorten
ausgewählt. In sämtlichen UV-Absorptionsmittelbeschichtungs
lösungen beträgt die mitzuverwendende Menge vorzugsweise
0,01-50 Gew.-%. Die Auftragmenge beträgt vorzugsweise
0,5 g/m² oder weniger.
In einer wäßrigen alkalischen Lösung quellbare Verbindungen
sind vorzugsweise Novolakharze, (Co)polymerharze vom Vinyl
typ und polymere Latizes. In sämtlichen UV-Absorptionsmit
telbeschichtungslösungen beträgt die Zusatzmenge vorzugs
weise 0,01-50 Gew.-%. Die Auftragmenge beträgt vorzugs
weise 0,5 g/m² oder weniger.
In diesem Zusammenhang verwendbare Novolakharze und (Co)
polymerharze vom Vinyltyp werden später im Zusammenhang mit
der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse vom Positivtyp
beschrieben.
Polymere Latizes sind beispielsweise Homopolymere aus Mono
meren der später beschriebenen Gruppe A, Copolymere aus zwei
oder mehreren Monomeren aus der Gruppe A, polymere Latizes,
die man durch Copolymerisieren mindestens eines Monomers aus
der Gruppe A mit mindestens einem Monomer aus der Gruppe B
erhält, oder polymere Latizes, die man aus mindestens einem
Monomeren aus der Gruppe A und mindestens einem Monomer aus
der Gruppe B in Kombination mit mindestens einem Monomer aus
der Gruppe C erhält.
Gruppe A: Monomere der folgenden Formel:
CHX=CYZ
worin bedeuten:
X ein Wasserstoffatom, eine Methylgruppe oder eine -COOR¹- Gruppe;
Y ein Wasserstoffatom, eine Methylgruppe, -(CH₂)₆COOR², ein Halogen oder ein Nitril;
Z eine Arylgruppe, -COOR³, -OR³, -O-COR³, -CONR³, ein Halo gen oder ein Nitril;
R¹, R² und R³, die gleich oder verschieden sein können, je weils eine aliphatische Gruppe oder eine aromatische Gruppe und
n eine ganze Zahl von 0 bis 3.
X ein Wasserstoffatom, eine Methylgruppe oder eine -COOR¹- Gruppe;
Y ein Wasserstoffatom, eine Methylgruppe, -(CH₂)₆COOR², ein Halogen oder ein Nitril;
Z eine Arylgruppe, -COOR³, -OR³, -O-COR³, -CONR³, ein Halo gen oder ein Nitril;
R¹, R² und R³, die gleich oder verschieden sein können, je weils eine aliphatische Gruppe oder eine aromatische Gruppe und
n eine ganze Zahl von 0 bis 3.
Gruppe B: Monomere vom Ethylentyp mit mindestens einer
freien Carbonsäure-, Sulfonsäure- oder Phosphorsäuregruppe
oder einem Salz derselben sowie Hydroxyalkylester und Amide
der Carbonsäure.
Gruppe C: Monomere vom Divinyltyp.
In der Formel von Verbindungen der Gruppe A umfaßt die durch
R¹ bis R³ wiedergegebene aliphatische Gruppe gerad- oder
verzweigtkettige Alkylgruppen (einschließlich cyclischer
Alkylgruppen) und substituierte Alkylgruppen. Die Anzahl
der Kohlenstoffatome in der Alkylgruppe beträgt vorzugsweise
1 bis 12.
Als Substituent für die substituierten Alkylgruppen kommen
beispielsweise in Frage: eine Arylgruppe, eine Aryloxygrup
pe, ein Halogenatom, eine Cyanogruppe, eine Acylgruppe, eine
Alkylcarbonyloxygruppe, eine Arylcarbonyloxygruppe, eine
Aminogruppe (einschließlich einer substituierten Aminogruppe
mit - als Substituent - einer Alkyl- oder Arylgruppe, wobei
1 oder 2 Substituent(en) vorhanden sein kann (können)), eine
Hydroxylgruppe, eine Alkoxygruppe und der Rest eines hetero
cyclischen Rings (mit - als Heteroatom - beispielsweise
einem Sauerstoffatom, einem Stickstoffatom oder einem Schwe
felatom; die Anzahl der Ringglieder ist vorzugsweise 5 oder
6; der Ring kann ungesättigt oder gesättigt sein, ferner
kann der Heteroring an einen aromatischen Ring ankondensiert
sein).
Zu den durch R¹ bis R³ wiedergegebenen Arylgruppen gehören
selbstverständlich auch substituierte Phenyl- und Naphthyl
gruppen. Neben den für die Alkylgruppe genannten Substituen
ten können diese als Substituenten auch eine Alkylgruppe
enthalten. Beispiele für Monomere der Gruppe A sind mono
funktionelle Monomere, wie Acrylsäureester, Methacryl
säureester, Crotonsäureester, Vinylester, Maleinsäuredi
ester, Fumarsäurediester, Itaconsäurediester und Styrole.
Spezielle Beispiele für die Monomere sind: Methylacrylat,
Ethylacrylat, n-Propylacrylat, Isopropylacrylat, n-Butyl
acrylat, Isobutylacrylat, sek.-Butylacrylat, Amylacrylat,
Hexylacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, Octylacrylat, tert.-
Octylacrylat, 2-Phenoxyethylacrylat, 2-Chlorethylacrylat,
2-Bromethylacrylat, 4-Chlorbutylacrylat, Cyanoethylacrylat,
2-Acetoxyethylacrylat, Dimethylaminoethylacrylat, Benzyl
acrylat, Methoxybenzylacrylat, 2-Chlorcylcohexylacrylat,
Cyclohexylacrylat, Furfurylacrylat, Tetrahydrofurfurylacry
lat, Phenylacrylat, 5-Hydroxypentylacrylat, 2, 2-Dimethyl-3-
hydroxypropylacrylat, 2-Methoxyethylacrylat, 3-Methoxybutyl
acrylat, 2-Ethoxyethylacrylat, 2-Isopropoxyethylacrylat, 2-
Butoxyethylacrylat, 2-(2-Methoxyethoxy)ethylacrylat, 2-(2-
Butoxyethoxy)ethylacrylat, ω-Methoxypolyethylenglykolacrylat
(addierte Molzahl n = 9), 1-Brom-2-methoxyethylacrylat, 1,1-
Dichlor-2-ethoxyethylacrylat, Methylmethacrylat, Ethylmeth
acrylat, n-Propylmethacrylat, Isopropylmethacrylat, n-Butyl
methacrylat, Isobutylmethacrylat, sek.-Butylmethacrylat,
Amylmethacrylat, Hexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat,
Benzylmethacrylat, Chlorbenzylmethacrylat, Octylmethacrylat,
N-Ethyl-N-phenylaminoethylmethacrylat, 2-(3-Phenylpropyl
oxy)ethylmethacrylat, Dimethylaminophenoxyethylmethacrylat,
Furfurylmethacrylat, Tetrahydrofurfurylmethacrylat, Phenyl
methacrylat, Kresylmethacrylat, Naphthylmethacrylat, 2-
Hydroxyethylmethacrylat, 3-Hydroxypropylmethacrylat, 4-
Hydroxybutylmethacrylat, Triethylenglykolmonomethacrylat,
Dipropylenglykolmonomethacrylat, 2-Methoxyethylmethacrylat,
3-Methoxybutylmethacrylat, 2-Acetoxyethylmethacrylat, Aceto
acetoxyethylmethacrylat, 2-Ethoxyethylmethacrylat, 2-Iso
propoxyethylmethacrylat, 2-Butoxyethylmethacrylat, 2-(2-
Methoxyethoxy)ethylmethacrylat, 2-(2-Ethoxyethoxy)ethyl
methacrylat, 2-(2-Butoxyethoxy)ethylmethacrylat, ω-Meth
oxypolyethylenglykolmethacrylat (addierte Monozahl n = 6),
Vinylacetat, Vinylpropionat, Vinylbutyrat, Vinylisobutyrat,
Vinyldimethylpropionat, Vinylethylbutyrat, Vinylvalerat,
Vinylcaproat, Vinylchloracetat, Vinyldichloracetat, Vinyl
methoxyacetat, Vinylbutoxyacetat, Vinylphenylacetat, Vinyl
acetoacetat, Vinyllactat, Vinyl-β-phenylbutyrat, Vinylcyclo
hexylcarboxylat, Vinylbenzoat, Vinylsalicylat, Vinylchlor
benzoat, Vinyltetrachlorbenzoat, Vinylnaphthoat, Styrol,
Methylstyrol, Dimethylstyrol, Trimethylstyrol, Ethylstyrol,
Diethylstyrol, Isopropylstyrol, Butylstyrol, Hexylstyrol,
Cyclohexylstyrol, Decylstyrol, Benzylstyrol, Chlormethylsty
rol, Trifluormethylstyrol, Ethoxymethylstyrol, Acetoxyme
thylstyrol, Methoxystyrol, 4-Methoxy-3-methylstyrol, Dimeth
oxystyrol, Chlorstyrol, Dichlorstyrol, Trichlorstyrol, Te
trachlorstyrol, Pentachlorstyrol, Bromstyrol, Dibromstyrol,
Jodstyrol, Fluorstyrol, Trifluorstyrol, 2-Brom-4-trifluor
methylstyrol, 4-Fluor-3-trifluormethylstyrol, Methylvinyl
benzoat, Butylcrotonat, Hexylcrotonat, Glyzerinmonocrotonat,
Dimethylitaconat, Diethylitaconat, Dibutylitaconat, Diethyl
maleat, Dimethylmaleat, Dibutylmaleat, Diethylfumarat, Di
hexylfumarat, Dibutylfumarat, Methylacrylamid, Ethylacryl
amid, Propylacrylamid, Isopropylacrylamid, Butylacrylamid,
tert.-Butylacrylamid, Heptylacrylamid, tert.-Octylacrylamid,
Cyclohexylacrylamid, Benzylacrylamid, Hydroxymethylacryl
amid, Methoxyethylacrylamid, Dimethylaminoethylacrylamid,
Hydroxyethylacrylamid, Phenylacrylamid, Hydroxyphenylacryl
amid, Tolylacrylamid, Naphthylacrylamid, Dimethylacrylamid,
Diethylacrylamid, Dibutylacrylamid, Diisobutylacrylamid,
N-(1,1-Dimethyl-3-oxobutyl)acrylamid, Methylbenzylacrylamid,
Benzyloxyethylacrylamid, β-Cyanoethylacrylamid, Acryloylmor
pholin, N-Methyl-N-acryloylpiperazin, N-Acryloylpiperidin,
N-(1,1-Dimethyl-3-hydroxybutyl)acrylamid, N-β-Morpholino
ethylacrylamid, N-Acryloylhexamethylenimin, N-Hydroxyethyl-
N-methylacrylamid, N-2-Acetamidoethyl-N-acetylacrylamid,
Methylmethacrylamid, tert.-Butylmethacrylamid, tert.-Octyl
methacrylamid, Benzylmethacrylamid, Cyclohexylmethacrylamid,
Phenylmethacrylamid, Dimethylmethacrylamid, Diethylmeth
acrylamid, Dipropylmethacrylamid, Hydroxyethyl-N-methylmeth
acrylamid, N-Methyl-N-phenylmethacrylamid, N-Ethyl-N-phenyl
methacrylamid und Methacrylhydrazin;
Allylverbindungen, wie Allylacetat, Allylcaproat, Allyl caprylat, Allyllaurat, Allylpalmitat, Allylstearat, Allyl benzoat, Allylacetoacetat, Allyllactat, Allyloxyethanol, Allylbutylether und Allylphenylether;
Vinylether, wie Methylvinylether, Butylvinylether, Hexyl vinylether, Octylvinylether, Decylvinylether, Ethylhexyl vinylether, Methoxyethylvinylether, Ethoxyethylvinylether, Chlorethylvinylether, 1-Methyl-2,2-dimethylpropylvinylether, 2-Ethylbutylvinylether, Hydroxyethylvinylether, Diethylen glykolvinylether und Dimethylaminoethylvinylether;
Vinylketone, wie Methylvinylketon, Phenylvinylketon und Methoxyethylvinylketon;
Olefine, einschließlich unsubstituierter Kohlenwasserstoffe, wie Dicyclopentadien, Ethylen, Propylen, 1-Buten, 1-Penten, 1-Hexen, 4-Methyl-1-penten, 1-Hepten, 1-Octen, 1-Decen, 5-Methyl-1-nonen, 5,5-Dimethyl-1-octen, 4-Methyl-1-hexen, 4,4-Dimethyl-1-penten, 5-Methyl-1-hepten, 5-Methyl-1-hepten, 4,4-Dimethyl-1-hexen, 5,5,6-Trimethyl-1-hepten, 1-Dodecen und 1-Octadecen sowie Dienverbindungen, wie Butadien, Isopren und Chloropren;
heterocyclische Vinylverbindungen (die als Heteroatom bei spielsweise ein Stickstoffatom, ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelatom enthalten; die Anzahl der den heterocyclischen Ring bildenden Ringglieder ist beispielsweise 5 oder 6; an diesen Ring kann ein aromatischer Ring ankondensiert sein), wie N-Vinyloxazolidon, Vinylpyridin, Vinylpicolin, N-Vinyl imidazol, N-Vinyl-2-methylimidazol, N-Vinyltriazol, N-Vinyl- 3,5-dimethyltriazol, N-Vinylpyrrolidon, N-Vinyl-3,5-dime thylpyrazol, N-Vinylcarbazol, Vinylthiophen, N-Vinylsuccin imid, N-Vinylglutarimid, N-Vinyladipimid, N-Vinylpiperidon, N-Vinyl-6-caprolactam und N-Vinyl-2-pyridon;
ungesättigte Nitrile, wie Acrylnitril und Methacrylnitril, und
Vinylhalogenidverbindungen, wie Vinylchlorid, Vinyliden chlorid, Vinylbromid und Vinyljodid.
Allylverbindungen, wie Allylacetat, Allylcaproat, Allyl caprylat, Allyllaurat, Allylpalmitat, Allylstearat, Allyl benzoat, Allylacetoacetat, Allyllactat, Allyloxyethanol, Allylbutylether und Allylphenylether;
Vinylether, wie Methylvinylether, Butylvinylether, Hexyl vinylether, Octylvinylether, Decylvinylether, Ethylhexyl vinylether, Methoxyethylvinylether, Ethoxyethylvinylether, Chlorethylvinylether, 1-Methyl-2,2-dimethylpropylvinylether, 2-Ethylbutylvinylether, Hydroxyethylvinylether, Diethylen glykolvinylether und Dimethylaminoethylvinylether;
Vinylketone, wie Methylvinylketon, Phenylvinylketon und Methoxyethylvinylketon;
Olefine, einschließlich unsubstituierter Kohlenwasserstoffe, wie Dicyclopentadien, Ethylen, Propylen, 1-Buten, 1-Penten, 1-Hexen, 4-Methyl-1-penten, 1-Hepten, 1-Octen, 1-Decen, 5-Methyl-1-nonen, 5,5-Dimethyl-1-octen, 4-Methyl-1-hexen, 4,4-Dimethyl-1-penten, 5-Methyl-1-hepten, 5-Methyl-1-hepten, 4,4-Dimethyl-1-hexen, 5,5,6-Trimethyl-1-hepten, 1-Dodecen und 1-Octadecen sowie Dienverbindungen, wie Butadien, Isopren und Chloropren;
heterocyclische Vinylverbindungen (die als Heteroatom bei spielsweise ein Stickstoffatom, ein Sauerstoffatom oder ein Schwefelatom enthalten; die Anzahl der den heterocyclischen Ring bildenden Ringglieder ist beispielsweise 5 oder 6; an diesen Ring kann ein aromatischer Ring ankondensiert sein), wie N-Vinyloxazolidon, Vinylpyridin, Vinylpicolin, N-Vinyl imidazol, N-Vinyl-2-methylimidazol, N-Vinyltriazol, N-Vinyl- 3,5-dimethyltriazol, N-Vinylpyrrolidon, N-Vinyl-3,5-dime thylpyrazol, N-Vinylcarbazol, Vinylthiophen, N-Vinylsuccin imid, N-Vinylglutarimid, N-Vinyladipimid, N-Vinylpiperidon, N-Vinyl-6-caprolactam und N-Vinyl-2-pyridon;
ungesättigte Nitrile, wie Acrylnitril und Methacrylnitril, und
Vinylhalogenidverbindungen, wie Vinylchlorid, Vinyliden chlorid, Vinylbromid und Vinyljodid.
Als spezielle Beispiele für Monomere der Gruppe B seien die
folgenden monofunktionellen Monomere, wie Acrylsäure, Meth
acrylsäure, Itaconsäure, Maleinsäure, Monoalkylitaconat
(z. B. Monomethylitaconat, Monoethylitaconat und Monobutyl
itaconat), Monoalkylmaleat (z. B. Monomethylmaleat, Mono
ethylmaleat, Monobutylmaleat und Monooctylmaleat), Citracon
säure, Styrolsulfonsäure, Vinylbenzylsulfonsäure, Vinylsul
fonsäure, eine Acryloyloxyalkylsulfonsäure (beispielsweise
Acryloyloxymethylsulfonsäure, Acryloyloxyethylsulfonsäure,
Acryloyloxypropylsulfonsäure und Acryloyloxybutylsulfon
säure), eine Methacryloyloxyalkylsulfonsäure (z. B. Meth
acryloyloxymethylsulfonsäure, Methacryloyloxyethylsulfon
säure, Methacryloyloxypropylsulfonsäure und Methacryloyl
oxybutylsulfonsäure), eine Acrylamidoalkylsulfonsäure (z. B.
2-Acrylamido-2-methylethansulfonsäure, 2-Acrylamido-2-me
thylpropansulfonsäure und 2-Acrylamido-2-methylbutansulfon
säure), eine Methacrylamidoalkylsulfonsäure (z. B. 2-Meth
acrylamido-2-methylethansulfonsäure, 2-Methacrylamido-2-
methylpropansulfonsäure und 2-Methacrylamido-2-methylbutan
sulfonsäure), ein Acryloyloxyalkylphosphat (z. B. Acryloyl
oxyethylphosphat und 3-Acryloyloxypropylphosphat) und ein
Methacryloyloxyalkylphosphat (z. B. Methacryloyloxyethyl
phosphat und 3-Methacryloyloxypropylphosphat), genannt.
Die Alkylgruppe in den genannten Monomeren kann beispiels
weise aus einer Alkylgruppe mit etwa 1 bis 8 Kohlenstoff
atom(en) bestehen. Die genannte Säure kann aus einem Salz
eines Alkalimetallions (vorzugsweise Na⁺ und K⁺) oder eines
Ammoniumions bestehen.
Spezielle Beispiele für Monomere der Gruppe C sind ungesät
tigte Ester eines Polyols, insbesondere α-Methylencarbonsäu
rester, wie Ethylendi(meth)acrylat, Diethylenglykoldi(meth)
acrylat, Glyzerindi(meth)acrylat, Glyzerintri(meth)acrylat,
1,3-Propylendi(meth)acrylat, 1,4-Cyclohexandiol(meth)acry
lat, 1,4-Benzoldioldi(meth)acrylat, Pentaerythrittetra-
(meth)acrylat, 1,3-Propylenglykoldi(meth)acrylat, 1,5-Pen
tandioldi(meth)acrylat und Trimethylolpropantri(meth)acry
lat; ungesättigte Amide, insbesondere α-Methylencarbon
säureamide und insbesondere α, -Diamine und -Diamine mit
mittigem Sauerstoff, wie Methylenbis(meth)acrylamid, Ethy
lenbis(meth)acrylamid, 1,6-Hexamethylenbis(meth)acrylamid
und Diethylentriamintris(meth)acrylamid, Vinylester, wie Di
vinylsuccinat, Divinyladipat, Divinylphthalat, Divinyl
terephthalat, Divinylbenzol-1,3-disulfonat und Divinylbutan-
1,4-disulfonat sowie ungesättigte Aldehyde, z. B. Sorbinalde
hyd, d. h. 2,4-Hexadienal, und
Polyester und Polyamide einer neutralen α-Methylencarbon säure, wie (Meth)acrylat und (Meth)acrylamid, und/oder Ester und Amide von primären und sekundären Aminoalkohole, Amino polyol, Polyaminoalkohol oder Polyol sowie analogen Deriva ten der genannten Alkohole, beispielsweise β-Methacrylami doethyl(meth)acrylamid, N-(β-Hydroxyethyl)-β-(methacryl amid)ethylacrylat, N,N-Bis-(β-methacryloyloxyethyl)acrylamid sowie ferner Urethanverbindungen aus Divinylbenzol oder Xylylendiisocyanat und Hydroxyethyl(meth)acrylat, beispiels weise eine Urethanverbindung aus Isocyanat und einer Hydro xyalkylverbindung, wie eine Urethanverbindung der folgenden chemischen Struktur:
Polyester und Polyamide einer neutralen α-Methylencarbon säure, wie (Meth)acrylat und (Meth)acrylamid, und/oder Ester und Amide von primären und sekundären Aminoalkohole, Amino polyol, Polyaminoalkohol oder Polyol sowie analogen Deriva ten der genannten Alkohole, beispielsweise β-Methacrylami doethyl(meth)acrylamid, N-(β-Hydroxyethyl)-β-(methacryl amid)ethylacrylat, N,N-Bis-(β-methacryloyloxyethyl)acrylamid sowie ferner Urethanverbindungen aus Divinylbenzol oder Xylylendiisocyanat und Hydroxyethyl(meth)acrylat, beispiels weise eine Urethanverbindung aus Isocyanat und einer Hydro xyalkylverbindung, wie eine Urethanverbindung der folgenden chemischen Struktur:
In der vorhergehenden Beschreibung bedeuten "(Meth)acrylat"
sowohl "Acrylat" als auch "Methacrylat" bzw. "(Meth)acryl
amid" sowohl "Acrylamid" als auch "Methacrylamid".
Das erfindungsgemäß zu verwendende Latexpolymer läßt sich
beispielsweise nach dem in "Preparative methods of Polymer
Chemistry", Verlag Interscience Publishers, Seite 216 und
Seite 239 beschriebenen Emulsionspolymerisationsverfahren
herstellen.
Bei der Zubereitung des Latex kann erfindungsgemäß auch eine
durch Kondensationspolymerisation eines nicht emulsionspoly
merisierbaren Harzes hergestellte polymere Verbindung, bei
spielsweise ein Acetalharz, wie ein Formal- oder Butyral
harz, ein Celluloseester, z. B. Celluloseacetat, Cellulose
propionat, Cellulosebutyrat und Cellulosecrotonat, eine Co
esterverbindung dieser Esterverbindung mit einer Dicarbon
säure, wie Phthalsäure, Bernsteinsäure, Sebacinsäure und
Maleinsäure; eine Celluloseetherverbindung, wie Methylcellu
lose, Ethylcellulose, Propylcellulose, Butylcellulose,
Allylcellulose, Benzylcellulose, Cyclohexylcellulose und
Cyanoethylcellulose, ein Polyester, ein Polyamid, ein Po
lyurethan, ein Polyharnstoff und ein Polyimid verwendet
werden. Eine Emulsion der betreffenden Verbindung läßt sich
nach dem aus der provisorischen japanischen Patentveröffent
lichung Nr. 3653/1977 beschriebenen Verfahren zubereiten.
Es können auch handelsübliche Latizes verwendet werden. Ge
nannt seien beispielsweise Emulsionen von Polyacrylsäure
estercopolymeren, wie Julimer ET-410, Julimer SEK-301,
Julimer SEK-101, Julimer FC-30, Julimer FC-60, Julimer
FC-80, Julimer SE-5101, Julimer SE-5102, Julimer SE-5103,
Julimer SE-5301, Julimer SE-361, Julimer SE-363, Julimer
SE-365, Julimer SE-6302, Julimer SE-6311 und Julimer SE-6312
(Warenzeichen der Nihon Junyaku Co.), Nipol LX811, Nipol
LX814, Nipol LX841, Nipol LX851, Nipol LX852, Nipol LX854,
Nipol LX856, Nipol LX860 und Nipol LX874 (Warenzeichen von
Nihon Zeon Co.) und Primal AC-22, Primal AC-33, Primal AC-
3444, Primal AC-55, Primal AC-61, Primal AC-382, Primal ASE-
60, Primal ASE-75, Primal ASE-108, Primal B-15, Primal B-41,
Primal B-74, Primal B-336, Primal B-50, Primal B-832, Primal
B-924, Primal C-72, Primal E-32, Primal E-358, Primal HA-8,
Primal HA-16, Primal HA-24, Primal 1-94, Primal LC-40,
Primal LT-76, Primal LT-87, Primal MC-4530, Primal N-580,
Primal P-6N, Primal P-1060, Primal S-1, Primal TR-49 und
Primal 850 (Warenzeichen der Nihon Acryl Kagaku Co.);
Latizes vom Acrylnitril/Butadien-Typ, wie Nipol 1551, Nipol 1561, Nipol 1562, Nipol 1571, Nipol 1577, Nipol LX511, Nipol LX513, Nipol LX531 und Nipol LX531B (Warenzeichen der Nihon Zeon Co.);
Latizes vom Styrol/Butadien-Typ, wie Nipol LX111, Nipol 4850, Nipol 4850A, Nipol LX110, Nipol LX119, Nipol LX204, Nipol LX206, Nipol LX209, Nipol 2507, Nipol LX303, Nipol 2518FS, Nipol LX415A, Nipol LX426, Nipol LX430, Nipol LX432A, Nipol LX433, Nipol LX472, Nipol 2570X5, Nipol LX407BP, Nipol LX407C, Nipol LX407F und Nipol 407G (Warenzeichen der Nihon Zeon Co.);
Latizes vom Vinylchloridtyp, wie Geon 150X15, Geon 351 und Geon 576 (Warenzeichen der Nihon Zeon Co.);
Urethanharzemulsionen, wie VONDIC 1041NS, VONDIC 1050B-NS, VONDIC 1230NS, VONDIC 1250, VONDIC 1310NSC, VONDIC 1320NSC, VONDIC 1510, VONDIC 1610NS, VONDIC 1512NSC, VONDIC 1640, VONDIC 1660NS, VONDIC 1670NS, VONDIC 1930A-NS, VONDIC 1980NS, VONDIC 1205, VONDIC 2220 und VONDIC 2230 (Waren zeichen der Dainippon Ink Kagaku Co.) und Alon Neotan UE- 1101, Alon Neotan UE-1200, Alon Neotan UE-1300, Alon Neotan UE-1420, Alon Neotan UE-2103, Alon Neotan UE-2200, Alon Neotan UE-2600, Alon Neotan UE-2900, Alon Neotan UE-5404 und Alon Neotan UE-5600 (Warenzeichen der Toa Gosei Kagaku Kogyo Co.); und
Urethanharze in Form kolloidaler Dispersionen, wie HYDRAN HW-301, HYDRAN HW-310, HYDRAN HW-311, HYDRAN HW-312B, HYDRAN HW-333, HYDRAN HW-340, HYDRAN HW-350, HYDRAN HW-111, HYDRAN HW-140, HYDRAN HW-910, HYDRAN HW-920, HYDRAN HW-930, HYDRAN HW-940, HYDRAN HW-950 und HYDRAN HW-960 (Warenzeichen der Dainippon Ink Kagaku Kogyo Co.). Wird ein handelsüblicher Latex verwendet, ist zu berücksichtigen, daß dessen Eigen schaften durch die Art und dergleichen eines Emulsionsstabi lisators beeinflußt werden.
Latizes vom Acrylnitril/Butadien-Typ, wie Nipol 1551, Nipol 1561, Nipol 1562, Nipol 1571, Nipol 1577, Nipol LX511, Nipol LX513, Nipol LX531 und Nipol LX531B (Warenzeichen der Nihon Zeon Co.);
Latizes vom Styrol/Butadien-Typ, wie Nipol LX111, Nipol 4850, Nipol 4850A, Nipol LX110, Nipol LX119, Nipol LX204, Nipol LX206, Nipol LX209, Nipol 2507, Nipol LX303, Nipol 2518FS, Nipol LX415A, Nipol LX426, Nipol LX430, Nipol LX432A, Nipol LX433, Nipol LX472, Nipol 2570X5, Nipol LX407BP, Nipol LX407C, Nipol LX407F und Nipol 407G (Warenzeichen der Nihon Zeon Co.);
Latizes vom Vinylchloridtyp, wie Geon 150X15, Geon 351 und Geon 576 (Warenzeichen der Nihon Zeon Co.);
Urethanharzemulsionen, wie VONDIC 1041NS, VONDIC 1050B-NS, VONDIC 1230NS, VONDIC 1250, VONDIC 1310NSC, VONDIC 1320NSC, VONDIC 1510, VONDIC 1610NS, VONDIC 1512NSC, VONDIC 1640, VONDIC 1660NS, VONDIC 1670NS, VONDIC 1930A-NS, VONDIC 1980NS, VONDIC 1205, VONDIC 2220 und VONDIC 2230 (Waren zeichen der Dainippon Ink Kagaku Co.) und Alon Neotan UE- 1101, Alon Neotan UE-1200, Alon Neotan UE-1300, Alon Neotan UE-1420, Alon Neotan UE-2103, Alon Neotan UE-2200, Alon Neotan UE-2600, Alon Neotan UE-2900, Alon Neotan UE-5404 und Alon Neotan UE-5600 (Warenzeichen der Toa Gosei Kagaku Kogyo Co.); und
Urethanharze in Form kolloidaler Dispersionen, wie HYDRAN HW-301, HYDRAN HW-310, HYDRAN HW-311, HYDRAN HW-312B, HYDRAN HW-333, HYDRAN HW-340, HYDRAN HW-350, HYDRAN HW-111, HYDRAN HW-140, HYDRAN HW-910, HYDRAN HW-920, HYDRAN HW-930, HYDRAN HW-940, HYDRAN HW-950 und HYDRAN HW-960 (Warenzeichen der Dainippon Ink Kagaku Kogyo Co.). Wird ein handelsüblicher Latex verwendet, ist zu berücksichtigen, daß dessen Eigen schaften durch die Art und dergleichen eines Emulsionsstabi lisators beeinflußt werden.
Vorzugsweise sollte das Polymer einschließlich des nach
einem anderen als dem Emulsionspolymerisationsverfahren her
gestellten Latex, mindestens eine Gruppe, ausgewählt aus
Hydroxyl-, Amino-, Amid-, Imino-, Imid-, Nitrilo-, Carb
oxyl-, Sulfonyl-, Sulfonoxy-, Isocyanat-, Urethan-, Azo
imid-, Azo-, Hydrazino-, Carbamid-, Carbamyl-, Epoxy-, Mer
capto-, Thio- und Sulfonamidgruppen in der Haupt- oder Sei
tenkette enthalten. Der Teilchengröße des lipophilen Harzes
in der Emulsion sind keine speziellen Grenzen gesetzt. Im
allgemeinen besitzt das verwendbare lipophile Harz eine Grö
ßenverteilung im Bereich von etwa 0,03-10 µm. Die Teil
chengröße beträgt vorzugsweise etwa 0,05-5 µm. Als poly
merbildende Emulsionsteilchen können solche von einem Poly
mer eines hohen Molekulargewichts bis zu einem Oligomer,
d. h. eines Polymers eines Molekulargewichts von etwa 2000
bis etwa 200 000, und Mischungen hiervon verwendet werden.
Die polymerbildenden Teilchen können vernetzt oder durch ak
tive Strahlung oder Wärme härtbar sein. Die zuvor beschrie
benen Polymerlatizes können alleine oder in Mischung aus
zwei oder mehreren zum Einsatz gelangen.
Die zuvor beschriebenen, in einer alkalischen wäßrigen Lö
sung löslichen oder quellbaren Verbindungen können alleine
oder in Kombination aus zwei oder mehreren zum Einsatz ge
langen.
Eine erfindungsgemäße lichtempfindliche lithographische
Druckplatte erhält man durch Auftragen einer Schicht aus
einer lichtempfindlichen Masse vom Positivtyp (d. h. einer
lichtempfindlichen Schicht) mit einem o-Chinondiazid und
einer Clathratverbindung (erfindungsgemäße Ausführungsformen
(1) und (2)) oder durch Auftragen-einer Schicht aus einer
lichtempfindlichen Masse vom Positivtyp und einem o-Chinon
diazid (erfindungsgemäße Ausführungsformen (3) bis (6)) auf
den in der geschilderten Weise einer Färbungsbehandlung un
terworfenen Schichtträger. Der in der lichtempfindlichen
Schicht zu verwendenden lichtempfindlichen Komponente sind
keine speziellen Grenzen gesetzt. Vielmehr können die ver
schiedensten, üblicherweise in lichtempfindlichen lithogra
phischen Druckplatten allgemein verwendeten Substanzen zum
Einsatz gelangen (vgl. später).
Im Rahmen der erfindungsgemäßen Ausführungsformen (1) und
(2) verwendbare Clathratverbindungen sind beispielsweise
cyclische D-Glucane, Cyclophane, neutrale Polyliganden,
cyclische Polyanionen, cyclische Polykationen, cyclische
Peptide, Spheranden, Cavitanden und nicht-cyclische Analoge
derselben.
Cyclische D-Glucane und nicht-cyclische Analoge derselben
sind beispielsweise Verbindungen, bei welchen α-D-Glucopyra
nosen durch eine Glycoxidbindung verknüpft sind. Solche Ver
bindungen sind beispielsweise aus einer D-Glucopyranosegrup
pe gebildete Glucide, wie Stärke, Amylose und Amylopectin;
Cyclodextrine, wie α-Cyclodextrin, β-Cyclodextrin, γ-Cyclo
dextrin und Cyclodextrin, bei welchem eine D-Glucopyranose
gruppe einen Polymerisationsgrad von 9 oder mehr aufweist,
sowie modifizierte D-Glucane, in die ein Substituent, z. B.
eine SO₃C₆H₅CH₂C₆H₅SO₃-Gruppe, eine NHCH₂CH₂NH-Gruppe, eine
NHCH₂CH₂NHCH₂CH₂NH-Gruppe, eine SC₆H₅-Gruppe, eine N₃-Grup
pe, eine NH₂-Gruppe, eine NEt₂-Gruppe, eine SC(NH₂⁺)NH₂-
Gruppe, eine SH-Gruppe, eine SCH₂CH₂NH₂-Gruppe, eine Imida
zolgruppe oder eine Ethylendiamingruppe eingeführt ist, mit
folgenden Formeln:
worin V für C₆H₅, N₃, NH₂, N(C₂H₅)₂, SC(NH₂⁺)NH₂, SH,
SCH₂CH₂NH₂ oder
steht und
Cyclodextrin bedeutet.
Bei den Cyclophanen handelt es sich um cyclische Verbindun
gen jeweils einer Struktur, in der aromatische Ringe mitein
ander durch die verschiedensten Bindungen verknüpft sind.
Zahlreiche derartige Verbindungen sind bekannt. Bindungen,
die die aromatischen Ringe verknüpfen, sind beispielsweise
eine Einfachbindung, eine -(CR₁R₂)m-Bindung, eine
-O(CR₁R₂)mO-Bindung, eine NH(CR₁R₂)mNH-Bindung, eine
-(CR₁R₂)pNR₃(CR₄R₅)q-Bindung, eine -(CR₁R₂)pN⁺R₃R₄(CR₅R₆)q-
Bindung, eine -(CR₁R₂)pS⁺R3 (CR₄R₅)q-Bindung, eine -CO₂-Bin
dung und eine -CONR-Bindung (worin R₁, R₂, R₃, R₄, R₅ und R₆
gleich oder verschieden sein und jeweils für ein Wasser
stoffatom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoff
atom(en) stehen können und worin m, p und q gleich oder
verschieden sein und jeweils für eine ganze Zahl von 1 bis 4
stehen können). Solche Verbindungen sind beispielsweise
Paracyclophane der folgenden Formeln:
worin
für -CH₂CH₂- steht,
Orthocyclophane, nämlich Tri-o-thymotid und Cyclotrivera trylen der folgenden Formeln:
Orthocyclophane, nämlich Tri-o-thymotid und Cyclotrivera trylen der folgenden Formeln:
worin Me für eine Methylgruppe steht,
Metacyclophane, nämlich Metacyclophan, Callixallen und ein cyclisches Resorcin/Aldehyd-Oligomer der folgenden Formeln:
Metacyclophane, nämlich Metacyclophan, Callixallen und ein cyclisches Resorcin/Aldehyd-Oligomer der folgenden Formeln:
worin R für CH₂C₆H₅ steht,
worin R für Cl, CH₃, tert.-C₄H₉, C₆H₅, CO₂C₂H₅ oder i-C₃H₇
steht und n = 4, 5, 6, 7 oder 8, und
worin R für CH₃ oder C₆H₅ steht,
sowie ein p-substituiertes, nicht-cyclisches Phenololigomer der folgenden Formel:
sowie ein p-substituiertes, nicht-cyclisches Phenololigomer der folgenden Formel:
worin X für -CH₂-, -S- oder eine Einfachbindung steht, R CH₃
oder tert.-C₄H₉ darstellt und n eine ganze Zahl von 1 bis 10
bedeutet.
Neutrale Polyliganden sind beispielsweise Kronenverbindun
gen, Cryptanden, cyclische Polyamine und nicht cyclische
Analoge derselben. Es ist bekannt, daß die betreffenden Ver
bindungen wirksam Metallionen aufnehmen, sie können jedoch
auch wirksam kationische organische Moleküle aufnehmen.
In der für die erfindungsgemäße lichtempfindliche Schicht zu
verwendenden lichtempfindlichen Masse vom Positivtyp mit
einer o-Chinondiazidverbindung sollte vorzugsweise die zuvor
beschriebene, in einer alkalischen wäßrigen Lösung lösliche
Verbindung mitverwendet werden.
Ein Beispiel für die o-Chinondiazidverbindung ist eine
Esterverbindung eines polykondensierten Harzes aus o-Naph
thochinondiazidsulfonsäure, einem Phenol und einem Aldehyd
oder einem Keton.
Beispiele für das Phenol sind ein einwertiges Phenol, wie
Phenol, o-Cresol, m-Cresol, p-Cresol, 3,5-Xylenol, Carvacrol
und Thymol, ein zweiwertiges Phenol, wie Brenzcatechin,
Resorcin und Hydrochinon, sowie ein dreiwertiges Phenol, wie
Pyrogallol und Phloroglucin. Beispiele für ein Aldehyd sind
Formaldehyd, Benzaldehyd, Acetaldehyd, Crotonaldehyd und
Furfural. Von diesen werden Formaldehyd und Benzaldehyd be
vorzugt. Beispiele für das Keton sind Aceton und Methyl
ethylketon.
Ein spezielles Beispiel für das genannte polykondensierte
Harz ist ein Phenol/Formaldehyd-Harz, ein m-Cresol/Form
aldehyd-Harz, ein m- und p-Mischkresol/Formaldehyd-Harz, ein
Resorcin/Benzaldehyd-Harz sowie ein Pyrogallol/Aceton-Harz.
Bei der genannten o-Naphthochinondiazidverbindung beträgt
der Kondensationsanteil an o-Naphthochinondiazidsulfonsäure
auf der Basis einer OH-Gruppe des Phenols (die Reaktions
fähigkeit basiert auf einer OH-Gruppe) zweckmäßigerweise
15-80, vorzugsweise 20-45%.
Erfindungsgemäß verwendbare o-Chinondiazidverbindungen sind
beispielsweise die aus der provisorischen japanischen Pa
tentveröffentlichung Nr. 43451/1983 bekannten Verbindungen,
d. h. bekannte 1,2-Chinondiazidverbindungen, wie 1,2-Benzo
chinondiazidsulfonat, 1,2-Naphthochinondiazidsulfonat, 1,2-
Benzochinondiazidsulfonsäureamid und 1,2-Naphthochinondi
azidsulfonsäureamid. Weitere spezielle Beispiele hierfür
sind 1,2-Chinondiazidverbindungen, wie Phenyl-1,2-benzochi
nondiazid-4-sulfonat, 1,2,1′,2′-Di-(benzochinondiazid-4-sul
fonyl)-dihydroxybiphenyl, 1,2-Benzochinondiazid-4-(N-ethyl-
N-β-naphthyl)-sulfonamid, Cyclohexyl-1,2-naphthochinondi
azid-5-sulfonat, 1-(1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfonyl)-
3,5-dimethylpyrazol, 1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfon-4′-
hydroxydiphenyl-4′-azo-β-naphtholester, N,N-Di-(1,2-naphtho
chinondiazid-5-sulfonyl)-anilin, 2′-(1,2-Naphthochinondi
azid-5-sulfonyloxy)-1-hydroxyanthrachinon, 1,2-Naphthochi
nondiazid-5-sulfon-2,4-dihydroxybenzophenonester, 1,2-Naph
thochinondiazid-5-sulfonsäure-2,3,4-trihydroxybenzophenon
ester, ein Kondensat aus 2 Mol 1,2-Naphthochinondiazid-5-
sulfonsäurechlorid und 1 Mol 4,4′-Diaminobenzophenon, ein
Kondensat aus 2 Mol 1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfonsäure
chlorid und 1 Mol 4,4′-Dihydroxy-1,1′-diphenylsulfon, ein
Kondensat aus 1 Mol 1,2-Naphthochinondiazid-5-sulfonsäure
chlorid und 1 Mol Purpurogallin, und 1,2-Naphthochinondi
azid-5-(N-dihydroabietyl)-sulfonamid (vgl. J. Kosar, "Light-
Sensitive Systems", Seiten 339-352 (1965), Verlag John
Willey & Sons Co. (New York) und W. S. De Forest,
"Photoresist", Band 50 (1975), Verlag McGraw Hill Co.
(New York)). Erwähnt seien ferner die 1,2-Chinondiazidver
bindungen gemäß den japanischen Patentveröffentlichungen Nr.
1953/1962, 3627/1962, 13109/1962, 26126/1965, 3801/1965,
5604/1970, 27345/1970 und 13013/1976 sowie gemäß den provi
sorischen japanischen Patentveröffentlichungen Nr.
96575/1973, 63802/1973 und 63803/1973.
Von den genannten o-Chinondiazidverbindungen wird eine durch
Umsetzung von 1,2-Benzochinondiazidsulfonylchlorid oder 1,2-
Naphthochinondiazidsulfonylchlorid mit einem Pyrogallol/Ace
ton-Kondensatharz oder 2,3,4-Trihydroxybenzophenon erhaltene
o-Chinondiazidesterverbindung besonders bevorzugt.
Die genannten o-Chinondiazidverbindungen können erfindungs
gemäß alleine oder in Kombination aus zwei oder mehreren zum
Einsatz gelangen.
Der Anteil der o-Chinondiazidverbindung in der lichtemp
findlichen Masse vom Positivtyp beträgt zweckmäßigerweise
6-60, vorzugsweise 10-50 Gew.-%.
Als alkalilösliches Harz eignen sich beispielsweise Poly
mere, wie Novolakharze, Polymere oder Copolymere vom Vinyl
typ mit einer phenolischen Hydroxylgruppe und Polykondensate
aus einem mehrwertigen Phenol und einem Aldehyd oder einem
Keton (vgl. provisorische japanische Patentveröffentlichung
Nr. 57841/1980).
Erfindungsgemäß verwendbare Novolakharze sind beispielsweise
Phenol/Formaldehyd-, Cresol/Formaldedyd- und Phenol/Cresol/
Formaldedyd-Copolymerharze gemäß der provisorischen japani
schen Patentveröffentlichung Nr. 57841/1980 sowie Copolymer
harze aus einem p-substituierten Phenol und einem Phenol
oder Cresol und einem Formaldedyd gemäß der provisorischen
japanischen Patentveröffentlichung Nr. 127553/1980.
Für das (auf Polystyrol basierende) Molekulargewicht der ge
nannten Novolakharze gilt vorzugsweise ein Zahlenmittelmole
kulargewicht (Mn) von 3,00 × 10² bis 7,5 × 10³ und ein Ge
wichtsmittelmolekulargewicht (Mw) von 1,00 × 10³ bis 3,00 ×
10⁴. Vorzugsweise betragen das Mn 5,00 × 10² bis 4,00 × 10³
und das Mw 3,00 × 10³ bis 2,00 × 10⁴.
Die genannten Novolakharze können alleine oder in Kombina
tion aus zwei oder mehreren zum Einsatz gelangen.
Der Anteil der genannten Novolakharze in der lichtempfind
lichen Masse vom Positivtyp beträgt vorzugsweise 5-95
Gew.-%.
Bei den erfindungsgemäß vorzugsweise zu verwendenden Copoly
meren vom Vinyltyp mit einer phenolischen Hydroxylgruppe
handelt es sich um Polymere mit einer in der Molekülstruktur
die phenolische Hydroxylgruppe enthaltenden Einheit, vor
zugsweise um Polymere mit mindestens einer der durch die
Formeln (I) bis (V) dargestellten Konstitutionseinheiten:
In den Formeln bedeuten:
R₁ und R₂ jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Carboxylgruppe, vorzugsweise ein Wasserstoffatom;
R₃ ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom oder eine Alkyl gruppe, vorzugsweise ein Wasserstoffatom oder eine Alkyl gruppe, z. B. eine Methyl- oder Ethylgruppe;
R₄ ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe, vorzugsweise ein Wasserstoffatom;
A eine gegebenenfalls substituierte Alkylengruppe, die ein Stickstoffatom oder ein Sauerstoffatom mit einem aromati schen Kohlenstoffatom verbindet;
m eine ganze Zahl von 0 bis 10 und
B eine gegebenenfalls substituierte Phenylen- oder Naphthy lengruppe.
R₁ und R₂ jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Carboxylgruppe, vorzugsweise ein Wasserstoffatom;
R₃ ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom oder eine Alkyl gruppe, vorzugsweise ein Wasserstoffatom oder eine Alkyl gruppe, z. B. eine Methyl- oder Ethylgruppe;
R₄ ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe, eine Arylgruppe oder eine Aralkylgruppe, vorzugsweise ein Wasserstoffatom;
A eine gegebenenfalls substituierte Alkylengruppe, die ein Stickstoffatom oder ein Sauerstoffatom mit einem aromati schen Kohlenstoffatom verbindet;
m eine ganze Zahl von 0 bis 10 und
B eine gegebenenfalls substituierte Phenylen- oder Naphthy lengruppe.
Das erfindungsgemäß zu verwendende Polymer besitzt vorzugs
weise Copolymerstruktur. Als Monomereneinheiten, die in Kom
bination mit den Konstitutionseinheiten der obigen Formeln
(I) bis (V) benutzt werden können, eignen sich solche von
beispielsweise ethylenisch ungesättigten Olefinen, wie Ethy
len, Propylen, Isobutylen, Butadien und Isopren, Styrolen,
wie Styrol, α-Methylstyrol, p-Methylstyrol und p-Chlorsty
rol, Acrylsäuren, wie Acryl- und Methacrylsäure, ungesättig
ten aliphatischen Dicarbonsäuren, wie Itacon- und Malein
säure und Maleinsäureanhydrid, Estern von aliphatischen α-
Methylenmonocarbonsäuren, wie Methylacrylat, Ethylacrylat,
n-Butylacrylat, Isobutylacrylat, Dodecylacrylat, 2-Chlor
ethylacrylat, Phenylacrylat, Methyl-α-chloracrylat, Methyl
methacrylat und Ethylmethacrylat, Nitrilen, wie Acrylnitril
und Methacrylnitril, Amiden, wie Acrylamid, Aniliden, wie
Acrylanilid, p-Chloracrylanilid, m-Nitroacrylanilid und m-
Methoxyacrylanilid, Vinylestern, wie Vinylacetat, Vinylpro
pionat und Vinylbenzoat, Vinylethern, wie Methylvinylether,
Ethylvinylether, Isobutylvinylether und β-Chlorethylvinyl
ether, Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Vinylidencyanid,
Ethylenderivaten, wie 1-Methyl-1-methoxyethylen, 1,1-Dimeth
oxyethylen, 1,2-Dimethoxyethylen, 1,1-Dimethoxycarbonylethy
len und 1-Methyl-1-nitroethylen, sowie N-Vinylmonomeren, wie
N-Vinylpyrrol, N-Vinylcarbazol, N-Vinylindol, N-Vinylpyrro
lidin und N-Vinylpyrrolidon. Diese vinylartigen Monomeren
existieren in einer polymeren Verbindung in Form einer ge
spaltenen Doppelbindung.
Von den genannten Monomeren werden Ester aliphatischer Mono
carbonsäuren und Nitrile bevorzugt. Diese zeigen im Hinblick
auf den erfindungsgemäß angestrebten Erfolg hervorragende
Eigenschaften.
Die Monomeren können in dem erfindungsgemäß zu verwendenden
Polymer blockförmig oder statistisch eingebunden sein.
Das erfindungsgemäß verwendbare (Co)polymer vom Vinyltyp ist
in der lichtempfindlichen Masse vom Positivtyp vorzugsweise
in einer Menge von 0,5-70 Gew.-% enthalten.
Als (Co)polymere vom Vinyltyp können die genannten Polymeren
einzeln oder in Kombination aus zwei oder mehreren und dar
über hinaus auch noch in Kombination mit anderen polymeren
Verbindungen zum Einsatz gelangen.
Die erfindungsgemäß einsetzbaren Clathratverbindungen können
in der lichtempfindlichen Masse vom Positivtyp zweckmäßiger
weise in einer Menge von 0,1-10 Gew.-%, vorzugsweise von
0,5-5 Gew.-% enthalten sein. Liegt die Gesamtmenge inner
halb des angegebenen Bereichs, können auch zwei oder mehrere
Clathratverbindungen gemeinsam verwendet werden.
Der zuvor beschriebenen lichtempfindlichen Masse vom Posi
tivtyp kann auch ein bei Belichtung ein sichtbares Bild lie
ferndes Auskopiermaterial zugesetzt werden. Das Auskopierma
terial umfaßt eine Verbindung, die bei Belichtung eine Säure
oder eine freie Gruppe bildet, und einen organischen Farb
stoff, der durch Wechselwirkung mit der gebildeten Säure
oder freien Gruppe seinen Farbton ändert. Beispiele für Ver
bindungen, die bei Belichtung eine Säure oder eine freie
Gruppe bilden, sind o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurehalo
genide gemäß der provisorischen japanischen Patentveröffent
lichung Nr. 36209/1975, Ester- oder Amidverbindungen, umfas
send o-Naphthochinondiazid-4-sulfonsäurechlorid und ein
Phenol mit einem elektronenziehenden Substituenten oder
Anilin gemäß der provisorischen japanischen Patentveröffent
lichung Nr. 36233/1978 und eine Halogenmethylvinyloxadiazol
verbindung sowie ein Diazoniumsalz gemäß den provisorischen
japanischen Patentveröffentlichungen Nr. 77742/1980 und
148784/1982.
Der lichtempfindlichen Masse von Positivtyp können erforder
lichenfalls neben den bereits beschriebenen Substanzen ein
Plastifizierungsmittel, ein oberflächenaktives Mittel bzw.
Netzmittel, eine organische Säure und ein Säureanhydrid zu
gesetzt werden.
Weiterhin können der lichtempfindlichen Masse vom Positivtyp
beispielsweise ein p-tert.-Butylphenol/Formaldehyd-Harz, ein
p-n-Octylphenol/Formaldehyd-Harz oder ein Harz, bei dem das
betreffende Harz teilweise mit einer o-Chinondiazidverbin
dung verestert ist, zugesetzt werden, um die Druckfarbeauf
nahmefähigkeit der lichtempfindlichen Masse vom Positivtyp
zu verbessern.
Die lichtempfindliche lithographische Druckplatte läßt sich
durch Auflösen der betreffenden Komponenten in einem der
folgenden Lösungsmittel, Auftragen der erhaltenen Lösung auf
die Oberfläche des Schichtträgers und anschließendes Trock
nen zur Ausbildung der lichtempfindlichen Schicht auf dem
Schichtträger herstellen.
Lösungsmittel zur Auflösung der erfindungsgemäßen lichtemp
findlichen Masse vom Positivtyp sind beispielsweise Methyl
cellosolve, Methylcellosolveacetat, Ethylcellosolve, Ethyl
cellosolveacetat, Diethylenglykolmonomethylether, Diethylen
glykolmonoethylether, Diethylenglykoldimethylether, Diethy
lenglykolmethylethylether, Diethylenglykoldiethylether, Di
ethylenglykolmonoisopropylether, Propylenglykol, Propylen
glykolmonoethyletheracetat, Propylenglykolmonobutylether,
Dipropylenglykolmonomethylether, Dipropylenglykolmethyldi
carboxylat, Dipropylenglykolmethylethylether, Ethylformiat,
Propylformiat, Butylformiat, Amylformiat, Methylacetat,
Ethylacetat, Propylacetat, Butylacetat, Methylpropionat,
Ethylpropionat, Methylbutyrat, Ethylbutyat, Dimethylform
amid, Dimethylsulfoxid, Dioxan, Aceton, Methylethylketon,
Cyclohexanon, Methylcyclohexanon, Diacetonalkohol, Acetyl
aceton und γ-Butyrolacton. Diese Lösungsmittel können al
leine oder in Kombination aus zwei oder mehreren zum Einsatz
gelangen.
Zum Auftragen der lichtempfindlichen Masse vom Positivtyp
auf die Oberfläche des Schichtträgers kann man sich üblicher
bekannter Verfahren bedienen. Das Auftragen kann beispiels
weise durch Wirbelbeschichten, Drahtschienenbeschichten,
Tauchbeschichten, Luftrakelbeschichten, Walzenbeschichten,
Beschichten mittels einer Klinge und Vorhangbeschichten er
folgen. Die aufzutragende Menge variiert entsprechend dem
Gebrauchszweck, vorzugsweise beträgt sie 0,05-5,0 g/m² als
Festkomponente. Die erhaltene lichtempfindliche lithographi
sche Druckplatte läßt sich in üblicher bekannter Weise be
handeln. So wird beispielsweise eine durchsichtige Vorlage
mit Strich- und Punktbildern in engen Kontakt mit der
lichtempfindlichen Oberfläche gebracht, worauf belichtet
wird. Danach wird die lichtempfindliche Schicht in den
Nichtbildbezirken mit Hilfe einer geeigneten Entwicklerlö
sung entfernt. Dabei wird ein Reliefbild erhalten. Zur Be
lichtung geeignete Lichtquellen sind beispielsweise eine
Quecksilberlampe, eine Metallhalogenidlampe, eine Xenon
lampe, eine chemische Lampe und eine Kohlenbogenlampe.
Im folgenden wird die erfindungsgemäß bevorzugt zu verwen
dende Entwicklerlösung beschrieben.
Als erfindungsgemäß bevorzugt verwendbare Entwicklerlösung
eignet sich insbesondere eine alkalische wäßrige Lösung,
beispielsweise eine wäßrige Lösung von Natriumsilikat, Ka
liumsilikat, Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natrium-tert.-
phosphat, Natrium-sek.-phosphat, Natriumcarbonat oder Ka
liumcarbonat. Die Konzentration der alkalischen wäßrigen Lö
sung variiert entsprechend der Art der lichtempfindlichen
Masse vom Positivtyp und dem Alkali, im allgemeinen beträgt
sie jedoch 0,1-10 Gew.-%. Der alkalischen wäßrigen Lösung
kann erforderlichenfalls ein oberflächenaktives Mittel bzw.
Netzmittel oder ein organisches Lösungsmittel, z. B. ein
Alkohol, zugesetzt werden.
Als organisches Lösungsmittel eignet sich beispielsweise
Benzylalkohol, 2-Butoxyethanol, Triethanolamin, Diethanol
amin, Monoethanolamin, Glycerin, Ethylenglykol, Polyethylen
glykol und Polypropylenglykol. Ein derartiges organisches
Lösungsmittel kann in der Entwicklerlösung oder in einer
Nachfüllösung innerhalb eines Bereichs, daß die Menge an or
ganischem Lösungsmittel bei 5 Gew.-% oder weniger, bezogen
auf das Gesamtgewicht der Entwicklerlösung, gehalten wird,
enthalten sein.
In der Entwicklerlösung oder der erfindungsgemäß bevorzugt
verwendeten Nachfüllösung kann weiterhin ein oberflächenak
tives Mittel bzw. Netzmittel enthalten sein. Durch Einarbei
ten eines oberflächenaktiven Mittels bzw. Netzmittels lassen
sich die Behandlungskapazität der Entwicklerlösung (Menge an
lichtempfindlicher Schicht, die durch Weglösen mittels einer
Volumeneinheit der Entwicklerlösung entfernt werden kann)
verbessern und weiterhin der Bereich für die Entwicklungsbe
dingungen (Temperatur, Behandlungsdauer u. dgl.), die zu op
timalen Ergebnissen führen, verbreitern. Bevorzugte Bei
spiele für solche Netzmittel sind anionische und amphotere
Netzmittel. Besonders bevorzugte Beispiele für anionische
Netzmittel sind Alkylbenzolsulfonate (Anzahl der Kohlen
stoffatome der Alkylgruppe: 8-18, vorzugsweise 12-16),
wie Natriumdodecylbenzolsulfonat, Alkylnaphthalinsulfonate
(Anzahl der Kohlenstoffatome der Alkylgruppe: 3-10), wie
Natriumisopropylnaphthalinsulfonat, Formaldehydkondensate
von Naphthalinsulfonat, Dialkylsulfosuccinate (Anzahl der
Kohlenstoffatome der Alkylgruppe: 2-18) und Dialkylamid
sulfonate (Anzahl der Kohlenstoffatome der Alkylgruppe:
11-17). Besonders bevorzugte Beispiele für amphotere Netz
mittel sind Imidazolinderivate, wie Verbindungen vom Betain
typ, z. B. N-Alkyl-N,N,N-tris-(carboxymethyl)-ammonium (An
zahl der Kohlenstoffatome der Alkylgruppe: 12-18) und N-
Alkyl-N-carboxymethyl-N,N-dihydroxyethylammonium (Anzahl der
Kohlenstoffatome der Alkylgruppe: 12-18). Der Menge an zu
verwendendem Netzmittel sind keine besonderen Grenzen ge
setzt. Das oberflächenaktive Mittel bzw. Netzmittel ist je
doch in der Entwicklerlösung oder der Nachfüllösung im all
gemeinen in einer solchen Konzentration enthalten, daß die
Netzmittelmenge, bezogen auf das Gesamtgewicht der Entwick
lerlösung zum Gebrauchszeitpunkt, etwa 0,003 bis etwa 3,
vorzugsweise 0,006 bis 1 Gew.-% beträgt.
In der erfindungsgemäß bevorzugten Entwicklerlösung oder
Nachfüllösung kann ferner ein Entschäumungsmittel enthalten
sein. Geeignete Entschäumungsmittel sind aus den US-PS
3 250 727 und 3 545 970 sowie den GB-PS 1 382 901 und
1 387 713 bekannt. Von diesen werden organische Silanverbin
dungen bevorzugt.
Die Nachfüllösung wird in einer solchen Menge zugesetzt, daß
die Menge der durch die Behandlung der PS-Platte vom Posi
tivtyp in der Entwicklerlösung verbrauchten Komponenten und
der alkalischen Komponenten in der Entwicklerlösung, die
durch Haftenbleiben an einer behandelten PS-Platte vom Posi
tivtyp ausgetragen werden, und/oder der alkalischen Kompo
nenten, die in der Entwicklerlösung durch das in der Luft
enthaltene Kohlendioxid neutralisiert wurden, kompensiert
wird. Wenn beispielsweise die Größe einer PS-Platte vom
Positivtyp, die mit 1 l Entwicklerlösung behandelt werden
kann, 2 m² beträgt, kann man immer dann eine gegebene Menge
Nachfüllösung zugeben, wenn 2 m²/l der PS-Platte vom Posi
tivtyp behandelt worden sind. Andererseits kann man auch die
Fläche jeder zu behandelnden PS-Platte ausmessen und jeweils
zum Behandlungszeitpunkt einer (neuen) PS-Platte eine geeig
nete Menge Nachfüllösung zugeben.
Die Entwicklungskapazität der Entwicklerlösung wird im all
gemeinen wie folgt bestimmt: Eine PS-Platte wird durch einen
Stufenkeil (beispielsweise einen Stufenkeil mit 21 Abstufun
gen, bei welchem die optische Dichte der ersten Stufe 0,10
und der jeweilige Dichteunterschied zwischen aufeinanderfol
genden Stufen 0,15 betragen) belichtet, worauf die belich
tete PS-Platte entwickelt wird. Die Zahl der festen Stufe
(d. h. die Stufe mit der niedrigsten Zahl unter den durch die
Entwicklerlösung nicht weggelösten Stufen) beim Behandeln
der PS-Platte mit frischer Entwicklerlösung wird mit der
Zahl der festen Stufe bei der Behandlung der PS-Platte mit
einer erschöpften Entwicklerlösung verglichen. Wenn der Zah
lenwert in letzterem Falle eine Stufe niedriger ist, ist
festgelegt, daß die Behandlungskapazität der Entwicklerlö
sung das Limit erreicht hat. Durch Herausfinden der Menge an
Nachfüllösung, mit der beim Entwickeln mit der Entwicklerlö
sung, deren Entwicklungskapazität das Limit erreicht hat,
der ursprüngliche Zahlenwert der festen Stufe wieder er
reicht werden kann, kann der Zeitpunkt für den Zusatz der
Nachfüllösung zu der Entwicklerlösung und die Menge an zuzu
setzender Nachfüllösung ermittelt werden.
Durch Ermitteln des pH-Werts der Entwicklerlösung, deren Be
handlungskapazität - wie beschrieben - das Limit erreicht
hat, und des pH-Werts der frischen Entwicklerlösung kann man
beispielsweise durch Einbau eines pH-Meßgeräts in den Ent
wicklertank einer automatischen Entwicklungsvorrichtung Maß
nahmen treffen, um die Nachfüllösung dergestalt zuzuführen,
daß der pH-Wert der frischen Entwicklerlösung konstant
bleibt.
Ungeachtet der Maßnahmen zum Zusatz dem Nachfüllösung er
folgt der Zusatz der Nachfüllösung zur Kompensation einer
Änderung der Komponenten in der Entwicklerlösung, die durch
die Entwicklung der PS-Platte vom Positivtyp und/oder durch
Zeitablauf und/oder durch einen Verlust an Entwicklerlösung
durch Austragen mit der entwickelten PS-Platte verursacht
ist.
Die vorliegende Erfindung wird anhand der Beispiele näher
erläutert.
Ein Aluminiumblech (Werkstoff: 1050; Anlassen: H16) einer
Dicke von 0,24 mm wurde 1 min bei 60°C in einer 5gew.-%igen
wäßrigen Natriumhydroxidlösung entfettet, gewaschen und 30 s
bei einer Temperatur von 25°C und einer Stromdichte von 60
A/dm² in 1 l einer 0,5 molaren wäßrigen Salzsäurelösung
elektrolytisch geätzt. Danach wurde das Blech 10 s bei 60°C
in einer 5gew.-%igen wäßrigen Natriumhydroxidlösung von
Schmutz(flecken) befreit und anschließend 1 min bei einer
Temperatur von 20°C und einer Stromdichte von 3 A/dm² in
einer 20%igen Schwefelsäurelösung einer Anodisierungsbe
handlung unterworfen. Schließlich wurde das Blech zur Her
stellung eines Schichtträgers 20 s in 80°C heißem Wasser
einer Porenversiegelungsbehandlung unterworfen.
Mit Hilfe einer Drahtschiene wurde auf den erhaltenen
Schichtträger eine UV-Absorptionsmittelbeschichtungslö
sung 1 der folgenden Zusammensetzung:
UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung 1 | ||
Wasser|50 g | ||
Methanol | 100 g | |
Diacid Light Yellow 2 G @ | (Warenzeichen der Mitsubishi Kasei Corporation) | 0,3 g |
aufgetragen. Die Auftragmenge betrug 0,3 g/m². Das Trocknen
dauerte 2 min bei 90°C.
Auf den in der geschilderten Weise hergestellten Schichtträ
ger wurde mittels einer Drahtschiene die lichtempfindliche
Lösung 1 der folgenden Zusammensetzung:
Lichtempfindliche Lösung 1 | |
Clathratverbindung (β-Cyclodextrin)|0,15 g | |
Novolakharz (Molverhältnis Phenol/m-Cresol/p-Cresol: 10/54/36; Mw: 4000) | 6,7 g |
o-Naphthochinondiazid-Verbindung (Kondensat eines Pyrogallolacetonharzes (Mw: 3000) mit Naphthochinondiazid-5-sulfonylchlorid (Veresterungsverhältnis: 30%)) | 1,5 g |
Polyethylenglykol #2000 (Warenzeichen der Daiichi Kogyo Seiyaku Co.) | 0,2 g |
Victoria Reinblau BOH (Warenzeichen der Hodogaya Kagaku Co.) | 0,08 g |
2,4-Bis-(trichlormethyl)-6-(p-methoxystyryl)-s-triazin | 0,15 g |
Netzmittel vom Fluortyp FC-430 (Warenzeichen der Sumitomo 3M Co.) | 0,03 g |
Cis-1,2-cyclohexandicarbonsäure | 0,2 g |
Methylcellosolve | 100 ml |
aufgetragen und 1 min bei 90°C getrocknet. Hierbei wurde ein
lichtempfindlicher lithographischer Druckplattenprüfling 1-1
mit einer lichtempfindlichen Schicht erhalten. Das Auftrag
gewicht des gebildeten Films nach dem Trocknen betrug 2
g/m².
Der Prüfling 1-2 wurde entsprechend Prüfling 1-1 herge
stellt, wobei jedoch die Clathratverbindung (β-Cyclodextrin)
in der lichtempfindlichen Lösung 1 durch Cyclotriveratrylen
ersetzt wurde.
Der Prüfling 1-3 wurde entsprechend Prüfling 1-1 herge
stellt, wobei jedoch die Menge an Clathratverbindung (β-
Cyclodextrin) in der lichtempfindlichen Lösung 1 von 0,15 g
auf 0,075 g geändert und weiterhin 0,075 g der Clathratver
bindung Cyclotriveratrylen zugegeben wurden.
Die erhaltenen Prüflinge 1-1 bis 1-3 wurden mit einem Stu
fenkeil Nr. 2 (Warenzeichen der Eastman Kodak Co.; jeder
Dichteunterschied betrug 0,15, Grauskala von 21 Stufen) zur
Ermittlung der Empfindlichkeit und einer Originalkopie von
Burrner′schen Mikropunkten (zur Bestimmung der Reproduzier
barkeit kleiner Punkte im 0,5-5% Punktbereich) in engen
Kontakt gebracht und 20 s aus einem Abstand von 90 cm mit
Hilfe einer 2 kW Metallhalogenidlampe als Lichtquelle be
lichtet. Danach wurden die belichteten lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatten mit einer SDR-1-Entwickler
lösung (Warenzeichen der Konica Corporation), die mit Wasser
auf das 6fache verdünnt worden war, 20 s bei 27°C ent
wickelt. Es wurden die jeweilige Empfindlichkeit, die Repro
duzierbarkeit von Mikropunkten und die Restfärbung bewertet.
Die Ergebnisse finden sich in Tabelle 1.
Die bei der geschilderten Belichtung und Entwicklung erhal
tenen Druckformen wurden in eine Druckpresse Heidelberg GTO
(Warenzeichen der Heidelberger Druckmaschinen AG, Bundes
republik Deutschland) eingesetzt und unter Verwendung der
Druckfarbe High Plus Magenta (Warenzeichen der Toyo Ink
Seizo Co.) für beschichtetes Papier und der wäßrigen Plat
tenätzlösung SEU-3 (2,5%ig, Warenzeichen der Konica
Corporation) zu Druckzwecken verwendet. Die Druckdauer
(Haltbarkeit der Druckform in der Druckpresse) wurde durch
kontinuierliches Drucken bis zum Auftreten von Druckfehlern
in festen Bildbezirken eines bedruckten Papiers oder Färben
von Nichtbildbezirken und Zählen der Anzahl von Drucken bis
zu diesem Zeitpunkt ermittelt. Die Ergebnisse finden sich in
Tabelle 1.
Der Prüfling 1-4 wurde entsprechend dem Prüfling 1-1 herge
stellt, wobei jedoch in der lichtempfindlichen Lösung 1 die
Clathratverbindung (β-Cyclodextrin) weggelassen wurde. Der
Prüfling 1-4 wurde entsprechend den Prüflingen 1-1 bis 1-3
von Beispiel 1 belichtet und entwickelt und danach bewertet.
Die Ergebnisse finden sich ebenfalls in Tabelle 1.
Ein Aluminiumblech (Werkstoff: 1050; Anlassen: H16) einer
Dicke von 0,24 mm wurde 1 min bei 60°C in einer 5gew.-%igen
wäßrigen Natriumhydroxidlösung entfettet, gewaschen und 30 s
bei einer Temperatur von 25°C und einer Stromdichte von 60
A/dm² in 1 l einer 0,5 molaren wäßrigen Salzsäurelösung
elektrolytisch geätzt. Danach wurde das Blech 10 s bei 60°C
in einer 5gew.-%igen wäßrigen Natriumhydroxidlösung von
Schmutz(flecken) befreit und anschließend 1 min bei einer
Temperatur von 20°C und einer Stromdichte von 3 A/dm² in
einer 20%igen Schwefelsäurelösung einer Anodisierungsbe
handlung unterworfen. Schließlich wurde das Blech zur Her
stellung eines Schichtträgers 20 s in 80°C heißem Wasser
einer Porenversiegelungsbehandlung unterworfen.
Auf den erhaltenen Schichtträger wurde unter Verwendung
eines Drahtschiene eine UV-Absorptionsmittelbeschichtungslö
sung 2-1 der folgenden Zusammensetzung:
UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung 2-1 | |
Wasser|50 g | |
Methanol | 100 g |
Diacid Light Yellow 2G (Warenzeichen der Mitsubishi Kasei Corporation) | 0,3 g |
Harz SK-242 vom Novolaktyp (Warenzeichen von Sumitomo Durez Co., Ltd., Molverhältnis Phenol/m-Cresol/p-Cresol: 20/80/20; Mw: 3 700) | 0,3 g |
aufgetragen. Anschließend wurde auf den Schichtträger noch
eine lichtempfindliche Lösung 2 der folgenden Zusammenset
zung:
Lichtempfindliche Lösung 2 | |
Novolakharz (Molverhältnis Phenol/m-Cresol/p-Cresol: 10/54/36; Mw: 4000)|6,7 g | |
o-Naphthochinondiazid-Verbindung (Kondensat eines Pyrogallolacetonharzes (Mw: 3000) mit Naphthochinondiazid-5-sulfonylchlorid (Veresterungsverhältnis: 30%)) | 1,5 g |
Polyethylenglykol #2000 (Warenzeichen der Daiichi Kogyo Seiyaku Co.) | 0,2 g |
Victoria Reinblau BOH (Warenzeichen der Hodogaya Kagaku Co.) | 0,08 g |
2,4-Bis-(trichlormethyl)-6-(p-methoxystyryl)-s-triazin | 0,15 g |
Netzmittel FC-430 vom Fluortyp (Warenzeichen der Sumitomo 3M Co.) | 0,03 g |
Cis-1,2-cyclohexandicarbonsäure | 0,2 g |
Methylcellosolve | 100 ml |
aufgetragen, um einen Prüfling 2-1 herzustellen. Der pH-Wert
der UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung 2-1 betrug 5,0.
Die Auftragmenge betrug 0,3 g/m². Die Absorptionswellenlänge
(400 nm) betrug 0,4 (um 0,15 erhöht). Die optische Refle
xionsdichte DS betrug 0,2. Die Absorptionswellenlänge wurde
mit Hilfe einer Vorrichtung U-3210 (Warenzeichen von Hitachi
Co.) bestimmt. Die optische Reflexionsdichte wurde mittels
einer Vorrichtung PDA 65 (Warenzeichen von Konica Corp.)
bestimmt.
Mit Hilfe einer Drahtschiene wurde der Schichtträger mit
einer UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung 2-2 der fol
genden Zusammensetzung:
UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung 2-2 | |
Wasser|50 g | |
Methanol | 100 g |
Diacid Light Yellow 2G (Warenzeichen der Mitsubishi Kasei Corporation) | 0,3 g |
Hydroxypropylcellulose LE-G (Warenzeichen der Shinetsu Kagaku Kogyo Co.) | 0,3 g |
anstelle der UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung 2-1 be
schichtet. Anschließend wurde der Schichtträger noch mit der
lichtempfindlichen Lösung 2 der zuvor angegebenen Zusammen
setzung beschichtet, um einen Prüfling 2-2 herzustellen. Der
pH-Wert der UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung 2-2 be
trug 6,5. Die Auftragmenge betrug 18 mg/m². Die Absorptions
wellenlänge (400 nm) betrug 0,42 (um 0,17 erhöht). Die opti
sche Reflexionsdichte DS betrug 0,21.
Mit Hilfe einer Drahtschiene wurde der Schichtträger mit
einer UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung 2-3 der fol
genden Zusammensetzung:
UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung 2-3 | |
Wasser|50 g | |
Methanol | 100 g |
Diacid Light Yellow 2G (Warenzeichen der Mitsubishi Kasei Corporation) | 0,3 g |
Harz vom Novolaktyp SK-242 (Warenzeichen der Sumitomo Durez Co. Ltd., Molverhältnis Phenol/m-Cresol/p-Cresol: 20/80/20; Mw: 3700) | 0,15 g |
Hydroxypropylcellulose LE-G (Warenzeichen der Shinetsu Kagaku Kogyo Co.) | 0,15 g |
anstelle der UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung 2-1 be
schichtet. Anschließend wurde der Schichtträger noch mit der
lichtempfindlichen Lösung 2 der zuvor angegebenen Zusammen
setzung beschichtet, um einen Prüfling 2-3 herzustellen. Der
pH-Wert der UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung 2-3 be
trug 5,0. Die Auftragmenge betrug 0,4 g/m². Die Absorptions
wellenlänge (400 nm) betrug 0,39 (um 0,14 erhöht). Die Re
flexionsdichte DS betrug 0,19.
Die erhaltenen Prüflinge 2-1 bis 2-3 wurden mit einem Stu
fenkeil Nr. 2 (Warenzeichen der Eastman Kodak Co.; jeder
Dichteunterschied betrug 0,15, Grauskala von 21 Stufen) zur
Ermittlung der Empfindlichkeit und einer Originalkopie
Burrner′scher Mikropunkte (zur Bestimmung der Reproduzier
barkeit kleiner Punkte in 0,5-5% Punktbereich) in engen
Kontakt gebracht und 20 s aus einem Abstand von 90 cm mit
Hilfe einer 2 kW Metallhalogenidlampe als Lichtquelle be
lichtet. Danach wurden die belichteten lichtempfindlichen
lithographischen Druckplatten mit einer SDR-1-Entwicklerlö
sung (Warenzeichen der Konica Corporation), die mit Wasser
auf das 6fache verdünnt worden war, 20 s bei 27°C ent
wickelt. Es wurden die jeweilige Empfindlichkeit, die Repro
duzierbarkeit von Mikropunkten und die Restfärbung bewertet.
Die Ergebnisse finden sich in Tabelle 2.
Die bei der geschilderten Belichtung und Entwicklung erhal
tenen Druckformen wurden in eine Druckpresse Heidelberg GTO
(Warenzeichen der Heidelberger Druckmaschinen AG, Bundesre
publik Deutschland) eingesetzt und unter Verwendung der
Druckfarbe High Plus Magenta (Warenzeichen der Toyo Ink
Seizo Co.) für beschichtetes Papier und der wäßrigen Plat
tenätzlösung SEU-3 (2,5%ig, Warenzeichen der Konica
Corporation) zu Druckzwecken verwendet. Die Druckdauer
(Haltbarkeit der Druckform in der Druckpresse) wurde durch
kontinuierliches Drucken bis zum Auftreten von Druckfehlern
in festen Bildbezirken eines bedruckten Papiers oder Färben
von Nichtbildbezirken und Zählen der Anzahl von Drucken bis
zu diesem Zeitpunkt ermittelt. Die Ergebnisse finden sich in
Tabelle 2.
Mit Hilfe einer Drahtschiene wurde der Schichtträger mit
einer UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung 2-4 der fol
genden Zusammensetzung:
UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung 2-4 | |
Wasser|50 g | |
Methanol | 100 g |
Diacid Light Yellow 2G (Warenzeichen der Mitsubishi Kasei Corporation) | 0,3 g |
anstelle der UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung 2-1 be
schichtet. Anschließend wurde der Schichtträger noch mit der
lichtempfindlichen Lösung 2 der zuvor angegebenen Zusammen
setzung beschichtet, um einen Prüfling 2-4 herzustellen. Der
pH-Wert der UV-Absorptionsmittelbeschichtungslösung 2-4 be
trug 7,2. Die Auftragmenge betrug 0,15 g/m². Die Absorp
tionswellenlänge (400 nm) betrug 0,38 (um 0,13 erhöht). Die
optische Reflexionsdichte DS betrug 0,19.
Der Prüfling 2-4 wurde unter denselben Bedingungen wie die
Prüflinge 2-1 bis 2-3 gemäß Beispiel 2 belichtet, entwickelt
und bewertet. Die Ergebnisse finden sich ebenfalls in Ta
belle 2.
Wurde anstelle des Harzes vom Novolaktyp SK-242 in der zur
Herstellung des Prüflings 2-1 verwendeten tN-Absorptionsmit
telbeschichtungslösung 2-1 eine äquivalente Menge an oxi
dierter Stärke verwendet, wurden praktisch gleich gute Er
gebnisse erhalten.
Wurde anstelle des Harzes vom Novolaktyp SK-242 in der zur
Herstellung des Prüflings 2-1 verwendeten UV-Absorptionsmit
telbeschichtungslösung 2-1 eine äquivalente Menge Polyvinyl
alkohol verwendet, wurden praktisch gleich gute Ergebnisse
erhalten.
Wurde anstelle des Harzes vom Novolaktyp SK-242 in der zur
Herstellung des Prüflings 2-1 verwendeten UV-Absorptionsmit
telbeschichtungslösung 2-1 eine äquivalente Menge Industrie
gelatine verwendet, wurden praktisch gleich gute Ergebnisse
erhalten.
Erfindungsgemäß erreicht man folglich ohne Verschlechterung
der Druckdauer durch Verbesserung der Löslichkeit der licht
empfindlichen Schicht eine Verminderung der Restfärbung und
einen hohen Bildkontrast.
Claims (8)
1. Lichtempfindliche lithographische Druckplatte mit einem
Aluminiumblech, dessen Oberfläche einer Aufrauh- und
anschließend einer Anodisierungsbehandlung unterworfen
und mit einer ein UV-Absorptionsmittel enthaltenden Lö
sung derart, daß bei einer lokalen Absorptionsmaximum
wellenlänge zwischen 340 und 450 nm die optische Refle
xionsdichte DS um 0,02-0,5 höher ist als bei nicht
angefärbter Oberfläche, angefärbt wurde, und einer
durch Auftragen auf das Aluminiumblech nach dem Anfär
ben gebildeten Schicht aus einer positiv arbeitenden
lichtempfindlichen Masse mit einer o-Chinondiazidver
bindung und einer Clathratverbindung.
2. Platte-nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Clathratverbindung aus Cyclodextrin besteht.
3. Platte nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das
Cyclodextrin aus β-Cyclodextrin besteht.
4. Lichtempfindliche lithographische Druckplatte mit einem
Aluminiumblech, dessen Oberfläche einer Aufrauh- und
anschließend einer Anodisierungsbehandlung unterworfen
und mit einer ein UV-Absorptionsmittel und eine in
einer alkalischen wäßrigen Lösung lösliche oder quell
bare Verbindung enthaltenden Lösung derart, daß bei
einer lokalen Absorptionsmaximumwellenlänge zwischen
340 und 450 nm die optische Reflexionsdichte DS um
0,02-0,5 höher ist als bei nicht angefärbter Oberflä
che, angefärbt wurde, und einer durch Auftragen auf das
Aluminiumblech nach dem Anfärben gebildeten Schicht aus
einer positiv arbeitenden lichtempfindlichen Masse mit
einer o-Chinondiazidverbindung.
5. Platte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
in einer alkalischen wäßrigen Lösung lösliche oder
quellbare Verbindung aus einem Novolakharz besteht.
6. Platte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die
in einer alkalischen wäßrigen Lösung lösliche oder
quellbare Verbindung aus einem wasserlöslichen Polymer
besteht.
7. Platte nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das
wasserlösliche Polymer aus der Gruppe Stärkesorten,
Cellulosesorten, Vinylverbindungen und Gelatinesorten
ausgewählt ist.
8. Platte nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die
in einer alkalischen wäßrigen Lösung lösliche oder
quellbare Verbindung aus einem Novolakharz besteht.
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