DE19516032C2 - Verfahren zur Oberflächenveredelung einer Farbübertragungswalze durch Ionenimplantation - Google Patents
Verfahren zur Oberflächenveredelung einer Farbübertragungswalze durch IonenimplantationInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Oberflächenveredelung
einer Farbübertragungswalze, die eine mikroporöse und
mikrorissige metallische oder keramische oder metallkeramische
Hartstoffschicht mit eingeprägten oder gelaserten
Farbaufnahmenäpfchen trägt.
Aus der DE 39 41 918 A1 ist ein Verfahren zum Beschichten von
Substraten bekannt, bei dem mittels eines Plasmas einer
elektrischen Gasentladung, insbesondere im Lichtbogen oder durch
Kathodenzerstäubung in einem Magnetron, erzeugte Ionen von Titan
und anderen Metallen und Schwermetallen auf eine Oberfläche zu
applizieren. Die Spannung und die Stromdichte zur Oberfläche hin
entscheiden darüber, ob bei höherer Spannung von etwa 2000 V die
Oberfläche durch das Ionenbombardement zerstört und abgetragen
wird oder ob und wie tief die Ionen bei reduzierter Spannung in
die Oberfläche eindringen und u. U. dort sich gut verankerte
Mischkristalle bilden oder ob bei noch tieferer Spannung eine
Schicht aufwächst, die z. B. aus Titannitrid besteht, wenn
Stickstoff als Plasmagas benutzt wird. Letztlich entscheidet
ganz wesentlich der Energiebereich der auf die Oberfläche
auftreffenden Ionen, wie deren Verhalten dort ist. Hierfür ist
außer der Spannung auch der Gasdruck und die Bahnführung der
Ionen einflußreich. Es wird dort vorgeschlagen, die Ionenbahnen
durch Einwirkung eines Magnetfeldes auf das Plasma so von der
gradlinigen Bahn abweichend zu beeinflussen, daß eine bestimmte
Stromdichte an der Oberfläche auftritt, die jeweils das
gewünschte Eindringen oder Aufwachsen erbringt. Daß dieses
Beschichtungsverfahren auch geeignet ist, tiefe Risse und Poren
auszufüllen und so eine gestörte Oberfläche zu schließen und zu
glätten ist nicht geoffenbart.
Außerdem ist eine Farbübertragungswalze aus der DE 40 07 130 C1
bekannt, bei der in eine metallische Oberfläche Näpfchen
eingeprägt sind. Ein dabei entstehender Grat wird galvanisch
abgetragen, und die Näpfchenoberfläche wird mit Hartstoffen,
z. B. mit Hartchrom oder mit Siliziumcarbidkörnchen, in einer
Nickelmatrix, zur Erhöhung der Abriebfestigkeit galvanisch
beschichtet. Zusätzlich kann darauf eine dünne Hartchromschicht
aufgetragen sein. Diese oberen Schichten sind jedoch stets von
feinen Mikrorissen durchgezogen, und es sind feine Poren mit
Mikrometerabmessungen insbesondere an den Grenzen der
eingelagerten Hartstoffkörner festzustellen, wodurch nur eine
begrenzte Haftung derselben gegeben ist.
Weiterhin sind aus der Zeitschrift: Flexo, 1985, Vol. 10,
No. 10; 45-50, Farbübertragungswalzen bekannt, deren Näpfchen in
eine plasmagespritzte Hartkeramikschicht, z. B. Chromoxid (Cr2O3)
eingelagert sind. Bei punktueller Hochtemperaturbehandlung mit
dem Laserstrahl und der darauffolgenden schnellen Abkühlung
entstehen Mikrorisse und Mikroporen und starke Verwerfungen und
Verspannungen im Gefüge, was die Abriebfestigkeit und
Korrosionsfestigkeit verringert.
Es ist Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zur Oberflächen
veredelung einer Farbübertragungswalze der eingangs bezeichneten
Art mittels Ionenimplantation zu offenbaren, daß die
Farbübertragungswalze dadurch eine höhere Standzeit, einen
geringeren Abrieb und eine geringere Korrosionsanfälligkeit
aufweist.
Die Lösung besteht darin, daß in einem ersten
Implantationsschritt aus einem turbulenten Hochspannungs-
Gasentladungsplasma Schwermetallionen als Ionenimplantatmaterial
bei einer Spannung von eintausend Volt bis zu zehntausend Volt
bei einer Temperatur zwischen 50-80°C auf die Hartstoffschicht
appliziert wird, und dabei solange appliziert wird bis die
Mikrorisse und Poren der Oberfläche der Hartstoffschicht
ausgefüllt sind und deren Oberfläche durch das
Ionenimplantatmaterial in der Hartstoffschicht verankert ohne
deren thermische Zerstörung um bis zu einer Schichtdicke von
2 µm aufgewachsen ist.
Vorteilhafte Ausgestaltungen sind in den Unteransprüchen
angegeben.
Die mit dem Verfahren veredelten Farbübertragungswalzen sind in
den Ansprüchen 6-17 in vorteilhaften Ausführungen
spezifiziert.
Die auf einer Farbübertragungswalze aufgebrachte Hartstoff
schicht weist Mikrorisse und Poren auf, die nach dem Verfahren
durch ein aus einem Hochspannungsgasentladungsplasma
appliziertes Ionenimplantatmaterial geschlossen sind, das auf
der übrigen Oberfläche der Hartstoffschicht ohne deren
thermischen Zerstörung darin verankert ist und auf eine
Schichtstärke bis 2 µm aufgewachsen ist.
Alle bisher bekannten mikrostrukturierten Farbübertragungswalzen
eignen sich für die verfahrensgemäße Behandlung der Oberfläche
mit Implantatmaterial und zwar sowohl bei der Neuproduktion als
auch zur Nachbehandlung. Die bei der Implantation aufgebrachten
Materialschichten haben eine zu den Näpfchenabmessungen
vergleichsweise geringe Dicke von 1-2 µm, so daß das
Näpfchenvolumen praktisch unverändert bleibt.
Als Stoffe zum Auffüllen und zum Schließen der Risse und Poren
haben sich Kombinationen vierwertiger Stoffe mit Schwermetallen,
insbes. das vierwertige Titan und das sechswertige Molybdän im
Gewichtsverhältnis 70/30 bis 90/10, vorzugsweise 80/20, bewährt.
Diese Metallionen dringen bis tief ins Innere von Mikrorissen
und die Grenzschicht ein, die häufig an den Korngrenzen
elektrolytisch aufgebrachter Schichten oder in gesputterten
Schichten oder nach der Laserung auftreten. Der Verschluß und
das Auffüllen der Risse erbringt insbesondere auch eine Erhöhung
der Korrosionsbeständigkeit, da die Oberfläche glatt und dicht
wird.
Die Implantation der Metallionen erfolgt in einer
Stickstoffatmosphäre, so daß sich die Metalle zum Teil als
Nitride damit verbinden und sehr harte kristalline Strukturen
bilden.
Vorteilhaft wird eine weitere abriebfeste Deckschicht von
0,05-1 µm, bevorzugt 0,1 µm Stärke aus einem Hartstoff in
ähnlicher Weise implantiert. Es sind harte Metalloxide oder
-nitride dazu vorgesehen. Zirkonoxid (ZrO2) hat sich besonders
bewährt, wozu die Implantation in einem Sauerstoffplasma
vorgenommen wird. Diese Deckschicht wird insbesondere so
gewählt, daß eine gewünschte Oberflächenaffinität zu der zu
transportierenden und zu dosierenden Druckfarbe entsteht.
Die Implantationen erfolgen unter Hochspannung mit einer
turbulenten Strömung des Plasmas bevorzugt in Stickstoff
und/oder Sauerstoff. Als Spannung werden eintausend bis
zehntausend Volt angelegt, und die Stromstärke wird so gewählt,
daß bei mäßiger Erwärmung eine ausreichende Eindringtiefe der
Ionen und eine Verankerung des Implantats in der Oberfläche
erfolgt ohne dies zu verbrennen oder thermisch zu zerstören.
Die Betriebswärme wird durch entsprechende Steuerung der
Stromstärke und der Hochspannung so niedrig gehalten, daß keine
merklichen thermischen Spannungen nach dem Abkühlen in der
oberflächennahen Schicht entstehen. Es sind Temperaturen von
50-80°C vorgesehen. Deshalb können auch solche neuartigen
Walzen nach der DE 44 26 485 C1 mit Implantat vergütet werden,
deren Hartstoffschicht von einem Kunststoffunterbau getragen
ist. Insbes. ist die
Hartstoffschicht über einer Metallschicht auf einem
elastischen Kunststoffmantel aufgebracht ist, der aus mit
Kunststofffasereinlagen armiertem Kunststoff besteht und
mit einem elastischen Unterbau auf einen festen
metallischen Walzenkern auswechselbar aufgezogen ist.
Vorteilhafte Ausgestaltungen sind anhand der Fig.
1 bis 7 dargestellt.
Fig. 1 zeigt eine vergrößerte Aufsicht auf eine gerasterte
Walzenoberfläche;
Fig. 2 zeigt einen 1000-fach vergrößerten Schnitt durch
das Gefüge unter einem geprägten Näpfchen;
Fig. 3 zeigt einen hochvergrößerten Schnitt durch ein
Näpfchen mit einer Hartstoff-Metallmatrix-
Beschichtung;
Fig. 4 zeigt in 100-facher Vergrößerung Mikrorisse entlang
der Korngrenzen einer Walzenbeschichtung;
Fig. 5 zeigt eine Aufsicht 150-fach vergrößert auf eine
gelaserte Hartkeramikoberfläche;
Fig. 6 zeigt einen Querschnitt zu Fig. 5 in 350-facher
Vergrößerung;
Fig. 7 zeigt einen schräg in die Tiefe verlaufenden
Anschliff zu Fig. 5.
Fig. 1 zeigt eine vergrößerte Aufsicht auf einen
Ausschnitt der Oberfläche einer Walze 1, die in einem
vorgegebenen Raster R mit pyramidenstumpfförmigen Näpfchen
N versehen ist. Zwischen den Näpfchen verbleibt ein
kleiner Steg S und die schräggeneigten Wandungen W enden
in einem flachen Boden B.
Fig. 2 zeigt eine tausendfache Vergrößerung eines kleinen
Ausschnittes der Wandung W und des Bodens B eines
Näpfchens N, wobei das aus einem Hartstoff HS, z. B. Stahl,
bestehende Gefüge durch eine mikrometerstarke Dotierung
mit einem Ionenimplantatmaterial H und einer
darüberliegende Deckschicht D versehen ist. Es ist
verdeutlicht, daß der Hartstoff HS in seinem Gefüge durch
die mechanische Bearbeitung sehr stark zerstört ist und
oberflächlich eine große Rauhigkeit und Porosität
aufweist, obwohl die Oberfläche vor der Ionenimplantation
elektrolytisch poliert worden ist. Die Schichtstärken der
Implantate H, D sind überhöht dargestellt; insbes. die
implantierte oxydische Deckschicht D ist im allgemeinen
wesentlich dünner als die nitrifizierte metallische
Implantation H.
Fig. 3 zeigt einen vergrößerten Querschnitt in die
Walzenoberfläche hinein, wobei die Näpfchen N in bekannter
Weise mit einem oxydischen Hartstoff HS aus einer
Nickelmatrix mit Carbideinlage besteht, auf die eine
Hartchromschicht aufgezogen ist. Die Chromoberflächer ist
dann durch die Ionenimplantation mit dem Implantatmaterial
H und der Deckschicht D versehen.
Fig. 4 zeigt eine vergrößerte Oberfläche der
Hartstoffschicht HS, die mit Hartchrom versehen ist. Es
bilden sich deutlich die Korngrenzen ab, welche kleine
Mikrorisse M bilden. Diese Mikrorisse werden durch das
Hochspannungsimplantat geschlossen.
Fig. 5 zeigt eine andere Art der bekannten
Walzenoberflächen in starker Vergrößerung. Hierbei ist
eine keramisierte Oberfläche beispielsweise aus Chromoxid
durch eine Laserung mit Näpfchen N versehen. Der
Laserstrahl wird von Näpfchen zu Näpfchen geführt und
schmilzt mit hoher Energie das Material auf und verdampft
einen Teil desselben, so daß sich die Näpfchen N bilden.
Wie die Zeichnung nach einem Foto zeigt, sind die
Kraterränder ungleichmäßig aus der Schmelze erstarrt, und
es sind viele Mikrorisse M dort sichtbar.
Wie Fig. 6 im Tiefenschnitt zeigt, reichen die Mikrorisse
M bis in eine relativ zur Näpfchenstruktur große Tiefe der
erstarrten Näpfchenoberfläche hinein. Diese Mikrorisse M
sind mit dem Implantat H ausgefüllt. Auf dem Implantat H
ist die Deckschicht D gezeigt, die insbes. die Verträg
lichkeit der Farbe mit der Oberfläche günstig beeinflußt
und ihr eine vorgegebene Haftfähigkeit zur Druckfarbe
verleiht. Die Stärken der Schichten H und D sind überhöht
dargestellt.
Fig. 7 zeigt einen von links nach rechts schräg in die
Tiefe verlaufenden Schliff einer gelaserten
Hartstoffschicht HS. Es zeigt sich, daß die Mikrorisse M
auch in den tiefgelegenen Bereichen sich etwa radial von
den Näpfchen N erstrecken. Diese Mikrorisse werden durch
die Ionenimplantation aufgefüllt und abgedichtet. Außerdem
ergibt das Implantatmaterial H, D eine relativ glatte
Näpfchenoberfläche.
Claims (17)
1. Verfahren zur Oberflächenveredelung einer
Farbübertragungswalze, die eine mikroporöse und mikrorissige
metallische oder keramische oder metallkeramische
Hartstoffschicht (HS) mit eingeprägten oder gelaserten
Farbaufnahmenäpfchen (N) trägt, in einem ersten
Implantationsschritt aus einem turbulenten Hochspannungs-
Gasentladungsplasma Schwermetallionen als Ionenimplantatmaterial
(H) bei einer Spannung von eintausend Volt bis zu zehntausend
Volt bei einer Temperatur zwischen 50-80°C auf die
Hartstoffschicht (HS) appliziert wird, und dabei solange
appliziert wird bis die Mikrorisse (M) und Poren der Oberfläche
der Hartstoffschicht (HS) ausgefüllt sind und deren Oberfläche
durch das Ionenimplantatmaterial (H) in der Hartstoffschicht
(HS) verankert ohne deren thermische Zerstörung um bis zu einer
Schichtdicke von 2 µm aufgewachsen ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
vier- und sechswertige Stoffe in einem Gewichtsverhältnis von
70/30 bis 90/10, ionisiert aus dem Plasma dem Hartstoff (HS)
ionenimplantierend und aufwachsend zugeführt werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Gasentladung Plasma in Stickstoff oder Sauerstoff
brennt.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß in einem zweiten Implantationsschritt eine
Deckschicht (D) aus einem Metalloxid- bzw. Metallnitrit-
Implantat bis zu einer Schichtstärke von 0,05 bis 1 µm
aufwächst.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das
Gasentladungsplasma in einer Sauerstoffatmosphäre brennt und die
Deckschicht (D) aus einem Zirkonoxid-Ionenimplantat gebildet
wird.
6. Farbübertragungswalze (1) mit einer mechanisch oder durch
Laserung eingebrachten Oberflächenstruktur aus
Farbübertragungsnäpfchen (N) in einer mikroporösen und
mikrorissigen, metallischen oder keramischen oder
metallkeramischen Hartstoffschicht (HS), wobei die auf der
Hartstoffschicht (HS) befindlichen Mikrorisse (M) und Poren
durch ein aus einem turbulenten Hochspannungsgasentladungsplasma
appliziertes Ionenimplantatmaterial (H) geschlossen sind, das
auf der Oberfläche der Hartstoffschicht (HS) darin verankert
ohne deren thermischen Zerstörung auf eine Schichtstärke bis
2 µm aufgewachsen ist.
7. Farbübertragungswalze nach Anspruch 6, dadurch
gekennzeichnet, daß das Ionenimplantatmaterial (H) aus einem
vierwertigen Stoff und mindestens einem Schwermetall besteht.
8. Farbübertragungswalze nach Anspruch 7, dadurch
gekennzeichnet, daß das Ionenimplantatmaterial (H) aus Titan
oder Molybdän im Verhältnis 70/30 bis 90/10 besteht.
9. Farbübertragungswalze nach einem der Ansprüche 6 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß das zuerst aufgebrachte
Ionenimplantatmaterial (H) durch eine weitere Ionenimplantation
mit einer verschleißfesten, dünnen Deckschicht (D) aus einem
solchen Hartstoff belegt ist, der der Deckschicht (D) eine
vorgegebene Affinität zu einer mit der Druckwalze zu dosierenden
Druckfarbe verleiht.
10. Farbübertragungswalze nach Anspruch 9, dadurch
gekennzeichnet, daß die Deckschicht (D) eine Stärke von
0,05-1 µm hat.
11. Farbübertragungswalze nach Anspruch 9 oder 10, dadurch
gekennzeichnet, daß die Deckschicht (D) aus Zirkonoxid besteht.
12. Farbübertragungswalze nach Anspruch 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Hartstoffschicht (H) aus geschliffenem
und poliertem Chromoxid (Cr2O3) einer Stärke von 100-150 µm
besteht und die Zäpfchen (N) durch eine Lasergravur eingebracht
und poliert sind und abschließend das Ionenimplantatmaterial (H)
mikrorisse- und mikroporenschließend auf- und eingebracht ist.
13. Farübertragungswalze nach Anspruch 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Hartstoffschicht (HS) aus einer
plasmaabgeschiedenen Nickel-Chromlegierung 80/20 von ca. 100 µm
Dicke besteht, in die die Farbübertragungsnäpfchen (N)
eingebracht sind, und abschließend das Ionenimplantatmaterial
(H) mikrorisse- und mikroporenschließend auf- und eingebracht
ist.
14. Farbübertragungswalze nach Anspruch 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Hartstoffschicht (HS) aus Stahl, Kupfer
oder Nickel besteht, und nach dem Einbringen der Näpfchen (N)
und elektrolytischer Polierung dünn mit Hartchrom (HC)
beschichtet ist und abschließend das Ionenimplantatmaterial (H)
mikrorisse- und mikroporenschließend auf- und eingebracht ist.
15. Farbübertragungswalze nach Anspruch 6, dadurch
gekennzeichnet, daß die Hartstoffschicht (HS) aus Stahl, Kupfer
oder Nickel besteht, und nach dem Einbringen der Näpfchen (N)
elektrolytisch mit einer Metallmatrix unter Einlagerung von
Hartstoffkörnern beschichtet ist und abschließend das
Ionenimplantatmaterial (H) mikrorisse- und mikroporenschließend
auf- und eingebracht ist.
16. Farbübertragungswalze nach Anspruch 15, dadurch
gekennzeichnet, daß die Harstoffkörner aus Siliciumcarbid
bestehen und in einer Nickelmatrix eingelagert sind.
17. Farbübertragungswalze nach einem der Ansprüche 6 bis 16,
dadurch gekennzeichnet, daß die Hartstoffschicht (HS) auf eine
dünne metallische Zwischenschicht aufgebracht ist, die auf einem
Kunststoffmantel, der Kunststofffasereinlagen enthält,
aufgesputtert ist und in diese die Farbübertragungsnäpfchen (N)
eingebracht sind und abschließend das Ionenimplantatmaterial (H)
mikrorisse- und mikroporenschließend auf- und eingebracht ist.
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