DE19514538A1 - Verfahren zum Herstellen von gravierten Walzen und Platten - Google Patents
Verfahren zum Herstellen von gravierten Walzen und PlattenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen von
gravierten Walzen und Platten für den Flexodruck, Tiefdruck,
Prägen und Coating mit einem Grundkörper aus Metall auf Basis
von nichtlegierten, niedrig- oder hochlegierten
Eisenwerkstoffen oder Sintereisenwerkstoffen.
Derartige gravierte Walzen und Platten sind bekannt, wobei die
Gravur entsprechend einem gewünschten Muster oder Raster in
bekannter Weise mechanisch, elektromechanisch, mittels Laser
oder mittels Ätzung in die Oberfläche des Grundkörpers
graviert wird.
Die als Basismaterial für den Grundkörper eingesetzten
Eisenwerkstoffe weisen in der Regel keine ausreichende
Korrosionsbeständigkeit und in vielen Fällen auch keine
ausreichende Verschleißfestigkeit auf.
Zur Erhöhung der Korrosionsbeständigkeit, der Härte und der
Verschleißfestigkeit ist es seit langem bekannt, Gegenstände
aus Metall, insbesondere auf Basis von Eisenwerkstoffen mit
einer Schutzschicht zu überziehen.
Insbesondere werden metallische Gegenstände auf Basis Eisen,
Stahl oder dergleichen meist auf galvanischem Wege oder durch
chemische Reduktion mit einem metallischen Überzug aus
beispielsweise Nickel oder Chrom überzogen. Nach diesen
galvanischen Verfahren können mit Nickel- bzw. Chromschichten
verschleißfeste Oberflächen auf metallischen Grundkörpern mit
Vickershärten bis zu etwa 950 HV bei Nickelschichten bzw. 1200
HV bei Chromschichten erzielt werden.
Des weiteren ist es bekannt, Hartstoffschichten in einem
Vakuumverfahren auf metallische oder nichtmetallische
Oberflächen von Körpern aufzudampfen, um diese verschleißfest
auszurüsten. Bei dem CVD-Verfahren - chemische Abscheidung aus
der Dampfphase - muß der metallische Anteil erst aus einem
gasförmigen Ausgangsstoff durch Cracken freigesetzt werden,
bevor das Metall mit dem Gas reagiert. Das CVD-Verfahren
benötigt hohe Reaktionstemperaturen von etwa 800 bis 1100°C.
Beim PVD-Verfahren - physikalische Abscheidung aus der
Dampfphase - wird der Metalldampf direkt erzeugt und reagiert
auf der Oberfläche des zu beschichtenden Körpers mit dem Gas
zu der gewünschten Hartstoffschicht. Das PVD-Verfahren
ermöglicht das Abscheiden von Hartstoffen für die Bildung
einer Verschleißschicht bei Temperaturen zwischen 200°C und
650°C.
Ein Spezialgebiet zum Herstellen von Produkten mit
verschleißfesten Oberflächen stellen mit Gravuren versehene
Walzen oder Platten dar, die als Prägewerkzeuge,
Druckwerkzeuge oder Beschichtungswerkzeuge Anwendung finden.
Üblicherweise werden die Walz- oder Plattenkörper hierfür aus
Stahl gefertigt, so daß Veredelungen der Oberfläche zur
Erhöhung des Korrosionsschutzes und der Verschleißfestigkeit
erforderlich sind. Derartige gravierte Walzen und Platten sind
bisher mit verschleißfesten Oberflächen mit hoher Härte über
1700 HV lediglich auf Basis keramisch beschichteter
Grundkörper realisiert worden, wobei die Gravur mit Hilfe von
Laserstrahlen entsprechend dem gewünschten Prägemuster in die
Oberfläche eingearbeitet wird. Wegen der zahlreichen bei der
Bearbeitung von Keramikkörpern zu berücksichtigenden Parameter
sind jedoch die Gravuren nicht 100%-ig reproduzierbar, so daß
jede gravierte Walze oder Platte bei Vorlage derselben Gravur
geringfügig anders ausfällt. Für viele Anwendungsfälle ist es
jedoch erforderlich, unbrauchbar, weil abgenutzt, gewordene
Prägewerkzeuge, Druckplatten oder dergleichen durch neue
Prägewerkzeuge, Druckplatten oder dergleichen mit identischem
Prägemuster zu ersetzen.
Aus der DE 40 08 254 A1 ist bereits die Ausrüstung gravierter
Walzen oder Platten mit einem Grundkörper aus Metall, wie
Stahl, bekannt, die mit einer verschleißfesten Deckschicht aus
einer im PVD-Verfahren aufgebrachten Hartstoffschicht versehen
sind.
Bei diesen bekannten Methoden zur Verbesserung der
Korrosionsfestigkeit und der Verschleißfestigkeit und damit
Härte von mit Gravuren versehenen Walzen oder Platten werden
zusätzliche Schichten auf den mit der Gravur ausgestatteten
Grundkörper aufgetragen. Hierbei ist zu beachten, daß es
einerseits wünschenswert ist, daß der Körper bzw. Schicht, in
welche die Gravur eingearbeitet wird, nicht zu hart ist, um
das Herstellen auch von Mustern und Rastern sehr feiner
Auflösung zu ermöglichen. Andererseits ist durch die
Verwendung entsprechend relativ weicher Werkstoffe die
Lebensdauer solcher Gravuren begrenzt.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, gravierte
Walzen und Platten für den Flexodruck, Tiefdruck, Prägen oder
Coating, auch solche mit sehr feiner Auflösung der Gravuren in
bezug auf ihre Lebensdauer mit oder ohne Verschleißschichten
zu verbessern. Hierbei ist auch eine Voraussetzung, daß
erfindungsgemäß dergestalt hergestellte gravierte Walzen und
Platten mit hoher Präzision reproduzierbar herstellbar sein
müssen.
Erfindungsgemäß wird zur Lösung der gestellten Aufgabe ein
Verfahren der gattungsgemäßen Art vorgeschlagen, bei dem
- a) eine Gravur in Gestalt eines Musters oder Rasters in die Oberfläche des Grundkörpers mechanisch, elektromechanisch, mittels Laser oder mittels Ätzung eingearbeitet wird,
- b) dann der mit der Gravur versehene Grundkörper gereinigt und poliert wird,
- c) danach der mit der Gravur versehene Grundkörper einer Nitrierhärtung im Plasma unterzogen wird, bei der zumindest im Bereich der mit der Gravur versehenen Oberfläche des Grundkörpers eine Nitrierschicht aufgebaut wird, die in Abhängigkeit von der metallischen Zusammensetzung des Grundkörpers aus einer auf der mit der Gravur versehenen Oberfläche des Grundkörpers abgelegten Verbindungsschicht aus Eisenstickstoffverbindungen Fe4N (Gamma-Phase) und/oder Fe2-3N (Epsilon-Phase) sowie einer in der Randschicht des Grundkörpers ausgebildeten Diffusionsschicht, in der eindiffundierter Stickstoff in die vorhandene Metallgitterstruktur eingelagert ist, besteht oder nur aus einer in der Randschicht des Grundkörpers durch Eindiffundieren von Stickstoff gebildeten Diffusionsschicht besteht,
- d) danach die auf dem Grundkörper abgelagerte Verbindungsschicht (4) mechanisch abgetragen wird und
- e) anschließend der mit nur noch die Diffusionsschicht aufweisende Grundkörper gereinigt und poliert wird.
Erfindungsgemäß wird die bekannte Technik des Nitrierhärtens
im Plasma für die Verbesserung der Eigenschaften, insbesondere
der Härte und des Widerstandes gegen Deformationen, bei der
Herstellung von gravierten Walzen oder Platten mit Erfolg
eingesetzt. Hierbei wird die Präzision der hergestellten
Gravuren auch mit hoher Auflösung von 40.000 Löchern und mehr
auf einer Fläche von 1 cm auch bei geringen Tiefen der Löcher
von zum Beispiel 16 µm durch Einarbeitung in einen noch
relativ weichen Grundkörper erzeugt und ist mit hoher
Genauigkeit reproduzierbar, während eine Gebrauchstüchtigkeit
und Korrosionsfestigkeit und Verschleißfestigkeit erst durch
nachfolgende Härtungen und Überzüge geschaffen wird.
Die Nitrierhärtung im Plasma wird beispielsweise von B.
Edenhofer in "Physikalische und metallkundliche Vorgänge beim
Nitrieren im Plasma einer Glimmentladung", Härterei-Technik
mit .2(1974) H.2, Seite 102-112 beschrieben.
Beim Nitrieren mit Hilfe einer stromstarken Glimmentladung im
Plasma werden bei Eisenwerkstoffen eine Verbindungsschicht auf
der Oberfläche des Eisenwerkstoffes aus einer
intermetallischen Verbindung der Form Fe4N mit kubisch
flächenkonzentrierter Struktur (Gamma-Phase) und/oder der Form
Fe2-3N mit hexagonaler Gitterstruktur (Epsilon-Phase)
ausgebildet sowie eine darunterliegende, d. h. in der
Randschicht des Eisenwerkstoffes ausgebildete
Diffusionsschicht, in der Stickstoff in das vorhandene
Eisengitter eindiffundiert und eingelagert ist. Bei
hochlegierten Eisenwerkstoffen, insbesondere rostsäure- und
hitzebeständigen Stählen, die chromhaltig sind, wird keine
Verbindungsschicht gebildet, sondern lediglich die
Diffusionsschicht ausgebildet, d. h. die Einlagerung des
Stickstoffes in die vorhandene Metallgitterstruktur in einer
Randschicht bewirkt.
Da erfindungsgemäß für die Herstellung von gravierten Walzen
und Platten je nach Anwendungsgebiet, auch aus Kostengründen,
sowohl nichtlegierte als auch niedriglegierte und auch
hochlegierte Eisenwerkstoffe zum Einsatz kommen, ist
erfindungsgemäß in allen den Fällen, in denen sich beim
Nitrieren im Plasma auf der gravierten Oberfläche des
Grundkörpers eine Verbindungsschicht ausbildet, erforderlich,
diese Verbindungsschicht wieder zu entfernen, und zwar ohne
die Gravur zu zerstören. Eine besonders vorteilhafte
Verfahrenstechnik zum Entfernen der Verbindungsschicht ist die
Anwendung des Strahlens mittels Glasperlen.
Gravierte Walzen oder Platten für einfach Abformvorgänge
können erfindungsgemäß auf Basis nichtlegierter oder
niedriglegierter Eisenwerkstoffe gemäß Anspruch 1 hergestellt
werden und sind in dieser Form einsatzbereit, da durch die
Diffusionsschicht eine ausreichend hohe Härte der Gravur
erzielt wird.
Für den Einsatz als Prägewalzen oder Prägeplatten bzw.
gravierte Walzen oder Platten mit gröberen Gravuren ist eine
korrosionsbeständige und verschleißfestere Ausrüstung
erforderlich, die durch Weiterbildung des Gegenstandes des
Anspruches 1 durch Ausrüstung mit einer zusätzlichen
Hartverchromung gemäß dem Kennzeichen des Anspruches 2
erzielbar ist. Hierbei wird auf die gravierte Oberfläche des
Grundkörpers, der mit einer Diffusionsschicht von
eindiffundiertem Stickstoff in einer Randschicht, deren Tiefe
sich je nach Art der Behandlung richtet, ausgestattet ist und
bei dem die Verbindungsschicht aus der Nitrierhärtung entfernt
worden ist, eine Chromschicht, vorzugsweise auf
elektrolytischem Wege, einer Dicke von etwa 12 bis 30 µm und
einer Härte von mindestens 950 HV (0,1), vorzugsweise über
1200 HV (0,1), nach Vickers aufgebracht, wobei der so
behandelte Grundkörper anschließend poliert und gereinigt
wird. Die Tiefe der Diffusionsschicht beträgt je nach Art der
Behandlung und Material etwa zwischen 50 bis 200 µm. Bevorzugt
werden für den Einsatz als Prägewalzen oder Prägeplatten oder
für gröbere Gravuren solche Grundkörper auf Basis eines
nichtlegierten oder niedriglegierten Eisenwerkstoffes
eingesetzt. Die hierbei nach der Nitrierhärtung im Plasma
erforderliche Abarbeitung der Verbindungsschicht
beeinträchtigt die Qualität der hergestellten Gravur nicht,
führt jedoch in Verbindung mit der Nitrierhärtung und dem
Hartverchromen zu qualitativ hochwertigen Prägewerkzeugen mit
hoher Prägegenauigkeit bei langer Lebensdauer und
Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit. Die
Korrosionsbeständigkeit kann durch Einsatz von hochlegiertem
Eisenwerkstoff für den Grundkörper noch gesteigert werden. Mit
der Hartverchromung können Härten nach Vickers über 1.200 HV
(0,1) erreicht werden.
Die Vickers-Härte HV wird unter Verwendung einer vierseitigen
Diamantpyraminde mit spitzem Winkel 130° unter festgelegter
Last von 100 (0,1), 300 oder 600 N ermittelt.
Für gravierte Walzen oder Platten, bei denen ein Höchstmaß an
Korrosionsschutz über einen langen Zeitraum sichergestellt
werden soll, wird ein Herstellungsverfahren in der Verbindung
der Merkmale gemäß Anspruch 1 und 3 vorgeschlagen. Hierbei
werden erfindungsgemäß ein in der Gravur gehärteter
Grundkörper, bei dem die Verbindungsschicht aus der Nitrierung
im Plasma, sofern sie vorhanden war, wieder entfernt wurde,
zusätzlich mit einer Nickel-Phosphorlegierung als dünne
Schutzschicht beschichtet, die sehr dicht ist und damit einen
hohen Schutz gegen Korrosion bietet und zusätzlich die
Verschleißfestigkeit durch eine hierauf aufgebrachte
Verschleißschicht aus Hartstoffen auf ein Höchstmaß gesteigert
ist.
Überraschend ist hierbei, daß trotz der mehrfachen Behandlung
des gravierten Grundkörpers durch Auftragen und Abt ragen und
Wiederauftragen von Schichten die Präzision und
Reproduzierbarkeit der Gravur auch feiner und feinster Raster
erhalten bleibt. Erfindungsgemäß sind nach den vorausgehend
erläuterten Verfahren gravierte Walzen und Platten,
insbesondere Rasterwalzen und -platten mit hoher Auflösung von
40.000 Löchern und mehr auch mit hohen Standzeiten und hoher
Härte herstellbar. Die Erfindung ermöglicht die Lebensdauer
von gravierten Walzen und Platten gegenüber den bekannten
gravierten Walzen und Platten auch mit Korrosionsschutz und
Verschleißfestigkeit nochmals zu steigern. Dies bedeutet
Kostenersparnis und Materialersparnis.
Geeignete Hartstoffe, die als Verschleißschicht auf die
gravierten Walzen und Platten gemäß der Erfindung im PVD-
Verfahren aufgebracht werden können, sind den kennzeichnenden
Merkmalen der Unteransprüche 7 bis 12 entnehmbar.
Die auf die gravierte Oberfläche des Grundkörpers, der eine
Diffusionsschicht aus eindiffundiertem Stickstoff, jedoch
keine Verbindungsschicht mehr aus der Nitrierhärtung im Plasma
aufweist, aufgebrachte Zwischenschicht übernimmt die Funktion
des Korrosionsschutzes. Diese Zwischenschicht soll möglichst
dicht und homogen sein und schon eine relativ hohe Härte
aufweisen.
Als Zwischenschicht wird bevorzugt eine autokatalytisch
abgeschiedene Nickel-Phosphor-Legierung mit einem
Phosphorgehalt von 5 bis 13 Gew.-%, vorzugsweise 8 bis
13 Gew.-%. Die Zwischenschicht besteht im wesentlichen aus
Nickel. Hierbei handelt es sich um ein bekanntes Verfahren der
autokatalytischen oder außenstromlosen Nickel-Phosphor-
Legierungsabscheidung. In dem chemischen Nickelbad befinden
sich neben Nickelionen Reduktionsmittel, meistens wird
Natriumhypophosphit verwendet. Dies wird üblicherweise als
"chemisch" Nickel bezeichnet. Nach dem Aufbringen der
Zwischenschicht wird bevorzugt eine Reinigungs- und
Temperungsbehandlung des so beschichteten Grundkörpers
vorgenommen. Insbesondere bewirkt eine nachfolgende
Wärmebehandlung im Vakuum ein Reinigen und Entgasen der
Zwischenschicht und ein Tempern, d. h. eine weitere Aushärtung
zum Beispiel der aufgebrachten Nickel-Phosphor-Legierung, so
daß durch dieses Nachhärten eine Härte dieser Zwischenschicht
von etwa mindestens 1000 bis 1100 HV (0,1) erreicht wird.
Eine Zwischenschicht aus einer Nickel-Phosphor-Legierung wird
bevorzugt im Vakuum bei Temperaturen über 240°C bis zu etwa
350°C während einer Dauer von 1 bis 3 Stunden getempert. In
einer bevorzugten Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens
wird das Tempern des mit der Zwischenschicht versehenen
Grundkörpers und das Aufdampfen der Verschleißschicht
kontinuierlich nacheinander durchgeführt, wobei das Aufdampfen
der Verschleißschicht unmittelbar an die Temperung bei
Beibehaltung bzw. Erhöhung der Temperungstemperatur
anschließt. Dieses Verfahren kann damit beispielsweise in der
gleichen Vakuumkammer in einem Zuge mit Temperung und
Aufbringen der Verschleißschicht aus Hartstoffen durchgeführt
werden.
Die Temperzeit des Grundkörpers mit Zwischenschicht richtet
sich nach der Größe und den Dimensionen der Walze bzw. Platte.
Kleinste Gravurwalzen haben einen Durchmesser von 10 mm mit
einer kleinsten Länge von 20 mm, größte Gravurwalzen haben
einen Durchmesser von über 500 mm bei Längen bis zu 3500 mm.
Ähnlich verhält es sich mit Gravurplatten.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren können insbesondere hohe
Härten der nachträglich aufzutragenden Verschleißschichten
auch dadurch erreicht werden, daß bereits die Zwischenschicht
eine hohe Härte aufweist. Um die Präzision des Prägemusters,
d. h. der Gravur, zu erhalten, sind die Dicke der
Zwischenschicht als auch die Dicke der Verschleißschicht nach
oben begrenzt. Die Summe der Dicken dieser Schichten sollte in
keinem Fall größer als 30 µm sein, da sonst die Geometrie der
Muster und Gravuren in unzulässiger Weise verändert wird und
damit die Reproduzierbarkeit in Frage gestellt wird.
Die Dicke der Zwischenschicht und der Verschleißschicht ist
auch nach unten begrenzt, um noch eine ausreichende dichte
Schicht zu erhalten. Bei Schichtdicken von etwa 8 µm kann auch
eine Zwischenschicht aus Nickel beispielsweise noch minimal
porös sein, jedoch wird diese Porösität durch die nachfolgend
aufzudampfende Verschleißschicht beseitigt, da das Material
der Verschleißschicht in die Zwischenschicht eindiffundiert
und mit dieser dann eine geschlossene und korrosionsbeständige
Beschichtung bildet. Da die Verschleißschicht durch Aufdampfen
im Vakuum bei erhöhten Temperaturen aufgebracht wird, ist die
Zwischenschicht aus einem Material zu wählen, das auch diesen
Temperaturen standhält, wobei sich Nickel als Basismaterial
für die Zwischenschicht bewährt hat.
Es ist auch möglich, eine Zwischenschicht aus einer ersten auf
den Grundkörper autokatalytisch abgeschiedenen Schicht einer
Nickel-Phosphor-Legierung mit einem Phosphorgehalt von 3 bis
13 Gew.-% in einer Schichtdicke von etwa 4 bis 8 µm und einer
zweiten hierauf elektrolytisch abgeschiedenen Schicht von
Chrom mit einer Schichtdicke von etwa 4 bis 8 µm zu bilden.
Eine derartige zweischichtige Zwischenschicht hat den Vorteil,
daß die Nickelschicht eine homogene dichte Schicht bildet,
während die hierauf aufgebrachte Chromschicht zwar nicht so
dicht ist, also eine höhere Mikroporösität aufweist, jedoch
eine höhere Härte nach Vickers bis zu etwa 1200 HV (0,1)
aufweist als Nickel. Je höher die Härte der Zwischenschicht
ist, desto höher wird auch die erzielbare Härte der hierauf
aufzudampfenden Verschleißschicht.
Für die Verschleißschicht werden bevorzugt Metallboride,
-carbide, -nitride, -oxyde, -silicide der Elemente der vierten
bis sechsten Nebengruppe des Periodensystems Titan, Zirkon,
Hafnium bzw. Vanadium, Niob, Tantal bzw. Chrom, Molybdän,
Wolfram einzeln oder in Kombinationen eingesetzt. Bevorzugt
werden für die Verschleißschicht die Carbide, Nitride und
Oxyde der Elemente der vierten Nebengruppe des Periodensystems
eingesetzt, die sich besonders durch Härte und
Verschleißbeständigkeit auszeichnen. Beispielsweise werden für
die Verschleißschicht Titan-Nitrid oder Titan-Aluminium-
Carbonitrid oder Titan-Aluminium-Nitrid oder Titan-Carbonitrid
oder Titancarbid eingesetzt. Mit diesen sogenannten
Hartstoffen für die Verschleißschicht, die nach dem PVD-
Verfahren auf die mit der Zwischenschicht versehene Gravur
oder Prägemuster eines Grundkörpers aufgebracht werden, sind
Härten von 2500 bis 3000 HV erzielbar. Geeignet ist auch
Hafniumborid, das sich durch eine Vickershärte von etwa 3200
auszeichnet.
Die Verschleißschicht wird in einer Dicke von etwa 4 bis 8 µm,
bevorzugt etwa 5 bis 7 µm, aufgedampft. Bei Ausbildung der
Zwischenschicht aus einer Nickel- und Chromschicht sollten
diese gemeinsam eine Dicke von etwa 15 µm nicht überschreiten.
Chrom weist eine höhere Härte auf als Nickel, hat jedoch den
Nachteil, daß es bei den verfahrensmäßig zum Aufdampfen der
Verschleißschicht anzuwendenden Temperaturen sich bereits
auflöst und porös wird. Da es erfindungsgemäß jedoch auf einer
Unterlage aus Nickel, d. h. Nickel-Phosphor-Legierung
eingesetzt wird, kann diese Nickel-Phosphor-Legierung die
Temperatureinwirkung auf das Chrom auffangen und die
Chromschicht stabilisieren. Gleichzeitig erhält jedoch diese
Zwischenschicht durch die Chromauflage eine insgesamt höhere
Härte und Verschleißfestigkeit als eine Nickel-Phosphor-
Legierungsschicht allein.
In Weiterbildung der Erfindung wird vorgeschlagen, daß bei
einem Grundkörper aus hochlegiertem chromhaltigen Stahl gemäß
Anspruch 13 auf die gravierte Oberfläche des Grundkörpers, in
dessen Randschicht eine Diffusionsschicht aus eindiffundiertem
Stickstoff ausgebildet ist, unmittelbar im PVD-Verfahren eine
Verschleißschicht aus Hartstoffen aufgedampft wird.
Überraschend ist in Folge des Einsatzes von hochlegiertem
chromhaltigen Stahl als Grundkörper es auch nach der
Nitrierhärtung der Randschicht des Grundkörpers möglich, die
Verschleißschicht im PVD-Verfahren mit Hartstoffen, wie sie in
den Ansprüchen 7 bis 12 aufgeführt sind, durchzuführen. Gemäß
diesem Vorschlag der Erfindung können gravierte Walzen oder
Platten mit feinen Rastern, wie sogenannte Rasterwalzen in
höchster Qualität, Korrosionsschutz, Verschleißfestigkeit und
sehr hohen Standzeiten, mit reproduzierbaren Gravuren, Rastern
hergestellt werden.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind den
kennzeichnenden Merkmalen der Unteransprüche entnehmbar.
Die Erfindung wird nachfolgend in der Zeichnung beispielhaft
erläutert. Es zeigen
Fig. 1a schematisch im Querschnitt auszugsweise einen
gravierten Grundkörper
Fig. 1b den Grundkörper nach Fig. 1a nach Nitrierhärtung
im Plasma mit Verbindungsschicht
Fig. 1c den Grundkörper nach Fig. 1b nach Abarbeitung der
Verbindungsschicht
Fig. 2 den Grundkörper nach Fig. 1c mit einer
Hartverchromung
Fig. 3 den Grundkörper nach Fig. 1c mit einer
Zwischenschicht und einer Verschleißschicht
Fig. 4 den Grundkörper nach Fig. 1a nach Nitrierhärtung
ohne Ausbildung einer Verbindungsschicht
Fig. 5 den Grundkörper nach Fig. 4 mit einer zusätzlichen
Hartverchromung
Fig. 6 den Grundkörper nach Fig. 4 mit einer zusätzlichen
Zwischenschicht und Verschleißschicht
Fig. 7 den Grundkörper nach Fig. 4 mit einer zusätzlichen
Verschleißschicht.
Der Grundkörper 1 gemäß Fig. 1a ist beispielsweise für den
Einsatz als Prägeplatte mit der Gravur 2 ausgebildet. Der
Grundkörper 1 gemäß Fig. 1a ist aus preiswertem
niedriglegiertem Stahl hergestellt. Die Gravur 2 ist
beispielsweise auf mechanischem Wege, elektromechanischem Wege
oder mittels Ätzung auf der Oberfläche des Grundkörpers 1
eingearbeitet. Der Grundkörper 1 mit Gravur 2 gemäß Fig. 1a
wird nunmehr einer Nitrierhärtung im Plasma unterzogen. Die
Behandlung findet in einem evakuierten Vakuumofen statt. Der
gravierte Grundkörper wird elektrisch isoliert in dem
Vakuumofen aufgestellt oder aufgehängt. Die Wand des
Vakuumofens wird als Anode, der gravierte Grundkörper 1 als
Kathode angeschlossen. Zwischen den Elektroden wird eine
pulsierende Gleichspannung im Bereich von 300 bis 1.500 Volt
angelegt. Stickstoffhaltiges Gas wird dann dem Vakuumofen
zugeführt, wobei das Gas ionisiert und die Stickstoffionen auf
den Grundkörper hin beschleunigt werden. Beim Aufprall auf die
Oberfläche des Grundkörpers stäuben Eisenatome ab, die sich im
Plasma mit hochreaktiven Stickstoffatomen zum
stickstoffreichen Eisen in Nitrid verbinden, die als neutrale
Partikel auf der Oberfläche des Grundkörpers kondensieren und
sich dort als Verbindungsschicht 4 ablagern, siehe Fig. 1b.
Ein Teil des bei diesen Vorgängen freiwerdenden Stickstoffes
diffundiert in die Randschicht des Grundkörpers ein und bildet
hier die sogenannte Diffusionsschicht 3, d. h. die durch die
Einlagerung von Stickstoff in das Metallgitter
gekennzeichneten Bereich, der hierdurch gehärtet wird, d. h.
eine höhere Härte aufweist als der Grundkörper 1.
Diffusionsschicht 3 und Verbindungsschicht 4 gemäß Fig. 1b,
die bei der Nitrierhärtung im Plasma bei nichtlegierten oder
niedriglegierten Eisenwerkstoffen gebildet werden, bilden die
sogenannte Nitrierschicht. Für die Herstellung gravierter
Walzen oder Platten ist jedoch diese Verbindungsschicht 4
nicht erwünscht, da sie keinen Korrosionsschutz bietet.
Deshalb wird die Verbindungsschicht 4 des Grundkörpers 1 gemäß
Fig. 1b anschließend wieder abgearbeitet, beispielsweise durch
Strahlen mittels Glasperlen. Bei dieser Strahltechnik wird
Gravur 2 in ihrer Ausführungsform nicht verändert, so daß nach
der Abarbeitung der Grundkörper 1 mit Diffusionsschicht 3 und
Gravur 2 gemäß Fig. 1c erhalten wird. Zwischendurch werden
jeweils Reinigungs- und auch ein Poliervorgang eingeschoben,
soweit erforderlich. Für einfache Anwendungen, beispielsweise
zum Herstellen von Abformungen ist es möglich, den gemäß Fig.
1c dargestellten Grundkörper 1 mit Diffusionsschicht 3 und
Gravur 2 aus nichtlegiertem oder niedriglegiertem
Eisenwerkstoff als Gravurwerkzeug oder Prägewerkzeug
einzusetzen, jedoch nur für solche Fälle, wo ein dauerhafter
Rostschutz nicht erforderlich ist.
Für die Herstellung von gravierten Walzen oder Platten mit
erhöhter Verschleißfestigkeit und verbessertem
Korrosionsschutz wird vorgeschlagen, den gemäß Fig. 1c
hergestellten Grundkörper mit Gravur 2 und Diffusionsschicht 3
zusätzlich mit einer Hartverchromung, d. h. einer Chromschicht
5 auszustatten, siehe Fig. 2.
Für Einsatzgebiete, in denen sehr hohe Verschleißfestigkeit,
sehr hoher Korrosionsschutz und eine lange Standzeit erwünscht
ist, wird die gravierte Walze oder Platte mit einem
Grundkörper gemäß Fig. 1c mit einer Zwischenschicht aus einer
Nickel-Phosphorlegierung als Korrosionsschutz und einer
hierauf aufgebrachten Verschleißschicht aus Hartstoffen,
beispielsweise Titan-Nitrid im PVD-Verfahren, ausgerüstet,
siehe Fig. 3. Die Zwischenschicht 6 ist eine autokatalytisch
abgeschiedene Nickel-Phosphorlegierung einer Dicke von
beispielsweise 12 µm. Danach erfolgt ein Reinigungs- und
Poliervorgang. Zum Tempern und anschließendem Aufdampfen der
Verschleißschicht 7 wird dann der mit der Zwischenschicht 6
versehene Grundkörper 1 in die Vakuumkammer eingebracht und
langsam auf die Temperungstemperatur des Grundkörpers 1 und
der Zwischenschicht 6 von etwa 350°C erwärmt und bei dieser
Temperungstemperatur je nach Größe zwischen 1 bis 3 Stunden
gehalten. Hieran schließt sich nahtlos nach ausreichender
Temperung das Aufdampfen der Verschleißschicht 6 als äußerster
Schicht aus einer entsprechenden metallischen
Hartstoffverbindung, hier Titan-Nitrid, bei Temperaturen bis
zu 480°C im Vakuum nach dem PVD-Verfahren an. Die
Hartstoffschicht 7 hat beispielsweise eine Dicke von 7 µm. Die
gemäß Fig. 3 hergestellte gravierte Walze mit Zwischenschicht
6 und Verschleißschicht 7 ist sehr hohen Beanspruchungen
bezüglich Korrosionsschutz, Verschleißfestigkeit der
Oberfläche sowie Festigkeit und Widerstandsfähigkeit der
Gravur 2 durch die Diffusionsschicht 3 gewachsen.
In der Fig. 4 ist ein Grundkörper 1 dargestellt, der aus einem
hochlegierten chromhaltigen Stahl mit mindestens 7 Gew.-%
Chrom hergestellt ist. Solche rostsäure- und hitzebeständigen
chromhaltigen Stähle sind genormt, beispielsweise der Chrom-
Nickelstahl X12 CrNi 18 8 oder X20 Cr13. Auf der Oberfläche
des Grundkörpers 1 gemäß Fig. 4 ist die Gravur 2,
beispielsweise ein feines Raster mit 40.000 Löchern pro cm²
und 16 µm Tiefe eingearbeitet. Der mit der Gravur 2 versehene
Grundkörper 1 gemäß Fig. 4 wurde dann einer Nitrierhärtung im
Plasma unterzogen, bei der die Diffusionsschicht 3 ausgebildet
wurde, d. h. Stickstoff in die Randschicht im Bereich der
Gravur des Grundkörpers eindiffundiert und in das Metallgitter
eingelagert wurde. Infolge des hohen Chromgehaltes der für den
Grundkörper 1 verwendeten Eisenlegierung hat sich keine
Verbindungsschicht, wie bei Fig. 1b beschrieben, auf der
Oberfläche der Gravur gebildet, so daß diese auch nicht
entfernt werden mußte. Damit ist der Grundkörper nach Fig. 4
aus hochlegiertem Stahl mit einer unveränderten Präzision der
Gravur 2 und einer Diffusionsschicht 3, die eine Erhöhung der
Härte dieser Randschicht zur Folge hat, als Basis hergestellt.
Der in der Fig. 4 dargestellte Grundkörper mit Gravur 2 und
Diffusionsschicht 3 kann in dieser Form bereits als
Gravurwerkzeug benutzt werden. Eine weitere Erhöhung der
Oberflächenhärte und damit Verschleißfestigkeit der gravierten
Oberfläche des Grundkörpers 1 wird gemäß Fig. 5 durch
insbesondere elektrolytisches Aufbringen einer Chromschicht 5
als Hartverchromung in einer Dicke von etwa 15 µm erreicht.
Diese Hartverchromung kann eine Härte nach Vickers von etwa
1200 HV (0,1) erreichen.
Für den Fall, daß Härten von über 2000 HV (0.1) gewünscht
werden, wird gemäß Ausführung Fig. 6 auf den Grundkörper 1
gemäß Fig. 4 zuerst auf die Gravur 2, d. h. die gehärtete
Randschicht mit der Diffusionsschicht 3 eine Zwischenschicht 6
aufgebracht, die dicht und homogen ist und einen erhöhten
Korrosionsschutz bietet. Als Zwischenschicht 6 ist, wie
bereits bei Fig. 3 beschrieben, eine autokatalytisch
abgeschiedene Nickel-Phosphorlegierung einer Dicke
beispielsweise 10 µm vorgesehen. Nach dem Reinigungs- und
Poliervorgang wird dann hierauf, wie bereits bei Fig. 3
beschrieben, eine Verschleißschicht 7 aus Hartstoff, wie
Titan-Nitrid im PVD-Verfahren, unter vorangehender Temperung
des Grundkörpers mit Zwischenschicht 6 aufgebracht,
beispielsweise in einer Dicke von 8 µm.
Für die Fälle, in denen die Korrosionsfestigkeit des
Grundkörpers 1 aus hochlegiertem Stahl gemäß Fig. 4
ausreichend ist, kann auch unmittelbar auf den Grundkörper 1
mit Gravur und Diffusionsschicht 3 gemäß Fig. 4 eine
Verschleißschicht 7, wie in der Fig. 7 dargestellt, im PVD-
Verfahren aufgebracht werden. Als Verschleißschicht bietet
sich Titan-Nitrid an, das sich für den Einsatz von
Prägewerkzeugen, Rasterwalzen und Gravurplatten bewährt hat.
Die Dicke der Verschleißschicht 7 als ausschließliche auf die
Gravur 2, d. h. die Oberfläche des Grundkörpers 1 aufgetragene
Schicht kann je nach Anwendungsbereich variieren,
beispielsweise 8 µm betragen. Die Dicke der Verschleißschicht
7 ist auch eine Kostenfrage, je dicker die Schicht desto
teuerer.
Mit der Erfindung können gravierte Walzen und Platten für
unterschiedliche Einsatzgebiete sowohl mit groben als mit sehr
feinen Gravuren und Rastern und Prägemustern hergestellt
werden, bei denen die gravierte Randschicht zusätzlich einer
Nitrierung im Plasma unterzogen wurde und anschließend auf die
Diffusionsschicht im Bereich der Gravur je nach Anforderung
eine Zwischenschicht für einen zusätzlichen Korrosionsschutz
und/oder Verschleißschicht zur Erhöhung der Oberflächenhärte
aufgebracht wird.
Claims (19)
1. Verfahren zum Herstellen von gravierten Walzen und Platten
für den Flexodruck, Tiefdruck, Prägen und Coating mit
einem Grundkörper aus Metall auf Basis von nichtlegierten,
niedrig- oder hochlegierten Eisenwerkstoffen oder
Sintereisenwerkstoffen, bei dem
- a) eine Gravur in Gestalt eines Musters oder Rasters in die Oberfläche des Grundkörpers mechanisch, elektromechanisch, mittels Laser oder mittels Ätzung eingearbeitet wird,
- b) dann der mit der Gravur versehene Grundkörper gereinigt und poliert wird,
- c) danach der mit der Gravur versehene Grundkörper einer Nitrierhärtung im Plasma unterzogen wird, bei der zumindest im Bereich der mit der Gravur versehenen Oberfläche des Grundkörpers eine Nitrierschicht aufgebaut wird, die in Abhängigkeit von der metallischen Zusammensetzung des Grundkörpers aus einer auf der mit der Gravur versehenen Oberfläche des Grundkörpers abgelegten Verbindungsschicht aus Eisenstickstoffverbindungen Fe4N (Gamma-Phase) und/oder Fe2-3N (Epsilon-Phase) sowie einer in der Randschicht des Grundkörpers ausgebildeten Diffusionsschicht, in der eindiffundierter Stickstoff in die vorhandene Metallgitterstruktur eingelagert ist, besteht oder nur aus einer in der Randschicht des Grundkörpers durch Eindiffundieren von Stickstoff gebildeten Diffusionsschicht besteht,
- d) danach die auf dem Grundkörper abgelagerte Verbindungsschicht (4) mechanisch abgetragen wird und
- e) anschließend der mit der Diffusionsschicht ausgestattete Grundkörper gereinigt und poliert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß auf die gravierte Oberfläche
des mit der Diffusionsschicht versehenen Grundkörpers (1)
eine Chromschicht (5) einer Dicke von etwa 12 bis 30 µm
und einer Härte von mindestens 1100 HV (0,1) nach Vickers
aufgebracht wird, die anschließend poliert und gereinigt
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß auf die gravierte Oberfläche
(2) des mit der Diffusionsschicht (3) versehenen
Grundkörpers (1) eine Zwischenschicht (6) aus einer
autokatalytisch abgeschiedenen Nickel-Phosphor-Legierung
mit einem Phosphorgehalt von 5 bis 13 Gew.-%, vorzugsweise
8 bis 13 Gew.-%, in einer Dicke von etwa 5 bis 25 µm
aufgebracht wird, die anschließend gereinigt und poliert
wird, und auf diese Zwischenschicht eine Verschleißschicht
(7) aus einer Metallverbindung einer Härte nach Vickers
von mindestens 2000 HV (0,1) durch Aufdampfen im Vakuum
nach dem PVD-Verfahren bei Temperaturen von 200 bis zu
etwa 480°C in einer Dicke von etwa 4 bis 8 µm aufgebracht
wird, und nach Abkühlen die mit der aufgedampften
Verschleißschicht versehene Oberfläche des Grundkörpers
gereinigt und poliert wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß der mit der Zwischenschicht
(6) versehene Grundkörper (1) getempert wird, wobei er im
Vakuum auf eine Temperatur von mindestens 240°C,
vorzugsweise bis 350°C, erwärmt und während einer Dauer
von etwa ein bis drei Stunden bei dieser Temperatur
gehalten wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 und 4,
dadurch gekennzeichnet, daß das Tempern des mit der
Zwischenschicht versehenen Grundkörpers und das Aufdampfen
der Verschleißschicht (7) kontinuierlich nacheinander
durchgeführt werden, wobei das Aufdampfen der
Verschleißschicht unmittelbar an die Temperung bei
Beibehaltung bzw. Erhöhung der Temperungstemperatur
erfolgt.
6. Verfahren nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß eine zweilagige
Zwischenschicht aus einer ersten autokatalytisch
abgeschiedenen Schicht einer Nickel-Phosphor-Legierung mit
einem Phosphorgehalt von 3 bis 13 Gew.-% in einer
Schichtdicke von etwa 4 bis 8 µm und einer zweiten hierauf
elektrolytisch abgeschiedenen Schicht von Chrom mit einer
Schichtdicke von etwa 4 bis 8 µm gebildet wird und eine
nachfolgende Temperung im Vakuum des mit der zweilagigen
Zwischenschicht versehenen Grundkörpers bei einer
Temperatur von mindestens 240 bis etwa 350°C während einer
Dauer von etwa ein bis zwei Stunden durchgeführt wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß für die Verschleißschicht
Metallboride, -carbide, -nitride, -oxyde, -silicide der
Elemente der vierten bis sechsten Nebengruppe des
Periodensystems Titan, Zirkon, Hafnium bzw. Vanadium,
Niob, Tantal bzw. Chrom, Moybdän, Wolfram einzeln oder in
Kombinationen eingesetzt werden.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß für die Verschleißschicht
Carbide, Nitride und Oxyde der Elemente der vierten
Nebengruppe des Periodensystems eingesetzt werden.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß für die Verschleißschicht
Titan-Nitrid eingesetzt wird.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 8,
dadurch gekennzeichnet, daß für die Verschleißschicht
Titan-Aluminium-Nitrid oder Titan-Aluminium-Carbonitrid
eingesetzt wird.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß für die Verschleißschicht
Titan-Carbonnitrid eingesetzt wird.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 9,
dadurch gekennzeichnet, daß für die Verschleißschicht
Titan-Carbid eingesetzt wird.
13. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß ein Grundkörper aus
hochlegiertem chromhaltigem Stahl eingesetzt wird, der
nach Herstellung der Gravur (2) und Ausbilden nur einer
Diffusionsschicht in der Randschicht des Grundkörpers (1)
ohne Ablegung einer Verbindungsschicht mit einer
Verschleißschicht (7) aus einer Metallverbindung mit einer
Härte nach Vickers von mindestens 2000 HV (0,1) durch
Aufdampfen im Vakuum nach dem PVD-Verfahren bei
Temperaturen von 200 bis 400°C in einer Dicke von etwa 4
bis 15 µm versehen wird, und nach Abkühlen die mit der
aufgedampften Verschleißschicht versehene Oberfläche des
Grundkörpers poliert wird.
14. Verfahren nach Anspruch 13,
dadurch gekennzeichnet, daß für die Verschleißschicht
Metallboride, -carbide, -nitride, -oxyde, -silicide der
Elemente der vierten bis sechsten Nebengruppe des
Periodensystems Titan, Zirkon, Hafnium bzw. Vanadium,
Niob, Tantal bzw. Chrom, Moybdän, Wolfram einzeln oder in
Kombinationen eingesetzt werden.
15. Verfahren nach Anspruch 14,
dadurch gekennzeichnet, daß als Verschleißschicht Titan-
Nitrid, Titan-Aluminium-Nitrid oder Titan-Aluminium-
Carbonitrid, Titan-Carbonitrid und/oder Titan-Carbid
verwendet werden.
16. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß das Abtragen der
Verbindungsschicht (4) durch Strahlen mittels Glasperlen
erfolgt.
17. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß für den Einsatz als Prägewalze
oder Prägeplatte oder für gröbere Gravuren ein Grundkörper
aus einem nichtlegierten oder niedriglegierten
Eisenwerkstoff eingesetzt wird, bei dem bei der
Nitrierhärtung im Plasma auf dem Grundkörper eine
Verbindungsschicht abgelegt wird, die anschließend
abgetragen wird.
18. Verfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß für die Herstellung von feinen
Rastern und Rasterwalzen ein Grundkörper aus einem
hochlegierten chromhaltigen Stahl eingesetzt wird, bei dem
bei der Nitrierhärtung im Plasma in der Randschicht des
Grundkörpers eine Diffusionsschicht gebildet wird und auf
dem Grundkörper keine Verbindungsschicht abgelegt wird.
19. Verfahren nach Anspruch 18,
dadurch gekennzeichnet, daß ein hochlegierter
chromhaltiger Stahl mit mindestens 7 Gew.-% Chrom
eingesetzt wird.
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