DE1809847A1 - Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Stabes,insbesondere Halbleiterstabes - Google Patents

Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Stabes,insbesondere Halbleiterstabes

Info

Publication number
DE1809847A1
DE1809847A1 DE19681809847 DE1809847A DE1809847A1 DE 1809847 A1 DE1809847 A1 DE 1809847A1 DE 19681809847 DE19681809847 DE 19681809847 DE 1809847 A DE1809847 A DE 1809847A DE 1809847 A1 DE1809847 A1 DE 1809847A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
rod
induction heating
heating coil
crucible
free zone
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19681809847
Other languages
English (en)
Other versions
DE1809847C3 (de
DE1809847B2 (de
Inventor
Dr Rer Nat Wolfgang Keller
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to RO6152769A priority Critical patent/RO55736A/ro
Publication of DE1809847A1 publication Critical patent/DE1809847A1/de
Publication of DE1809847B2 publication Critical patent/DE1809847B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE1809847C3 publication Critical patent/DE1809847C3/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B13/00Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
    • C30B13/16Heating of the molten zone
    • C30B13/20Heating of the molten zone by induction, e.g. hot wire technique

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
  • General Induction Heating (AREA)
  • Furnace Details (AREA)

Description

Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Stabes, insbesondere Halbleiterstabee
Die Priorität der entsprechenden Schweizer Patentanmeldung 8·044/68 vom 50.5*1968 wird in Anspruch genommen.
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen einea kristallinen otabes, insbesondere Halbleiterstabes, mit einer den Stab ringförmig umgebenden Induktionsheizspule mit einer Windung.
Beim tiegelfreien Zonenschmelzen werden als 3nergiequellen vielfach Flachspulen mit einer oder mehreren Windungen verwendet. Flachspulen haben gegenüber Zylinderspulen den Vorteil einer wesentlich geringeren axialen Srstreckung der Schraelzzone, wa3 eine Erhöhung der Stabilität der Schmelzzone bedeutet. Dies ist insbesondere bei großen Stabquerschnitten wichtig.
909850/1
.ä.
• ■·* ' f&&
Um den Spannungsabfall an der Induktionsheizspule und damit auch d.ie Überschlagsneigurig herabzusetzen, ist es günstig, beim Zonenschmelzen in einem Rezipiehten mit eijfier Schutzgasatmosphäre, beispielsweise aus Wasserstoff, eine Flachspule mit kreisförmigem Querschnitt und nur einer einzigen Windung zu verwenden.
Bj wurde gefunden, daß die Überschlagsneigung zwischen der Induktionsheizspule und dem Halbleiterstab noch verringert werden kann, wenn die den Stab ringförmig umgebende Induktionsheizspule mit einer Windung erfindungsgeraäfl in einer zur Stabachse senkrechten Ebene einen langgestreckten Querschnitt hat.
Sine derartige Induktionsheizspule hat gegenüber einer Ringspule mit kreisförmigem Querschnitt und gleicher Spulenhöhe in Achsrichtung des Halbleiterstabes gemessen eine verminderte Induktivität, die bei gleicher Schmelzleistung einen geringeren Spannungsabfall und damit eine kleinere Überschlagsneigung aufweist. Gegenüber einer Flachspule mit mehreren Windungen und gleichem Außen- und Innendurchmesser weist die Induktionsheizspule nach der vorliegenden Erfindung den Vorteil einer gleichmäßigeren Feldverteilung und einer erhöhten Stützwirkung der Schmelzzone auf. Dies ist insbesondere beim sogenannten Aufstauchen, d.h. bei einem Verfahren, bei dem der auskristallisierende Stabteil einen größeren Durchmesser als der der Schmelzzone zugeführte Stabteil (Vorratsstab) aufweist, wichtig. Mit Vorteil beträgt das Verhältnis AuSendurchmesser/Innendurchmesser der Induktionsheizapule mindestens 1,5. Bin Durchaesserverhältnis von etwa 2,0 iet besondere vorteilhaft.
-BAD ORIGINAL ,'
3 PLA 68/U 1.8
Weitere Binzelheiten und Vorteile der Erfindung werden an Ausführungsbeispielen anhand der Zeichnung näher erläutert.
Pig, 1 zeigt in der Seitenansicht, teilweise im Schnitt, eine ' · Induktionsheizspule gemäß der Erfindung.
Pig. 2 zeigt die Induktionsheizspule nach Fig. 1 in der Draufsicht.. .
Fig. 3 zeigt eine abgewandelte Ausführungsform einer Induktionsheizspule gemäß der Erfindung.
In Fig. 1 ist eine Induktionsheizspule gemäß der Erfindung mit φ 1 "bezeichnet. Sie erzeugt in einem Halbleiterstab, bestehend aus einem Vorratsstab 2 und einem auskristallisierenden Stabteil 3 eine Schmelzzone 4. Der Querschnitt der Induktionsheizspule 1 ist langgestreckt, d.h. die Breite b des "«Viniungsquerschnittes ist größer als seine Höhe h. Bei einer Spule mit sich nach außen erweiterndem ".7indung3qu.ersch.nitt ist die Höhe h. am inneren opulenrand maßgebend. Das Verhältnis Außendurchmesser/Innendurchmesser d. /d. der Induktionsheizspule 1 ist mindestens 1,5. Besonders günstige Bedingungen sind gegeben, wenn das Verhältnis ^
Außendurchmesser/Innendurchmesser d,/d. etwa 2,0 ist. Durch ™
·}', ■ ■■ :,...-<'■ a ι
Versuche wurde festgestellt,. daß hierbei die Induktivität der Induktionsheizspule gemäß der Erfindung nur etwa 3/4 der Induktivität einer Induktionsheizspule mit einer Windung mit kreisförmigem Querschnitt und gleicher Spulendicke beträgt.Der Hohlquerschnitt 5 der Induktionsheizspule 1 kann rechteckig sein, er· kann aber auch mit zunehmender Entfernung von der Stabach3e erweitert sein. Eine Spule mit nach außen erweitertem'Hohlquer-'
909850/1244
BAD ORIGINAL
H PLA 68/1418
schnitt bringt den Vorteil einer schmalen Schmelzzone bei gleichzeitig intensiver Kühlung der,Spule mit eich. Die Erweiterung des Hohlquerschnittes kann, wie in Fig. 1 dargestellt, stetig sein. Es sind jedoch auch andere Querschnittsformen, insbesondere solche mit stufenförmigen Absätzen, möglich.
Zum Herstellen eines kristallinen Stabes mit gegenüber dem Ausgangsstab vergrößertem Durchmesser kann* wie aus Fig. 3 ersichtlich, der Querschnitt, insbesondere auch der Hohlquerschnitt 5, der Induktionsheizspule 1 eine in Richtung-der Schwerkraft sich erstreckende Erweiterung 6 aufweisen. Damit wird die Stutzwirkung der Induktionsheizspule auf die Schmelzzone 4 noch erhöht. Mit Vorteil ist die Querschnittserweiterung 6 der Form der Schmelzzone 4 angepaßt.
Zur weiteren Erläuterung der Erfindung sei ein Ausführungsbeispiel angeführt:
Durchmesser des Halbleiterstabes (Vorratsstab) 27 mm Innendurchmesser der Induktionsheizepule d.= 29 mm Außendurchmesser der Induktionsheizspule dQ = 60 mm
£1
Höhe der Induktionsheizspule an ihrem inneren Rand Ii1 = 3 Höhe der Induktionsheizspule an ihrem äußeren Hand h« = 6 mm.
Die Induktionsheizspuie gemäß der -Erfindung kann nicht nur beim tiegelfreien Zonenschmelzen, in.einer Schutzgasatmosphäre-, beispielsweise Wasserstoff, einem Bäelgue öder ;«i»§f» lllsohung aus Wasserstoff -unfit einem S'delfas verwendet, eöfSieia alt ähnlichen
BAD ORIGINAL
S PLA 68/Η1Θ
Vorteilen auch beim tiegelfreien Zonenschmelzen im Vakuum verwendet werden. Mit besonderem Vorteil kann die Vorrichtung gemäß der Erfindung auch bei Zönenachmelzverfahren angewendet werden, wie sie in den deutschen Patentschriften 1 128 413 - Verfahren zur Herstellung von veraetzungafreiem, einkristallinem Silizium durch tiegelfreiea Zonenschmelzen (mit flaschenhalsförmiger Dünn stelle) - und 1 218 404 - Verfahren zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Stabes, insbesondere Halbleiterstabes (mit seitlicher Verschiebung des wiedereratarrenden Stabteilea) beschrieben sind.

Claims (1)

  1. £ PLA.; 68/1418 ·■■■·'
    Patentansprüche . '- · :
    /lly Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Stabes, insbesondere Halbleiteretabae, mit einer den ringförmig umgebenden Induktionsheizspule mit einer Windung, dadurch gekennzeichnet, daß die Induktionsheizspule (1) in einer zur Stabachse senkrechten Ebene einen langgestreckten Querschnitt hat, "
    2, Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, <iaö das Verhältnis AuöendurQhmeaaQr/InnQndur^hmea^er· der heizspuie (Ί) mindesitens 1,5 b
    Vorriuhtung nach Anoprugh 1 , 4?idur«h ^ekofina^iahRat;, \iu4 4au Verhältnia Au0endlur«bme3aejr/Innoa4urehro«aaei> etwa 2,0
    4. Vorrichtung nach Anspruch tt ciaduroh
    der HohlqueracönittCSldai· JEaduktlOAstiQiaepulQ (1) mit Entfernung von der Stafeaehse e^w^it^^t ist«
    5. Vor^iehtung nach Änüp?ucs& 1*
    kvi%%άΧΙ u&n-.Stabes alt
    rahm^aatr d«r Quorachnitt CS) (.1) ©ine i& Hlcht (6) aufweist.
    angepaßt
    SQSfSQ/1?
    BAD ORIGINAL
DE19681809847 1968-05-30 1968-11-15 Vorrichtung zum tiegelfreien zonenschmelzen eines kristallinen stabes, insbesondere halbleiterstabes Granted DE1809847B2 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RO6152769A RO55736A (de) 1968-11-15 1969-11-10

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH804468A CH472236A (de) 1968-05-30 1968-05-30 Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Stabes, insbesondere Halbleiterstabes

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE1809847A1 true DE1809847A1 (de) 1969-12-11
DE1809847B2 DE1809847B2 (de) 1973-09-06
DE1809847C3 DE1809847C3 (de) 1974-04-18

Family

ID=4334271

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19681809847 Granted DE1809847B2 (de) 1968-05-30 1968-11-15 Vorrichtung zum tiegelfreien zonenschmelzen eines kristallinen stabes, insbesondere halbleiterstabes

Country Status (9)

Country Link
BE (1) BE733780A (de)
CH (1) CH472236A (de)
DE (1) DE1809847B2 (de)
DK (1) DK120434B (de)
ES (1) ES367833A1 (de)
FR (1) FR2009656A1 (de)
GB (1) GB1230726A (de)
NL (1) NL6905939A (de)
SE (1) SE359753B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3805118A1 (de) * 1988-02-18 1989-08-24 Wacker Chemitronic Verfahren zum tiegelfreien zonenziehen von halbleiterstaeben und induktionsheizspule zu seiner durchfuehrung

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3625669A1 (de) * 1986-07-29 1988-02-04 Siemens Ag Induktionsheizer zum tiegelfreien zonenschmelzen
DE3873173T2 (de) * 1987-05-25 1993-03-04 Shinetsu Handotai Kk Vorrichtung fuer hf-induktionsheizung.

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3805118A1 (de) * 1988-02-18 1989-08-24 Wacker Chemitronic Verfahren zum tiegelfreien zonenziehen von halbleiterstaeben und induktionsheizspule zu seiner durchfuehrung

Also Published As

Publication number Publication date
NL6905939A (de) 1969-12-02
DK120434B (da) 1971-06-01
DE1809847C3 (de) 1974-04-18
BE733780A (de) 1969-11-03
DE1809847B2 (de) 1973-09-06
CH472236A (de) 1969-05-15
FR2009656A1 (de) 1970-02-06
SE359753B (de) 1973-09-10
GB1230726A (de) 1971-05-05
ES367833A1 (es) 1971-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0344360A2 (de) Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung eines Rohres oder Stabes aus Quarzglas
DE69513138T2 (de) Verfahren zur Herstellung von Superlegierungen auf Nickelbasis
DE69014896T2 (de) Verbindungsbrücke für kerndrähte für apparate zur herstellung polykristallinen siliziums.
DE2421704C3 (de) Nickel-Eisen-Gußlegierung
DE1519901A1 (de) Verfahren zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Stabes
DE69601767T2 (de) Legierung bestehend aus Wolfram-Lanthana in der Form eines Drahtes für vibrationsbeständigen Glühlampenfaden
DE2421680A1 (de) Nickel-kobalt-eisen-gusslegierung mit niedrigem ausdehnungskoeffizienten und hoher streckgrenze
DE69012764T2 (de) Verfahren zur Herstellung von Titan und Titan-Legierungen mit einer feinen nadelförmigen Mikrostruktur.
DE1809847A1 (de) Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Stabes,insbesondere Halbleiterstabes
EP0729918A1 (de) Polygonaler Quarzglasstab und Verfahren für seine Herstellung
DE1912975A1 (de) Form zum Herstellen von Einkristallstuecken
DE1257740B (de) Verfahren und Vorrichtung zum tiegellosen Zonenschmelzen
DE69307236T2 (de) Verfahren zur Herstellung von einem leitenden Werkstoff auf Basis von Kupferlegierung
DE833955C (de) Herstellung von grobkoernigen Metallpulvern
EP0060575A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Halbzeug aus einer kupferhaltigen Gedächtnislegierung
DE1209997B (de) Verfahren zur Herstellung von Einkristallen aus schmelzbarem Material
DE102014018061B4 (de) Metallischer Verbundwerkstoff und Herstellverfahren
DE2224685A1 (de) Vorrichtung zum tiegelfreien zonenschmelzen eines stabfoermigen koerpers aus kristallinem material, insbesondere aus halbleitermaterial
DE1128413B (de) Verfahren zur Herstellung von zersetzungsfreiem einkristallinem Silicium durch tiegelfreies Zonenschmelzen
DE637136C (de) Elektronenroehre
DE866720C (de) Verfahren zur Herstellung von hohlen Gegenstaenden aus Glas
DE974478C (de) Verfahren zur Erzeugung von metallischen Hohlkoerpern im Schleuderverfahren
AT223659B (de) Verfahren zur Herstellung von versetzungsfreiem einkristallinem Silizium durch tiegelfreies Zonenschmelzen
DE975648C (de) Verfahren zur Herstellung eines Spanngitters mit sehr duennem Gitterdraht
AT22049B (de) Verfahren zur Herstellung von röhrenförmigen, elektrischen Glühkörpern aus Tantal oder Niob.

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977
8320 Willingness to grant licences declared (paragraph 23)