DE3625669A1 - Induktionsheizer zum tiegelfreien zonenschmelzen - Google Patents
Induktionsheizer zum tiegelfreien zonenschmelzenInfo
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- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf einen Induktionsheizer zum
tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Halblei
terstabes, bestehend aus einer Flachspule und einem koaxi
al zur Flachspule angeordneten, mit der Flachspule verbun
denen zylindrischen Zusatzheizer, der aus elektrisch gut
leitendem Material besteht und der der Flachspule
parallel geschaltet ist.
Ein Induktionsheizer der genannten Art ist z. B. in der
DE-AS 18 02 524 beschrieben worden. Der Zusatzheizer be
steht aus einem Zylinder, in dem die Flachspule derart
angeordnet ist, daß der Zylinder die Flachspule nach
beiden Seiten z. B. gleich weit überragt. Dabei dient der
dem polykristallinen Vorratsstab zugewandte Teil des Zy
linders als Vorheizer und der dem monokristallinen Halb
leiterstab zugewandte Teil des Zylinders als Nachheizer.
Der Zweck des Zusatzheizers wurde darin gesehen, den
Temperaturgradienten beiderseits der Schmelzzone in den
angrenzenden festen Stabteilen des Halbleiterstabes
niedrig zu halten.
Versuche mit dem beschriebenen Induktionsheizer haben je
doch ergeben, daß der Vorheizer ungünstige Ergebnisse
bringt. Mit dem Vorheizer findet das Aufschmelzen des
Vorratsstabes bezogen auf eine einfache Flachspule früher
statt. Abhängig von der Qualität des polykristallinen Si
liciums bilden sich hierbei besonders am Rand des Stabes
nichtschmelzende axialgerichtete Nasen aus, die durch die
Flachspule nicht aufgeschmolzen werden. Der Ziehvorgang
muß daher an dieser Stelle unterbrochen werden, wodurch
der gesamte Stab wertlos wird.
Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, einen
Induktionsheizer der genannten Art so weiterzubilden, daß
einerseits die genannten Nachteile nicht auftreten und
andererseits eine gute homogene Temperaturverteilung er
zielt werden kann.
Es ist bekannt, daß mit zunehmender inhomogener Tempera
turverteilung die zeitlichen Schwankungen der Wachstums
geschwindigkeit des Monokristalls zunehmen. Damit ändert
sich auch der effektive Verteilungskoeffizient k eff und
damit die Dotierung im mikroskopischen Bereich. Diese
Dotierungsänderungen werden als "Striations" bezeichnet.
Dabei ist der Einfluß der zeitlichen Schwankungen der
Wachstumsgeschwindigkeit um so größer, je kleiner der
Faktor k eff ist.
Die oben erwähnte Aufgabe wird dadurch gelöst, daß der
Zusatzheizer ausschließlich auf derjenigen Seite der
Flachspule angeordnet ist, die dem monokristallinem Stab
teil zugewandt ist.
Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand der Unter
ansprüche.
Die Erfindung wird anhand einiger Ausführungsbeispiele
in Verbindung mit den Fig. 1 bis 3 näher erläutert.
Es zeigen:
Fig. 1 den Schnitt durch einen Induktionsheizer gemäß
einem ersten Ausführungsbeispiels der Erfindung
mit einem zu schmelzenden Halbleiterstab,
Fig. 2 ein weiteres Ausführungsbeispiels eines Nach
heizers und
Fig. 3 die Aufsicht auf eine Weiterbildung der Flach
spule nach Fig. 1.
Der Induktionsheizer nach Fig. 1 hat eine bekannte ein
windige Flachspule 4, die mit Anschlüssen versehen ist.
Von diesen ist einer mit 5 bezeichnet. Die Flachspule 4
kann auch mehrere Windungen aufweisen. Die Flachspule 4
schmilzt einen Vorratsstab 1 auf, der in einen monokri
stallinen Halbleiterstab 2 umgewandelt wird. Beide Stab
teile sind durch eine Schmelzzone 3 miteinander verbunden.
Die Flachspule 4 ist auf ihrer dem monokristallinen Stab
teil 2 zugewandten Seite koaxial mit einem zylindrischen
Zusatzheizer 6 versehen. Dieser besteht beispielsweise
aus dem gleichen gut leitenden Metall wie die Flachspule
4. Der Zusatzheizer 6 ist mechanisch mit der Flachspule 4
verbunden und ist dieser elektrisch parallel geschaltet.
Flachspule 4 und Zusatzheizer 6 bilden einen gemeinsamen
Spalt 15. Die Flachspule und der Zusatzheizer sind mit
Kühlkanälen 7, 8 versehen.
Beim Zonenschmelzen bilden sich, bedingt durch die Form
der Flachspule 4 und des Zusatzheizers 6, Feldlinien aus,
die teilweise der Achse des monokristallinen Stabteils 2
parallel laufen. Eine solche Feldlinie ist hier mit 9 be
zeichnet. Durch diese Feldverteilung wird der monokristal
line Stabteil nachgeheizt, so daß der Temperaturgradient
im wachsenden Einkristallstab 2 kleiner wird. Damit er
gibt sich auch eine Verbesserung der Homogenität der
Temperatur in der Schmelze, so daß die Konvektion in der
Schmelze und damit an der Grenzfläche zwischen der Schmel
ze und dem monokristallinen Halbleiterstab 2 verringert
wird. Damit werden die zeitlichen Schwankungen der Wachs
tumsgeschwindigkeit kleiner, so daß auch die zeitlichen
Schwankungen des Faktors k eff klein bleiben. Damit werden
auch die Dotierungsschwankungen kleiner. So wurde bei
spielsweise bei einer Dotierung von Silicium mit Indium
eine Verringerung der Dotierungsschwankungen um den Fak
tor 2 bis 3 gegenüber einer normalen Flachspule erreicht.
Um eine Beobachtung der Schmelzzone während des Zonen
schmelzens zu ermöglichen, empfiehlt es sich, den Zu
satzheizer 6 mit Öffnungen zu versehen. Der Zusatzheizer
kann jedoch, wie in Fig. 2 dargestellt, auch aus zwei
Metallringen 10, 11 bestehen, die durch axial liegende
Metallstäbe 12 miteinander verbunden sind. Die Ringe 10,
11 und die Stäbe 12 bestehen aus gut leitendem Metall,
wie z. B. Kupfer oder Silber. Die Ringe 10, 11 sind
zur Vermeidung eines Kurzschlusses der Versorgungsspan
nung mit radialen Schlitzen 13, 14 versehen. Diese
Schlitze liegen in Axialrichtung fluchtend hinter ein
ander. Wird der aus den Ringen 10, 11 und den Stäben 12
gebildete Käfig mit einer Flachspule nach Fig. 1 ver
bunden, so werden die Schlitze 13, 14 nach dem Schlitz
der Spule ausgerichtet. Die beiderseits der Schlitze 13,
14 angeordneten Stäbe 12 haben einen Abstand voneinander,
der der Schlitzbreite entspricht. Die Stäbe 12 können auf
ihren einander gegenüberliegenden Seiten plan ausgebildet
sein, so daß zwischen den Enden des Nachheizers ein homo
gener Schlitz liegt.
Eine weitere Verbesserung der Temperaturhomogenität kann
dadurch erzielt werden, daß die Flachspule (Fig. 3) mit
von der Öffnung 16 der Spule 4 ausgehenden radialen
Schlitzen 17 versehen ist. Diese Schlitze bewirken eine
Symmetrierung der durch den Schlitz 15 zwischen den
Spulenenden bewirkten Unsymmetrie. Die Schlitze 17 sind
untereinander und zum Schlitz 15 unter gleichem Winkel
abstand angeordnet. Die oben erwähnte Verbesserung der
Homogenität wurde bei einem Siliciumstab mit 52 mm Durch
messer mit einem Induktionsheizer erzielt, bei dem der
Innendurchmesser der Spule 27 mm, der Außendurchmesser 77
mm, der Innendurchmesser des Nachheizers 70 mm und seine
Länge 40 mm betrug. Mit größer werdendem L wird die Dauer
der Nachheizung erhöht, mit kleiner werdendem D die Tempe
ratur der Nachheizung.
Claims (4)
1. Induktionsheizer zum tiegelfreien Zonenschmelzen
eines kristallinen Halbleiterstabes, bestehend aus einer
Flachspule und einem koaxial zur Flachspule angeordne
ten, mit der Flachspule verbundenen zylindrischen Zusatz
heizer, der aus elektrisch gut leitendem Material be
steht und der der Flachspule parallel geschaltet ist,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Zusatzheizer (6) ausschließlich auf derjenigen
Seite der Flachspule (4) angeordnet ist, die dem mono
kristallinen Stabteil (2) zugewandt ist.
2. Induktionsheizer nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Zusatzheizer zwei Metallringe (10, 11) aufweist,
die durch axial verlaufende Metallstäbe (12) zu einem
zylindrischem Käfig verbunden sind, daß die Metallringe
mit je einem radialen Schlitz (13, 14) versehen sind,
daß beide Schlitze in axialer Richtung der Ringe fluch
tend hintereinander liegen, daß die Flachspule einwindig
ist und zwischen ihren Anschlüssen einen Schlitz bildet
und daß die radialen Schlitze mit diesem Schlitz fluchten.
3. Induktionsheizer nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Flachspule (4) mit von ihrer Öffnung (16) ausge
henden radialen Schlitzen (17) versehen ist, die unter
einander und mit einem zwischen den Enden der Flachspule
(4) gebildeten Schlitz (15) gleichmäßig um die Öffnung
(16) verteilt sind.
4. Induktionsheizer nach einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Zusatzheizer (6) Kühlkanäle (8) aufweist.
Priority Applications (3)
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19863625669 DE3625669A1 (de) | 1986-07-29 | 1986-07-29 | Induktionsheizer zum tiegelfreien zonenschmelzen |
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Family
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Family Applications (1)
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- 1986-07-29 DE DE19863625669 patent/DE3625669A1/de active Granted
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- 1987-07-21 US US07/076,254 patent/US4797525A/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-07-24 JP JP62185350A patent/JPH0644512B2/ja not_active Expired - Fee Related
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