DE1558644C - Verwendung von Übergangsmetall-Silizium-Legierungen als Kontaktstücke für thermoelektrische Anordnungen und Verfahren zur Herstellung der Kontaktstücke - Google Patents

Verwendung von Übergangsmetall-Silizium-Legierungen als Kontaktstücke für thermoelektrische Anordnungen und Verfahren zur Herstellung der Kontaktstücke

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DE1558644C DE19671558644 DE1558644A DE1558644C DE 1558644 C DE1558644 C DE 1558644C DE 19671558644 DE19671558644 DE 19671558644 DE 1558644 A DE1558644 A DE 1558644A DE 1558644 C DE1558644 C DE 1558644C
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Description

Die Erfindung bezieht sich auf die Verwendung von Legierungen der Ubergangsmetalle mit Silizium als Kontaktstücke für thermoelektrische Anordnungen.
Kontaktstücke, die als Anschlußstück für eine elektrische Leitung oder beim Aufbau von thermoelektrischen Anordnungen als Teil einer Kontakt^ brücke für die Thermoelementschenkel dienen, müssen wenigstens annähernd den gleichen Ausdehnungskoeffizienten wie das Halbleitermaterial haben, damit bei einer Temperaturänderung des Kontaktes keine zu großen mechanischen Spannungen entstehen. Das Kontaktstück muß eine hohe Bruchfestigkeit und eine hohe Temperatur- und Temperaturwechselbeständigkeit besitzen. Gegenüber einer aggressiven Atmosphäre muß das Kontaktstück korrosionsbeständig sein. Soll das Kontaktstück als Kontaktbrücke in einem Thermogenerator verwendet werden, so muß es eine große elektrische und thermische Leitfähigkeit besitzen, weil der Wirkungsgrad eines Thermogenerators wesentlich von diesen Größen abhängt. Weiterhin muß das Kontaktstück elektrisch neutral sein, damit durch die Kontaktierung des Halbleiterkörpers mit dem Kontaktstück keine Umdotierung erfolgt.
Für Thermoelementschenkel aus einer Silizium enthaltenden Legierung können nach der belgischen Patentschrift 681655 die Kontaktbrücken aus Molybdän-Silizium- oder Wolfram-Silizium-Legierungen hergestellt sein. Diese Kontaktbrücken erfüllen die genannten Forderungen an ein Kontaktstück weitgehend.
Nachteilig wirkt sich jedoch beim Herstellungsprozeß dieser Legierungen der hohe Schmelzpunkt des Molybdäns und des Wolframs aus. Beim Legieren des Siliziums mit Molybdän oder Wolfram verdampft ein Teil Silizium. Eine eindeutige Zusammensetzung der Legierung ist deshalb nur unter großen Schwierigkeiten zu erhalten. Damit bleibt aber auch die Anpassung des Ausdehnungskoeffizienten des Kontaktstückes an den Ausdehnungskoeffizienten des Halbleitermaterials ungenau, und die Kontaktierung ist durch mechanische Spannungen, die bei einem Temperaturwechsel auftreten können, gefährdet.
Es ist schon vorgeschlagen worden, für Thermogeneratoren mit Silizium enthaltenden Schenkeln eine Siliziumlegierung als Kontaktstück zu verwenden, die aus einer Mischung von Kobaltsilizid mit Mangandisilizid (britische Patentschrift 967 888) oder auch aus einer Mischung von Kobaltsilizid mit Chromdisilizid (britische Patentschrift 952 114) besteht. Jeweils eines der beiden Metalle der Mischung ist Bestandteil eines der beiden Schenkel des entsprechenden Thermoelements. Diese Kontaktstücke sind gegenüber den Schenkeln elektrisch neutral, wenn die Metallanteile etwa gleich groß sind. Dann ist aber
ίο der Siliziumanteil verhältnismäßig gering. Ein zu geringer Siliziumgehalt ergibt aber einen abweichenden Ausdehnungskoeffizienten; es können somit gefahrliche mechanische Spannungen entstehen. Eine Zerstörung des Thermogenerators durch diese Spannungen soll bei den bekannten Anordnungen durch ein besonderes Kontaktierungsverfahren verhindert werden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Kontaktstück aus einem Material zu schaffen, das die erwähnten Forderungen erfüllt und dessen Kontakt mit den Thermoelementschenkeln für eine Temperaturwechselbeanspruchung mit hohen Temperaturdifferenzen geeignet ist.
Die Erfindung besteht in der Verwendung einer Legierung der allgemeinen Zusammensetzung
wobei Me1 und Me" zwei verschiedene Metalle der Gruppen IVa, Va, Via, VIIa und VIII des Periodischen Systems mit Ausnahme des Technetiums, y = 0,5 bis 0,9 und χ = 0,05 bis 0,35 ist, als elektrisch neutrale Kontaktstücke für thermoelektrische Anordnungen aus Halbleiterlegierungen zwischen Mangan und Silizium, Eisen und Silizium oder Germanium und Silizium.
Eine Legierung, die in den Bereich der genannten Zusammensetzung fällt, ist an sich bekannt. Sie kann nach der deutschen Patentschrift 912 633 als Teil, insbesondere als Kolben, für Brennkraftmaschinen verwendet werden, weil sie mit einem niedrigen Ausdehnungskoeffizienten bis herab zu 7 ·'1(T6-5C'"1 hergestellt werden kann.
Die Erfindung beruht nun auf der Erkenntnis, daß durch die Wahl des Mischungsverhältnisses der Legierungskomponenten ein vorbestimmter Ausdehnungskoeffizient erreicht werden kann. Vorzugsweise entspricht das Mischungsverhältnis der Legierungskomponenten Me' und Me" wenigstens angenähert einem eutektischen Punkt des Schmelzdiagramms.
Das Kontaktstück erfüllt alle genannten Forderungen. Insbesondere besitzt es wegen seiner metallischen Komponenten eine große Härte und Bruchfestigkeit. Dystektika können vorteilhaft sein, wenn das Kontaktstück einen höheren Schmelzpunkt besitzen soll. Die Kontaktstücke sind in besonderer Weise für Thermogeneratoren geeignet. Thermoelementschenkel, die mit dem Kontaktstück kontaktiert sind, können bis über 10000C betrieben werden. Da der Wirkungsgrad eines Thermogenerators auch von der Temperatur der Wärmequelle abhängt, ist mit dem Kontaktstück ein hoher Wirkungsgrad erreichbar.
In den folgenden Tabellen 1 bis 3 sind geeignete Kontaktstückmaterialien aufgeführt. Dabei ist unter
(1) in den Tabellen das Halbleitermaterial angeführt, an dessen Ausdehnungskoeffizienten der Ausdehnungskoeffizient des jeweiligen Kontaktbrückenmaterials angepaßt ist.
Tabelle 1
Geo,3Sio,7 bcnmelz- Linearer Wärme Elektrische Oxydations-
(Halbleiterlegierung) punkt Ausdehnungs leitfähigkeit κ Leitfähigkeit, jeständigkeit bei
(Τΐθ,55·^°0,45)θ,18^1ο,82 [0C] koeffizient α [cal · bezogen auf 1000°C
(Zl"o,9 W0 ,ι)ο,35^|ο,65 ~1330 1-,Q-So0-I-J S-1Cm-10C"1] Ge03Si0,,
(D (Hfo,8lR-eO,19)o,33!3io,67 0,51 0,01 ~ 1000[Ω · cm"1] gut
(Vo15IMOo149)O12Si018 1500 = 100%"
(2) (Nb0167Pd0133)O11Si019 1940 0,51 0,20 120 gut
(3) (Ta016Ni014)O11Si019 1650 0,51 0,15 300 mäßig
(4) (Cr016Mo014)Q135Si0165 1700 0,51 0,16 200. mäßig
(5) ■ (Mo0155Ti0145)O12Si018 1620 0,51 0,20 170 mittel
(6) (Mo0178Nb0122)O12Si018 1620 0,51 0,19 120 gut
(7) (Wo151Ni0149)Q11Si019 1560 0,51 0,20 120 gut
(8) (Fe0i63Mo0>37)0ilSioi9 1600 0,51 0,21 400 gut
(9) (Co0i54Woi46)0ilSiqi9 1700 0,51 0,20 120 gut
(10) (Nlo,72^-e0,28)o,l^10,9 1475 0,51 0,22 550 gut
(H) (R11OJiTa0129)O111SiO1S9 1560 0,51 0,21 200 gut
(12) (Rho.esMoo.ssta.isSio.si 1300 0,51 0,20 140 mittel .
(13) (Pd0158Mo0142)O11Si019 1580 0,51 0,21 200 gut
(14) (Iro,6Ti0j4)o,i7Si033 1520 0,51 0,20 100 gut
(15) (Ρ^Ο,δδΣΤίο^Ιδίο,ΙΙ^^,βθ 1830 0,51 190 mittel
(16) (Mo0167Zr033)O135Si0165 1590 0,51 0,23 400 gut
(17) (Mo0167Hf0133)O133Si0167 1820 0,51 0,20 190 gut
(18) (Cr09V01)Q25Si0175 1600 0,51 0,21 130 gut
(19) (Cr0187Ta013)O26Si01^ 1980 0,51 0,19 100 gut
(20) (Co0i545Cr0455)0 ^Si09 1650 0,51 0,22 500 mäßig
(21) (Co0,54Mo0i46)0ilSioi9 1480 0,51 0,21 400 mäßig
(22) (PcWi5W01I85)O11Si019 1470 0,51 0,19 250 mäßig
(23) (Vo185Mn015)O11Si019 1400 0,51 0,19 250 gut
(24) (Fe0i6Re0i4)0ilSioi9 1575 0,51 0,20 110 gut
(25) (Nb0176Fe0124)O111Si0189 1640 0,51 0,20 200 gut
(26) (Hfo,762Co0i238)0il3Sloi87 1600 0,51 0,20 120 gut
(27) (Zro,67Nioi33)o,14Sioi86 1600 0,51 80 mittel
(28) (Mo0i584RU0,416)o,18Sio>82 1600 0,51 0,20 110 mittel
(29) (Mo0161Rh0139)O121Si0179 1300 0,51 0,19 110 mittel
(30) (Cr016Pd04)O112Si088 1570 ' 0,51 0,18 90 mittel
(31) (Tao,52 Os0,48)o,35 Slo,6S 1780 0,51- 0,19 100 mittel
(32) (Tlo,8lIr0il9)o,1.2Slo,88 1780 . 0,51 300 mittel
(33) (Zr079Pt021)O35Si065 · 1550 0,51 0,23 400 gut
(34) 1800 0,51 0,20 110 gut
(35) 1550 0,51 300 gut
(36) 1360 0,51 0,19 90 gut
(37) 0,51 0,16 300 gut
Tabelle 2
FeSi2 Schmelzpunkt Linearer Aus
dehnungskoeffizient α
Wärmeleitfähigkeit κ Oxydationsbeständig
keit bei
10000C
(Halbleiterlegierung) [0C] [-JQ-So0-I-] [CaI-S-1Cm-10C"1]
(1) (Wo1S1Ni0149)O113Si0187
(Tio,55Mo0i45)0i234Sioi766 1210 0,67 : mäßig
(2) (Mo0i78Nb0i22)0i26Sioi74 1500 . 0,67 0,21 · gut
(3) 1530 0,67 0,19 gut
(4) 1750 0,67 0,22 gut
Tabelle 3
10
MnSi Schmelzpunkt T infhn rf*T" Δ 1IC Wärmeleitfähigkeit χ Oxydationsbeständig
(Halbleiterlegierung) [0C] LJIlCdl Cl AUS
dehnungskoeffizient α
[CaI-S-1Cm-10C"1] keit bei
10000C
(Pdo.ssMoo^o^Sio.gg [10-50C-1]
(1) (COo154W046)O32Si0-68 1275
( "0,51Nl0 4Q)032Sl0 68 1600 1,63 0,21 mittel
(2) 1500 1,63 0,22 gut
(3) 1550 1,63 0,24 gut
(4) 1,63 gut
Zur Demonstration der Vorteile der erfindungsgemäß verwandten Kontaktstückmaterialien ist in den Tabellen 1 bis 3 der Schmelzpunkt, der lineare Ausdehnungskoeffizient a, die Wärmeleitfähigkeit κ und eine Aussage über die elektrische Leitfähigkeit und die Oxydationsbeständigkeit enthalten. Die angegebenen Werte können um ungefähr 5% schwanken. Beim Ausdehnungskoeffizienten liegen die Schwankungen jedoch unter 1%. Für die Halbleiterlegierung Ge03Si07 wurde als elektrische Leitfähigkeit ein Mittelwert angegeben, der von der Dotierung abhängt. Es ist der Tabelle 1 zu entnehmen, daß die elektrische Leitfähigkeit der erfindungsgemäßen Materialien zum Teil erheblich besser als die der verwendeten Halbleiterkörper ist.
Zur Herstellung eines Kontaktstückes aus erfindungsgemäß verwandten Legierungen werden die Metalle Me1 und Me" im entsprechenden Mischungsverhältnis zusammengeschmolzen und anschließend
die Dimetall-Legierung wenigstens einmal mit Silizium im · entsprechenden Mischungsverhältnis erschmolzen. Von der erstarrten Schmelze können Kontaktstücke der geforderten Form mechanisch abgetrennt werden. Es kann auch die erstarrte Schmelze zerkleinert und Kontaktstücke der geforderten Form in einem Pulverpreß- und Sinterverfahren gewonnen werden.
Der Vorteil des geschilderten Herstellungsverfahrens liegt in dem Erschmelzen der Dimetall-Legierung.
Der Schmelzpunkt dieser Dimetall-Legierungen ist im allgemeinen dem Schmelzpunkt des Siliziums angenähert. Diese Tatsache wird durch die Tabelle 4 demonstriert, in der die Schmelzpunkte der in den Tabellen 1, 2 unü 3 als Legierüngskomponenten aufgeführten Dimetall-Legierungen angegeben sind. Die Nummern der Beispiele in Tabelle 4 stimmen mit den Nummern der Beispiele in Tabelle 1 überein.
Tabelle 4
Si Schmelzpunkt Schmelzpunkt Me1 Schmelzpunkt Me"
Ti01J5MOc45 0C °C 0C
(1) Zr019W04 1415
(2) Hf0-8IRe019 2080 1690 (Ti) 2610 (Mo)
(3) V0,51M°0,49 1660 1852 (Zr) 3380 (W)
(4) Nb0167Pd0-33 1880 2222 (Hf) 3180 (Re)
(5) Ta0-6Ni014 2000 1857 (V) 2610 (Mo)
(6) Cr06Mo0-4 1970 2497 (Nb) 1550(Pd)
(7) Mo0155Ti0145 2000 2997 (Ta) 1452 (Ni)
(8) Mo0i78Nb0>22 2060 1903 (Cr) 2610 (Mo)
(9) W0-51Ni0149 2170 2610 (Mo) 1690(Ti)
(10) Fe063Mo0-37 2345 2610 (Mo) 2497 (Nb)
(H) Co0-54W0-46 1800 3380 (W) 1452 (Ni)
(12) Ni0-72Re0-28 1540 1539 (Fe) 2610 (Mo)
(13) RUo1TiTa0-29 2080 1495 (Co) 3380 (W)
(14) Rh0-65Mo0135 1600 1452 (Ni) 3180 (Re)
(15) Pd058Mo0142 1970 2427 (Ru) 2997 (Ta)
(16) Iro,6Tiö,4 2075 1966 (Rh) 2610 (Mo)
(17) Ρ*Ο,582Τΐο,4ΐ8 1740 1550 (Pd) 2610 (Mo)
(18) Mo0-67Zr0-33 2000 2454 (Ir) 1690(Ti)
(19) Mo0-67Hf0-33 1780 1770(Pt) 1690(Ti)
(20) Cr0^V01 2070 2610 (Mo) 1852 (Zr)
(21) 2280 2610 (Mo) 2222 (Hf)
(22) • 1765 1903 (Cr) 1857 (V)
^0,87-Ta01J3 Schmelzpunkt Schmelzpunkt Me1 Schmelzpunkt Me"
^-°Ο,545^-Γο,455 0C 0C 0C
"" (23) Co0,54Mo0i46 1700 1903 (Cr) 2997 (Ta)
(24) Pd0815W0485 1400 1495 (Co) 1903 (Cr)
(25) VOi85 Mn045 1550 1495 (Co) 2610(Mo)
(26) Feo,6Reo>4 2175 1550 (Pd) 3380 (W)
(27) Nbo,76FeOi24 1800 1857(V) 1314(Mn)
(28) Ηΐο,762^00 238 1800 1539 (Fe) 3180 (Re)
(29) Zr0,67Nio,33 1680 2497 (Nb) 1539 (Fe)
(30) Mo0584Ru0416 1212 2222 (Hf) 1495 (Co)
(31) Mo061Rh039 1200 1852 (Zr) 1452 (Ni)
(32) Cro,6Pdo,4 1945 2610 (Mo) 2427 (Ru)
(33) Tao,52 Os048 1940 2610 (Mo) 1966(Rh)
(34) Tio,81^r0,19 1398 1903 (Cr) 1550(Pd)
(35) Zr0,79^^0,21 2360 2997 (Ta) 2700 (Os)
(36) 1475 1690 (Ti) 2454 (Ir)
(37) 1185 1852 (Zr) 1770 (Pt)
In den letzten beiden Spalten der Tabelle sind die Schmelzpunkte der Metalle Me1 und Me" angegeben. Als Beispiel (1) ist zum Vergleich der Schmelzpunkt von Silizium angeführt. Der Tabelle ist zu entnehmen, daß der Schmelzpunkt der Dimetall-Legierungen immer wesentlich kleiner als der höchste Schmelzpunkt des entsprechenden Metalls Me1 oder Me" ist. In den Beispielen (3), (4) und einigen weiteren ist der Schmelzpunkt der Dimetall-Legierung sogar kleiner als der Schmelzpunkt der beiden Metalle. Da der Schmelzpunkt der Dimetall-Legierung und der Schmelzpunkt des Siliziums nicht mehr allzusehr verschieden sind, wird beim Zusammenschmelzen die Siliziumkomponente sich nicht verflüchtigen. Es ist daher bei den erfindungsgemäßen Kontaktstückmaterialien eine exakte Anpassung des Ausdehnungskoeffizienten des Kontaktstückmaterials an den Ausdehnungskoeffizienten des Halbleiterkörpers ohne besondere Schwierigkeit im Herstellungsverfahren möglich. Durch das mehrmalige Erschmelzen der Dimetallkomponente mit dem Silizium wird die Dimetallsilizium-Legierung homogenisiert, was sich vor allem auf die Größe der elektrischen Leitfähigkeit auswirkt, die durch die Homogenisierung optimiert wird. Zu erwähnen ist hierbei noch, daß die Anpassung des Ausdehnungskoeffizienten durch die Dimetallsilizium-Legierung insofern noch begünstigt ist, als die drei Komponenten eine große Variationsmöglichkeit im Mischungsverhältnis bieten.
An Hand eines Ausführungsbeispiels, das in der Figur dargestellt ist, wird die Erfindung näher erläutert.
Die Figur zeigt einen Thermogenerator, bei dem p- und η-leitende Thermoelementschenkel 1 an ihrer kalten und warmen Lötstelle mittels Kontaktbrükken 3 elektrisch so leitend verbunden sind, daß sie elektrisch in Reihe und thermisch parallel und jeweils ihre kalten oder warmen Lötstellen in einer Ebene, nämlich der Kalt- oder Warmseite des Thermogenerators liegen. Auf die Kontaktbrücken der KaIt- und Warmseite des Thermogenerators ist eine thermisch leitende und elektrisch isolierende Materialschicht 5 aufgebracht, die z. B. aus Aluminiumoxyd oder Berylliumoxyd hergestellt sein kann. Auf die Warmseite des Thermogenerators ist ein Wärmeaustauscher 7 aufgesetzt, der mit einem Durchfluß 8 für ein heißes, flüssiges Wärmeaustauschmedium versehen ist. Auf die Kaltseite des Thermogenerators ist ein Wärmeaustauscher 6 für ein gasförmiges Wärmeaustauschmedium aufgesetzt.
Die Thermoelementschenkel 1 können aus einer Germanium-Silizium-Legierung, aus Eisendisilizid oder aus einer Mangan-Silizium-Legierung hergestellt sein. Bei einer Germanium-Silizium-Legierung ist beispielsweise der p-leitende Thermoelementschenkel durch eine Dotierung mit Bor, Gallium oder Indium und . der η-leitende Thermoelementschenkel durch eine Dotierung mit Phosphor, Arsen oder Antimon hergestellt. Die Thermoelementschenkel 1 sind mit Kontaktstücken 2 und 3 aus erfindungsgemäß verwandten Legierungen kontaktiert, deren Mischungsverhältnis an den Ausdehnungskoeffizienten des betreffenden Halbleitermaterials angepaßt ist.
Dabei ist das Kontaktstück 3 als Kontaktbrücke zur elektrischen Verbindung zweier Thermoelementschenkel 1 ausgebildet, über die Kontaktstücke 2 wird aus dem Thermogenerator die elektrische Energie entnommen. Das Material der Kontaktstücke bzw. -brücken ist nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt, dabei können die Dimetall-Legierung und dieJDmetallsilmum^Legierung im HF-Feld und/oder im Elektronenstrahlofen erschmolzen sein.
Die Thermoelementschenkel 1 können auf die Kontaktstücke 2 oder 3 aufgeschmolzen sein. Vorteilhaft ist es jedoch, eine Lotschicht 4 zur Verbindung des Thermoelementschenkels mit den Kontaktstücken 2 bzw. 3 vorzusehen. Besonders vorteilhaft ist es hierbei, ein Lot zu verwenden, bei dem Palladium und Silizium Legierungskomponenten sind, und das eine dritte Legierungskomponento enthält, die als Metall Me1 oder Me in der Legierung des Kontaktbrückenmaterials enthalten ist. Mit diesem Lot erhält man eine Kontaktzone 4, in der das Kontaktbrückenmaterial kontinuierlich in das HalbleitermateriaL der Thermoelementschenkel 1 übergeführt ist.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (46)

Patentansprüche:
1. Verwendung einer Legierung der allgemeinen Zusammensetzung
wobei Me1 und Me" zwei verschiedene Metalle der Gruppen IVa, Va, Via, VIIa und VIII des Periodischen Systems mit Ausnahme des Technetiums, y = 0,5 bis 0,9 und χ = 0,05 bis 0,35 ist, als elekfrisch neutrale Kontaktstücke für thermoelektrische Anordnungen aus Halbleiterlegierungen zwischen Mangan und Silizium, Eisen und Silizium oder Germanium und Silizium.
2. Verwendung einer Legierung der Zusammen-Setzung nach Anspruch 1, die für einen .Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
io
15
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
3. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
4. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
30
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
5. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach. Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
6. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
(Ta0-6Ni0-4)O11Si019
hat, fur den Zweck nach Anspruch 1.
7. Verwendung einer Legierung der Zusammen- 45' setzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
(Cr0-6Mo0i4)0i35Sioi65
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
8. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
55 hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
9. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
60
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
10. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
(W0-51Ni0-49)O-1Si0-9 '
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
11. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
(Fe0:63Mo0i37)0il Si0-9 ...
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
12. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
(Co0-54W046)O1Si09
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
13. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
(Ni0-72Re0 ^)01Si09
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
14. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
15. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
(Rh0-65Mo0-35)O-18Si0-82
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
16. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
(Pd0-58Mo0-42)O-1Si0-9
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
17. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
18. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
2TIo14Is)O1IiS1O .89
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
19. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
(Mo0-67Zr0 33)o ^5Si065
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
20. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
21. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
(Cr0-9V0 J0-25Si0 75
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
22. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
23. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
24. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
(CoO,54M°0,46)o,lSi0.9
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
25. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
15
20
"t),9
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
26. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
(V0,85MnO,ls)o,lSiO,9
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
27. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
V* ®0,6 ^O,4/0,1^^0,9
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
28. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
29. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
0,87
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
30. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
31. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
55
60
1,82
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
32. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
33. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
)012Si0
88
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
34. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
0,65
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
35. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
36. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen Germanium-Silizium-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
37. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen FeSi2-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
38. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen FeSi2-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
39. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen FeSi2-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
40. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen MnSi-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
(Pd0158Mo0142)O132Si0168
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
41. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen MnSi-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
(Co054W046)0i32Si0i68
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
42. Verwendung einer Legierung der Zusammensetzung nach Anspruch 1, die für einen MnSi-Halbleiterkörper die Zusammensetzung
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
hat, für den Zweck nach Anspruch 1.
43. Verfahren zur Herstellung eines Kontaktstückes aus Legierungen der Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 1 bis 42, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst die Metalle Me1 und Me" zusammengeschmolzen werden und .daß anschließend diese Zweistofflegierpng und das Silizium wenigstens einmal erschmolzen werden.
44. Herstellungsverfahren nach Anspruch 43, dadurch gekennzeichnet, daß das Mischungsverhältnis der Metalle Me1 und Me" so gewählt wird, daß es einem eutektischen Punkt des Schmelzdiagramms entspricht.
45. Herstellungsverfahren nach Anspruch 43, dadurch gekennzeichnet, daß von der erstarrten
. Schmelze Kontaktstücke der geforderten Form mechanisch abgetrennt werden.
46. Herstellungsverfahren nach Anspruch 43, dadurch gekennzeichnet, daß die erstarrte Schmelze zerkleinert und Kontaktstücke der geforderten Form in einem Pulverpreß- und Sinterverfahren gewonnen werden.
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