DE1547849C - Lichtempfindliches Gemisch - Google Patents

Description

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Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Gemisch kann, daß sie einige Minuten in ein Lösungsmittel ein-

aus einem äthylenisch ungesättigte Gruppen aufweisen- getaucht und abgespült wird. _; -

den Vorpolymerisat und einem Benzoinäther, einem Eine zusätzliche Aufgabe der Erfindung war die Ent-

p,p'-disubstituierteri Benzophencn, einem ein- oder wicklung vorsensibilisierter lithographischer Druck-'

mehrkernigen Chinon, einem aromatischen Diketon, 5 platten mit den erfindungsgemäßen lichtempfindlichen

einer substituierten Arylmethylendioxyverbindung, ei- Gemischen. ; j;. ... - : .

nem substituierten /S-Benzo- oder -Naphthothiazolin, .Der Gegenstand der Erfindung geht aus von einem

einem substituierten /J-Benzo- oder -Naphthoselen- lichtempfindlichen Gemisch aus einem äthylenisch un-

/azolin, einem Anthron, ^!Benzanthron oder Azabenz-i gesättigte Gruppen aufweisenden Vorpolymerisat und .> anthron als Photopolymerisation sinitiator zur Herste!-.ίο einem Benzoinäther, einem ρ,ρ'-disubstituiertenNenzo-

lung von photographischen Relief bildern, die insbe- phenon, einem ein- oder mehrkernigen Chinon, einem

sondere Jn den graphischen Gewerten verwendet aromatischen Diketon, einem substituierten/3-Benzo-

werden, beispielsweise für-Druckplatten, gedruckte ■ oder-Naphthothiazolin, einer substituierten Arylme-

Schaltungen, Namensschilder und chemische Fräs- thylendioxyverbindung, einem substituierten /?-Benzo-

verfahren. ^; j·—'' λ . ν i5 oder Naphthoselenazolin, einem Anthron, Benzan-

Es ist in der photcmechanischen Reproduktions- thron oder Azabenzanthron als Photopolymerisationstechnik bekannt, verschiedene Materialien, wie bei- initiator, und ist dadurch gekennzeichnet, daß das spielsweise Bichrcmat enthaltenden Schellack, Bichro- lichtempfindliche Gemisch ein durch Lösungspolymerimat enthaltenden Polyvinylalkohol, Polyvinylalkohol- sation bis zur Gelbildung vorpolymerisiertes, in fester zimtsäureester und_ ähnliche ungesättigte Polymerisate 20 Form ausgefälltes und in organischen Lösungsmitteln zur Bildung vcn Ätzbildern oder Maskenbildern auf lesliches Vorpolymerisat oder Vor-Copolymerisat eines verschiedenen Substraten eder Trägern, wie beispiels- Allylesters einer ungesättigten einbasischen Säure oder weise Kupfer, mit Kupfer überzogene Plastikfolien, eines Allylesters mit zwei oder mehr Allylgruppen einer Aluminium, Stahl, Messing, Bronze und anderen Me- aliphatischen oder aromatischen Dicarbonsäure oder tallen sowie auch Glas und Kunststoffen, zu ver- 35 Vor-Copolymerisate der genannten Allylester mit andewenden. ren äthylenisch ungesättigten Monomeren enthält,

Bichrcmat enthaltender Schellack, Bichrcmat ent- dessen bzw. deren äthylenisch ungesättigte Gruppen

haltender Polyvinylalkohol und Bichrcmat enthalten- zu 25 bis 40% vorpolymerisiert sind,

des Polyvinylbutyral besitzen jedoch begrenzte Halt- Zur Herstellung der erfindungsgemäßen lichtempfind-

barkeitenjSodaßderBichrcmat-Sensibilisatorineinem 30 liehen Gemische wird ein Vorpolymerisat eines unge-

getrennten Behälter gelagert und mit dem filmbildenden sättigten Carbonsäureesters mit wenigstens zwei Koh-

Polymerisat unmittelbar vor der Verwendung vermischt lenstoff-Kohlenstoff-Doppelbindungen, von denen je-

. werden muß. weils eine durch eine Allylestergruppe gestellt wird, zu-

Polyvirylalkoholzimtsäureester und ähnliche unge- sammen mit einem Photopolymerisationsinitiator in

sättigte Esterpolynr.erisate erleiden, wenn sie einem ehe- 35 einem geeigneten Lösungsmittel gelöst. Zu derartigen

misch aktiven Licht ausgesetzt werden, eine Schrump- Vorpolymerisaten sind Vcrpolymerisate von AlIyI-

fung, so daß sie für Anwendungszwecke, bei denen es estern ungesättigter einbasischer Carbonsäuren oder

auf feine Details ankommt, nur eine begrenzte Verwen- Vorpolymerisate von Allylestern aliphatischer oder aro-

dungsmcglichkeit besitzen. matischer Carbonsäuren mit zwei oder mehr Allyl-

Es besteht daher ein Bedarf an lichtempfindlichen Ge- 40 gruppen zu zählen. ...;..., , ΰ

mischen, die durch die gute Wiedergabe von Details, ' Als Photopolymerisationsinitiator muß ein:solches

bessere chemische Beständigkeit, lange Lagerungsfähig- .Mittel verwendet werden, welches aktinische Strah-

keit und Reproduzierbarkeit von Charge zu Charge Jung absorbiert und danach in freie Radikale dissozi-

gekennzeichnet sind und sich ferner dadurch auszeich- jert, die die Polymerisation des Vorpolymerisats in

nen, daß sie sich in einer einzigen Verpackung abpacken 45 den unlöslichen und unschmelzbaren Zustand initiie-

lasseri und nach dem Ätzen leicht entfernbar sind. Es ren. Als geeignete Photopolymerisationsinitiatoren

besteht ferner ein Bedarf an lichtempfindlichen Gemi- haben sich folgende Verbindungen erwiesen^ Acyloin-

r.= sehen, -deren Schichten nicht in nennenswerter Weise .. äther, wie beispielsweise der Methyl- und Athyläther

" schrumpfen, wenn sie einer chemisch aktiven Strahlung von Benzoin, Tetraalkyldiaminophenylketohe, wie

.ausgesetzt werden, und die bei Bedarf wiederholt ge- 50 beispielsweise 4,4'-Bis-(dimethylämino)-benzopnenon

■waschen und gefitzt werden, können, ohne daß dabei ; "und 4,4'-Bis-(diäthylamino)-benzophenon, sowie Bis-

.., Bilddetaiis in nachteiliger Weise verändert werden oder 1 - anthrachinonylaminoanthrachinon, wie beispiels-

V eine Unterschneidung des Reliefbijdes erfolgt. ^?i^se l^-Bis-il-anthrachinonylami^-anthrachinon.

: Aufgabe der Erfindung ist daher, ein 'Iichtempfin'idli-' *''_'[..,-.'und l,5-Bis-(l-anthrachinonylämino)-änthrachinon,

ches Gemisch anzugeben, das in einem einzigen Behäl- 55 oder , Kombinationen dieser Verbindungen. Ändere

ter zusammen njit dem erforderlichen Photoinitiator !geeignete Photopolymerisationsinitiatoren sind mehr-

k verpackt werden! kann und in dieser Form eine lange jcemige Chinone, die keine Hydroxyl-, Sulfo-, Carb-

'■' Lagerungsfähigkeit besitzt; das vor der Verwendung bxyl-oder Aminogruppen besitzen, wie beispielsweise

weder vermischt oder erhitzt noch chemisch behandelt 1,2-Benzanthrachinon und 2-Methylanthrachinon, ein-

\ Werden muß und das es ermöglicht,'Metalle und andere 60 kernige Chinone, die keine Hydroxyl-, Sulfo-, Carb-

Schichtträger mit einer beständigen lichtempfindlichen oxyl- oder Aminogruppen besitzen, wie beispielsweise

Schicht zu versehen. 2,5-Diphenyl-p-chinon, vicinale Ketaldonylverbindun-

Diese Schicht sollte bei Bestrahlung vernetzbar sein, gen, wie beispielsweise Benzil, sowie Arylmethyleneine gute Wärmebeständigkeit, ein geringes Feuchtig- dioxyverbindungen, die wenigstens eine Aldehyd- oder keitsabsorptionsvermögen und eine gute Widerstands- 65 Ketogruppe enthalten, wobei das Kohlenstoffatom

fähigkeit gegen Säuren und Alkalien besitzen. der Aldehyd- oder ketogruppe an dem Benzolring

Das lichtempfindliche Gemisch sollte eine Schicht sitzt. Die Arylmethylendioxyverbindungen müssen frei liefern, die in einfacher Weise dadurch entfernt werden von Sulfo-, Carboxyl- oder Aminogruppen sein; er-

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wähnt seien beispielsweise Piperonal, Piperpin, 3,4-Methylendioxychalkon und 5,6 - Methylendioxyhydrindon-1. Folgende Verbindungen haben sich als geeig- / · net erwiesen, sofern sie keine Hydroxyl-, SuIfο-, Carboxyl- oder Aminogruppen enthalten: substituierte /5-Naphthoselenazoline, wie beispielsweise 1-Methyl-2-acetylmethylen-^-naphthoselenazolin, 'substituierte /J-Benzothiazoline, wie beispielsweise 3-Methyi-2-benzoylmethylenbenzothiazolin, substituierte /5-Naphtho-"' thiazoline, wie beispielsweise l-Methyl-2-benzoylmethylen-ß-naphthothiazolin, Anthrone, wie beispielsweise Anthron, -. Eenzanthrcn, wie beispielsweise Benz-2-äthylbenzanthron und 7-H-Benz(de)-anthracen-7-on, sowie Azabenzanthrone, wie beispielsweise 2-Keto-3-rnethyl-l,3-diazabenzanthrone.

Die Konzentration des Photopolymerisationsinitiators in dem lichtempfindlichen Gemisch hängt von dem vorliegenden Vorpolymerisat ab. Im Falle von Diallylisophthalat als Vorpolymerisat werden ungefähr 1 bis 20%, vorzugsweise 1,5%, bezogen auf das Gewicht des Vorpolymerisats, ■l,4-Bis-(l-anthrachinonylamino)-anthrachinon verwendet. Einige Photopolymerisationsinitiatoren, wie beispielsweise p,p'-substituierte Benzophenone, z. B. 4,4'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon, verursachen in einer Menge von weniger als 1,5% eine erhebliche Steigerung der Empfindlichkeit gegenüber aktinischem Licht.

Die Zugabe des Photopolymerisationsinitiators zu den AHylvorpolymerisaten steigert deren Lichtempfindlichkeit um das 100- bis 200fache.

Beispiele für geeignete Vorpolymerisate sind:

a) Allylester ungesättigter einbasischer Säuren, die den allgemeinen Formeln

C_nH_2n-I COOR oder C_nH_2n-J-JiXj, — COOR

entsprechen, wie beispielsweise Allylacrylat, Allylchloracrylat, Allylmethacrylät, Allylcrotonat, Zimtsäureallylester, Cinnamalessigsäureallylester, : Brenzschleimsäureallylester und AHyIf urf urylacry- ■',}■'■] -Vv; lat. Es ist darauf hinzuweisen, daß in den angege- *° ']>:■ benen Formeln jeweils R eine Allylgruppe, η eine ganze Zahl von 1 bis einschließlich 17,7 1 oder 2 und X ein Hai ogenatopV eine Hydroxyl-,* Phenyl-,.;..... substituierte Phenyl- oder Furfurylgruppe oder eine Alkyl- oder Alkoxygruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen bedeutet.

b) Copolymerisate von Allylestern ungesättigter ein-¹ basischer Säuren, wie beispielsweise Allylmethacrylät mit Butadien, Allylmethacrylät mit Methyl-

■;\>\:;;;'methac^lat/.'AHylmethacrylat.^,'ihit Styrol, Allyl- _; ;i methacrylate mit Vinylidenchlorid, Ällylcrptönat · : ·'- rrnit Methylmethacrylat, Allyicrptoriat mit Styrol/ , ' Ällyicrotohät mit Vinylchlörid,' Allylcrotonat mit ^Λ

Vinylacetat^ AHylcrotohät mit Vinylidenchlorid, ; Allylcrotonat: {mit; Diäthyleriglykolmaleät/ Zimt- ⁵^ / Säureallylester■ ^mitjyinylidejichloricl, Zimtsäure- : ^allylester mit Styirpj, Zirntsaureallylestermit idem -■■ :" Ester aus Berns.teinsäur.e_;und Zimtalkohol, Brenz^ :■. ; /; schleimsäureällylester mit Styjrol.und Brenzschieiiri- _g säüreallylester mit Viriylidenchiorid;;: V y ^>i _r>i

c) Allylester aliphatischer Carbonsäuren mit zwei oder mehr Allylgfuppen, die einer der nachstehend angegebenen Formeln !entsprechen:.! a 1- oder

ROOCOR,

no·/

,

C_nH₂„-₂(COOR)₂,

' wie beispielsweise Diallyloxalat, Diallylmalonat, Diallylsuccinat, Diallylsebacat, Diallylmaleat, Diallylfumarat, Diailyltitaconat, Diallyltartrat, Di-

• allylcarbonat, Diallyladipat, Triallylcitrat, Triallylcarballylat, biallyltmaleat und Diallylcitra-

d) Copolymerisate von Allylestern aliphatischer Carbonsäuren mit zwei oder mehr Allylgruppen, wie beispielsweise Diallyloxalat mit Vinylidenchlorid, Diallyloxalat mit Styrol, Diallylmalonat mit Vinylidenchlorid, Diallylsuccinat mit Vinylacetat, Diallylsuccinat mit Vinylidenchlorid, Diallylsuccinat mit Polyvinylacetat, Diallyladipat mit Vinylidenchlorid, Diallylsebacat mit Vinylidenchlorid, Diallylmaleat mit Methylmethacrylat, Diallylmaleat mit Styrol, Diallylmaleat mit Vinyli-..· denchlorid und Diallylcarbonat mit Methylmethacrylat.

e) Allylester aromatischer Carbonsäuren mit zwei - oder mehr Allylgruppen, wobei der aromatische Ring der Säure ein einfacher Ring sein kann, beispielsweise Phenyl oder Cyanurat, oder aus einem kondensierten Ring bestehen kann, wie beispielsweise Naphthyl oder Phenanthryl; Beispiele für zur Herstellung der gewünschten Vorpolymerisate geeignete Ester sind: Diallylisophthalat, Diallylterephthalat, Triallylcyanurat, Mellithsäuretriallylester, Pyromellithsäuretetraallylester od. dgl.

f) Copolymerisate aromatischer Carbonsäuren, die zwei Allylgruppen besitzen, mit anderen ungesättigten Verbindungen, wie sie unter b) und d) bei der Aufzählung der Allylester aufgeführt wurden.

Als »Vorpolymerisat« wird das lösliche und schmelzbare Produkt der'ersten Polymerisationsstufe bezeichnet, welches bei weiteren Vernetzungsschritten ein unlösliches und unschmelzbares Endpolmerisat ergibt. Bei der Herstellung derartiger Vorpolymerisate werden die monomeren Materialien auf herkömmliche Weise, z. B. durch Erhitzen in einem Lösungsmittel in Gegenwart eines Peroxydkatalysatprs in dem Monomeren polymerisiert unter Gewinnung einer Lösung eines löslichen ..Polymerisats, dessen äthylenisch ungesättigte Gruppen zu 25 bis.40% vorpolymerisiert sind. Die Vorpolymerisation wird bis zu einem Punkt kurz vor der Gelbildung, die dann auftritt, wenn das Molekulargewicht des Pplymerisats den Punkt erreicht, bei welchem es in dem Monomeren unlöslich ist, durchgeführt. Die Pölymerisatlösungeh werden dann in eine Vorpolymerisätfraktion; und das Monomere aufgetrennt. Dies kann durch Behandlung mit einem Lösungsmittel erfolgen, weiches das Monomere löst und das Polymerisat ausfällt, oder durch Anwendung am derer Maßnahmen, durch die; ein iösliches Vorpplymerisat gewonnen wird, welches im wesentlichen frei :vpn Monomeren ist..;fe--P·'&■ ^Kv-^r *P¥-Vi-^:}'''^:-h'+ γ •^r3:,'¥in ■ typisches Verfahren zur Abtrennung derartiger Polymerisate wird inder USA.-Fatintschrift 3 030 341 beschrieben. Diese Vorpolymeris£te sind feste Stoffe, die wenig oder keine Monomeren enthalten. - Die Polymerisation sollte vorzugsweise bei einer Jodzahl von 56 bis 64 durch Abkühlung und Zugabe eines Inhibitors abgestoppt werden. Das Vorpolymerisat, wird dann aus dem Lösungsmittel abgetrennt, gewaschen und getrocknet. Dabei wird ein weißes Pulver

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erhalten, welches bei der Lösung in einem geeigneten . zwei oder mehr AHylgruppin neigen an sich dazu, Lösungsmittel, wie beispielsweise einem Keton, eine . sich bei einer mehrmonatigenLagerungbei Umgebungswässerhelle Lösung ergibt. temperatur in getrocknetem Zustand weiter zuver-Zu guten Lösungsmitteln für die Vorpolymerisate netzen. Diese weitere Vernetzung ändert die Löslichsind folgende Verbindungen zu zählen: . ■ 5 keitseigenschaften des Vorpoly/nerisats, indem die . -, .,..-, , , . Vorpolymerisatviskosität in einem Lösungsmittel, wie

1. Ester, wie beispielsweise Isobutylacetat, Amylace- beispielsweise Methylisoamylketon, bis zu dem Untat und Athylacetat. löslichkeitspünkt erhöht wird. Beispielsweise ist ein

2. Ketone, wie beispielsweise Acetophenon, Diaceton- frisch hergestelltes Vprpalymerisat aus Diällylmaionat alkohol, Diisobutylketon, Methylisobutylketon ₁₀ mit einer Jodzahl von 56 bis 64-in Xylol löslich. Sei und Isophoron. der Lagerung in trockenem Zustand bei Umgebungs-

3. Glykoläther, wie beispielsweise Äthylenglykol- temperatur in Abwesenheit von Luft tritt bis zu einer methyläther, DiäthylenglykolmethylätherundPro- Zeitspanne von 6 Monaten keine msrkli-he Änderung pylenglykolmethyläther. der Löslichkeit auf. Wird das Vorpolymerisat jedoch

4. Chlorierte Lösungsmittel, wie beispielsweise »5 der Luft ausgesetzt, wobei die Temperatur oberhalb . 1,1,1-Trichloräthan, Trichlorethylen und Methy- 29⁰C gehalten wird, dann erreicht das Vorpolymerisat

lcnchlorid. ■■■' ^ den Punkt, an dem es weder in Methylisoamylketon

: ^r V:-; ^ ^r V: ^:; noch in einem stärkeren Lösungsmittel, wie beispiels-

Durch die Erfindung wird ein lichtempfindliches weise Methyläthylketon, löslich ist.
Gemisch erreicht, das die nachfolgend beschriebenen 20 Wird dagegen das frisch hergestellte Vorpolymerisat vorteilhaften Eigenschaften aufweist: zuerst in Methylisoamylketon, Xylol oder einem ande-

Das beschriebene Vorpolymerisat hat die seltene ren geeigneten Lösungsmittel zusammen mit dem Pho-Eigenschaft, daß seine Vorpolymerisation zu einem topolymsrisationsinitiator gelöst, dann wird eine Verbestimmten Zeitpunkt abgestoppt werden kann; außer- änderung des Vorpolymerisats aufgehalten, was eine dem kann es in fester Form ausgefällt werden und ge- 25 sehr lange Lagerungsfähigkeit zur Folge hat.
wünschtenfalls anschließend unter Einsatz von Per- Die Erfindung wird an Hand der nachstehenden

oxyden und Anwendung von Wärme und Druck oder Beispiele im Zusammenhang mit den Zeichnungen Bestrahlung in einen unschmelzbaren festen Stoff um- näher erläutert:
gewandelt werden. . F i g. 1 gibt in Originalgröße einen metallbeschich-

Das erhaltene Vorpolymerisat besitzt filmbildende 30 teten Schichtträger wieder;

Eigenschaften, eine ausgezeichnete chemische Wider- F i g. 2 bis 6 sind Querschnitte, aus denen die auf-

standsfähigkeit sowohl gegen Säuren als auch gegen einanderfolgenden Stufen bei der Verwendung der erAlkalien sowie eine ausgezeichnete Feuchtigkeitsbe- findungsgemaßen lichtempfindlichen Gemische zu erständigkeit, ferner zeigt es bei der weiteren Lichtver- sehen sind,
netzung eine sehr geringe Schrumpfung. Daher kann 35 BeisDiele

es als Ätzschutzschicht bei der Herstellung gedruckter _{f ür eine} Verwendung der lichtempfindlichen Gemische Schaltungen sowie:von Halbleiter lementen verwen- in Ätzschutzschichten

det werden; außerdem eignet es sich zur chemischen .

Mikrofräsung sowie zur Herstellung vprsensibilisier- , Beispiel!

ter Druckplatten. Die Lösung aus dem Allylvorpoly- 40 ■: ; ; · — \

merisat und einem Lösungsmittel ergibt nach der Ein lichtempfindliches Gemisch, das zur Herstel-

Trocknung einen nichtklebrigen Film, der während lung von Reliefbildern auf Kupferplatten öder zur der Bestrahlung nicht an der Kopiervorlage anklebt. Herstellung von Druckplatten geeignet ist, wird wie

Durch Vorschrumpfen des Vorpolymerisats vor folgt hergestellt: ν .

der Verwendung ist es möglich, bei gedruckten^chal- 45 _f Allylmethacrylatvörpolymerisat :.... 0. .1,5 g .

timgen oder bei chemischen Frasverfähren Details Methylisobutylketon ....;........... ..2,5g -

großerimaßig genau wiederzugeben, da wahrend der rvHr™n1_Waret_nt - '■-,- '■■■■-' 9 ^

weiteren Vernetzung des Allylestervorpolymensats ßenzil : ^ 0 05e '

durch bndmäßige Bestrahlung eine minimale Schrump- ₄,4^Bis-(dimethVlainhio)lbenzophenon '".'" o!oi g

fung auftritt. Dies ist deshalb der Fall, da die Allyl- 50 '\ . ■

estervorpolymerisate vorher bis zu dem Punkt verar- . Die Materialien werden unter leichtem Wärmeeinbeitet wurden, bei welchem praktisch die ganze An- Muß bis zur Auflösung vermischt. Die Lösung wird derung des spezifischen Gewichts stattgefunden hat, dann filtriert und ist anschließend zur Verwendung beso daß sichergestellt ist, daß bei der bildmäßigen Be- reit. Zur Entwicklung der mit diesem lichtempfindstrahlung nur eine sehr geringe Schrumpfung auftritt. 55 liehen Gemisch herstellbaren Relief bilder ist es vor-Dies:bedeutet, daß bei ins Detail gehenden Feinarbei- zuziehen, Methylcellosolyeacetat als Entwickler zu ten die Schrumpfung in dem photographischen Nega- verwenden, obwohl Ketone, wie _: beispielsweise Metiv nicht kompensiert werden muß. /₅ : ^ - thyläthylketon, oder chlorierte Lösungsmittel, wie

Ein weiterer Vorteil liegt in der Tatsache, daß das beispielsweiseTrichlqräthylen, ebenfalls eingesetzt

Vorpolymerisat zusammen mit den Photopolymerisa- 60 werden können. . , ? V

tionsinitiatoren lange vor der Bestrahlung aufgelöst ,Beispiel 2

werden kann und dennoch eine ausgezeichnete Stabi-

lität und eine lange Lagerungsfähigkeit besitzt. Das 2,4 g eines Vorpolymerisats aus einem Copolymeri-

erfindungsgemäße lichtempfindliche Gemisch zeigt in sat von Allylmethacrylat mit Styrol wird in einer Lösung eine sehr gute Lagerfähigkeit. 65 Mischung aus 5,0 g Methylisobutylketon und 5,0 g

Die Allyiestervorpolymerisate ungesättigter einbasi- Cellosolveacetat unter leichtem Erwärmen und Rühscher Säuren und die Allylestervorpolymerisate ali- ren gelöst. Anschließend werden 0,48 g Benzoinmephatischer und aromatischer Polycarbonsäuren mit thyläther direkt der Lösung zugesetzt und bis zur Auf-

lösung mit dieser vermischt. Nach dem Filtrieren ist das Gemisch fertig zur Anwendung.

: B ei s pi el 3

1,5 g Diallylsuccinat-Vorpolymerisat 5,0 g Methylisoamylketon
'- 0,04g Piperonal ; "

0,02 g 4.4'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon

.■'■■'".. Bei spiel'4

1,5 g Diallylmaleat-Vorpolymerisat 5,0 g Methylisoamylketon · . 0,2 g 4,4'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon

. Bei spiel 5

1,5 g Vorpolymerisat eines Copolymerisats aus

Diallylmaleat mit Methylmethacrylat 5,0 g Cellosolveacetat .-·'.■.

0,02 g 4,4'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon

B ei spie 1 6

1,5 g Vorpolymerisat aus einem Copolymerisat aus Bernsteinsäureallylester mit Styrol 2,0 g Methyiisobutylketon ■

2,OgXyIoI
1,0 g Cellosolveacetat
0,05 g 2-Keto-3-methyl-l,3-diazabenzanthron

Beispiel? '

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat 2,5 g Methyiisobutylketon '

2,5 g Cellosolveacetat
0,24 g Benzoinmethyläther

Die Materialien werden unter leichtem Wärmeeinfluß so lange vermischt, bis alles gelöst ist. Die Lösung wird dann filtriert, worauf sie für eine Verwendung bereit ist. Bei diesen lichtempfindlichen Gemischen wird vorzugsweise Xylol als Entwickler verwendet, obwohl Ketone, wie beispielsweise Methyläthylketon, oder chlorierte Lösungsmittel, wie beispielsweise Trichloräthylen, ebenfalls eingesetzt werden können.

B ei s pi el 8 , :

2,4 g eines Vorpolymerisäts aus Diallylisophthalat werden in einer Mischung aus 5,0 g Methyiisobutylketon und 5,0 g Cellosolveacetat unter leichtem Erwärmen und Rühren gelöst. Dann werden 0,10 g Benzil und 0,01 g ρ,ρ'-Dimethylaminobenzophenon direkt zu der Lösung gegeben und bis zur Auflösung mit dieser vermischt. Nach der Filtrierung ist das Gemisch zur Anwendung bereit. ■■■■■:,-;·: ■ -

Beispiel 9 . ' ^; ^:

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat 5,0 g Methyiisobutylketon . '

0,01 g 4,4'-Bis-(dim'ethylamino)-benzophenon

Bei spiel 10 '

1,5 g Trimellithsäuretriallylester-Vorpolymerisat 5,0 g Cellosolveacetat
0,01 g 4,4'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon

B ei s ρ i e 1 11

1,5 g Pyromellithsäuretetraallylcster-Vorpolymerisat
2,5 g Xylol
2,5 g Isopropylacetat
0,01 g 4,4'-Bis-ldimcthylumino)-benzophenon

Die Arylallyl-Vorpolymerisate sind in den lichtempfindlichen Gemischen austauschbar und können durch dieselben Initiatoren sensibilisiert werden. Bei den nachstehenden Beispielen werden verschiedene Photopolymerisationsinitiatoren zusammen mit Diallylisophthalat verwendet.

. B ei s ρ i el 12

■■··: 1,5 g Diallylisophthalat-Vorpqlymerisat
ίο 2,5 g Methylcellosolveacetat
■ 2,5 g Toluol

0,1g Benzil .

B ei spi el 13

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat
2,5 g Methylcellosolveacetat
2,5g Toluol
0,25 g Benzoinmethyläther

B e i s ρ i e 1 14

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat
5,0 g Methyiisobutylketon
0,5 g 1,2-Benzanthrachinon

Beispiel 15

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat ^;

2,0 g Cellosolveacetat

3,0 g Diacetonalkohol

0,2 g 2-Methylanthrachinon

B ei s pi e 1 16

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat
2,0 g Methyiisobutylketon
2,0 g Cellosolveacetat
l,0gToluol :■'., ;

0,15g Piperonal

: Beispiel 17

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpplymerisat
.". 2,0 g Methyiisobutylketon : ' , /

ν 2,0g Xylol ..·■;-. . /:.,;.·■■-.■:..■.,. .·:·:\ ,■■,-■■:·
1,0 g Cellosolveacetat : '

0,05 g 2-Keto-3-methyl-l,3-diazabenzanthron

.- ; Beispiel 18

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat
2,0 g Methyiisobutylketon
2,OgXyIoI-.
1,0 g Cellosolveacetat
0,05 g i-Methyl-2-benzoylmethylen-.'.·■■-··.-.: "r/?-naphthothiazolin

Die Herstellung und Verwendung eines Aufzeichnungsmaterials mit einer photopolymerisierbaren

Schicht besteht aus folgenden Stufen: " ~;

'"'''. Das lichtempfindliche Gemisch wird "auf den Schichtträger durch Eintauchen,' Aufsprühen, "Überziehen mittels Walzen oder mittels anderer herkömmlicher Vorrichtungen aufgebracht. Die nasse Beschich- tung wird gewöhnlich zur Erzielung einer gleichmaßigen Schicht ablaufen gelassen oder geschleudert. Nach dem Trocknen bei Zimmertemperatur oder leicht erhöhter Temperatur bei gedämpftem Licht wird das Aufzeichnungsmaterial in Kontakt mit einem photographischen Negativ gebracht und belichtet. Geeignete Lichtquellen sind Quecksilberdampflampen oder Kohleiiclitbogen mit hoher Intensität. Die Bestrahlungs/eilen schwanken von dem Bruchteil

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einer Minute bis zu einigen Minuten bei einer Ent- ein photographisches Negativ einer elektrischen Schalfernung von 60 bzw. 90 cm. Die Belichtung photo- rung sein kann, auf die lichtempfindliche Schicht 14 polymerisiert die getrocknete Schicht und macht sie aufgelegt ist. Die Kombination wird dann in den Vadamit in bestimmten organischen Lösungsmitteln kuumrahmen eines Kopiergerätes.eingelegt und ein / bildmäßig unlöslich. Das bestrahlte Aufzeichnungs- 5 bis drei Minuten lang mit einer stark intensiven Kohlematerial wird dann durch weniger als eine Minute lichtbogenbestrahlung aus einer Entfernung von 60 cm dauerndes Eintauchen bei Zimmertemperatur in ein bestrahlt, so wie dies durch die Pfeile 21 veranschauorganisches Lösungsmittel, wie beispielsweise Xylol licht wird. Nach der Bestrahlung wird das Aufzeich- oder 1,1,1-Trichloräthan, entwickelt. Beim Eintau- nungsmaterial entfernt und die Schicht durch 30 Se-.chen löst das organische Lösungsmittel die nicht be- ίο künden dauernde vertikale Einbringung in einen Tank lichteten Stellen der Schicht, während die belichteten mit Methyläthylkr.ton entwickelt. Das Aufzeichnungs-Stellen unversehrt auf dem Schichtträger zurückblei- material wird dann herausgenommen und 30Sekunben. Das transparente Bild des photographischen Ne- den lang in einen zweiten Tank eingetaucht, der eine gativs wird auf diese Weise exakt als Maschenbild Farbstoff lösung in einem organischen Lösungsmittel auf dem Schichtträger reproduziert. 15 enthält, um das, normalerweise transparente Maskeri-

Nach der Entwicklung kann das Maskenbild, wel- bild sichtbar zu machen. ■

dies normalerweise transparent und farblos ist und Die. Fig.4 zeigt die Tafel nach der Spülung in

daher schwierig zu erkennen ist, durch weniger als fließendem Wasser zur Entfernung von anhaftender

1 Minute andauerndes Eintauchen in ein Färbebad, Entwicklerlösung und überschüssigem Farbstoff so-

welches einen synthetischen Farbstoff in einem ver- ao wie nach der abschließenden Trocknung durch leichte

träglichen organischen Lösungsmittel enthält, gefärbt Erwärmung.

werden. Schließlich wird unter fließendem Wasser ge- Das Aufzeichnungsmaterial ist in diesem Zustand

waschen und getrocknet. zum Ätzen bereit; auf seiner Kupferoberfläche ist das

Sollen die durch das Maskenbild nicht geschützten Bild der elektrischen Schaltung, wejches aus einer Ätz-Metallgrundflächen geätzt werden, dann wird in ein ge- ,35 schutzschicht aus trockenen, harten und polymerisiereignetes saures oder alkalisches Medium eingetaucht. ten Schichtteilen besteht. Die nicht durch das Masken-EisenpiII)-chlorid und Animoniumpersulfat sind übli- bild bedeckte Oberfläche besteht aus blankem Kupfer, ehe Ätzmittel für Kupfer; Aluminium wird sowohl Die F i g. 5 zeigt das Material nach der Entfernung mittels Natriumhydroxyd als auch in verdünnter Salz- des blanken Kupfers durch ein geeignetes saures Ätzsäure auf elektrolytischem Wege geätzt. Bei anderen 30 mittel. Die Tafel kann in eine Sprüh-Ätzvorrichtung, Verfahren dient das Maskenbild als Zwischenstufe wie sie normalerweise in der Industrie verwendet wird, für Elektroplattierungsvorgänge sowie für Verdamp- die eine Lösung aus Eisen(III)-chlorid auf der Oberfungs-Filmbildungsverfahren; es kann ferner als opa- fläche versprüht, eingebracht werden. Die Eisen(HI)-ker Film für Bilder aus transparenten Objekten als chlorid-Konzentration, normalerweise durch das spe-'"" Kennzeichnung verwendet werden oder zur Erzielung 35 zifische Gewicht wiedergegeben, kann 38° Baume bevon dekorativen Wirkungen dienen. Beim Photo- tragen. Binnen einiger Minuten wird das nicht gefrasen, welches ein relativ neues Verfahren zur Herstel- schützte Kupfer auf der Tafeloberfläche vollständig lung kleiner exakter Metallteile aus dünnen Metall- weggeätzt. Die Tafel wird dann entfernt und gründlich folien darstellt, wird das Maskenbild auf beide Seiten zur Entfernung von Spuren Eisen(III)-chlorid gewader Folie in> genau übereinstimmender Raststelhing 4° sehen und anschließend getrocknet. '
aufgebracht. Das Metallätzmittel wird dann auf beide : Die Fi g. 6 zeigt die Platte nach dem. Eintauchen : Seiten zur Entfernung von unerwünschtem Metall in ein Lösungsmittel, wie beispielsweise Trichloräthyeinwirken gelassen, ^i;" " len oder Methyläthylketon, unv die Ätzschutzschicht

"Die Zeichnungen erläutern die Verwendung der be- aufzuweichen, welche durch Behandlung mit einem scbriebenen lichtempfindlichen Gemische bei einem 45 fnilden, abreibend wirkenden Reinigungsmittel ent-Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen. lernt werden kann, wobei die elektrische Schaltung aus Die Fig. 1 zeigt/eine Grundplatte 11, die eine Metall- , Kupfer zurückbleibt. Die fertiggestellte Schaltung kann schicht 12 mit ei Her Dicke von 0,035 nun aus Kupfer in heißem Wasser gespült und getrocknet werden,
besitzt, die auf einen Schichtträger aus einem Phenol- j Vorstehend wurde also gezeigt, wie bestimmte lichtharz mit einer Dicke yph 1,5 mm, so wie sie gewöhn- 50 empfindliche Gemische, welche Vorpolymerisate von Hch bei der Herstellung von gedruckten Schaltungen Allylestern ungesättigter einbasischer Säuren, Vorpolyyerwendet wird, aufgeschichtet ist. Die Grundplatte Il merisate von Copolymerisaten aus ÄHylestern ungesollte mit einem abreibend wirkenden Reinigungsmittel sättigter einbasischer Säuren, Vorpolymerisate von gesäubert und getrocknet werden. ■ ;: ; Allylestern aliphatischer Carbonsäuren und aromati-

Die Fig.2 ist ein Querschnitt durch die Grund- 35 scher Carbonsäuren mit zwei oder mehr Allylgruppen ■ platteil, nachdepi das beschriebene,lichtempfindliche ν und Vorpolymerisate von Copolymerisaten aus Allyl-Gemisch auf die Oberfläche der Küpferschicht 12 estern aliphatischer und aromatischer Carbonsäuren unter_; Bildung d?r lichtempfindlichen1 Schicht 14 auf- mit zwei oder mehr Allylgruppen und bestimmte ί getragen wurde. ,Die Auftragung erfolgte durch Über- Photopolymerisationsinitiatoren enthalten, bei der ■ gießen, wobei überschüssige Mengen an lichtempfind- 60 Herstellung gedruckter Schaltungen verwendet werden lichem Gemisch. durch einige Minuten dauerndes können. - .
vertikales Halten der Tafel abfließen gelassen werden. Die beschriebenen, lichtempfindlichen Gemische sind Die Schicht, wird dann durch 10 Minuten dauerndes ferner für die Herstellung von Offset-Druckplatten geEinbringen des'Aufzeichnungsmaterials 11 in einen eignet, wobei sie viele Vorteile gegenüber den derzeit Ofen mit einer Temperaur von ungefähr 5O⁰C getrock- 63 verwendeten diazosensibilisierten Druckplatten, die net. Nach der Entfernung aus dem Ofen ist die Schicht gegen Luftfeuchtigkeit empfindlich sind und eine Unglatt, glänzend und hart. terschicht auf dem Metallsubstrat erfordern, um das

Die Fig. 3 zeigt, wie eine Kopiervorlage 15, die Metall an einer Umsetzung mit dem, Diazomaterial

11 12

und der damit verbundenen Härtung zu hindern, durch die lichtempfindliche Schicht als farbloser, trockener welche die Eignung zum Drucken verlorengeht, bie- Film auf der Metalloberfläche vor.
ten. Zusätzlich haftet den Diazomaterialien der Nach- Die vorsensibilisierte Druckplatte wird bei gedämpfteil an, daß mit ihnen weniger lang gedruckt werden ter Beleuchtung, so wie sie normalerweise bei der kann, außerdem erfordern sie nach der Entwicklung 5 Plattenherstellung vorherrscht, bearbeitet,
die Aufbringung einer geeigneten Schicht, um längere Die Platte wird mit einer transparenten Kopiervor-.Druckzeiten zu ermöglichen. <■ lage bedeckt und mittels eines Kohlelichtbogens,

Die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Gemi- einer Quecksilberdampflampe oder einer anderen sehe werden nicht durch Metallsubstrate beeinflußt, Quelle ultravioletten Lichtes bestrahlt. Nach der Besogar nicht, wenn diese aus Aluminium bestehen. Da- io strahlung -wird die Platte zur Entfernung des nicht .ge-' her ist bei der Herstellung von Druckplatten keine härteten Polymerisats entwickelt, indem die Platte mit Unterschicht erforderlich. Zusätzlich werden extrem Xylol, 1,1,1-Trichloräthan, Methyläthylketon, Trilange Druckzeiten ermöglicht, ohne daß dabei eine chloräthylen oder einer Mischung ähnlicher Lösungsspezielle Behandlung nach der Entwicklung erforderlich mittel bedeckt wird. Die Kontaktzeit vor dem Wegwäre. :_: 15 spülen der Entwicklungslösung mit Wasser beträgt un-

Die Herstellung von Druckplatten erfolgt derart, gefähr 1 Minute! Das Bild, das sich aus dem lichtgehärdaß das entfettete Metallblech mit dem erfindungs- teten Harz zusammensetzt, ist zu diesem Zeitpunkt gemäßen lichtempfindlichen Gemisch beschichtet, ge- sichtbar. Das gehärtete Polymerisatbild ist hydrophob trocknet und durch eine geeignete Kopiervorlage be- und läßt Wasser abperlen, während die Metallplatte, lichtet wird, worauf die Entwicklung durch Eintau- 20 von der das lösliche lichtempfindliche Polymerisat chen in ein geeignetes Lösungsmittel erfolgt; anschlie- entfernt wurde, vollständig durch Wasser benetzt ist. ßend an die Entwicklung wird mit Wasser gespült und Nach der Spülung wird das überschüssige Wasser entgetrbcknet. Dann wird mit einem Tuch eine verdünnte fernt und die Platte anschließend mit einer herkömm-Phosphorsäurelösung auf die Oberfläche aufgetragen, liehen Gummiarabikum-Lösung und verdünnter Phosum die exponierte Aluminiumoberfläche wasseremp- »5 phorsäure bedeckt. Eine Entwicklungstinte auf Ölfänglich zu machen. Die nicht abgelösten Schichtteile basis, die das gehärtete Polymerisat benetzt oder zu schützen das von ihnen bedeckte Metall vor der Phos- diesem eine Affinität besitzt, wird als nächstes über die phorsäure. Platte gerieben, um das Bild für Korrekturen sicht-

Während des Drückens nimmt das frei liegende Alu- bar werden zu lassen. Eine saubere, scharfgezeichnete,

minium Wasser auf, während die Schichtteile, die in- 30 schaumfreie Platte, die bei einem lithographischen

folge ihrer Nichtpolarität aufnahmefähig für Druckfar- Druckverfahren zur Herstellung einer Vielzahl von

ben sind, Druckfarben aufnehmen. Die starke Haf- Drucken verwendet werden kann, ist das Ergebnis,

tung der entwickelten Schicht an dem Metallsubstrat In der beschriebenen Weise wurde eine Platte mit

und die hohe Abriebfestigkeit der photopolymerisier- einem Bild hergestellt, das sich aus Linien, Halbtönen

ten Schicht gewährleisten eine lange Druckdauer. 35 und gitterartigen Tintenflächen zusammensetzt; diese

Nachstehend wird die Herstellung vorsensibilisier- Platte wurde in einer lithographischen Offset-Presse ter Druckplatten unter Verwendung der erfindungsge- verwendet. Nach 250000 scharfen, klaren Drucken bemäßen lichtempfindlichen Gemische an Hand von Bei- stand die einzige feststellbare Abnützung darin, daß spielen näher erläutert: die Punktstruktur etwas abgewetzt war, wobei keine .'*..... 40 Aufrauhung oder Abblätterung der. Bildstruktur fest-'■'·.·' ·■':.■'.'- ■.■■'-... Druckplatten gestellt werden konnte. O

Bei spie 1 19 η · · t ->λ

. Bei spiel 20

Ein lichtempfindliches Gemisch für eine Beschich- ,

tungslösung, die zur Herstellung von Druckplatten 45 Ein zweiter Plattentyp besteht aus einem Laminat

verwendet wird, hat folgende Zusammensetzung: aus Aluminium, einer Substratschicht, einer lichtemp-

12 g Diallvlisophthalat^orpolymerisat findlichen Diazoschicht sowie einer Schicht aus dnem

5*5 % XvInI ~ lichtempfindlichen Diallyhsophthalat-Vorpolymerisat.

" 33[i£hox_y-4-meth_yl-pentanon-2 Λ ' . *?<* der in der ^-Patentschrift 2714066 be-

OleBenzil ^ , 5° schnebenen Weise wurde eine Grundplatte herge-

01 κ Michler's Keton ^v stellt, indem eine Aluminiumplatte mit glatter Ober-

0*48 Xanthon fläche mit einer Trinatriumphosphatlösung behandelt

' . ; wurde, die anschließend mit verdünnter Säure neutrali-

Das Vorpolymerisat wird in dem Xylol gelöst und siert und mit Wasser weggespült wurde. Die Platte

die Lösung zur Entfernung unlöslicher Fraktionen 55 würde dann mit einer wäßrigen Natriumsilikatlösung

durch Filtration oder Zentrifugieren gefeinigt. Die behandelt und erneut sauber gewaschen, anschließend

Photopolymerisationsinitiatoren — Benzil, Michler's erfolgte eine Beschichtung mit einem anfangs wasser-

Ketpn und Xanthon — werden in ^Methoxy-^me- löslichen lichtempfindlichen Diazo-(p-diazodiphenyl-

thyl-pentanon-2 gelöst und gründlich mit der Poly- amin-formaldehyd)-harz. Die Platte wurde dann mit

merisatlösung vermischt. Die Beschichtungslösung ist 60 der im Beispiel 19 beschriebenen XyloUösung in der

dann für die Verwendung bereit. dort angegebenen Weise überschichtet.

Diese Lösung wird mittels eines Schleuderauftra- Sowohl die Allylvorpolymerisat- als auch die Diazogungsverfahrens zur Erzeugung einer einheitlichen harzschichten sind lichtempfindlich. Nach der BeSchicht mit einer Stärke von 2,54 μ auf ein Aluminium- strahlung mit Licht, wobei ein Raster-Negativ aufblech aufgetragen. Nach der Verdampfung eines Teils 65 gelegt wird, erhärten beide Schichten. Die nicht gedes Lösungsmittels wird die Platte 5 Minuten lang auf härtete Diazoverbindung bleibt wasserlöslich. Zur 5O⁰C erhitzt, um den größten Teil des restlichen Lö- Entwicklung der belichteten Platte wird eine Emulsungsmittels zu entfernen. Nach dem Abkühlen liegt sion der nachstehend angegebenen Zusammensetzung

Claims (1)

1. über eine Platte gegossen und mittels eines Schwam- Das Diallylterephthalat-Vorpolymerisat wurde in

   mes über ihre Oberfläche glattgestrichen: Xylol und 4-Methoxy-4-methyl-pentanon-2 gelöst,

   . Aromatisches Kohlenwasserstofflösungs- worauf die Lösung durch einen Büchner-Trichter mit

   mittel (Siedebereich 120 bis 177°C) ...,.. 25 f,^nem Dicalit-Filtermedium filtriert wurde, bis sie

   Wasser ' " ₇₅ : 5 klar war. ·

   •' NonylphenylpoiyäthoxyäthanoV '"" * "■''^r"; ■' Die Lösung wurde dann durch Zugabe von 4^'-Bis-,

   (Triton N-100) 3 (dimethylamino)-benzophenon, Benzil und Benzo-

   '.':■■■■■■: ......................... phenon sensibilisiert. Sie wurde dann auf einem Alu-

   Auf diese Weise genügt es, einige Minuten zu ent- miniumblech (152· 152mm) vergossen, trocknen gewickelt um die nicht gehärteten lichtempfindlichen io lassen und dann 10 Minuten in einem Ofen bei einer Schichtteile zu entfernen. Nach einer kurzen Wasser- Temperatur bon 43 bis 45°C getrocknet. Bei der 3 Mispülung wird eine angesäuerte Gummilösung über die nuten dauernden Bestrahlung mit einer 400-Watt-Platte verstrichen. Als nächstes wird Tinte aufgetragen, Quecksilberdampflampe mit einem konischen Reflekum das Druckbild in Erscheinung treten zu lassen. tor aus einer Entfernung von 45,7 cm wurde ein zu-

   Gemäß diesem Beispiel wird eine Entwicklung er- 15 friedenstellendes Bild erhalten,
   möglicht, die so einfach und auf herkömmliche Weise

   durchzuführen ist wie jene, die für eine in normaler Beispiel 24

   Weise vorsensibilisierte und durch Wischen entwickelbare Diazoplatte verwendet wird. Nichtsdestoweniger Das Beispiel 23 wurde wiederholt, wobei an Stelle weist diese Platte alle Vorteile hinsichtlich chemischer ao des Diallylterephthalat-Vorpolymerisats ein Pyromel-Widerstandsfahigkeit und Widerständsfähigkeit ge- lithsäuretetraallylester - Vorpolymerisat verwendet gen Abrieb auf, und zwar deshalb, da ihre Ober- wurde. Das Pyromellithsäuretetraallylester-Vorpolyflächenschicht aus einem gehärteten Allylvorpolymeri- merisat ergab bei einer etwas kürzeren Belichtungszeit sat besteht. Obwohl die Diazoharzschicht dafür be- ein zufriedenstellendes Bild.' : kannt ist, daß sie beim Lagern gegen Wasserdampf 25

   empfindlich ist, besitzt die neue Platte diesen Nachteil Patentansprüche:

   nicht, da die Diazoschicht gegen Feuchtigkeit durch

   eine aus einem Allylpolymerisat bestehende Schicht 1. Lichtempfindliches Gemisch aus einem äthy-

   geschützt ist. lenisch ungesättigte Gruppen aufweisenden Vor-

   B e i s D i e 1 21 3° polymerisat und einem Benzoinäther, einem p,p'-di-

   substituierten Benzophenon, einem ein^ oder mehr-

   ' Eine photosensibilisierte Mellithsäuretriallylester- kernigen Chinon, einem. aromatischen Dikton,

   Vorpolymerisatlösung wurde in der im Beispiel 19 einer substituierten Arylmethylendioxyverbindung,

   für Diallylisophthalat beschriebenen Weise hergestellt. einem substituierten ß-Benzo- oder -Naphtho-

   Nach der Beschichtung eines Aluminium-Schichtträ- 35 thiazolin, einem substituierten /?-Benzo- oder gers wurde dieser durch einen Graukeil hindurch belich- -Naphthoselenazolin, einem Anthron, Benzan-

   tet; die belichtete Platte wurde nach der im Beispiel 19 thron oder Azabenzanthron als Photopolymerisa-

   beschriebenen Weise entwickelt und mit einer schwarzen tionsinitiator, dadurch gekennzeich-

   Vordrucktinte bestrichen. Bei einer 1 Minute dauern- net, daß das lichtempfindliche Gemisch ein durch

   den Bestrahlung in einem Belichtungsgerät wurde eine 40 Lösungsmittelpolymerisation bis zur Gelbildung Empfindlichkeitsleitzahl von 8 erhalten. -vorpolymerisiertes, in fester Form ausgefälltes und

   ·■-.:'"·: η · ίο-? ^m organischen Lösungsmitteln lösliches Vorpoly-

   ei spiel . _merj_sat _ocj_er Vor-Copolymerisat eines Allylesters.

   Dasselbe Verfahren wurde mittels eines Triallyl- einer ungesättigten einbasischen Säure oder eines

   cyanurat-Vorpolymerisats durchgeführt. Die sensibili- 45 . Allylesters mit zwei oder mehr Allylgruppen einer sierte Beschichtungslösung wurde nach der im Bei- aliphatischen oder aromatischen Dicarbonsäure

   spiel 19 beschriebenen Arbeitsweise hergestellt. Die oder Vor-Copolymerisate der genannten AlIyI-

   Belichtung und Entvvicklung der Platte sowie deren wei- ester mit anderen äthylenisch ungesättigten Mono-

   tere Verarbeitung wurden wie im Beispiel 19 vorgenom- : meren enthält, dessen bzw. deren äthylenisch unmen. , 50 gesättigte Gruppen zu 25 bis 40% vorpolymerisiert

   Bei einer Bestrahlung unter den im Beispiel 12 be- sind; . ;. ν " -

   schriebenen Bedingungen wurde eine Empfindlich- ' 2. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1, keitsleitzahl von 11 erhalten, was darauf hindeutet, dadurch gekennzeichnet, daß es ein Vorpolymerisat

   daß diese Schicht etwas lichtempfindlicher ist als die des Diallylisophthalats enthält,

   im Beispiel 21 verwendete Schicht. 55 3. Vorsensibilisierte Druckplatte aus einem

   : _R . . 1 T7 Schichtträger und einer darauf befindlichen licht-

   :/.~Jy.';_:, .^ :v'; ·:.-., Υ ^e:^lsp*^e : \ ;· > ^;Γ empfindlichen Schicht, dadurch gekennzeichnet,

   Aus den/ nachstehend angegebenen Bestandteilen daß sie eine lichtempfindliche Schicht aus dem lichtwurde eine sensibilisierte Vorpolymerisatlösung her- empfindlichen Gemisch gemäß Anspruch 1 aufgestellt: '■■'■■ I- ■ -."■'.■''■ '■■■·■··■·. ; , ^6o weist/. ·"".' ·':■:;:■;■;.-■;:.'.'' ■ '■■-. .·. '■'■■■■'■-.·

   12,0g Diallylterephtiialat-Vorpolymerisat ; : 4. Vorsensibilisierte Druckplatte nach An-

   40,0g Xylol spruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die licht-

   12,0 g 4-Mcthoxy-4-niethyl-pentanon-2 empfindliche Schicht ein Vorpolymerisat des Di-

   0,08 g 4,4'-Bis-(dimclhylaniino)-benzophenoh allylisophthalats, des Diallylterephlhalats, des Tri-

   0,4 g Benzophenon 65 allylcyanurats. des Mellithsäuretriallylesters oder

   0,3 g Benzil ■ des Pyromellithsäiiretriallylesters enthält.

   Hierzu 1 Blatt Zeichnungen