DE1547849B

DE1547849B - Lichtempfindliches Gemisch

Info

Publication number: DE1547849B
Authority: DE
Inventors: Michael Nicholas Fuller ton Martenson Irvin Wesley Pacific Palisades Ott Lawrence Henry Pasadena Calif Giangualano (V St A )
Original assignee: FMC Corp
Current assignee: FMC Corp

Description

1 2

Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Gemisch kann, daß sie einige Minuten in ein Lösungsmittel ein-

aus einem äthylenisch ungesättigte Gruppen aufweisen- getaucht und abgespült wird.

den Vorpolymerisat und einem Benzoinäther, einem Eine zusätzliche Aufgabe der Erfindung war die Ent-ρ,ρ'-disubstituierten Benzophencn, einem ein- oder wicklung vorsensibilisierter lithographischer Druckmehrkernigen Chinon, einem aromatischen Diketon, 5 platten mit den erfindungsgemäßen lichtempfindlichen einer substituierten Arylmethylendioxyverbindung, ei- Gemischen.

nem substituierten /9-Benzo- oder -Naphthothiazolin, Der Gegenstand der Erfindung geht aus von einem

einem substituierten yS-Benzo- oder -Naphthoselen- lichtempfindlichen Gemisch aus einem äthylenisch un-

azolin, einem Anthron, Benzanthron oder Azabenz- gesättigte Gruppen aufweisenden Vorpolymerisat und

anthron als Photopolymerisation sinitiator zur Herstel- io einem Benzoinäther, einem ρ,ρ'-disubstituierten Nenzo-

lung von photcgraphischen Reliefbildern, die insbe- phenon, einem ein- oder mehrkernigen Chinon, einem

sondere in den graphischen Gewerben verwendet aromatischen Diketon, einem substituierten /S-Benzo-

werden, beispielsweise für Druckplatten, gedruckte oder -Naphthothiazolin, einer substituierten Arylme-

Schaltungen, Namensschilder und chemische Fräs- thylendioxyverbindung, einem substituierten /?-Benzo-

verfahren. 15 oder Naphthoselenazolin, einem Anthron, Benzan-

Es ist in der photcmechanischen Reprcduktions- thron oder Azabenzanthron als Photopolymerisationstechnik bekannt, verschiedene Materialien, wie bei- initiator, und ist dadurch gekennzeichnet, daß das spielsweise Bichrcmat enthaltenden Schellack, Bichro- lichtempfindliche Gemisch ein durch Lösungspolymerimat enthaltenden Polyvinylalkohol, Polyvinylalkohol- sation bis zur Gelbildung vorpolymerisiertes, in fester zimtsäureester und ähnliche ungesättigte Polymerisate ao Form ausgefälltes und in organischen Lösungsmitteln zur Bildung vcn Ätzbildern oder Maskenbildern auf lesliches Vorpolymerisat oder Vor-Copolymerisat eines verschiedenen Substraten eder Trägern, wie teispiels- Allylesters einer ungesättigten einbasischen Säure oder weise Kupfer, mit Kupfer überzogene Plastikf clien, eines Allylesters mit zwei oder mehr Allylgruppen einer Aluminium, Stahl, Messing, Bronze und anderen Me- aliphatischen oder aromatischen Dicarbonsäure oder tallen sowie auch Glas und Kunststoffen, zu ver- 25 Vor-Ccpolymerisate der genannten Allylester mit andewenden. ren äthylenisch ungesättigten Monomeren enthält,

Bichrcmat enthaltender Schellack, Bichrcmat ent- dessen bzw. deren äthylenisch ungesättigte Gruppen

haltender Polyvinylalkohol und Bichrcmat enthalten- zu 25 bis 40% vorpolymerisiert sind,

des Polyvinylbutyral besitzen jedoch begrenzte Halt- Zur Herstellung der erfindungsgemäßen lichtempfind-

barkeitenjSodaßderBichrcrnat-Sensibilisatorineinem 3° liehen Gemische wird ein Vorpolymerisat eines unge-

getrennten Eehälter gelagert und mit dem filmbildenden sättigten Carbonsäureesters mit wenigstens zwei Koh-

Polymerisat unmittelbar vor der Verwendung vermischt lenstcff-Kohlenstoff-Doppelbindungen, von denen je-

werden muß. weils eine durch eine Allylestergruppe gestellt wird, zu-

Pclyvfrylalkoholzimtsäureester und ähnliche unge- sammen mit einem Photopolymerisationsinitiator in

sättigte Esterpolymerisate erleiden, wenn sie einem ehe- 35 einem geeigneten Lösungsmittel gelöst. Zu derartigen

misch aktiven Licht ausgesetzt werden, eine Schrump- Vcrpolymerisaten sind Vcrpolymerisate von Allyl-

fung, so daß sie für Anwendurgszwecke, bei denen es estern ungesättigter einbasischer Carbonsäuren oder

auf feine Details ankommt, nur eine begrenzte Verwen- Vorpolymerisate von Allylestern aliphatischer oder aro-

dungsmcglichkeit besitzen. matischer Carbonsäuren mit zwei oder mehr Allyl-

Es besteht daher ein Bedarf an lichtempfindlichen Ge- 40 gruppen zu zählen.

mischen, die durch die gute Wiedergabe von Details, Als Photopolymerisationsinitiator muß ein solches

bessere chemische Beständigkeit, lange Lagerungsfähig- Mittel verwendet werden, welches aktinische Strah-

keit und Reprcduzierbarkeit vcn Charge zu Charge lung absorbiert und danach in freie Radikale dissozi-

gekennzeichnet sind und sich ferner dadurch auszeich- iert, die die Polymerisation des Vorpolymerisats in

nen, daß sie sich in einer einzigen Verpackung abpacken 45 den unlöslichen und unschmelzbaren Zustand initiie-

lassen und nach dem Ätzen leicht entfernbar sind. Es ren. Als geeignete Photopolymerisationsinitiatoren

besteht ferner ein Bedarf an lichtempfindlichen Gemi- haben sich folgende Verbindungen erwiesen: Acyloin-

schen, deren Schichten nicht in nennenswerter Weise äther, wie beispielsweise der Methyl- und Äthyläther

schrumpfen, wenn sie einer chemisch aktiven Strahlung von Benzoin, Tetraalkyldiaminophenylketone, wie

ausgesetzt werden, und die bei Bedarf wiederholt ge- 5° beispielsweise 4,4'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon

waschen und geätzt werden können, ohne daß dabei und 4,4'-Bis-(diäthylamino)-benzophenon, sowie Bis-

Bilddetails in nachteiliger Weise verändert werden oder 1 - anthrachinonylaminoanthrachinon, wie beispiels-

eine Unterschneidung des Reliefbildes erfolgt. weise l,4-Bis-(l-anthrachinonylamino)-anthrachinon

Aufgabe der Erfindung ist daher, ein lichtempfindli- und l,5-Bis-(l-anthrachinonylamino)-anthrachinon, ches Gemisch anzugeben, das in einem einzigen Behäl- 55 oder Kombinationen dieser Verbindungen. Andere ter zusammen mit dem erforderlichen Photoinitiator geeignete Photopolymerisationsinitiatoren sind mehrverpackt werden kann und in dieser Form eine lange kernige Chinone, die keine Hydroxyl-, Sulfo-, Carb-Lagerungsfähigkeit besitzt; das vor der Verwendung oxyl- oder Aminogruppen besitzen, wie beispielsweise weder vermischt oder erhitzt noch chemisch behandelt 1,2-Benzanthrachinon und 2-Methylanthrachinon, einwerden muß und das es ermöglicht, Metalle und andere 60 kernige Chinone, die keine Hydroxyl-, Sulfo-, Carb-Schichtträger mit einer beständigen lichtempfindlichen oxyl- oder Aminogruppen besitzen, wie beispielsweise Schicht zu versehen. 2,5-Diphenyl-p-chinon, vicinale Ketaldonylverbindun-

Diese Schicht sollte bei Bestrahlung vernetzbar sein, gen, wie beispielsweise Benzil, sowie Arylmethylen-

eine gute Wärmebeständigkeit, ein geringes Feuchtig- dioxyverbindungen, die wenigstens eine Aldehyd- oder keitsabsorptionsvermegen und eine gute Widerstands- 65 Ketogruppe enthalten, wobei das Kohlenstoffatom

fähigkeit gegen Säuren und Alkalien besitzen. der Aldehyd- oder Ketogruppe an dem Benzolring

Das lichtempfindliche Gemisch sollte eine Schicht sitzt. Die Arylmethylendioxyverbindungen müssen frei

liefern, die in einfacher Weise dadurch entfernt werden von Sulfo-, Carboxyl- oder Aminogruppen sein; er-

wähnt seien beispielsweise Piperonal, Piperoin, 3,4-Me- oder

thylendioxychalkon und 5,6 -Methylendioxyhydrindon-1. Folgende Verbindungen haben sich als geeignet erwiesen, sofern sie keine Hydroxyl-, Sulfo-, Carboxyl- oder Aminogruppen enthalten: substituierte /J-Naphthoselenazoline, wie beispielsweise 1-Methyl-2-acetylmethylen-/?-naphthoselenazolin, substituierte /J-Benzothiazoline, wie beispielsweise 3-Methyl-2-benzoylmethylenbenzothiazolin, substituierte ß-Naphthothiazoline, wie beispielsweise l-Methyl-2-benzoylmethylen-ß-naphthothiazolin, Anthrone, wie beispielsweise Anthron, Eenzanthrcn, wie beispielsweise Benz-2-äthylbenzanthron und 7-H-Benz(de)-anthracen-7-on, sowie Azabenzanthrone, wie beispielsweise 2-Keto-3-methyl-l,3-diazabenzanthrone.

Die Konzentration des Photopolymerisationsinitiators in dem lichtempfindlichen Gemisch hängt von dem vorliegenden Vorpolymerisat ab. Im Falle von Diallylisophthalat als Vorpolymerisat werden ungefähr 1 bis 20%, vorzugsweise 1,5%, bezogen auf das Gewicht des Vorpolymerisats, l,4-Bis-(l-anthrachinonylamino)-anthrachinon verwendet. Einige Photopolymerisationsinitiatoren, wie beispielsweise p,p'-substituierte Benzophenone, z. B. 4,4'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon, verursachen in einer Menge von weniger als 1,5 % eine erhebliche Steigerung der Empfindlichkeit gegenüber aktinischem Licht.

Die Zugabe des Photopolymerisationsiniliators zu den Allylvorpolymerisaten steigert deren Lichtempfindlichkeit um das 100- bis 20Ofache.

Beispiele für geeignete Vorpolymerisate sind:

a) Allylester ungesättigter einbasischer Säuren, die den allgemeinen Formeln

ROOCOR,

C_nH_2n-J COOR oder C_nH_2n-^yXy — COOR

entsprechen, wie beispielsweise Allylacrylat, Allylchloracrylat, Allylmethacrylat, Allylcrotonat, Zimtsäureallylester, Cinnamalessigsäureallylester, Brenzschleimsäureallylester und Allylfurfurylacrylat. Es ist darauf hinzuweisen, daß in den angegebenen Formeln jeweils R eine Allylgruppe, η eine ganze Zahl von 1 bis einschließlich 17, y 1 oder 2 und X ein Halogenatom, eine Hydroxyl-, Phenyl-, substituierte Phenyl- oder Furfurylgruppe oder eine Alkyl- oder Alkoxygruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen bedeutet.

b) Copolymerisate von Allylestern ungesättigter einbasischer Säuren, wiebeispielsweise Allylmethacrylat mit Butadien, Allylmethacrylat mit Methylmethacrylat, Allylmethacrylat mit Styrol, Allylmethacrylat mit Vinylidenchlorid, Allylcrotonat mit Methylmethacrylat, Allylcrotonat mit Styrol, Allylcrotonat mit Vinylchlorid, Allylcrotonat mit Vinylacetat, Allylcrotonat mit Vinylidenchlorid, Allylcrotonat mit Diäthylenglykolmaleat, Zimtsäureallylester mit Vinylidenchlorid, Zimtsäureallylester mit Styrol, Zimtsäureallylester mit dem Ester aus Bernsteinsäure und Zimtalkohol, Brenzschleimsäureallylester mit Styrol und Brenzschleimsäureallylester mit Vinylidenchlorid.

c) Allylester aliphatischer Carbonsäuren mit zwei oder mehr Allylgruppen, die einer der nachstehend angegebenen Formeln entsprechen:

C_nH_2n(COOR)₂, C_nH₂B-X(COOR)₃,

C-71O.2 Ti—2/^2/(,COOK.j25 C ti H. 2 7j-j-y(COOR)3j

CTiH₂ K-O(COOR)₂J C^H₂ n-2-2/Xi/(COOR)₂

₃₅

45

55

60 wie beispielsweise Diallyloxalat, Diallylmalonat, Diallylsuccinat, Diallylsebacat, Diallylmaleat, Diallylfumarat, Diallyltitaconat, Diallyltartrat, Diallylcarbonat, Diallyladipat, Triallylcitrat, Triallylcarballylat, Diallyltmaleat und Diallylcitraconat.

d) Copolymerisate von Allylestern aliphatischer Carbonsäuren mit zwei oder mehr Allylgruppen, wie beispielsweise Diallyloxalat mit Vinylidenchlorid, Diallyloxalat mit Styrol, Diallylmalonat mit Vinylidenchlorid, Diallylsuccinat mit Vinylacetat, Diallylsuccinat mit Vinylidenchlorid, Diallylsuccinat mit Polyvinylacetat, Diallyladipat mit Vinylidenchlorid, Diallylsebacat mit Vinylidenchlorid, Diallylmaleat mit Methylmethacrylat, Diallylmaleat mit Styrol, Diallylmaleat mit Vinylidenchlorid und Diallylcarbonat mit Methylmethacrylat.

e) Allylester aromatischer Carbonsäuren mit zwei oder mehr Allylgruppen, wobei der aromatische Ring der Säure ein einfacher Ring sein kann, beispielsweise Phenyl oder Cyanurat, oder aus einem kondensierten Ring bestehen kann, wie beispielsweise Naphthyl oder Phenanthryl; Beispiele für zur Herstellung der gewünschten Vorpolymerisate geeignete Ester sind: Diallylisophthalat, Diallylterephthalat, Triallylcyanurat, Mellithsäuretri allylester, Pyromellithsäuretetraallylester od. dgl.

f) Copolymerisate aromatischer Carbonsäuren, die zwei Allylgruppen besitzen, mit anderen ungesättigten Verbindungen, wie sie unter b) und d) bei der Aufzählung der Allylester aufgeführt wurden.

Als »Vorpolymerisat« wird das lösliche und schmelzbare Produkt der ersten Polymerisationsstufe bezeichnet, welches bei weiteren Vernetzungsschritten ein unlösliches und unschmelzbares Endpolmerisat ergibt. Bei der Herstellung derartiger Vorpolymerisate werden die monomeren Materialien auf herkömmliche Weise, z. B. durch Erhitzen in einem Lösungsmittel in Gegenwart eines Peroxydkatalysators in dem Monomeren polymerisiert unter Gewinnung einer Lösung eines löslichen Polymerisats, dessen äthylenisch ungesättigte Gruppen zu 25 bis 40% vorpolymerisiert sind. Die Vorpolymerisation wird bis zu einem Punkt kurz vor der Gelbildung, die dann auftritt, wenn das Molekulargewicht des Polymerisats den Punkt erreicht, bei welchem es in dem Monomeren unlöslich ist, durchgeführt. Die Polymerisatlösungen werden dann in eine Vorpolymerisatfraktion und das Monomere aufgetrennt. Dies kann durch Behandlung mit einem Lösungsmittel erfolgen, welches das Monomere löst und das Polymerisat ausfällt, oder durch Anwendung anderer Maßnahmen, durch die ein lösliches Vorpolymerisat gewonnen wird, welches im wesentlichen frei von Monomeren ist.

Ein typisches Verfahren zur Abtrennung derartiger Polymerisate wird in der USA.-Fat;ntschrift 3 030 341 beschrieben. Diese Vorpolymerisate sind feste Stoffe, die wenig oder keine Monomeren enthalten.

Die Polymerisation sollte vorzugsweise bei einer Jodzahl von 56 bis 64 durch Abkühlung und Zugabe eines Inhibitors abgestoppt werden. Das Vorpolymerisat wird dann aus dem Lösungsmittel abgetrennt, gewaschen und getrocknet. Dabei wird ein weißes Pulver

5 6

erhalten, welches bei der Lösung in einem geeigneten zwei oder mehr Allylgruppen neigen an sich dazu, Lösungsmittel, wie beispielsweise einem Keton, eine sich bei einer mehrmonatigsn Lagerung bei Umgebungswasserhelle Lösung ergibt. temperatur in getrocknetem Zustand weiter zu ver-

Zu guten Lösungsmitteln für die Vorpolymerisate netzen. Diese weitere Vernetzung ändert die Löslichsind folgende Verbindungen zu zählen: 5 keitseigenschaften des Vorpolymsrisats, indem die

., _ .,.., . _T , , . , Vorpolymerisatviskosität in einem Lösungsmittel, wie

1. Ester wie beispielsweise Isobutylacetat, Amylace- _{beispielsweise} Methylisoamylketon, bis zu dem Untat und Athylacetat. löslichkeitspunkt erhöht wird. Beispielsweise ist ein

2. Ketone, wie beispielsweise Acetophenon, Diaceton- frisch hergestelltes Vorpolymerisat aus Diallylmalonat alkohol, Diisobutylketon, Methylisobutylketon ₁₀ mit einer Jodzahl von 56 bis 64 in Xylol löslich. Bei und Isophoron. der Lagerung in trockenem Zustand bei Umgebungs-

3. Glykoläther, wie beispielsweise Äthylenglykol- temperatur in Abwesenheit von Luft tritt bis zu einer methyläther, Diäthylenglykolmethyläther und Pro- Zeitspanne von 6 Monaten keine merkliche Änderung pylenglykolmethyläther. der Löslichkeit auf. Wird das Vorpolymerisat jedoch

4. Chlorierte Lösungsmittel, wie beispielsweise *5 der Luft ausgesetzt, wobei die Temperatur oberhalb 1,1,1-Trichloräthan, Trichloräthylen und Methy- 29°C gehalten wird, dann erreicht das Vorpolymerisat lenchlorid. den Punkt, an dem es weder in Methylisoamylketon

noch in einem stärkeren Lösungsmittel, wie beispiels-

Durch die Erfindung wird ein lichtempfindliches weise Methyläthylketon, löslich ist.

Gemisch erreicht, das die nachfolgend beschriebenen 20 Wird dagegen das frisch hergestellte Vorpolymerisat

vorteilhaften Eigenschaften aufweist: zuerst in Methylisoamylketon, Xylol oder einem ande-

Das beschriebene Vorpolymerisat hat die seltene ren geeigneten Lösungsmittel zusammen mit dem Pho-Eigenschaft, daß seine Vorpolymerisation zu einem topolymerisationsinitiator gelöst, dann wird eine Verbestimmten Zeitpunkt abgestoppt werden kann; außer- änderung des Vorpolymerisats aufgehalten, was eine dem kann es in fester Form ausgefällt werden und ge- 25 sehr lange Lagerungsfähigkeit zur Folge hat.
wünschtenfalls anschließend unter Einsatz von Per- Die Erfindung wird an Hand der nachstehenden oxyden und Anwendung von Wärme und Druck oder Beispiele im Zusammenhang mit den Zeichnungen Bestrahlung in einen unschmelzbaren festen Stoff um- näher erläutert:
gewandelt werden. F i g. 1 gibt in Originalgröße einen metallbeschich-

Das erhaltene Vorpolymerisat besitzt filmbildende 30 teten Schichtträger wieder;

Eigenschaften, eine ausgezeichnete chemische Wider- F i g. 2 bis 6 sind Querschnitte, aus denen die aufstandsfähigkeit sowohl gegen Säuren als auch gegen einanderfolgenden Stufen bsi der Verwsndung der erAlkalien sowie eine ausgezeichnete Feuchtigkeitsbe- findungsgemäßen lichtempfindlichen Gemische zu erständigkeit, ferner zeigt es bei der weiteren Lichtver- sehen sind,
netzung eine sehr geringe Schrumpfung. Daher kann 35 Beispiele
es als Ätzschutzschicht bei der Herstellung gedruckter _{f ür eine} Verwendung der lichtempfindlichen Gemische Schaltungen sowie von Halbleiterelementen verwen- _m Ätzschutzschichten
det werden; außerdem eignet es sich zur chemischen

Mikrofräsung sowie zur Herstellung vorsensibilisier- Beispiel 1
ter Druckplatten. Die Lösung aus dem Allylvorpoly- 40

merisat und einem Lösungsmittel ergibt nach der Ein lichtempfindliches Gemisch, das zur Herstel-

Trocknung einen nichtklebrigen Film, der während lung von Reliefbildern auf Kupferplatten oder zur

der Bestrahlung nicht an der Kopiervorlage anklebt. Herstellung von Druckplatten geeignet ist, wird wie

Durch Vorschrumpfen des Vorpolymerisats vor folgt hergestellt:

der Verwendung ist es möglich bei gedruckten Schal- 45 Allylmethacrylatvorpolymerisat 1,5 g

tungen oder bei chemischen Frasverfahren Details Methylisobutylketon 2,5 g

großenmaßig genau wiederzugeben, da wahrend der Cellosolveacetat 25g

weiteren Vernetzung des Allylestervorpolymerisats Benzil o'o5 s

durch bildmäßige Bestrahlung eine minimale Schrump- 4,4'-Bisl(dimethylämino)-benzophenon '.'.'. 0^01 g
fung auftritt. Dies ist deshalb der Fall, da die Allyl- 50

estervorpolymerisate vorher bis zu dem Punkt verar- Die Materialien werden unter leichtem Wärmeein-

beitet wurden, bei welchem praktisch die ganze An- fluß bis zur Auflösung vermischt. Die Lösung wird

derung des spezifischen Gewichts stattgefunden hat, dann filtriert und ist anschließend zur Verwendung be-

so daß sichergestellt ist, daß bei der bildmäßigen Be- reit. Zur Entwicklung der mit diesem lichtempfindstrahlung nur eine sehr geringe Schrumpfung auftritt. 55 liehen Gemisch herstellbaren Reliefbilder ist es vor-

Dies bedeutet, daß bei ins Detail gehenden Feinarbei- zuziehen, Methylcellosolveacetat als Entwickler zu

ten die Schrumpfung in dem photographischen Nega- verwenden, obwohl Ketone, wie beispielsweise Me-

tiv nicht kompensiert werden muß. thyläthylketon, oder chlorierte Lösungsmittel, wie

Ein weiterer Vorteil liegt in der Tatsache, daß das beispielsweiseTrichloräthylen, ebenfalls eingesetzt Vorpolymerisat zusammen mit den Photopolymerisa- 60 werden können,

tionsinitiatoren lange vor der Bestrahlung aufgelöst Beispiel 2
werden kann und dennoch eine ausgezeichnete Stabi-

lität und eine lange Lagerungsfähigkeit besitzt. Das 2,4 g eines Vorpolymerisats aus einem Copolymeri-

erfindungsgemäße lichtempfindliche Gemisch zeigt in sat von Allylmethacrylat mit Styrol wird in einer Lösung eine sehr gute Lagerfähigkeit. 65 Mischung aus 5,0 g Methylisobutylketon und 5,0 g

Die Allylestervorpolymerisate ungesättigter einbasi- Cellosolveacetat unter leichtem Erwärmen und Rüh-

scher Säuren und die Allylestervorpolymerisate ali- ren gelöst. Anschließend werden 0,48 g Benzoinme-

phatischer und aromatischer Polycarbonsäuren mit thyläther direkt der Lösung zugesetzt und bis zur Auf-

lösung mit dieser vermischt. Nach dem Filtrieren ist das Gemisch fertig zur Anwendung.

Beispiel 3

1,5 g Diallylsuccinat-Vorpolymerisat

5,0 g Methylisoamylketon
0,04 g Piperonal
0,02 g 4.4'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon

Beispiel 4

1,5 g Diallylmaleat-Vorpolymerisat 5,0 g Methylisoamylketon

0,2 g 4,4'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon

Beispiel 5

1,5 g Vorpolymerisat eines Copolymerisate aus

Diallylmaleat mit Methylmethacrylat 5,0 g Cellosolveacetat
0,02 g 4,4'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon

Beispiel 6

r\ 1,5 g Vorpolymerisat aus einem Copolymerisat

V aus Bernsteinsäureallylester mit Styrol

2,0 g Methylisobutylketon

2,0 g Xylol

1,0 g Cellosolveacetat
0,05 g 2-Keto-3-methyl-l,3-diazabenzanthron

Beispiel 7

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat 2,5 g Methylisobutylketon
2,5 g Cellosolveacetat
0,24 g Benzoinmethyläther

Die Materialien werden unter leichtem Wärmeeinfluß so lange vermischt, bis alles gelöst ist. Die Lösung wird dann filtriert, worauf sie für eine Verwendung bereit ist. Bei diesen lichtempfindlichen Gemischen wird vorzugsweise Xylol als Entwickler verwendet, obwohl Ketone, wie beispielsweise Methyläthylketon, oder chlorierte Lösungsmittel, wie beispielsweise Trichloräthylen, ebenfalls eingesetzt werden können.

Beispiel 8

2,4 g eines Vorpolymerisats aus Diallylisophthalat werden in einer Mischung aus 5,0 g Methylisobutylketon und 5,0 g Cellosolveacetat unter leichtem Erwärmen und Rühren gelöst. Dann werden 0,10 g Benzil und 0,01 g ρ,ρ'-Dimethylaminobenzophenon direkt zu der Lösung gegeben und bis zur Auflösung mit dieser vermischt. Nach der Filtrierung ist das Gemisch zur Anwendung bereit.

Beispiel 9

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat 5,0 g Methylisobutylketon
0,01 g 4,4'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon

B e i s ρ i e 1 10

1,5 g Trimellithsäuretriallylester-Vorpolymerisat 5,0 g Cellosolveacetat
0,01 g 4,4'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon

Beispiel 11

1,5 g Pyromellithsäuretetraallylester-Vorpoly-

merisat
2,5 g Xylol
2,5 g Isopropylacetat
0,01 g 4,4'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon

Die Arylallyl-Vorpolymerisate sind in den lichtempfindlichen Gemischen austauschbar und können durch dieselben Initiatoren sensibilisiert werden. Bei den nachstehenden Beispielen werden verschiedene Photopolymerisationsinitiatoren zusammen mit Diallylisophthalat verwendet.

Beispiel 12

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat
ίο 2,5 g Methylcellosolveacetat
2,5 g Toluol
0,1 g Benzil

Beispiel 13

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat
2,5 g Methylcellosolveacetat
2,5 g Toluol
0,25 g Benzoinmethyläther

Beispiel 14

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat
5,0 g Methylisobutylketon
0,5 g 1,2-Benzanthrachinon

Beispiel 15

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat

2,0 g Cellosolveacetat

3,0 g Diacetonalkohol

0,2 g 2-Methylanthrachinon

Beispiel 16

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat
2,0 g Methylisobutylketon
2,0 g Cellosolveacetat
1,0 g Toluol
0,15 g Piperonal

Beispiel 17

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat
2,0 g Methylisobutylketon
2,0 g Xylol
1,0 g Cellosolveacetat
0,05 g 2-Keto-3-methyl-l,3-diazabenzanthron

Beispiel 18

1,5 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat
2,0 g Methylisobutylketon
2,0 g Xylol
1,0 g Cellosolveacetat
0,05 g l-Methyl-2-benzoylmethylen-
-ß-naphthothiazolin

Die Herstellung und Verwendung eines Aufzeichnungsmaterials mit einer photopolymerisierbaren Schicht besteht aus folgenden Stufen:

Das lichtempfindliche Gemisch wird auf den Schichtträger durch Eintauchen, Aufsprühen, Überziehen mittels Walzen oder mittels anderer herkömmlicher Vorrichtungen aufgebracht. Die nasse Beschichtung wird gewöhnlich zur Erzielung einer gleichmäßigen Schicht ablaufen gelassen oder geschleudert. Nach dem Trocknen bei Zimmertemperatur oder leicht erhöhter Temperatur bei gedämpftem Licht wird das Aufzeichnungsmaterial in Kontakt mit einem photographischen Negativ gebracht und belichtet. Geeignete Lichtquellen sind Quecksilberdampflampen oder Kohlelichtbogen mit hoher Intensität. Die Bestrahlungszeiten schwanken von dem Bruchteil

ι no ei c /οι'

9 10

einer Minute bis zu einigen Minuten bei einer Ent- ein photographisches Negativ einer elektrischen Schalfernung von 60 bzw. 90 cm. Die Belichtung photo- tung sein kann, auf die lichtempfindliche Schicht 14 polymerisiert die getrocknete Schicht und macht sie aufgelegt ist. Die Kombination wird dann in den Vadamit in bestimmten organischen Lösungsmitteln kuumrahmen eines Kopiergerätes eingelegt und ein bildmäßig unlöslich. Das bestrahlte Aufzeichnungs- 5 bis drei Minuten lang mit einer stark intensiven Kohlematerial wird dann durch weniger als eine Minute lichtbogenbestrahlung aus einer Entfernung von 60 cm dauerndes Eintauchen bei Zimmertemperatur in ein bestrahlt, so wie dies durch die Pfeile 21 veranschauorganisches Lösungsmittel, wie beispielsweise Xylol licht wird. Nach der Bestrahlung wird das Aufzeichoder 1,1,1-Trichloräthan, entwickelt. Beim Eintau- nungsmaterial entfernt und die Schicht durch 30 Sechen löst das organische Lösungsmittel die nicht be- ίο künden dauernde vertikale Einbringung in einen Tank lichteten Stellen der Schicht, während die belichteten mit Methyläthylketon entwickelt. Das Aufzeichnungs-Stellen unversehrt auf dem Schichtträger zurückblei- material wird dann herausgenommen und 30 Sekunben. Das transparente Bild des photographischen Ne- den lang in einen zweiten Tank eingetaucht, der eine gativs wird auf diese Weise exakt als Maschenbild Farbstofflösung in einem organischen Lösungsmittel auf dem Schichtträger reproduziert. 15 enthält, um das normalerweise transparente Masken-

Nach der Entwicklung kann das Maskenbild, wel- bild sichtbar zu machen.

ches normalerweise transparent und farblos ist und Die F i g. 4 zeigt die Tafel nach der Spülung in

daher schwierig zu erkennen ist, durch weniger als fließendem Wasser zur Entfernung von anhaftender

1 Minute andauerndes Eintauchen in ein Färbebad, Entwicklerlösung und überschüssigem Farbstoff so-

welches einen synthetischen Farbstoff in einem ver- 20 wie nach der abschließenden Trocknung durch leichte

träglichen organischen Lösungsmittel enthält, gefärbt Erwärmung.

werden. Schließlich wird unter fließendem Wasser ge- Das Aufzeichnungsmaterial ist in diesem Zustand

waschen und getrocknet. zum Ätzen bereit; auf seiner Kupferoberfläche istjdas

Sollen die durch das Maskenbild nicht geschützten Bild der elektrischen Schaltung, welches aus einer Ätz-Metallgrundflächen geätzt werden, dann wird in ein ge- 25 schutzschicht aus trockenen, harten und polymerisiereignetes saures oder alkalisches Medium eingetaucht. ten Schichtteilen besteht. Die nicht durch das Masken-Eisen(III)-chlorid und Ammoniumpersulfat sind übli- bild bedeckte Oberfläche besteht aus blankem Kupfer, ehe Ätzmittel für Kupfer; Aluminium wird sowohl Die F i g. 5 zeigt das Material nach der Entfernung mittels Natriumhydroxyd als auch in verdünnter Salz- des blanken Kupfers durch ein geeignetes saures Ätzsäure auf elektrolytischem Wege geätzt. Bei anderen 3° mittel. Die Tafel kann in eine Sprüh-Ätzvorrichtung, Verfahren dient das Maskenbild als Zwischenstufe wie sie normalerweise in der Industrie verwendet wird, für Elektroplattierungsvorgänge sowie für Verdamp- die eine Lösung aus Eisen(III)-chlorid auf der Oberfungs-Filmbildungsverfahren; es kann ferner als opa- fläche versprüht, eingebracht werden. Die Eisen(III)-ker Film für Bilder aus transparenten Objekten als chlorid-Konzentration, normalerweise durch das spe-Kennzeichnung verwendet werden oder zur Erzielung 35 zifische Gewicht wiedergegeben, kann 38° Baume bevon dekorativen Wirkungen dienen. Beim Photo- tragen. Binnen einiger Minuten wird das nicht gefräsen, welches ein relativ neues Verfahren zur Herstel- schützte Kupfer auf der Tafeloberfläche vollständig lung kleiner exakter Metallteile aus dünnen Metall- weggeätzt. Die Tafel wird dann entfernt und gründlich folien darstellt, wird das Maskenbild auf beide Seiten zur Entfernung von Spuren Eisen(III)-chlorid gewader Folie in genau übereinstimmender Raststellung 40 sehen und anschließend getrocknet,
aufgebracht. Das Metallätzmittel wird dann auf beide Die F i g. 6 zeigt die Platte nach dem Eintauchen Seiten zur Entfernung von unerwünschtem Metall in ein Lösungsmittel, wie beispielsweise Trichloräthyeinwirken gelassen. len oder Methyläthylketon, um die Ätzschutzschicht

Die Zeichnungen erläutern die Verwendung der be- aufzuweichen, welche durch Behandlung mit einem schriebenen lichtempfindlichen Gemische bei einem 45 milden, abreibend wirkenden Reinigungsmittel ent-Verfahren zur Herstellung gedruckter Schaltungen. fernt werden kann, wobei die elektrische Schaltung aus Die F i g. 1 zeigt eine Grundplatte 11, die eine Metall- Kupfer zurückbleibt. Die fertiggestellte Schaltung kann schicht 12 mit einer Dicke von 0,035 mm aus Kupfer in heißem Wasser gespült und getrocknet werden,
besitzt, die auf einen Schichtträger aus einem Phenol- Vorstehend wurde also gezeigt, wie bestimmte lichtharz mit einer Dicke von 1,5 mm, so wie sie gewöhn- 50 empfindliche Gemische, welche Vorpolymerisate von lieh bei der Herstellung von gedruckten Schaltungen Allylestern ungesättigter einbasischer Säuren, Vorpolyverwendet wird, aufgeschichtet ist. Die Grundplatte 11 merisate von Copolymerisaten aus Allylestern ungesollte mit einem abreibend wirkenden Reinigungsmittel sättigter einbasischer Säuren, Vorpolymerisate von gesäubert und getrocknet werden. Allylestern aliphatischer Carbonsäuren und aromati-

Die F i g. 2 ist ein Querschnitt durch die Grund- 55 scher Carbonsäuren mit zwei oder mehr Allylgruppen

platte 11, nachdem das beschriebene, lichtempfindliche und Vorpolymerisate von Copolymerisaten aus AUyI-

Gemisch auf die Oberfläche der Kupferschicht 12 estern aliphatischer und aromatischer Carbonsäuren

unter Bildung der lichtempfindlichen Schicht 14 auf- mit zwei oder mehr Allylgruppen und bestimmte

getragen wurde. Die Auftragung erfolgte durch Über- Photopolymerisationsinitiatoren enthalten, bei der

gießen, wobei überschüssige Mengen an lichtempfind- 60 Herstellung gedruckter Schaltungen verwendet werden

lichem Gemisch durch einige Minuten dauerndes können.

vertikales Halten der Tafel abfließen gelassen werden. Die beschriebenen, lichtempfindlichen Gemische sind Die Schicht wird dann durch 10 Minuten dauerndes ferner für die Herstellung von Offset-Druckplatten geEinbringen des Aufzeichnungsmaterials 11 in einen eignet, wobei sie viele Vorteile gegenüber den derzeit Ofen mit einer Temperaur von ungefähr 50° C getrock- 65 verwendeten diazosensibilisierten Druckplatten, die net. Nach der Entfernung aus dem Ofen ist die Schicht gegen Luftfeuchtigkeit empfindlich sind und eine Unglatt, glänzend und hart. terschicht auf dem Metallsubstrat erfordern, um das

Die F i g. 3 zeigt, wie eine Kopiervorlage 15, die Metall an einer Umsetzung mit dem Diazomaterial

und der damit verbundenen Härtung zu hindern, durch welche die Eignung zum Drucken verlorengeht, bieten. Zusätzlich haftet den Diazomaterialien der Nachteil an, daß mit ihnen weniger lang gedruckt werden kann, außerdem erfordern sie nach der Entwicklung die Aufbringung einer geeigneten Schicht, um längere Druckzeiten zu ermöglichen.

Die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Gemische werden nicht durch Metallsubstrate beeinflußt, sogar nicht, wenn diese aus Aluminium bestehen. Daher ist bei der Herstellung von Druckplatten keine Unterschicht erforderlich. Zusätzlich werden extrem lange Druckzeiten ermöglicht, ohne daß dabei eine spezielle Behandlung nach der Entwicklung erforderlich wäre.

Die Herstellung von Druckplatten erfolgt derart, daß das entfettete Metallblech mit dem erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Gemisch beschichtet, getrocknet und durch eine geeignete Kopiervorlage belichtet wird, worauf die Entwicklung durch Eintauchen in ein geeignetes Lösungsmittel erfolgt; anschließend an die Entwicklung wird mit Wasser gespült und getrocknet. Dann wird mit einem Tuch eine verdünnte Phosphorsäurelösung auf die Oberfläche aufgetragen, um die exponierte Aluminiumoberfläche wasserempfänglich zu machen. Die nicht abgelösten Schichtteile schützen das von ihnen bedeckte Metall vor der Phosphorsäure.

Während des Drückens nimmt das frei liegende Aluminium Wasser auf, während die Schichtteile, die infolge ihrer Nichtpolarität aufnahmefähig für Druckfarben sind, Druckfarben aufnehmen. Die starke Haftung der entwickelten Schicht an dem Metallsubstrat und die hohe Abriebfestigkeit der photopolymerisierten Schicht gewährleisten eine lange Druckdauer.

Nachstehend wird die Herstellung vorsensibilisierter Druckplatten unter Verwendung der erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Gemische an Hand von Beispielen näher erläutert:

Druckplatten

die lichtempfindliche Schicht als farbloser, trockener Film auf der Metalloberfläche vor.

Die vorsensibilisierte Druckplatte wird bei gedämpfter Beleuchtung, so wie sie normalerweise bei der Plattenherstellung vorherrscht, bearbeitet.

Die Platte wird mit einer transparenten Kopiervorlage bedeckt und mittels eines Kohlelichtbogens, einer Quecksilberdampflampe oder einer anderen Quelle ultravioletten Lichtes bestrahlt. Nach der Bestrahlung wird die Platte zur Entfernung des nicht gehärteten Polymerisats entwickelt, indem die Platte mit Xylol, 1,1,1-Trichloräthan, Methyläthylketon, Trichloräthylen oder einer Mischung ähnlicher Lösungsmittel bedeckt wird. Die Kontaktzeit vor dem Wegspülen der Entwicklungslösung mit Wasser beträgt ungefähr 1 Minute. Das Bild, das sich aus dem lichtgehärteten Harz zusammensetzt, ist zu diesem Zeitpunkt sichtbar. Das gehärtete Polymerisatbild ist hydrophob und läßt Wasser abperlen, während die Metallplatte, von der das lösliche lichtempfindliche Polymerisat entfernt wurde, vollständig durch Wasser benetzt ist. Nach der Spülung wird das überschüssige Wasser entfernt und die Platte anschließend mit einer herkömmlichen Gummiarabikum-Lösung und verdünnter Phosphorsäure bedeckt. Eine Entwicklungstinte auf 01-basis, die das gehärtete Polymerisat benetzt oder zu diesem eine Affinität besitzt, wird als nächstes über die Platte gerieben, um das Bild für Korrekturen sichtbar werden zu lassen. Eine saubere, scharfgezeichnete, schaumfreie Platte, die bei einem lithographischen Druckverfahren zur Herstellung einer Vielzahl von Drucken verwendet werden kann, ist das Ergebnis.

In der beschriebenen Weise wurde eine Platte mit

einem Bild hergestellt, das sich aus Linien, Halbtönen und gitterartigen Tintenflächen zusammensetzt; diese Platte wurde in einer lithographischen Offset-Presse verwendet. Nach 250000 scharfen, klaren Drucken bestand die einzige feststellbare Abnützung darin, daß die Punktstruktur etwas abgewetzt war, wobei keine Aufrauhung oder Abblätterung der Bildstruktur festgestellt werden konnte.

Beispiel 19

Ein lichtempfindliches Gemisch für eine Beschichtungslösung, die zur Herstellung von Druckplatten verwendet wird, hat folgende Zusammensetzung:

12 g Diallylisophthalat-Vorpolymerisat
55 g Xylol

33 g 4-Methoxy-4-methyl-pentanon-2
0,1 g Benzil 0,1 g Michler's Keton
0,4 g Xanthon

Das Vorpolymerisat wird in dem Xylol gelöst und die Lösung zur Entfernung unlöslicher Fraktionen durch Filtration oder Zentrifugieren gereinigt. Die Photopolymerisationsinitiatoren — Benzil, Michler's Keton und Xanthon — werden in 4-Methoxy-4-methyl-pentanon-2 gelöst und gründlich mit der Polymerisatlösung vermischt. Die Beschichtungslösung ist dann für die Verwendung bereit.

Diese Lösung wird mittels eines Schleuderauftragungsverfahrens zur Erzeugung einer einheitlichen Schicht mit einer Stärke von 2,54 μ auf ein Aluminiumblech aufgetragen. Nach der Verdampfung eines Teils des Lösungsmittels wird die Platte 5 Minuten lang auf 50°C erhitzt, um den größten Teil des restlichen Lösungsmittels zu entfernen. Nach dem Abkühlen liegt

Beispiel 20

Ein zweiter Plattentyp besteht aus einem Laminat aus Aluminium, einer Substratschicht, einer lichtempfindlichen Diazoschicht sowie einer Schicht aus einem lichtempfindlichen Diallylisophthalat-Vorpolymerisat.

Nach der in der USA.-Patentschrift 2 714 066 beschriebenen Weise wurde eine Grundplatte hergestellt, indem eine Aluminiumplatte mit glatter Oberfläche mit einer Trinatriumphosphatlösung behandelt wurde, die anschließend mit verdünnter Säure neutralisiert und mit Wasser weggespült wurde. Die Platte wurde dann mit einer wäßrigen Natriumsilikatlösung behandelt und erneut sauber gewaschen, anschließend erfolgte eine Beschichtung mit einem anfangs wasserlöslichen lichtempfindlichen Diazo-(p-diazodiphenylamin-formaldehyd)-harz. Die Platte wurde dann mit der im Beispiel 19 beschriebenen Xylollösung in der dort angegebenen Weise überschichtet.

Sowohl die Allylvorpolymerisat- als auch die Diazoharzschichten sind lichtempfindlich. Nach der Bestrahlung mit Licht, wobei ein Raster-Negativ aufgelegt wird, erhärten beide Schichten. Die nicht gehärtete Diazoverbindung bleibt wasserlöslich. Zur Entwicklung der belichteten Platte wird eine Emulsion der nachstehend angegebenen Zusammensetzung

Claims

13 14

über eine Platte gegossen und mittels eines Schwam- Das Diallylterephthalat-Vorpolymerisat wurde in

mes über ihre Oberfläche glattgestrichen: Xylol und 4-Methoxy-4-methyl-pentanon-2 gelöst,

Aromatisches Kohlenwasserstofflösungs- ^worauf £^{e Lös}™S durch einen Büchner-Trichter mit

mittel (Siedebereich 120 bis 177⁰C) 25 f^mem Dicaht-Filtermedium filtriert wurde, bis sie

Wasser 75 ^{5 klar war}-

Nonylphenylpoiyäthöxyäthänol &^ie Lösung wurde dann durch Zugabe von 4 4'-Bis-

(Triton N-IOO) 3 (dimethylamino)-benzophenon, Benzil und Benzo-' phenon sensibilisiert. Sie wurde dann auf einem Alu-Auf diese Weise genügt es, einige Minuten zu ent- miniumblech (152 · 152 mm) vergossen, trocknen gewickein, um die nicht gehärteten lichtempfindlichen io lassen und dann 10 Minuten in einem Ofen bei einer Schichtteile zu entfernen. Nach einer kurzen Wasser- Temperatur bon 43 bis 45° C getrocknet. Bei der 3 Mispülung wird eine angesäuerte Gummilösung über die nuten dauernden Bestrahlung mit einer 400-Watt-Platte verstrichen. Als nächstes wird Tinte aufgetragen, Quecksilberdampflampe mit einem konischen Reflekum das Druckbild in Erscheinung treten zu lassen. tor aus einer Entfernung von 45,7 cm wurde ein zu-

Gemäß diesem Beispiel wird eine Entwicklung er- 15 friedenstellendes Bild erhalten,
möglicht, die so einfach und auf herkömmliche Weise

durchzuführen ist wie jene, die für eine in normaler B e i s ρ i e 1 24
Weise vorsensibilisierte und durch Wischen entwickelbare Diazoplatte verwendet wird. Nichtsdestoweniger Das Beispiel 23 wurde wiederholt, wobei an Stelle weist diese Platte alle Vorteile hinsichtlich chemischer 20 des Diallylterephthalat-Vorpolymerisats ein Pyromel-Widerstandsfähigkeit und Widerstandsfähigkeit ge- lithsäuretetraallylester - Vorpolymerisat verwendet gen Abrieb auf, und zwar deshalb, da ihre Ober- wurde. Das Pyromellithsäuretetraallylester-Vorpolyflächenschicht aus einem gehärteten Allylvorpolymeri- merisat ergab bei einer etwas kürzeren Belichtungszeit sat besteht. Obwohl die Diazoharzschicht dafür be- ein zufriedenstellendes Bild,
kannt ist, daß sie beim Lagern gegen Wasserdampf 25

empfindlich ist, besitzt die neue Platte diesen Nachteil Patentansprüche:
nicht, da die Diazoschicht gegen Feuchtigkeit durch

eine aus einem Allylpolymerisat bestehende Schicht 1. Lichtempfindliches Gemisch aus einem äthy-

geschützt ist. lenisch ungesättigte Gruppen aufweisenden Vor-

BeisDiel 21 ³° polymerisat und einem Benzoinäther, einem p,p'-di-

substituierten Benzophenon, einem ein- oder mehr-

Eine photosensibilisierte Mellithsäuretriallylester- kernigen Chinon, einem aromatischen Dikton,

Vorpolymerisatlösung wurde in der im Beispiel 19 einer substituierten Arylmethylendioxyverbindung,

für Diallylisophthalat beschriebenen Weise hergestellt. einem substituierten /J-Benzo- oder -Naphtho-

Nach der Beschichtung eines Aluminium-Schichtträ- 35 thiazolin, einem substituierten /S-Benzo- .oder

gers wurde dieser durch einen Graukeil hindurch belich- -Naphthoselenazolin, einem Anthron, Benzan-

tet; die belichtete Platte wurde nach der im Beispiel 19 thron oder Azabenzanthron als Photopolymerisa-

beschriebenen Weise entwickelt und mit einer schwarzen tionsinitiator, dadurch gekennzeich-

Vordrucktinte bestrichen. Bei einer 1 Minute dauern- net, daß das lichtempfindliche Gemisch ein durch

den Bestrahlung in einem Belichtungsgerät wurde eine 40 Lösungsmittelpolymerisation bis zur Gelbildung

Empfindlichkeitsleitzahl von 8 erhalten. vorpolymerisiertes, in fester Form ausgefälltes und

. in organischen Lösungsmitteln lösliches Vorpoly-

Beispiel LL merisat oder Vor-Copolymerisat eines Allylester

Dasselbe Verfahren wurde mittels eines Triallyl- einer ungesättigten einbasischen Säure oder eines

cyanurat-Vorpolymerisats durchgeführt. Die sensibili- 45 Allylesters mit zwei oder mehr Allylgruppen einer

sierte Beschichtungslösung wurde nach der im Bei- aliphatischen oder aromatischen Dicarbonsäure

spiel 19 beschriebenen Arbeitsweise hergestellt. Die oder Vor-Copolymerisate der genannten Allyl-

Belichtung und Entwicklung der Platte sowie deren wei- ester mit anderen äthylenisch ungesättigten Mono-

tere Verarbeitung wurden wie im Beispiel 19 vorgenom- meren enthält, dessen bzw. deren äthylenisch un-

men. 50 gesättigte Gruppen zu 25 bis 40% vorpolymerisiert

Bei einer Bestrahlung unter den im Beispiel 12 be- sind.

schriebenen Bedingungen wurde eine Empfindlich- 2. Lichtempfindliches Gemisch nach Anspruch 1, keitsleitzahl von 11 erhalten, was darauf hindeutet, dadurch gekennzeichnet, daß es ein Vorpolymerisat daß diese Schicht etwas lichtempfindlicher ist als die des Diallylisophthalats enthält,
im Beispiel 21 verwendete Schicht. 55 3. Vorsensibilisierte Druckplatte aus einem τ. . . . Schichtträger und einer darauf befindlichen licht- ±5 e 1 s ρ 1 e 1 empfindlichen Schicht, dadurch gekennzeichnet, Aus den nachstehend angegebenen Bestandteilen daß sie eine lichtempfindliche Schicht aus dem lichtwurde eine sensibilisierte Vorpolymerisatlösung her- empfindlichen Gemisch gemäß Anspruch 1 aufgestellt: 60 weist.

12,0 g Diallylterephthalat-Vorpolymerisat 4. Vorsensibilisierte Druckplatte nach An-

40,0 g Xylol spruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die licht-

12,0 g 4-Methoxy-4-methyl-pentanon-2 empfindliche Schicht ein Vorpolymerisat des Di-

0,08 g 4,4'-Bis-(dimethylamino)-benzophenon allylisophthalats, des Diallylterephthalats, des Tri-

0,4 g Benzophenon 65 allylcyanurats, des Mellithsäuretriallylesters oder

0,3 g Benzil des Pyromellithsäuretriallylesters enthält.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen