DE1521039A1 - Maske fuer Abbildungen hoher Randschaerfe - Google Patents

Maske fuer Abbildungen hoher Randschaerfe

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DE1521039A1
DE1521039A1 DE19641521039 DE1521039A DE1521039A1 DE 1521039 A1 DE1521039 A1 DE 1521039A1 DE 19641521039 DE19641521039 DE 19641521039 DE 1521039 A DE1521039 A DE 1521039A DE 1521039 A1 DE1521039 A1 DE 1521039A1
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DE
Germany
Prior art keywords
mask
film
mask image
openings
cathode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19641521039
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English (en)
Inventor
Andreas Lewicki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Telefunken Patentverwertungs GmbH
Original Assignee
Telefunken Patentverwertungs GmbH
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Filing date
Publication date
Application filed by Telefunken Patentverwertungs GmbH filed Critical Telefunken Patentverwertungs GmbH
Publication of DE1521039A1 publication Critical patent/DE1521039A1/de
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/20Masks or mask blanks for imaging by charged particle beam [CPB] radiation, e.g. by electron beam; Preparation thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C8/00Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C8/04Treatment of selected surface areas, e.g. using masks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/02Local etching
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00Electroforming
    • C25D1/10Moulds; Masks; Masterforms

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description

  • "Maske zur Herstellung von Abbildungen hoher Randschärfe auf einem Substrat'I Die Erfindung betrifft eine Maske zur Herstellung von Abbildungen hoher Randschärfe auf einem Substrate bestehend aus einer Folie mit darin enthaltenen Öffnungen.
  • Bei der Herstellung von elektrotechnischen Bauelementen werden vielfach Masken benutzt, mit deren Hilfe man z. B. Widerstände, Leitungsbahnen und Kontaktierungsflächen auf Transistoren und Dioden durch Aufdampfen erzeugt. Bei der praktischen Ausführung verdampft man be- stimmte Substanzen im Hochvakuum, sie treten dann in Form von Teilchenstrahlen durch die Öffnungen der Maske und kondensieren auf einem hinter der Maske befindlichen Substrat. Die Teilchenstrahlen bewirken eine Abbildung der Konturen der Maskenöffnung auf dem Substrat in Form des auf diesem kondensierten Dünnfilms. Es hat sich nun gezeigte daß die Ränder des auf dem Substrat kondensierten Dünnfilms umso schärfer werden, je dünner die Masken= folie am Rand der Maskenöffnung ist. Der Dicke der Maskenfo- lie ist jedoch dadurch eine untere Grenze gesetzt, daß an die mechanische Stabilität der Maske gewisse Anforderungen ge- stellt werden müssen, besonders dann' wenn die Maske relativ groß und freitragend sein soll.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Maske der ein- gangs genannten Art anzugeben, die sich durch eine hohe mecha- nische Stabilität auszeichnet. Die Erfindung besteht bei dieser Maske darin, daß die Ränder der Öffnungen eine in bezug auf die übrige Folienstärke geringe Starke aufweisen.
  • Ein Ausführungsbeispiel der Lrfindlzrg ist in der Abbildung dargestellt. Die Fig. a zeigt einen Ausschnitt aus einer erfindungsgemäßen .Maske mit kreisförmigen Öffnungen'1 in Aufsicht von obern 2 sind die Ränder der Öffnungen, 3 ist die Folie, z. Il. eine Nickelfolie. Die Fig, b zeigt einen Quer-schnitt durch die erfindungsgemäße Maske in der Ebene des Schnittes AA der Fig, a.
  • Bei der Erfindung ist es oft zweckmäßig, anstelle der gezeig- ten kreisförmigen Maskenöffnungen diesen Öffnungen eine bliebige Gestalt, v. B" eine qu&d4z^ativzhe oder rechteckige, zii geben.
    Im fdigend#t! aal eit Verfahren zur lipratnllung einer 'erfindunge-
    t®twderi Mget«Abbildühgen hoher hand$chärfe beschrieben. Es
    wird eiri giirahisehes $ad benutzt, welches z:. B. ein Nickelsalz
    enthält: Auf ¢i4.Oberfläahe der zugehörigen Kathode wird mit Hilfe
    der Phtitom&skehteohnik das genaue Maskenbild, z. B. das der Figur
    Mit den ffnuxen l aufgebracht. Dä,nn Wird auf galvanischem Wege
    title dem Bad ein`4etall, z: B. Nickel" auf der I,ie niederge-
    schlagen, wobei schon die gewünschte Maskenform e@.,teht, Die
    galvanische AbsÖheidung des Metalls auf der Kathode wird nach Er-
    reichen einer sehr geringe- "8fe, z. B. 5 bis lo /u, abgebrochen.
    Nun wir' in einem zweiten, w@ -:.er, tolerierten Photo:naskierungs-
    schritt ein z,4 `.tes Masker.'z: z i,::. -iut d-,;#- auf lter Ka@"lizde abgeschli:-
    i ,
    die dene Öffnurw.. Maaker.rc"@=oht n 2 der auf Figur geb-' besitzt, ># s.# 'BA.P .or( @rw. :he *@e <, @y z' f
    Abstand "von 1o bis loo ru, zum-ersten Maskenbild dars'";-len, Ab-
    schließend erfolgt in einem zweiten Galvanisierungsprozeß ein erneutes Abscheiden von Metall, wobei das zweite Maskenbild soweit verstärkt wird, z. B. auf 5o bis 300 @u Dicke, daß es als Träger eine ausreichende techaniaohe Atabilität besitzt.
  • Ein weiteres Ausführungsbeispiel für das erfindungegemäße Verfahren ist folgendes: Das genaue Maskenbild, z. B, das der Figur mit den Öffnungen 1, wird mit Hilfe der Photomaakentechnik auf die eine Seite einer dtinnen Folie aufgebracht und dann mittels eines Ätz-
    'mittels einige),/u tief in die Folie eingeätzt. Dann wird die andere
    Seite der Folie in einen zweiten Phatomaskierungssehritt mit einem
    Maskenbild mit erweiterten Öffnungen:,- z. B. das der Figur mit den
    Öf'f'nungen 2, abgedeckt und von dieser Seite her in einem zweiten
    Ätzgarig bis zur Tiefe der kleineren Öffnungen des ersten Masken- .
    Bildes durehgeätzt. _
    Um noch präzisere Ränder der Maskenöffnungen zu erhalten, ist es@ .
    erfindungogemUß such möglich,: als Xtzfolie eln: doppelschichtiges
    Material." z. X-, plattestes Metall, metallisiertes Glas oder
    Keramik und ähnliches zu. verwenden, wobei beide Schichten auf
    unterschiedliche Ätzbäder ansprechen.

Claims (4)

  1. p a t e n t a ;.~n s p r- ü ehe 1. Maske zur Herstellung von Abbildungen hoher Randschärfe auf einem Substrat bestehend aus einer Folie mit darin enthaltenden Öffnungen, dadurch gekennzeichnete daß die Ränder der Öffnungen von der dem Substrat entgegengesetzten Seite aus derart erweitert sind, daß die stehenbleibenden Ränder eine in bezug auf die übrige Folienstärke geringe Stärke aufweisen.
  2. 2. Verfahren zur Herstellung einer. Maske gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das genaue Maskenbild auf photolithographischem Weg auf eine Kathodenfläche aufgebracht wird' dann auf die Kathode ein Metall galvanisch niedergese:alagen wird' anschließend ein zweites' gegenüber dem ersten Maskenbild erweitertes Maskenbild photolithographisch aufgebracht wird und daraufhin erneut Metall galvanisch auf der Kathode abgeschieden wird.
  3. 3. Verfahren zur Herstellung einer Maske gemäß Anspruch 1, da= durch gekennzeichnete daß das genaue Maskenbild auf photolithographischem Wege auf die eine Seite einer Folie aufgebracht und dann einige /u tief in die Folie eingeätzt wird' anschließend die andere Seite der#Folie auf photolithographischem Weg mit einem zweiten? gegenüber dem ersten Maskenbild erweiterten Maoenbild versehen wird und daraufhin dies Folie von der zuletzt genannten-Seite her bis zur Tiefes der kleineren Öffnungen des ersten Masken- bildes durchgeätzt wird
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Folie ein doppelschichtiges Material verwendet wird, wobei eine dicke Ttägerschieht festhaftend. reit einer dünnen Schicht verbünden Ist und beide Schichten auf-verschiedene Ätzlösungen ansprechen,.
DE19641521039 1964-09-24 1964-09-24 Maske fuer Abbildungen hoher Randschaerfe Pending DE1521039A1 (de)

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DE (1) DE1521039A1 (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001040533A1 (fr) * 1999-12-01 2001-06-07 L'air Liquide Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Procede et installation de traitement de surface selectif
FR2801905A1 (fr) * 1999-12-03 2001-06-08 Air Liquide Procede et installation de traitement de surface selectif

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2001040533A1 (fr) * 1999-12-01 2001-06-07 L'air Liquide Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude Procede et installation de traitement de surface selectif
FR2801905A1 (fr) * 1999-12-03 2001-06-08 Air Liquide Procede et installation de traitement de surface selectif

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