DE1521039A1 - Maske fuer Abbildungen hoher Randschaerfe - Google Patents
Maske fuer Abbildungen hoher RandschaerfeInfo
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- DE1521039A1 DE1521039A1 DE19641521039 DE1521039A DE1521039A1 DE 1521039 A1 DE1521039 A1 DE 1521039A1 DE 19641521039 DE19641521039 DE 19641521039 DE 1521039 A DE1521039 A DE 1521039A DE 1521039 A1 DE1521039 A1 DE 1521039A1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/20—Masks or mask blanks for imaging by charged particle beam [CPB] radiation, e.g. by electron beam; Preparation thereof
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C8/00—Solid state diffusion of only non-metal elements into metallic material surfaces; Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive gas, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C8/04—Treatment of selected surface areas, e.g. using masks
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/02—Local etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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Description
- "Maske zur Herstellung von Abbildungen hoher Randschärfe auf einem Substrat'I Die Erfindung betrifft eine Maske zur Herstellung von Abbildungen hoher Randschärfe auf einem Substrate bestehend aus einer Folie mit darin enthaltenen Öffnungen.
- Bei der Herstellung von elektrotechnischen Bauelementen werden vielfach Masken benutzt, mit deren Hilfe man z. B. Widerstände, Leitungsbahnen und Kontaktierungsflächen auf Transistoren und Dioden durch Aufdampfen erzeugt. Bei der praktischen Ausführung verdampft man be- stimmte Substanzen im Hochvakuum, sie treten dann in Form von Teilchenstrahlen durch die Öffnungen der Maske und kondensieren auf einem hinter der Maske befindlichen Substrat. Die Teilchenstrahlen bewirken eine Abbildung der Konturen der Maskenöffnung auf dem Substrat in Form des auf diesem kondensierten Dünnfilms. Es hat sich nun gezeigte daß die Ränder des auf dem Substrat kondensierten Dünnfilms umso schärfer werden, je dünner die Masken= folie am Rand der Maskenöffnung ist. Der Dicke der Maskenfo- lie ist jedoch dadurch eine untere Grenze gesetzt, daß an die mechanische Stabilität der Maske gewisse Anforderungen ge- stellt werden müssen, besonders dann' wenn die Maske relativ groß und freitragend sein soll.
- Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Maske der ein- gangs genannten Art anzugeben, die sich durch eine hohe mecha- nische Stabilität auszeichnet. Die Erfindung besteht bei dieser Maske darin, daß die Ränder der Öffnungen eine in bezug auf die übrige Folienstärke geringe Starke aufweisen.
- Ein Ausführungsbeispiel der Lrfindlzrg ist in der Abbildung dargestellt. Die Fig. a zeigt einen Ausschnitt aus einer erfindungsgemäßen .Maske mit kreisförmigen Öffnungen'1 in Aufsicht von obern 2 sind die Ränder der Öffnungen, 3 ist die Folie, z. Il. eine Nickelfolie. Die Fig, b zeigt einen Quer-schnitt durch die erfindungsgemäße Maske in der Ebene des Schnittes AA der Fig, a.
- Bei der Erfindung ist es oft zweckmäßig, anstelle der gezeig- ten kreisförmigen Maskenöffnungen diesen Öffnungen eine bliebige Gestalt, v. B" eine qu&d4z^ativzhe oder rechteckige, zii geben.
Im fdigend#t! aal eit Verfahren zur lipratnllung einer 'erfindunge- t®twderi Mget«Abbildühgen hoher hand$chärfe beschrieben. Es wird eiri giirahisehes $ad benutzt, welches z:. B. ein Nickelsalz enthält: Auf ¢i4.Oberfläahe der zugehörigen Kathode wird mit Hilfe der Phtitom&skehteohnik das genaue Maskenbild, z. B. das der Figur Mit den ffnuxen l aufgebracht. Dä,nn Wird auf galvanischem Wege title dem Bad ein`4etall, z: B. Nickel" auf der I,ie niederge- schlagen, wobei schon die gewünschte Maskenform e@.,teht, Die galvanische AbsÖheidung des Metalls auf der Kathode wird nach Er- reichen einer sehr geringe- "8fe, z. B. 5 bis lo /u, abgebrochen. Nun wir' in einem zweiten, w@ -:.er, tolerierten Photo:naskierungs- schritt ein z,4 `.tes Masker.'z: z i,::. -iut d-,;#- auf lter Ka@"lizde abgeschli:- i , die dene Öffnurw.. Maaker.rc"@=oht n 2 der auf Figur geb-' besitzt, ># s.# 'BA.P .or( @rw. :he *@e <, @y z' f Abstand "von 1o bis loo ru, zum-ersten Maskenbild dars'";-len, Ab- - Ein weiteres Ausführungsbeispiel für das erfindungegemäße Verfahren ist folgendes: Das genaue Maskenbild, z. B, das der Figur mit den Öffnungen 1, wird mit Hilfe der Photomaakentechnik auf die eine Seite einer dtinnen Folie aufgebracht und dann mittels eines Ätz-
'mittels einige),/u tief in die Folie eingeätzt. Dann wird die andere Seite der Folie in einen zweiten Phatomaskierungssehritt mit einem Maskenbild mit erweiterten Öffnungen:,- z. B. das der Figur mit den Öf'f'nungen 2, abgedeckt und von dieser Seite her in einem zweiten Ätzgarig bis zur Tiefe der kleineren Öffnungen des ersten Masken- . Bildes durehgeätzt. _ Um noch präzisere Ränder der Maskenöffnungen zu erhalten, ist es@ . erfindungogemUß such möglich,: als Xtzfolie eln: doppelschichtiges Material." z. X-, plattestes Metall, metallisiertes Glas oder Keramik und ähnliches zu. verwenden, wobei beide Schichten auf unterschiedliche Ätzbäder ansprechen.
Claims (4)
- p a t e n t a ;.~n s p r- ü ehe 1. Maske zur Herstellung von Abbildungen hoher Randschärfe auf einem Substrat bestehend aus einer Folie mit darin enthaltenden Öffnungen, dadurch gekennzeichnete daß die Ränder der Öffnungen von der dem Substrat entgegengesetzten Seite aus derart erweitert sind, daß die stehenbleibenden Ränder eine in bezug auf die übrige Folienstärke geringe Stärke aufweisen.
- 2. Verfahren zur Herstellung einer. Maske gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das genaue Maskenbild auf photolithographischem Weg auf eine Kathodenfläche aufgebracht wird' dann auf die Kathode ein Metall galvanisch niedergese:alagen wird' anschließend ein zweites' gegenüber dem ersten Maskenbild erweitertes Maskenbild photolithographisch aufgebracht wird und daraufhin erneut Metall galvanisch auf der Kathode abgeschieden wird.
- 3. Verfahren zur Herstellung einer Maske gemäß Anspruch 1, da= durch gekennzeichnete daß das genaue Maskenbild auf photolithographischem Wege auf die eine Seite einer Folie aufgebracht und dann einige /u tief in die Folie eingeätzt wird' anschließend die andere Seite der#Folie auf photolithographischem Weg mit einem zweiten? gegenüber dem ersten Maskenbild erweiterten Maoenbild versehen wird und daraufhin dies Folie von der zuletzt genannten-Seite her bis zur Tiefes der kleineren Öffnungen des ersten Masken- bildes durchgeätzt wird
- 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Folie ein doppelschichtiges Material verwendet wird, wobei eine dicke Ttägerschieht festhaftend. reit einer dünnen Schicht verbünden Ist und beide Schichten auf-verschiedene Ätzlösungen ansprechen,.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DET0027073 | 1964-09-24 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1521039A1 true DE1521039A1 (de) | 1969-04-17 |
Family
ID=7553242
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19641521039 Pending DE1521039A1 (de) | 1964-09-24 | 1964-09-24 | Maske fuer Abbildungen hoher Randschaerfe |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1521039A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001040533A1 (fr) * | 1999-12-01 | 2001-06-07 | L'air Liquide Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Procede et installation de traitement de surface selectif |
FR2801905A1 (fr) * | 1999-12-03 | 2001-06-08 | Air Liquide | Procede et installation de traitement de surface selectif |
-
1964
- 1964-09-24 DE DE19641521039 patent/DE1521039A1/de active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001040533A1 (fr) * | 1999-12-01 | 2001-06-07 | L'air Liquide Societe Anonyme A Directoire Et Conseil De Surveillance Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Procede et installation de traitement de surface selectif |
FR2801905A1 (fr) * | 1999-12-03 | 2001-06-08 | Air Liquide | Procede et installation de traitement de surface selectif |
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