DE1519897A1 - Verfahren und Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Stabes,insbesondere Halbleiterstabes - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Stabes,insbesondere HalbleiterstabesInfo
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Description
SIEMENS-SCHUCKERTWERKE Erlangen -" 5. AIiG. 7966
Aktiengesellschaft Weraer-von-Sienens-Str.
PLA 66/1537
Verfahren und Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines
kristallinen Stabes, insbesondere Halbleiterstabes
Zusatz zum Patent (Anm. S 89 317 IVc/i2c - DAS 1 218
PLA 64/1043)·
Das Hauptpatent (DAS 1 218 404 - PLA 64/1043) betrifft
ein Verfahren zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines lotrecht an
seinen Enden gehalterten kristallinen Stabes, insbesondere Halbleiterstabes, dessen Halterungen/ von denen mindestens eine um
ihre lotrechte Achse in Drehung versetzt wird, relativ zueinander
und zu einer den Stab ringförmig umgebenden Heizeinrichtung in Richtung der Stabachse mit derart aufeinander abgestimmten
- 1 109887/U32 Hl/Ca
Geschwindigkeiten bewegt werden, daß die Dicke des aus der Schmelze wieder erstarrenden Stabteiles über die lichte Weite
der Heizeinrichtung hinaus vergrößert wird, wobei ferner die Halterung des wieder erstarrenden Stabteiles relativ zur Heizeinrichtung
seitlich verschoben wird. Hierbei sind zu Beginn des Verfahrens die beiden Halterungen des Stabes in der gleichen lotrechten
Achse angeordnet. Anschließend wird die Halterung des wieder erstarrenden Stabteiles relativ zur Halterung des zu
schmelzenden Stabteiles und zur Heizeinrichtung fortlaufend seitlich und in der Höhe verschoben. Dadurch wird der Querschnitt des
aus der Schmelze erstarrenden Stabteiles ständig vergrößert. Sobald der Sollquerschnitt des wieder erstarrenden Stabteiles erreicht
ist, wird dessen Halterung in der exzentrischen Lage festgehalten und nur noch in der Höhe verstellt. Mit diesem Verfahren
lassen sich Halbleiterstäbe, vorzugsweise Siliziumstäbe, mit größerem Querschnitt als nach dem bekannten koaxialen Zonenschmelzverfahren
bei verbesserter Kristallqualität und einer vergleichsweise gleichmäßigen radialen Widerstandsverteilung über
den Stabquerechnitt herstellen.
In Weiterbildung dieses Verfahrens wurde bereits vorgeschlagen, den wieder erstarrenden Stabteil in umgekehrter Richtung seitlich
zu verschieben und die seitliche Verschiebung während des Zonenschmelzvorganges
in beiden Richtungen mehrfach zu wiederholen (vgl. deutsche Patentanmeldung S 98 115 IVc/i2c - PLA 65/1426).
Mit diesem zusätzlichem Verfahrensschritt konnte der spezifische Widerstandsverlauf über den Stabquerschnitt noch weiter vergleichmäßigt
werden.
10J9§a.7/U32
Hl/Ca
Nach einem anderen älteren Vorschlag wird der Halbleiterstab in
zwei seitlich gegeneinander achsparallel verschiebbaren Halterungen eingespannt, von denen eine an einer lotrechten Welle befestigt
ist. Die Welle ist exzentrisch in einem um eine lotrechte Achse in einem Lagerblock drehbaren Zylinder gelagert. Durch
einen Schneckenantrieb wird der Zylinder in Drehung versetzt. Dadurch wird die untere Stabhaiterung exzentrisch verachoben.
Durch einen Reversiermotor kann eine fortlaufende seitliche Hin- und Herbewegung der unteren Stabhalterung erzeugt werden
(vgl* deutsche Patentanmeldung S 100 722 IVc/12c - PLA 65/1824).
Schließlich wurde bereits vorgeschlagen, die vorstehend beschriebene
Vorrichtung noch dadurch zu verbessern, daß der drehbare Zylinder seinerseits in einem in dem Lagerblock drehbaren Exzenter
gelagert ist. Damit erhält man eine größere Freiheit in der Wahl der Amplitude der Hin- und Herbewegung der unteren Stabhalterung
(vgl. deutsche Patentanmeldung S 104 126 IVc/i2c - PLA 66/1359).
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, die vorstehend beschrie
benen exzentrischen Zonenschmelzverfahren bzw. die zur Durchführung dieser Verfahren benötigte Vorrichtung zu vereinfachen und
zu verbessern.
Erfindungßgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß bei einem Verfahren zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines lotrecht an seinen
Enden gehalterten kristallinen Stabes, insbesondere Halbleiterstabes, dessen Halterungen, von denen mindestens eine um ihre
lotrechte Achse in Drehung versetzt wird, relativ zueinander und
_ _ 109887/U32
Hl/Ca
zu einer den Stab ringförmig umgebenden Heizeinrichtung in Richtung
der Stabachse mit derart aufeinander abgestimmten Geschwindigkeiten bewegt werden, daß die Dicke des aus der Schmelze wieder
' erstarrenden Stabteiles über die lichte Weite der Heizeinrichtung hinaus vergrößert wird, wobei ferner die Halterung des wieder
erstarrenden Stabteiles·relativ zur Heizeinrichtung seitlich verschoben
wird, der andere, d.h. der zu schmelzende Stabteil um eine zu seiner Mittelachse parallele exzentrische Achse in Drehung versetzt
wird. Durch die Verlagerung der exzentrischen Bewegung von dem wieder erstarrenden Stabteil auf den zu schmelzenden Stabteil
wird die zur Erzeugung.der exzentrischen Bewegung dienende Vorrichtung
wesentlich vereinfacht. Diese Maßnahme bringt den weiteren Vorteil mit sich, daß die für das exzentrische Zonenschmelzen gemäß
den beiden erstgenannten Verfahren geeigneten Zonenschme1zanlagen
auch für das Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung verwendbar sind. Von besonderer Bedeutung für das erfindungsgemäße Verfahren
ist, daß durch die Rührbewegung des exzentrisch geführten zu schmelzenden Stabteiles die Schmelzzone gut durchmischt wird, was
eine weitgehend gleichmäßige radiale Widerstandsverteilung über den Stabquerschnitt ergibt. Mit besonderem Vorteil werden die
beiden Halterungen in entgegengesetztem Sinne in Drehung versetzt. Dadurch erhält man eine besondere gute Durchwirbelung und Durchmischung
der Schmelzzone, was hinsichtlich der Kristallqualität und der radialen Widerstandsverteilung sehr günstig ist.
Weitere Einzelheiten und Vorteile der Erfindung werden an einem
Ausführungsbeispiel anhand der Zeichnung näher erläutert.
109887/U32 Hi/Ca
In Pig. 1 sind zwei verschiedene Phasen des erfindungsgemäßen
Verfahrens dargestellt.
In Fig. 2 ist in schematascher Darstellung der Bewegungsablauf
In Fig. 2 ist in schematascher Darstellung der Bewegungsablauf
des zu schmelzenden Stabteiles dargestellt. Fig. 3 zeigt eine Seitenansicht, teilweise im Schnitt, einer
Stabhalterung zur Durchführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens.
Fig. 4 zeigt eine Draufsicht auf die Halterung nach Fig· 3«
Fig. 4 zeigt eine Draufsicht auf die Halterung nach Fig· 3«
Nach Fig. 1 wird in einem Halbleiterstab 1, der sich aus dem zu
schmelzenden Stabteil 2 und Sem aus der Schmelze wieder erstarrenden Stabteil 3 zusammensetzt, und an dessen unterem Ende ein
zeichnerisch nicht dargestellter Keimkristall angeschmolzen ist, mit Hilfe einer mit Hochfrequenzstrom gespeisten Induktionsspule 4
eine Schmelzzone 5 erzeugt, die durch Auf- oder Abwärtsbewegen der
Induktionsspule 4 oder bei ruhender Induktionsspule durch Ab- oder Aufwärtsbewegen der Halterungen des Halbleiterstabes 1 durch diese:
der Länge nach hindurchgezogen werden kann. Die Mittelachse der als Heizeinrichtung dienenden Induktionsspule 4 ist mit M bezeichnet.
Die Antriebswelle für den wieder erstarrenden Stabteil sitzt zentrisch in dessen Halterung. Die Antriebswelle 6 für den zu
schmelzenden Stabteil 2 ist in dessen Halterung 7 exzentrisch eingeführt und in der exzentrischen, lotrechten Lage gesichert. Die
Längsachse der Antriebswelle 6 ist mit £ bezeichnet. Die beiden Stabteile 2, 3 werden durch an sich bekannte Antriebsvorrichtungen
in Drehung versetzt. Gleichzeitig wird der wieder erstarrende Stabteil
3 relativ zum Stabteil 2 und zur Heizeinrichtung 4 seitlich verschoben. Sobald der Sollquerschnitt des wieder erstarrenden
- 5 - 109887/U32 m .
Hl/Ca
Stabteiles 3 erreicht ist, wird die seitliche Verschiebung eingestellt
und der Stabteil 3 .dreht sich nur mehr um seine lotrechte Achse A. Der zu schmelzende Stabteil 2 wird entgegen der Bewegungsrichtung
der Heizeinrichtung 4 axial verschoben, während der Stabteil 3 keine axiale Bewegung ausführt. Mit besonderem Vorteil
werden die Stabteile 2, 3 gegensinnig um die lotrechten Achsen A,
E gedreht. Dadurch wird die Schmelzzone 4 gut durchmischt, was eine äußert gleichmäßige radiale Widerstandsverteilung über den
Stabquerschnitt ergibt (Ag & 5 - 7 #)· Die Exzentrizität e^ des
wieder erstarrenden Stabteiles 3 darf höchstens so groß sein, daß aus der Schmelzzone 4 kein flüssiges Material abtropft. Beispielsweise
kann sie bei einem Durchmesser des auskristallisierenden Stabteiles 3 von 35 mm etwa bis zu 10 mm betragen. Die Exzentrizität
e2 des zu schmelzenden Stabteiles ist günstigerweise durch
die noch näher zu beschreibende Halterung 7 verschieden einstellbar. Durch Veränderung der Exzentrizität e, kann der "Rühreffekt"
des zu schmelzenden Stabteiles 2 weitgehend verändert werden. Die von dem zu schmelzenden Stabteil 2 überstrichene Fläche ist in
Fig. 2 durch Schraffierung gekennzeichnet.
Dem in Pig. 1 dargestellten Ausführungsbeispiel der Erfindung sind folgende Daten zugrundegelegt;
Die Drehgeschwindigkeit des wieder erstarrenden Stabteiles 3 beträgt bei einem Stabdurcjimesser von 33 mm 8 bis 70 ü/min, vorzugsweise
25 U/min. Die Drehgeschwindigkeit des der Schmelze zugeführten
Stabteiles 2 beträgt bei einem Stabdurchmeseer von 27 mm
8 bis 80 U/min, vorzugsweise 25 ü/min. Dabei wird der Stabteil 2 günstigerweise mit etwa 1,5 ma/min in Richtung auf den Stabteil 3
_ _ 109887/1432
Hl/Ca
ι ο ι» ö a/
bewegt. Die Heizeinrichtung 4 wird in der entgegengesetzten Richtung
mit 1 bis 2 mm/min, vorzugsweise 1,8 mm/min, nach oben bewegt.
Die Exzentrizität βρ des Stabteiles 2 beträgt etwa 2 mm,
während die Exzentrizität e, des Stabteiles 3 auf etwa 8 mm festgesetzt ist.
In den Pig. 3 und 4 ist eine besonders einfache Halterung des Stabteiles 2 zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens
dargestellt. Die Halterung 7 setzt sich aus zwei Rohrstücken 8 und. 9 zusammen, die durch einen Boden 10 getrennt sein können.
In das eine Rohrstück 8 ist der Stabteil 2 eingebracht, vorzugsweise eingeklemmt. Am Rohrstück 9 sind in zwei verschiedenen
Ebenen 11 und 12 Stellschrauben 13 angebracht, die zur exzentrischen Halterung der Antriebswelle 6 bzw. zur Sicherung der lotrechten
Lage des Stabteiles 2 dienen. Im Ausführungsbeispiel dienen die in der Ebene 11 angebrachten Stellschrauben 13 zur Pestlegung
der Exzentrizität ep der Antriebswelle 6, während die in
der Ebene 12 angebrachten Stellschrauben 13 zur Sicherung der
lotrechten Lage des Stabteiles 2 vorgesehen sind. Vorzugsweise sind in jeder Ebene 11, 12 drei um 120° versetzte Stellschrauben
13 vorgesehen.
Es ist ersichtlich, daß verschiedene Verfahrensschritte geändert
werden können, ohne den Erfindungsgedanken zu verlassen.
Beispielsweise können die beiden Stabteile 2, 3 in gleicher Richtung
mit entsprechend den gewünschten Stababmesaungen aufeinander abgestimmten Geschwindigkeiten axial bewegt werden. Es kann auch
- 7 . 109887/U32
Hl/Ca
eine gleichsinnige Drehrichtung der beiden Stabhalterungen vorgesehen
sein. Das erfindungsgemäße Verfahren ist nicht auf wieder erstarrende Stabteile beschränkt, deren Durchmesser größer als
die lichte Weite der Heizeinrichtung ist. Es kann auch dann angewendet werden, falls der Durchmesser des wieder erstarrenden Stabteiles
gleich oder kleiner als der Durchmesser des zu schmelzenden Stabteiles und/oder die lichte Weite der Heizeinrichtung ist.
Außerdem kann es auch mit Vorteil dann eingesetzt werden, wenn der wieder erstarrende Stabteil koaxial zur Mittelachse der Heizeinrichtung
angeordnet 1st. Desgleichen ist seine Anwendung vorteilhaft, wenn der Durchmesser beider Stabteile größer als die
lichte Weite der Heizeinrichtung .ist.
Die aus der vorstehenden Beschreibung - oder/und die aus der
zugehörigen Zeichnung - entnehmbaren Merkmale, Arbeitsvorgänge und Anweisungen sind, somit nicht vorbekannt, im einzelnen,
ebenso wie ihre hier erstmals offenbarten Kombinationen untereinander, als wertvolle erfinderische Verbesserungen anzusehen.
zugehörigen Zeichnung - entnehmbaren Merkmale, Arbeitsvorgänge und Anweisungen sind, somit nicht vorbekannt, im einzelnen,
ebenso wie ihre hier erstmals offenbarten Kombinationen untereinander, als wertvolle erfinderische Verbesserungen anzusehen.
4 Figuren
4 Patentansprüche
8 " 109887/U32
Hl/Ca
Claims (4)
1. Verfahren zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines lotrecht an
seinen Enden gehalterten kristallinen Stabes, insbesondere Halbleiterstabes, dessen Halterungen, von denen mindestens eine um
ihre lotrechte Achse in Drehung versetzt wird, relativ zueinander und zu einer den Stab ringförmig umgebenden Heizeinrichtung in
Richtung der Stabachse mit derart aufeinander abgestimmten Geschwindigkeiten bewegt werden, daß die Dicke des aus der Schmelze
wieder erstarrenden Stabteiles über die lichte Weite der Heizeinrichtung hinaus vergrößert wird, wobei ferner die Halterung des
wieder erstarrenden Stabteiles relativ zur Heizeinrichtung seitlich verschoben wird, nach Patent (Anm. S 89 517 IVc/12
- PLA 64/1043), dadurch gekennzeichnet, daß der andere, d.h. der
zu schmelzende Stabteil um eine zu seiner Mittelachse parallele exzentrische Achse in Drehung versetzt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden
Halterungen in entgegengesetztem Sinne in Drehung versetzt werden.
3. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 und 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die Exzentrizität des zu schmelzenden Stabteiles verschieden einstellbar ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3» dadurch gekennzeichnet, daß die Antriebswelle des zu schmelzenden Stabteiles durch an der Halterung
angebrachte Verstellelemente exzentrisch befestigt ist.
- 9 - 109887/U32
Hl/C a
Leerseite
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Publication Number | Publication Date |
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ID=7526409
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1519897A Granted DE1519897B2 (de) | 1966-08-06 | 1966-08-06 | Verfahren und Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen eines kristallinen Stabes, insbesondere Halbleiterstabes |
Country Status (3)
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---|---|
US (1) | US3561931A (de) |
DE (1) | DE1519897B2 (de) |
GB (1) | GB1164940A (de) |
Families Citing this family (4)
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---|---|---|---|---|
BE791024A (fr) * | 1971-11-08 | 1973-05-07 | Tyco Laboratories Inc | Procede pour developper des cristaux a partir d'un bain d'une matiere |
US4002523A (en) * | 1973-09-12 | 1977-01-11 | Texas Instruments Incorporated | Dislocation-free growth of silicon semiconductor crystals with <110> orientation |
US3988197A (en) * | 1973-11-22 | 1976-10-26 | Siemens Aktiengesellschaft | Crucible-free zone melting of semiconductor crystal rods including oscillation dampening |
JP4777880B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2011-09-21 | 京セラ株式会社 | シリコン鋳造装置およびシリコンインゴットの製造方法 |
-
1966
- 1966-08-06 DE DE1519897A patent/DE1519897B2/de active Granted
-
1967
- 1967-08-04 US US658512A patent/US3561931A/en not_active Expired - Lifetime
- 1967-08-04 GB GB36031/67A patent/GB1164940A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1519897B2 (de) | 1974-07-18 |
GB1164940A (en) | 1969-09-24 |
US3561931A (en) | 1971-02-09 |
DE1519897C3 (de) | 1975-06-12 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 |