DE1496762A1 - Verfahren zur Oberflaechenoxydation eines Siliciumgegenstands - Google Patents

Verfahren zur Oberflaechenoxydation eines Siliciumgegenstands

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    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/113Silicon oxides; Hydrates thereof
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    • H10P14/6306Formation by oxidation, e.g. oxidation of the substrate of the semiconductor materials
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    • H10P14/6309Formation by oxidation, e.g. oxidation of the substrate of the semiconductor materials of Group IV semiconductors of silicon in uncombined form, i.e. pure silicon
    • HELECTRICITY
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