DE1490986A1 - Abschleifen duenner Widerstandsschichten - Google Patents
Abschleifen duenner WiderstandsschichtenInfo
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Description
- Abschleifen dünner Widerstandeschichten Die Erfindung betrifft elektrische Miniatur-Stromkreinbauteile und insbesondere die Herstellung dünner Schichtwiderstände Der komplizierte Aufbau m)derner elektronisher Geräte hat in steigendem Umfang ein Bedürfnis an zuverlässigen Miniatur-Schaltelementen bewirkt und im Zusammenhang damit sind verschiedene technische Lösungsarten entwickelt worden. Die Erfindung betrifft diejenigen Herstellverfahren, bei denen als Widerstände auf isolierenden Unterlagekörpern dünne Schichten aufgetragen werden, wobei die aufgebrachten Schichten entsprechende elektrische Eigenschaften haben müssen. Ein aus einer dünnen Schicht bestehender Widerstand kann'dabei aus einem kleinen Unterlagekörper aus koraniechen Material oder aus fl« benteheng volcher mit einer Oberflächenaohicht au* einer Niokel-Ohron togierung bekleidet ist.
- Pür eine gegebene Schichtetärke ist der elektrische Wideretand einen au@ einen dünnen Pilz beetehenden Widerstand»-elementen proportional den Verhältnis von lAnge zu Breite den durch das Widerstandeelenent bestimmten elektrischen Stromwegen. Bei den Arbeiten mit Widerständen bestehend aus dünnen Schichten betrachtet man zwookmäßigerweine den Widerstand, den eine quadratische Fläche einen mit einer Wideretandeschicht überzogenen Inolierkörpern bildet und spricht in einen solchen Pall von d« Ohm-Quadratwiderstand. Aus diesem Wort, kann das für einen gewünschten Wideretandewert erforderliche Längen- t Breitenverhältnie den Otromwegen leicht berechnet worden. Benötigt man beispielsweise einen 400 Ohn Widerstand, der aus einer Unterlage mit einem Wideretandetilm von einer solchen Dicke bentehtg daß die Schicht einen 100 Ohm-Quadratviderstand hat, so ist en lediglich erforderliohv den elektrischen Stromkreis des Wideretandaateriales in der Weine zu wählen, daß man ein vier t 1 Längen- t Breitenverbultnie hat.
- En ist ferner bekannt, daß der Widerstand von verschiedenen Materialien von der Temperatur abhängig ist. Der Wideretande-Koeffizient wird im allgemeinen mit TK be-Zeichnet. Die meinten Metalle haben einen positiven TK. Letzteres bedeutet# daß der Widerstand mit zunehmender Temperatur
zunimmt* Obwohl in allgemeinen der> 21 der meinten Notalle als innerhalb eines entsprechend kleinen Tomperaturbereiohen konstant angenommen wird# so zeigt doch der 21 einer dünnen Widerstandeschieht, die auf einen Untetagekörper aufgebracht ist@ eine größere Inderung@ die abhängig ist von der Stär- ke den Widerstandnfilmee. Wenn der Widerstandefiln dUnner intg so nimmt der TZ ab und wird eventuell negativ. Die de Pilmstärkep bei derVfM von positiven zu negativen Worten übergehtg entspricht den TZ Null. In Interesse der ßtabi- lität ist es vU»oheau»rtg die Wideretandeuohicht in solcher Weine herzustellen@ daß der TZ angenähert Null ist# insbesondere dann@ wena hohe Widerstände erwünscht sind. Bedauerlicherweise ist jedoch der Ohn-Wadratvert, welcher dieser optimalen Bohloktetärke entspricht, verhältnie- mäßig niedrig, deh. etwa 100-3009 wenn es eich##um übliche Wideretandenateriallen, handelt. Dadurch ergibt @ich eine Sah#,a-.iridgkeit bei der Berstellung von Widerständen hohen Widerstand-werten@ da dann das Idlugen- Breiteaverhältnion entaproehead geändert worden müßte. Beispielsweise müßte ein 100 000 Mm Viderntand. der aus einen 100 Oh*-Quadrat- körper hergestellt wird# ein Verhältnis zwischen längs und Breite von 1 t 1000 haben. Eine bekannte Berntellunge- methode besteht darin# die Wideretandochioht von den über- zogenen Inelierkörper In Porn mehrerer in Abstand voaeimm- der angeordneter paralleler Linien zu euttetnen@ es da8 sich ein aohnaler elektrischer ßtrouvert ergibt. Die der- zeit zur ---n 4elaMenden Verfahren zur ZerntellmW derartiger Widerstände sind zeitraubend und kootopielig und bilden daher eine Beschränkung der gebrauohefähi4keit solcher Widerstände# wenn es @ich um hohe Wideretandeworte handelt, Um Miniaturwideretände verhältnismäßig hoher Wideretande- werte unter Anwendung der gebräuchlichen Methoden zu erhal- teng beispielsweise unter Anwendung chemischer oder elektri- ooher Itiverfahren# müssen Widerstände hergestellt worden# die aus außerordentlich feinen# In engen Abstand vonelnen- der angeordneten Linien bestehen. Nu hat @ich in allge- meinen gezeigtg daß unter Anwendung einen elektriaohen Itsverfahrens, der höchste Widerstandewertg der mit Erfolg aus einen Iaolierkörper von etwa 7,5 x 7,5 mi bentehtg 40 000 Ohn beträgt. Unter Anwendung von Photowiderstande- material, können aus Isolierkörpern der gleichen Größe, Widerstände von 100 000 Ohn hergestellt werden, doch bil- det die Btabilität derartiger Widerstände auch dann ein Problem# da keine dieser Methoden einen Einfluß auf den rl den Widerstand*@ hat. Höhere Widerstände worden häuflg für elektronische Geräte benötigt. En ist daher offen- sichtlich@ daß eine einfache Methode zur Herstellung stabi- ler Widerstände einen hohen Widerstandewertes unabhängig ,von dem Verhältnis zwischen Länge und Breite den Schicht- widerstand*@ wünschenswert ist. Die Erfindung betrifft Verfahren, welche Widerstände hohen Widerstandeworten und hohw ßtabilität in bezug auf Änderungen der Temperatur aus mit Sohioht»terial beklei- - Eine andere Herotellungstechnik besteht darin, daß ebenfalls relativ starke Widerstandsschichten verwendet werden,daß jedoch der aus Isoliermaterial bestehende Unterlageköizper nicht zu einer gleichmäßigen Oberflächenachioht bearbeitet sein muß. Tatsächlich wird, wie nachatehend auseinandergesetzt werden wird, di-? rauhe Oberflächenstruktur des Unterlagekörpers ili vorteilhafter Weise ausgenUtzt, Das Hauptziel der Erfindun- besteht in einer einfachen C.> Methode zur Herstellung hoher Widerstandsachichten einee günetigen TK-Verhaltens. Einen weiteren Gegenstand der Erfindung betrifft die Voreinfachung der Konstruktion von aus dünnen Wideretandeaohiehten bestehenden Widerständen in Abhängigkeit den elektriaohen lAngen-Breiten-Widerstandsverhaltenn. Die Erfindung betrifft ferner die Herstellung von Widerständen eines Wideretandswertee von etwa M7., wobei die Widerstandeelemente eine kleine Pläche haben.
- Die Erfindung betrifft ferner die Herstellung von Widerotandeelementen bestehend aus Widerstandeaohichten einen niedriger« Ohm-Quadratwerteag wobei sich eine geringe Abhängigkeit von der Gleichmäßigkeit des Filmes ergibt. Weiter betrifft die Erfindung einen Stromkreise bei dem ein hoher Widerstandewert mit niedrigem TK erreicht wird und eine hohe Gleichmäßigkeit der elektrischen Wider-C> otandseigenschaften vorliegt.
- Die Erfindung bezweckt ferner die Vereinfachung der Herstellung von dUnnen Uiderstandsschichten und eignet sich inebesondere fUr die Massenherstellung gleichmäßiger, aus dünnen Widerstandsschichten bestehender Widerstandeelemente.
- Insbesondere betrifft die Erfindung die Herstellung eines aus einem dünnen Film bestehenden elektrischen Widerstandeelemeiltes, welches einen günstigen TK hat, wobei C> C>
die Zerztellung darin besteht # daß eine Notallechioht von einer solchen ßtärke# daß die Bohicht in wesentlichen den Widerstands-« 0 oder einen negativen Widerstande-TK hat# auf der Oberfläche einen dielektriaohen Unterlage- körpern aufgebracht wird und die Bohioht abgeschliffen wirdg so daß sich der gewUnaohte Wideretandewert ergibt, Der so erhaltene au@ einer dännen Wideretandeaohloht be- stehende Widerstand hat einen besseren TK, hat eine elektri- sehe Viderstande@oUohtg die auf einen als Unterlage dienen- den leolierkUrper liegt# wobei der 21 den elektrischen Wi- derntenden negativ oder in wesentlichen Null nein kam und der Wideretandevert selbst hoch Ist. Sur näher« Zrläuterun« der Erfindung und der DurokfUhrung den erfindufflegemüßen Verfahrene wird auf die nachfolgende Beschreibung in Sueammenhan mit den Piguren verwiesen, Von ein rimwen seigene Pig. 1 einen in Rahmen der Erfindung zur Anwendung gelangendeng in wesentlichen gleichmäßig glatten Unterla- gekörper; Pig. 2 eine Oberfläahenbehandlungeart den in vonentli- ohen glatten Unterlagekörpers; Pig. 3 einen gleich mäß ig aufgerauhten UnterlagekUrperg Fig. 4 einen VäterlagekörpezMus Inolieraaterial@ auf den Widerntandsnaterial aufgebracht intl Pig. 5 den Abeohleifvorgang der Oberfläche den Wider- staadakörperei Pig 6 und Pig. 7 dUnne Behiohtwideretände &mg£ der Erfindung" die eine In wesentlichen gleichmäßige Ober- fläche bilden; Pig. 8 einen Unterlagekörper nicht gleiohnUig rauher Oberfläche$ welcher in Rahmen der Erfindung Anwendung zu finden bestimmt ist; Pig, 9 den in Pig. 8 dargeatellten Unterlagekörperg auf welchen Widerstandeaaterial aufgebracht In* ; Fig. 10 den Abschleifvorgang des in Fig, 9 dargentell- ten Widerstandakörpern; 71S 11 und Fig. 12 Widerstände gemäß der Erfindungg die aus einem Unterlagekörper nicht gleichmäßiger rauher Oberfläche hergestellt sind. In Pig. 1 ist ein als Unterlage dienender Körper 10 darge- stellt, der aus einem geeigneten dielektriaohen Materialp wie Keramik# Qlaop oder dergl, bestehen kam. Die bear- beitete Oberfläche den Körpern 10 Ist gleichmäßig glatt, um die genaue Bearbeitung zu erleichtern und eine Gleich- mäßigkeit der elektrischen Eigenschaften einen gemäß der Erfindung hergestellten Widerstandes zu gewährleisten. Na kann @ich beispielsweise um eine Nikronkop-Objektplatte von einer Oberflächenbearbeitung entsprechend 2,5 x 10-6 am# genossen mit einen ]Profilmeßgerät, handeln. 1 Bevor das Widerstandeaaterial aufgebracht wird@ wird der Untierla4ekörper 10 gemäß Fig. 2 behandelt. Eine rotierende - Fig. 3 zeigt das Ergebnis der Oberflächenbehandlung. Die aufgerauhte Oberfläche der Unterlage 10 besteht aus kleinen erhabenen Spitzen 13 und dazwischen befindlichen Vertief=-gen 14 in gleichmäßiger Anordnung, wobei Fig. 3 eine stark übertriebene Darstellung ist.
- Die in dieser Weise vorbehandelte Oberfläche des Unterlagekörpers wird dann mit einem dUnnen Film aus Widerstandsmaterial überzogen, was beispielsweise durch Verdampfen von Widerstandsmaterial in einem Vakuumgefäß erfolgen kann> in dem der Unterlagekörper in einen Dampfstrom gebracht wird und eine Kondensation stattfindet. Es kann indessen der dünne aus Widerstniidsmatertal bestehende Film auch in anderer Weise aufgebracht werden, beispielsweise im Wege der chemischen Reduktion, durch Aufsprühen oder durch Blektronenzerstäubung. In ?14, 4 ist der Unterlagekörper 10 dargestellt# nach-dem die au@ Wideretandeaatotial bestehende Oberflächen-, aohicht 15 aufgebracht Ist. Die Obertläoheiwohiohl 15 kam aus einer großen Anzahl Wideretandematerialien bestehen# beispielsweise Chrom, Zinnoxyd, Niokel-ChromlogiezuMeng Niokel.Ohrozeilikonoxyd oder dergl. Zu ist zu beachten@ daß das Widerstandeaaterial die Neigung hat, die zwischen den Spitzen 13 befindlichen Vertiefungen 14 auszufüllen, so daß wich eine Oberflächenachicht 15 ergibtg die ungleichmäßige Stärke hat. Die Teile der Schicht 15, welche den Vertiefungen entsprechen und dicker eind, haben einen stärker positiven TK, als diejenigen Teilst welche den Spitzen entsprechen und einen hochnegativen TK haben.
- Diese Eigenschaften werden gemäß der Erfindung aungenutsto um Widerstandeelemente hohen Widerstandes und hoher Tenperaturkonatanz zu erzielen.
- Pig. 5 zeigt die Oberflächenbehandlung der Schicht 159 die dem Zwecke dientl die elektrischen Eigenschaften zu verbessern. Die Schicht 15 wird durch ein Schleifrad 17 einem Abschleifprozeas unterworfeng wobei das Rad 17 in der Richtung der gezeigten Pfeile bewegt wird. Das Rad 17 kann ein Rad seing welches aus Radiergummi-Material bestehtg es können jedoch auch andere weiche Schleifmaterialien verwendet werden. Dieses Verfahren beseitigt das Widerstandematerial von den erhabenen Stellen der Fig. 15 und auf diese Weine werden die dünneren Stellen des Widerstandemateriales beseitigt. Es wird der Geeamtwiderstand der Schicht 15 erhöht und der TK weniger negativ gemacht.
Die Obertläolgerib der sohioht 15 kann auoh ohenteah erfolgen* Ift kam botopieleweine die ]Pläohe 15 mit einem au$ volle beotehoftdeat in aalsoftre getauohten launoh ab- gerieben worden# $0 tag die dunaeren 80hiottea den.Wider- etaademateriales weggelöst werden* Igine andere eheniaohe Xethode benteht dartag die mit der Videretändeaohioht über- zogen* Oberfliohe den Vatorlägekörpers in ein geeigneten LöauWanittel au tateheng beispielsweise in Salzsäure oder dergl* ]Bin gezU der Er a«n-9 hergentellter Videretänd ist In Pigb 6 und Pig. 7 derpetellte Rippen 189 die den kleinen bpite« 13 naeh der Radierwirkung de@ Reden 17 euttproohen, bilden theorottaoh ]Plttohen unendlioh hoben Widerstandes, Die #tärkeren Otellen den Videretandematerialeg volohe in den Vertiefungen 14 verbleiben# haben einen geringeren negativen oder positiven TZ und der Oha-Quadratwert den Widere#tänden der DurohlOsherungen aufweisend« Oohioht ist in vonentliohen konstant. Diene Gleiohmäßi«keit geht auf die in Zug mit Pig. 2 beaohriebene Vorbe- handlung murtokp volohe einen Unterlagekörper von in wo- sentliohen gleioNffliger Rauhigkeit erzeugt. Demonteprothend ist ein derartiger Videretand besondere bei Rikro-8oUlt- kreisen verwendbar# wobei eine oder mehrere 8ohiehten auf die aufgebraehte Videretandeaohtoht aufgetragen worden könneng um auf einer gemeinsamen Untorlfflplatto einen volletändi«en Otroskrein « bilden. Die 40wo»okt« etrom- kreineigensohaften, kftn« daduroh erzielt werdeag da& eine aus mehreren Bohiohten bestehende Stromkreinan- ordnung entsprechend geätzt wird. Die hier behandelte Technik kann auch zur Herstellung mehrerer Wideretandeelenente in Wege der Technik &@druck- ter ßtronkreine verwendet worden. Chrom oder ein anderen zu- Material kanniiret In Vakuum auf eine dielektrische ge- druokte ßtromkreinplatte a*ed«pft werden# wobei geeig- nete Kanken Anwendun4 finden@ « den Niederschlag auf bentimte Pläohen zu beschränken, Die verschiedenen auf- gebrachten Widerstandeaohichten worden dann einer weit- fläohigen Abradierun« bzwo einen solchen Abschleifen unter- worfen# so da& sich Otromkreinelenente gleiohnäßiger und hoher Texperaturetabilität mit hohen Widerstand ergeben. Pige 8 neigt die Queraohnittetläohe einen Unterlagekör- per@ 209 der aus einen geeigneten Iaoliermatetial wie Keramik, Uang Kunststoff@ einen anorganischen sohwer- @ohnelnenden Material oder dergl. bestehen kann. Bei dieser Au@tWu-mWaforn hat der Unterlagekörper nicht eine feiftbehändelte Oberfläche# da in dienen ]Pall der-rauh* luotand der Oberfläche erwUnnoht ist. Der Unterlagekörper 20 hat kleine ßpitzen 21 und kleine Vertiefungen 22. Dieselben sind in Pig. 8 in stark übertriebener Höhe dar- gestellt. Obwohl die Rauhi«k4& und die Gleichmäßigkeit derselben nicht kritisch ist, so ist doch eine Ober- flilohm'bearbeituM ente;roohend 125 x 10-6 am bin 450 x 10-6 « vorzuziehen. Pige 9 zeigt eine Querschnitte- daretellung den Unterlagekörpern 209 nachdem die Auflage- aohicht 25 aufgebracht wurde. Wie bereit@ in Zuea»enhan mit Zig. 3 &@nagt wurdeg ist eine geeignete Aufbringunge- nothode das VerdamplUngeyerfahren in Vakuum; ei sind auch andere bekannte Methoden mm Aufbringen dUnner BUchten anwendbar und en kann die Schicht 25 aus einer größeren Anzahl Widerstandeaaterialien bestehen# wie die@ In der Technik der Obertliohen»ohiohten-Berntellun4 üblioh ist. Wie Fig, 9 zeigte hat das Wideretandematerial die Zei4ungg die Vertiefungen 22 auszufüllen und daher ergibt @ich eine ungleiohnägiie Stärke der Bohitht 25. Diejeniien teile der Schicht 259 welche den ßpitzen der Oberfläche der Unterla«o 20 entsprechen, sind in bezug auf diejenigen Stellen an- gehobene welche den Vertiefungen entsprechen. In dieser Phase der Beretellun4 soll der gesamte TI der Schicht 25 negativ nein. In wurde bereits erwähnt, da& der TX von der Pil»tärke abhängig ist und dementsprechend ist anzu- nehmen# da& diejenigen Teile der Schicht 25i welche den kleinen Spitzen entsprechen# einen stärkeren negativen TZ haben als diejenigen Stelleng welche den Vertiefungen entaproo)zen. En ist anzunehmen# da£ die Entfernung der stark negativen Stellen der Sohioht 25 die folgenden beiden Effekte zur Polge hat% Zu wird der reaultierende TK der Wideretandeaohicht weniger negativ und der Wider- stand der Schicht wird vergrößert. Ob diene Annahme richtig ist oder nicht, mag dahingestellt bleibent en wurde in- dessen fentgentelltg daß das Abradieren bzw. die in nachfolgenden beschriebene Entfernung der Oberfläche diene Effekte zur Polie hat. Bin@ bevorzugte AuefUhrungeform einer aelektiv« Mutter- nun& von teilen der Schicht 25 ist in Pigg. 10 &*zeigte ' Zu wird das Abradiermittel 18 auf die Oberflgehe 25 auf- gebracht und hin- und herbewegte Dienen Abradieren eut- fernt Wideretandematerisl insbesondere an den erhabenen Otelleng welche den kleinen Spitzen entepreolLen, und den- entsprechend gewüncohte Änderungen in bezug auf eine Wideretandeerhöhung und bessere U-Videretandaverhältniene worden ersielt.# - Die Herstellung außerordentlich hoher Widerstände bei geringen Konten Ist gemäß der Erfindung mögliche 13a Ist nur erforderlioh, da£ ein Abradieren der Schicht 25 au* Wideretandema,terial erfolgt und das Videretandematerial einen insgesamt negativen M hat. Dienen Abradieren, bzwe Abschleifen wird fort4esetzt, bis der gewünwohte Wider-
et«i«ert eitalten wird und duroh ein ohn-Meter angezeigt wird# wobei dienen Verfahren da@ IM-Verhalten verbennert. Out 4Lue ind # F 0- de@ elektrinehen rAggen- @ Ereitenver- hUtainnen tot en g«M der Erfindung möglioh, einen 5000 Ohn Widerstände der a» einen Ohroxfilm von 4000 Chm-Quämt hergestelat ist p auf einen Wort von 10 Reg0ha « ver«rötemo »te in dm Wigaren 8 - 12 beaohriebene Ber- etellung brifflt »ine kritinohe Abhängigkeit von der Pilm- dgletobffli4»it der ObertliLehenbearbeitung der Unterlage uni den elektrinehen IBM«- t Breiteaverhältnie mit nioh. Dau er Verfahren tot ökonomineh und einfaoh aue«fUhrdmp Ma geeignetes Material ftr das Absohleiftit- tel 28 besteht # IN11oh« Radiergumi. En eiad auoh en- der* Materials 0 beispielsweise sewebe oder Stoffe seifften niob ebentane geeignete &la Abradiermittel den Videretand der Zähieht 25 zu vergrößern* Be wurde bereite erwähnt 9 daß der ObertUohenzuatand der 8chiokt 20 nieht kritiaoh ist* In zeigte steh indennene da.4 ein grOberer Ilraok bei Pilnea mw gebraeht worden «ßtof die auf Keraxikunterlägen einer ObertliLoh«b von 5 niorot" CI» x l#0-6 ») hatten# vergliehen mit anderen Pilzen@ die amt rauher« Oberflitehen von 12 bin 15 nioroiaoh (250 bis 3»)m) entgebraoht wurden. Cheniaohe Mittel kömm «oh verwendet worden, um aelek- tiv Teile der Bohieht 25 zu entfernen* Beispielsweise irann ein Vattoba»oh in Oaiselatre getmoht worden und damit die Obertlilohe abgerieben worden@ no daf das - Ein bevorzugtes Aueführungebeispiel der Erfindung wird nachstehend geaohilderts Ein Keranikatreifeng bestehend aus 99 16 Aluminiuaoxyd und 1 % Kagneniung der eine Tenperatur von 1000 00 vortragen konnte# wurde als die elektriaohwUnterlagekörper benutzt. Solchen Material wurde von der «erikanineht Iavakompanie, Chatt«ooga, Tennessee bezogen und trug den Nandelenamen Aleinag 614-Andere Materialien können auch benutzt werden und worden von anderen Pirmen hergestellte In allgemeinen sollte ein solcher Unterlagekörper hohe Temperaturen vertragen@ wenn für die Zwecke der Berntellmg der überzugnochichten ein sich in Vakuum abwickelnden Verfahren verwendet werden soll@ es nollten indessen alle solch* Unterlagekörper die zuvor erwähnten Oberflaoheneigenzohaften haben. Der Unterlagekörper wurde auf eine Temperatur von 350 0 0 erhitzt# in einer Takuunverdampfungekammer, wobei in einen Volfrauaohiffohen sieh Chrompulver befand. Die Kammer wurde auf einen Dmok von 10-5 Torr evakuiert und das Wolfr«sohiffehen wurde durch Eindurchleiten einen Stromes erhitzt, um da@ Verdampfen von Ohrom%zu bewirken. Der Unterlagekörper war für ungefähr 1 bis 5 Minuten den Ohromdampf aus-,gesetztg wobei die Zeitdauer nicht sehr kritisch ist. Die Erhitiung wurde dann abgebrochen und die Xammer abgekühlt auf eine Temperatur von ungefähr 10000p und dann wurde luft eingelaeuens In konnte nioh da= der mit einer überafflnehicht versehen@ Unterlagekörper auf Ballmtemperatur abkühlen. Der elektrische Widerstand der Ohronaohioht wurde Mitteln einen Ohn-Metern gemessen" Während das Wideretandeelenent sich noch mit dem Ohrmeter verbunden befand, wurde die Ohronaohiaht mittels einen normalen Radierdp,main abradiert. Das Abradieren wurde fortgesetzt und dabei kontinuielich der elektrische Widerstand beobachtet. Der Tomp raturkoeffizient den Widerstandes der Chromechioht war vor den Abradieren stark negativ mit gunehmendem dideretand. Widerstandeelenente eines Wideretaadavorten des Kojohn Bereichen wurden unter Anwendung der Erfindung mit einer Plächengröße von etwa 1 cm 2 hergestellt. Die Brtindung eignet sich daher Insbesondere zur Herstellung von Videretandeulementen bei räumlich sehr stark gedrängten elektroiiiaohen Sohaltkreisen und gestattet Widerstände hohen Wideretandewerten aue Wider4tandetilmen hersuntelleng die höhere Otabilität ihrer Fbigeaaohatten haben# da die Dampfübernüge zunächst mit stärkeren Bohiohten, die entsprechend niedrige Ohn-Quadratwerte haben, und sonst nicht geeignet wäreng erfolgen. Bei dem erfindungegemäßen Verfahren können die @ich ergebenden Wideretandavorte ge- nauer eingehalten wordeng als dies bei den bisherigen Verfahren möglich war.
Claims (2)
- patentaanprüoho 1. Verfahren zum Herstellen einen au@ einer dUnen Widerstandeschloht bestehenden elektrischen Wideretandes, dadurch gekemzolohnetu daß eine notalliaohe Widerstandenehloht einer solchen 8tArke auf einen Unterlagekörper niedergeschlagen wirdi daß dIe Widerelandesohieht einen In wen.entlichen verschwindenden oder negativen Temperaturkoeffizienten den Widerstandes hat und daß die Wideratandeschicht auf einen gewUnachten Widerstaadavort abradiert wird.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet@ daß der Unterlagekörper eine =gleichmäßige Oberfläche hat. 3. Verfahren nach Anspruch 19 dadurch gekennzeichnet# daß der Unterlagekörper eine gleichmäßig aufgerauhte Oberfläche hat. 4. Verfahren nach Anspruch 1 oder einen der folgendeno dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche der Wideretandeaohicht abradiert wird und erhabene Btellen der Sahicht dabei entfernt worden, so daß der Widerstand der Oberflächenschioht größer wird und der Tomperaturkooffizient weniger stark negativ wird.
5* Verfahren mach A»pmeh Je dadurch gekennzeichnet, daß eine oh«inche Itzung der ObertliLohezwohioht etatt- findet. Verfahren naoh Aj»pmoh 59 dadurch gekennzeichnet, daß durch Untauchen den mit einer Wideretandesohloht bekleideten UnterlagekOrpern in ein die Widerstand@- schioht lösenden lönu"»ittel eine aelektive ältaund erfolgt. 7* Verfahren nach Anspruch 58 dadurch gekennzeichnet, daß das Widerstand ama terial durch Abwischen mit 50 % OalsolLure selektiv entfernt vird. Os Verfahren mach Anspruch l# dadurch gekennzeichnet@ daf eine nelektive Ihtt«mmW den Videretandeaaterialen durth Abrädieren erfolgt. 9. Verfahren nach A»fflah 8, dadurch gekennzeichnet# daß um Abradieren ein Radiergemi benutzt wird. 10. Verfahren nach Anepruch 1 oder einen der folgeadeap dadurch 4@k«uneiobaotg daß die Metällsohioht aus elektri- ach** Widerstande»torial besteht* 11. Verfahren nach Anspruch 10p dadurch geken»eiohnet# daß die Notallsohioht aus Ohrom besteht. 12. Verfahren nach Anspruoh lp daduroh gekommetohnetp daß die Notallaohioht durch "td«pfen in Vakuum erfolgte 13. Verfahren nach Anapruoh 19 oder einen der folgenden# daduroh gekennzeichnet@ daß die-elektrieohe Widerstand»- aohioht au@ Chrom besteht und einen Widerstand von 500 Ohn pro Pläoheneinheit hat. 14. Verfahren nach Annpruoh 1 oder einen der folgenden@ dadurch «@kennzeichnet# daß die Oberfl&Lohenbelumdlung den au@ leolier»torial bestehenden Unterlagekörpern mdaohen 125 bis 450 10-"m liegt*
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DE2815003A1 (de) * | 1977-04-14 | 1978-10-19 | Milton Schonberger | Verfahren zum einstellen des widerstandes eines thermistors |
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DE1490986C3 (de) | 1974-04-04 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 |