DE1421047A1 - Widerstandsfaehige Elektrode - Google Patents
Widerstandsfaehige ElektrodeInfo
- Publication number
- DE1421047A1 DE1421047A1 DE19591421047 DE1421047A DE1421047A1 DE 1421047 A1 DE1421047 A1 DE 1421047A1 DE 19591421047 DE19591421047 DE 19591421047 DE 1421047 A DE1421047 A DE 1421047A DE 1421047 A1 DE1421047 A1 DE 1421047A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electrode
- metal
- titanium
- nitride
- electrode according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F13/00—Inhibiting corrosion of metals by anodic or cathodic protection
- C23F13/02—Inhibiting corrosion of metals by anodic or cathodic protection cathodic; Selection of conditions, parameters or procedures for cathodic protection, e.g. of electrical conditions
- C23F13/06—Constructional parts, or assemblies of cathodic-protection apparatus
- C23F13/08—Electrodes specially adapted for inhibiting corrosion by cathodic protection; Manufacture thereof; Conducting electric current thereto
- C23F13/12—Electrodes characterised by the material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/073—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material
- C25B11/075—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the electrocatalyst material consisting of a single catalytic element or catalytic compound
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
rRANKFURT CMAIN)
LICHTENSTEIN.STRASSE 3
FERNSPRECHER: 555061 TELEGRAMMEt LOMOSAPATENT LANDESZENTtALBANK 41951
DRESDNER BANK FFM, Nr.594748 POSTSCHECK-KONTO FFM. 1667
III/Efii· .- FRANKFURT(MAIN)( 23.April 1959
Amalgamated Curasao Patents Company B. V0,
■vertreten durch.:
Uederlandsche Handel-Maatschappij,
Trustkantoor Curasao HOVo, 'Handeslkade 24, Willemstad,
Curacao, niederl.Antillen.
nfähige Elektrode .
Hn.ch einem nicht zum Stande der 'lechnilc gehörenden Vorsehlag
beatent eine Elektrode aus einem mit einer Deckschicht aus einem Edelmetall oder einem.anderen widerst.°.ndsxähifcen
Material versehenen Kern aus einem unedlem Metalle "Drs letztere Metall ist an den Stellen, an denen
die Deckschicht T)orön ist, mit einer Sperrhaut versehene
Dinne Sperrhft.ut kn;nn während d^r Elektrolyse, bei der
•8 0 9 8 0 1/0363
diese Elektrode als Anode dient, gebildet werden, kann je~
doch auch vorher auf elektrolytischem Wege aufgetragen seina
Es hat sich herausgestellt, dass eine solche Sperrhaut sich nicht immer gut "bewährt. Dies ist u.a. der Tatsache
zuzuschreiben, dass durch die feinen Poren der Deckschicht auf elektrolytischem Wege nicht genug Energie zugeführt
werden kann, um eine in jeder Hinsicht taugliche Sperrhaut aufzubauen» Uach einem weiteren nicht zum Stande der Technik gehörenden Vorschlag Süllen die Nachteile der auf elektrolytischem
Wege gebildeten Sperrhaut dadurch behoben werden, dass die sperrende Verbindung auf chemischem und/
oder thermischem Wege hergestellt wird. Das chemisch nicht
widerstandsfähige Material ist an den Stellen, an'denen es
nicht durch die vriderstandsfandere Deckschicht bedeckt ist,
durch die chemische und/oder thermische Behandlung in eine"stabile, chemisch praktisch inerte Verbindung oder
Form dieses Materials übergeführt.
Nach dem genannten Vorschlag kann Z0B0 eine rhodinierte
Titanolatte durch Beh^ndlun·"· mit Ammoniak und/oder Stickstoff
bei etwa 700°0 mit einer Sperrhaut aus Titannitrid
versehen werden» Auch kann man durch Erhitzung einer mit
einem Edelmetall plattierten Titanplatte in einer sauerstoffreichen Atmosphäre ©ine Sperrhaut aus Titandioxyd
8 0 9 8 0 1/0363
bilden· Stabile Nitride können gleichfalls bei Anwendung
von Elektroden mit einem Kern aus Tantal, Niob und Chrom erhalten werden.
Es wurde folgendes gefunden: Wenn man die genannten nitridbildenden Metalle mit einer Schicht reinen Nitrids des betreff
enden' Metalles versieht, ist dieses Nitrid nicht nur
allerlei Chemikalien gegenüber äusserirt beständig, -sondern
auch ein guter Leiter des elektrischen Stromes«, Es wurde weiter gefunden: Wenn man bei der Nitridbildung
dafür sorgt, dass das Basismaterial, z.B, Titan, gar keine
Oxydschicht aufweist j„ und--dass ebensowenig Sauerstoff zutreten kann, und "auf diese Weise die Bildung einer nichtleitenden Oxydschicht .zwischen dem Titan und dem Nitrid
vermeidet, wird erreicht, dass die leitende Nitridschieht,
die über die ganze Fläche des unedlen Metalles entstanden ist, dieses.Metall in genügendem Masse schützt, so dass
eine widerstandsfähige Elektrode erhalten wird,, ohne dass
das unedle Metall durch eine Deckschicht aus-Edelmetall oder
anderem. widerst snd-s f Uhigejji Ma. t e rial ge schü-t ζ t zu v/er den
braucht, . --. -; =■-. -_.- · ..<·..." -- ; : . '--. - ■-■ -■ . .
Schon, eine äuB-serst dünne Nitridschieht schützt, das darunterliegende
Metall in genügendem Masse.. Es kann... jedoch auch
eine stärkere Schicht gebildet-.werden und es. -kann- sogar eine
Elektrode lediglich aus dem Metallnitrid hergestellt werden,
z.B. indem feinverteiltes Metallpulver in das Fitrid übergeführt und das erhaltene Pulver darauf zu einer für
die Elektrode gewünschten IOrm gesintert wird. Der elektrische
Widerstand der Metallnitride ist nämlich äusserst gering (der gleichen Grössenordnung wie die der Metalle
• *
selbst).
Die Erfindung bezieht sich s.omit auf eine widerstandsfähige
Elektrode, die sich als Anode zur Durchführung von Elektrolysen eignet. Die Elektrode ist dadurch gekennzeichnet,
dass sie aus Titan, Chrom, ITiob oder aus einer Legierung
auf Basis dieser Metalle besteht, und wenigstens praktisch auf der ganzen Oberfläche mit einer leitenden Nitridschient
des Metalles versehen ist*
Zur Herstellung der Elektrode gemäss der Erfindung geht
man z.B. von einer. Platte aus sorgfältig entfettetem Titan aus, die sofort in einer sauerstoffreien Stickstoff—
und/oder Ammoniakatmosphäre auf die Nitridbildungstemperatur,
welche etwa 700 - 10000C beträgt, erhitzt wirdo
Es hat sieh gezeigt, dass bei Anwendung von Titanlegierungen,
die bis etwa 6 <$> Vanadin, Chrom oder andere Metalle
enthalten, das Nitrid bereits bei einer weit niedrigeren
BAD
80 9801/0363 ·
Tempera/fcur (etwa 5OO°G) als bei Anwendung- reinen Titanmetalles
gebildet v/ei den kann.
Auen kann von dem pulverförmigen Metall ausgegangen werden,
das meistens weit billiger als das Metall in Plattenform und oft auch besser zugänglich ist. Durch hohen Druck, gegebenenfalls zusammen mit einem Bindemittel, kann man das
Pulver in die für die Elektrode gewünseilte ]?orm bangen«
Es empfiehlt sich, bei der Bildung des-Fitrids durch Erhitzung
den Metalls in einer Ammoniak- und/oder Stickstoffatmosjifphäre
die Temperatur allmählich zu ,steigern, so dass
die erforderliche Temperatur z.Be im Verlaufe zweier Stunden
erreicht wird» Auch die spätere Abkühlung in dieser Atmosphäre
kann am besten langsam, zeBo im Verlaufe dreier
Stunden oder einer längeren Zeit erfolgen«. Dadurch wird eine bessere Haftung des Mitrids erhalten und wird auch
die Struktur verbesserte £ .
Die Elektroden in Plattenform können äusserst dünn sein«.
Eine Titanplatte von z.B. 0,1 mm ist mechanisch stark ge«
nug,- um nach Nitridbildung an der Oberfläche an sich als
Anode zu dienen. Man kann auch dünnere Plättchen benutzen und diese gegebenenfalls durch Schweissen oder in anderer
Weise leitend mit einem leitenden Material und namentlich-
- 80 9 801/0363
mit einem unedlen Metall verbinden. So kann man ζ „Β» eine
dünne Titanröhre mit geschmolzenem Blei ausfüllen, das nach.
Erstarrung mit dem Ixt an in leitender Verbindung steht«,
Eine Platte Titanmetall wird zunächst gut entfettet, Z0B0
durch Behandlung mit Benzin, darauf gut getrocknet und sodann von der immer vorhandenen Oxyd schicht befreit, indem
sie mit einem Gemisch aus einer wässrigen Lösung von 20 °/o
Salpetersäure und 2 °/o Hatriumfluorid bei einer Temperatur
von 600C gebeizt wird, Hacti Abtrocknen vdrd die Platte so
schnell wie möglich in OeI eingetaucht, um zu vermeiden,
dass sich eineTöxydaxiaKKschicht auf dem Metall bildet.
Darauf wird die Platte 4 Stunden in einer reiin Stickstoffatmosphäre
auf einer Temperatur von 95Q°G gehalten,, Die
erhaltene Elektrode ist auf der Aussenseite in chemisch
äusserst beständiges Titannitrid übergeführt, das gleichfalls
ein guter Leiter der Elektrizität ist„ Die Elektrode. eignet sich ausgezeichnet als Anode zur Durchführung der
meisten Elektrolysen, ausgenommen in den Fällen, in denen
an der Anode Fluor entwickelt wird«
Eine Platte Titanmeiall wird wieder, wie im Beispiel 1
angegeben, vorbereitet» Nach Abspülen wird die Platte in
809801/0.363. BADORKMNAk
eine konzentrierte wässrige Lithiumchloridlösung eingetaucht·
Darauf wird die Platte 15 Minuten auf 600G erwärmt, wodurch
das Wasser verdampft und sich dort eine dünne Lithiumchloridschicht ablagert. Es hat sich gezeigt, dass dieser
Stoff die Umsetzung von Titan in das Uitrid katalytisch.
fördert. liach 1-stündiger Erhitzung in einer reinen Stickstoff atmosphäre auf 81O0O ist wieder eine hervorragende
Anode entstandene
Stoff die Umsetzung von Titan in das Uitrid katalytisch.
fördert. liach 1-stündiger Erhitzung in einer reinen Stickstoff atmosphäre auf 81O0O ist wieder eine hervorragende
Anode entstandene
Einer dünnen Titanmetallröhre wird auf der Unterseite litan
aufgeschweisst, wodurch die Röhre auf einer Seite völlig abgeschlossen
isto Diese.Röhre wird auf der Aussenseite entfettet,
z»Bo -mit Hilfe von Benzin, und darauf von "der Qxydhaut
durch Einwirkung eines Wechselstromes in einer wässrigen Lösung von 90 fo Essigsäure und 10 fo Ammoniumbifluorid
befreit. Darauf wird die Röhre gut abgetrocknet und in einen Ohlorgasstrom von etwa 500p0 gehängt, wodurch auf der
Oberfläche eine äusserst dünne Titanchloridscnicht entsteht, welche die Bildung von Titannitrid erleichtert* Die in' dieser Weise behandelte Röhre wird 2 Stunden auf einer Temperatur von 75O°G in einer reinen Ammoniakgasatmosphäre - gehalten·1 Nach Kühlung wird"die Innenseite der Rohre von dem gebildeten Oxydnitrid, welches nichtleitend ist, befreit. Das
kann, mat Z0B. durch Abschleifen erfolgen» Danacn wird die
befreit. Darauf wird die Röhre gut abgetrocknet und in einen Ohlorgasstrom von etwa 500p0 gehängt, wodurch auf der
Oberfläche eine äusserst dünne Titanchloridscnicht entsteht, welche die Bildung von Titannitrid erleichtert* Die in' dieser Weise behandelte Röhre wird 2 Stunden auf einer Temperatur von 75O°G in einer reinen Ammoniakgasatmosphäre - gehalten·1 Nach Kühlung wird"die Innenseite der Rohre von dem gebildeten Oxydnitrid, welches nichtleitend ist, befreit. Das
kann, mat Z0B. durch Abschleifen erfolgen» Danacn wird die
SADORIGfNAL
809801/0363 · ·
Innenseite der Röhre mit flüssigem Blei gefüllt, in d'.- -,
der Stromanschluss eingeschmolzen wird* Durch diese Bin
füllung kann man mit einer dünne» Sütanplatte auskommei: t
weil das Blei für den Stromtransport sorgt, während au<
die Stromklemme und das Titan in innigem Kontakt sind.
Beispiel 4 . .·
Eine Titanplatte wird in der im Beispiel 1 angegebenen
feise. vorbearbeitet· Darauf wird sie in eine ammoniak: .-lische
Vanadinpentoxydlösung eingetaucht und ansohlies;
vorsichtig getrocknet· Die auf der Platte gebildete diL r
yanadinpentoxydsohicht fördert die Nitridbildung· Sog.;.r
wird dabei gegebenenfalls vorhandenes litanoxyd in das
Nitrid umgesetzt· Diese Platte wird 1/2 Stunde auf einet:
Temperatur von 700°0 gehalten und ist dann auf der Aus;".-.■·■-seite
mit einer äusserst resistenten Nitridschicht bedte^1 f
v/elohe den Strom ausgezeichnet leitet*·
Ein noch leichter in das Nitrid überzuführendes Material erhält man, wenn man von einer Titanlegierung, mit z.B.
4 °/o Vanadin ausgeht. Es genügt, dieses zu entfetten und er.
braucht nicht von einer Oxydschicht befreit zu werden,, Hält
man diese Platte 1 Stunde auf einer Temperatur von 59O°O in. kxh
einer Stickstoff atmosphäre, so hat sich auf der A
8 0 3 3 0 1 / 0 3 63 ■ _ . ■ BAD 0RIG!NAL
~ 9
bits zu einer gehörigen Tiefe eine chemisch widerstandfähige
«oliicht JJitrid gebildet, welche die Elektrizität leitet und
οich als Anode sehr gut bewährt»
Titanmetallpulver wird unter Druck, zu einer Platte, einem
ij'-abchen oder zu einer anderen gewünschten Form gepresst»
iiiiGchliessend wird die Platte bzw.· der andere formling entfettet
und von der Oxydhaut befreit. Darauf wird die Platte 8 stunden in einer reinen Stickstoffatmosphäre bei einer
Temperatur von 980°0 gehalten» Die Aussenseiten dieser
Platte sind mit einer gut leitenden Titannitridschicht bedeckt, während die Platte auch mechanisch stärk genug ist.
um als Anode zu dienen«
Eine Niobplatte wird durch Behandlung in Benzin entfettet
und darauf in 50$-iger Salpetersäure abgebeizt» Anschliessend
wird sie 3 Stunden in Stickstoff auf 84O0G erhitzt. Die
Aussenseite ist in Mobnitrid umgesetzt, das chemisch widerstandsfähig
ist, so dass die Platte sich als Anode in verschiedensten
Elektrolyten unter Ausnahme von Fluorverbindungen eignet. ■
8 0 9 8 0 1/0363
— 1o —
Bespiel 8
Eine Chromplatte wird entfettet und darauf 1 Stunde in einer
Stickstoffatmosphäre auf einer Temperatur von 59O°C gehalten«
Das gebildete öhromnitrid ist gegen alle Säuren und Alkalien beständig, so dass die Platte als Anode dienen kann.
8098 0 1/0 363
Claims (2)
- P. a t e η t a η s ρ r ü ο h β1£ Widerstandsfähige Elektrodet geeignet als Anode zur Durchführung von Elektrolysen, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrode aus litan, Chrom* Hiob oder aus einer legierung auf Basis dieser Metalle besteht, und wenigstens praktisch auf ihrer ganzen Oberfläche mit einer leitenden Uitridschicht des betreffenden Metalles yersehen ist»
- 2. Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Metall aus einer Titanlegierung besteht, die etwa i fo Vanadin enthält.'. Elektrode nach Anspruch 1 oder 2 ^dadurch gekennzeichnet, dass das Metall in Pulverform in die für die Elektrode gewünschte Porm gepresst ist,4· Herstellung der Elektrode nach Anspruch 1—3, dadurch gekennzeichnet, dass der sorgfältig entfettete und von Oxyd befreite Rohling, z.B. in Form eines Bleches oder Presslings aus den genannten Metallen bzw· Legierungen in einer sauerstoffreien Stickstoff- und/oder Ammoniakatmos-Ohäre auf die zur Nitriabildung erforderliche Temperatur erhitzt v?±r&<,BAD0S-8T0 Y '-5· Herstellung der Elektrode nach Anspruch 4ι dadurch gekennzeichnet, dass "bei der Erhitzung in der Stickstoff- und/ oder Ammoniakatmosphäre die Enitemperatur durch allmähliche Temperatursteigerung ζ·Β* im Verlaufe zweier Stunden erreicht wird und die Abkühlung durch langsame !emperatursenkung im Verlaufe mehrerer Stunden erfolgt*3U28U 1 / Ü363
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL227235 | 1958-04-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1421047A1 true DE1421047A1 (de) | 1968-10-03 |
DE1421047B2 DE1421047B2 (de) | 1970-10-15 |
Family
ID=19751191
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19591421047 Pending DE1421047A1 (de) | 1958-04-25 | 1959-09-24 | Widerstandsfaehige Elektrode |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH395036A (de) |
DE (1) | DE1421047A1 (de) |
FR (1) | FR1222302A (de) |
GB (1) | GB886197A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2428684A1 (fr) * | 1978-06-13 | 1980-01-11 | Engelhard Min & Chem | Electrodes destinees a etre utilisees dans un procede electrolytique |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2461800A1 (de) * | 1974-12-30 | 1976-07-08 | Basf Ag | Anode fuer elektrochemische prozesse |
JPS62274087A (ja) * | 1986-05-22 | 1987-11-28 | Permelec Electrode Ltd | 耐久性を有する電解用電極及びその製造方法 |
IS2972B (is) * | 2014-06-13 | 2017-07-15 | Háskóli Íslands | Aðferð og kerfi til að framleiða ammóníak með rafgreiningu |
-
1959
- 1959-04-23 CH CH7243759A patent/CH395036A/de unknown
- 1959-04-24 FR FR793313A patent/FR1222302A/fr not_active Expired
- 1959-04-27 GB GB14246/59A patent/GB886197A/en not_active Expired
- 1959-09-24 DE DE19591421047 patent/DE1421047A1/de active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2428684A1 (fr) * | 1978-06-13 | 1980-01-11 | Engelhard Min & Chem | Electrodes destinees a etre utilisees dans un procede electrolytique |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR1222302A (fr) | 1960-06-09 |
DE1421047B2 (de) | 1970-10-15 |
GB886197A (en) | 1962-01-03 |
CH395036A (de) | 1965-07-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2113795C3 (de) | Elektrode für elektrolytische Verfahren als Sauerstoffanode | |
DE1571721B2 (de) | Elektrode zur verwendung in elektrolytischen prozessen | |
DE2618410A1 (de) | Vorrichtung zur unter gasabscheidung erfolgenden elektrolyse | |
DE3401952A1 (de) | Dauerhafte elektrode zur elektrolyse und verfahren zu deren herstellung | |
DE3142686C1 (de) | Kathode fuer eine Schmelzflusselektrolysezelle zur Herstellung von Aluminium | |
DE2752875C2 (de) | Elektrode für elektrochemische Prozesse und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE1671455A1 (de) | Elektrochemische Elektrode | |
DE1105854B (de) | Bleidioxyd-Elektrode fuer elektrolytische Verfahren | |
DE3524604C2 (de) | ||
DE1092215B (de) | Kathode und Zelle zur Gewinnung von Aluminium aus Aluminiumoxyd durch Schmelzflusselektrolyse | |
DE1903858A1 (de) | Verfahren zum Fuellen der Poren elektrisch leitender Platten mit Metalloxyd bzw.-hydroxyd | |
DE1421047A1 (de) | Widerstandsfaehige Elektrode | |
DE1567909B1 (de) | Titan-oder tantalhaltige Anode fuer horizontale Elektrolysezellen | |
DE2710802C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Elektroden für Elektrolysezellen | |
DE2757808A1 (de) | Gesinterte elektroden | |
EP0205631A1 (de) | Verfahren zum Beschichten einer porösen Elektrode | |
DE2107675C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Regulieren der Al tief 2 0 tief 3 -Konzentration im Fluoridelektrolyten bei der Aluminiumelektrolyse | |
DE1671790C3 (de) | Elektrolytträger für Brennstoffzellen und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE325154C (de) | Verfahren zur Herstellung von Bleisuperoxyd- oder Mangansuperoxydelektroden | |
DE1965890A1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Elektrode | |
DE2242770A1 (de) | Titan-kupfer-sinterwerkstoff, seine herstellung und verwendung | |
DE1300915B (de) | Verfahren zur Herstellung von Stannofluorid mit niedrigem Gehalt an Stannifluorid | |
DE1567909C (de) | Titan oder tantalhaltige Anode fur horizontale Elektrolvsezellen | |
AT222626B (de) | Verfahren zur Herstellung einer Elektrode | |
DE187029C (de) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
SH | Request for examination between 03.10.1968 and 22.04.1971 |