DE2752875C2 - Elektrode für elektrochemische Prozesse und Verfahren zu deren Herstellung - Google Patents
Elektrode für elektrochemische Prozesse und Verfahren zu deren HerstellungInfo
- Publication number
- DE2752875C2 DE2752875C2 DE2752875A DE2752875A DE2752875C2 DE 2752875 C2 DE2752875 C2 DE 2752875C2 DE 2752875 A DE2752875 A DE 2752875A DE 2752875 A DE2752875 A DE 2752875A DE 2752875 C2 DE2752875 C2 DE 2752875C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- carrier
- titanium
- layer
- electrode
- tio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 40
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 26
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 18
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 17
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 claims description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N manganese(2+);dinitrate Chemical compound [Mn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O MIVBAHRSNUNMPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- -1 oxygen ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 229940099596 manganese sulfate Drugs 0.000 description 2
- 235000007079 manganese sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000011702 manganese sulphate Substances 0.000 description 2
- SQQMAOCOWKFBNP-UHFFFAOYSA-L manganese(II) sulfate Chemical compound [Mn+2].[O-]S([O-])(=O)=O SQQMAOCOWKFBNP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N Nickel(2+) Chemical compound [Ni+2] VEQPNABPJHWNSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052774 Proactinium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002779 inactivation Effects 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 150000002696 manganese Chemical class 0.000 description 1
- 150000002697 manganese compounds Chemical class 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000009996 mechanical pre-treatment Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001453 nickel ion Inorganic materials 0.000 description 1
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical class [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
- C25B11/055—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier characterised by the substrate or carrier material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25B—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25B11/00—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for
- C25B11/04—Electrodes; Manufacture thereof not otherwise provided for characterised by the material
- C25B11/051—Electrodes formed of electrocatalysts on a substrate or carrier
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25C—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
- C25C7/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells; Servicing or operating of cells
- C25C7/02—Electrodes; Connections thereof
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrodes For Compound Or Non-Metal Manufacture (AREA)
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Elektrode für elektrochemische Prozesse mit einem gesinterten titanhaltigen
Träger und einem äußeren, Mangandioxid enthaltenden Überzug sowie ein Verfahren zum Herstellen der Elektrode.
Es ist bekannt, in elektrochemischen Prozessen verwendete, aus einem Träger aus massivem oder gesintertem
Titan und einer aktivierende Stoffe enthaltenden Deckschicht bestehende Elektrode zur Verbesserung
der Haftung zwischen den Elektrodenteilen mit einer Zwischenschicht aus unterstöchiometrischem Titanoxid
zu versehen (DE-OS 24 05 010). Die Deckschicht dieser, beispielsweise als Anode in der Chloralkali-Elektrolyse
eingesetzten Elektrode, enthält ein Metall aus der Gruppe Pt, Pa, Ir, Ru1 Os, Rh, Au, Ag oder Verbindungen
dieser Metalle.
Als Elektrode, insbesondere als Anode, bei Verfahren zur elektrochemischen Gewinnung von Metallen eignen
sich wegen des starken korrosiven Angriffs unter den Elektrolysebedingungen nur wenige Werkstoffe, wie
z. B. Graphit, Blei, Nickel und Platin. Durch die deutschen Offenlegungsschriften 17 96 220 und 26 36 447
sind für diesen Zweck Elektroden bekannt, die aus einem Träger oder einer Basis aus Titan oder einem anderen
passivierbaren Metall und einem die Oberfläche des Trägers einhüllenden, zu einem wesentlichen Teil Mangandioxid
enthaltenden Überzug bestehen. Da die Oberfläche des Trägers derartiger Elektroden unter den
Elektrolysebedingungen trotz der Aktivierungsbeschichtung passiviert wird und die Zellenspannung bei
konstanter Stromdichte dabei ansteigt, können die Elektroden im allgemeinen nur mit kleineren Stromdichten
betrieben werden. Es ist bekannt, die Passivierung des
Elektrodenträgers durch einen besonderen aus mehreren Schichten bestehenden Oberzug zu verzögern.
Nach der deutschen Offenlegungsschrift 26 57 979 setzt sich die auf den Träger aus einem passivierbaren Metall
aufgebrachte Oberzugsschicht aus einer Oxide des Zinns und Antimons enthaltenden Zwischenschicht und
einer im wesentlichen aus Mangandioxid bestehenden
ίο Deckschicht zusammen. Durch die französische Offenlegungsschrift
22 36 027 ist schließlich eine Anode bekannt, die auf einem gesinterten Träger aus metallischem
Titan eine erste durch thermische Zersetzung einer Manganverbindung gebildete Mangandioxidschicht
und eine zweite elektrochemisch abgeschiedene Mangandioxidschicht aufweist
Die Herstellung der aus mehreren Ein^tlschichten
bestehenden Überzugsschichten ist verhältnismäßig aufwendig und die Passivierung des Trägers kann zudem
nur dann vermieden werden, wenn die Diffusion von Sauerstoff-Ionen durch die Schichten vollständig
unterbunden wird oder wenigstens sehr klein ist Der Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, eine Elektrode,
insbesondere eine Anode, zu schaffen, die mit einem einfach herstellbaren Überzug aus Mangandioxid versehen
ist und deren Spannungsabfall sich über lange Betriebszeiten nicht oder nur geringfügig erhöht.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß mit einer Elektrode der eingangs genannten Art mit den im Kennzeichen
genannten Merkmalen gelöst. Vorteilhafte Ausbildungen der Elektrode, sowie ein Verfahren zu ihrer
Herstellung sind in den Unteransprüchen 2 bis 6 niedergelegt.
Die Lösung beruht auf der überraschenden Erkenntnis, daß die Funktionstüchtigkeit, insbesondere die Höhe
der kritischen Stromdichte und die zeitliche Konstanz des Elektrodenpoientials, von Überzugsschichten
aus Mangandioxid aufweisenden Anoden zu einem wesentlichen Teil von der stofflichen Zusammensetzung
*o des Trägers bestimmt wird. Aus metallischem Titan bestehende
Träger bilden unter anodischer Belastung eine dünne Oberflächenschicht aus Titandioxid, deren Dicke
sich kaum ändert, solange eine kritische Stromdichte
. nicht überschritten wird. Die elektrischen Ladungen werden unter diesen Bedingungen ausschließlich durch
Elektronen transportiert. Wird die Stromdichte jedoch über den kritischen Grenzwert erhöht, so diffundieren
Sauerstoffionen aus der mangandioxidhaltigen Überzugsschicht in das Trägermaterial.
-|-MnO2-! Ti —-|·MnO2-,+ TiO2 (0<x<\)
Die zunehmende Dicke der TiO2-Schicht führt schnell
zu einer vollständigen Inaktivierung der Anode.
Titanoxide TiO,, mit χ = 0,25—1,50, weisen die gleiche
Beständigkeit gegen Korrosion auf wie metallisches Titan. Das Passivierungsverhalten ist jedoch wesentlich
verschieden. Während beispielsweise bei Verwendung einer Elektrode aus Titan als Anöde der Stromfluß
selbst bei höheren Spannungen innerhalb einiger Sekunden auf Null abfällt, nimmt unter den gleichen Bedingungen
bei Verwendung einer mit einer TiO,-Schicht versehenen oder vollständig aus TiO, bestehenden Ant>5
ode der Strom nur langsam ab und die Aktivität der Anode ändert sich erst nach längerer Belriebszeit in
einem nennenswerten Umfang/Der Effekt ist möglicherweise
auf die größere Mobilität der Sauerstoff-Io-
nen in dem kristallographisch gestörten Gitter der TiO,-Phasen und der guten Elektronenleitfähigkeit des Suboxids
zurückzuführen, wodurch die Bildung einer TiO2-Sperrschicht auf der Oberfläche des Titanträgers
gehemmt wird.
Als Träger für eine erfindungsgemäße Elektrode sind besonders pulvermetallurgisch hergestellte Titankörper
geeignet, deren unregelmäßige Oberflächengestaltung einen besonders günstigen Haftgrund für eine Schicht
aus einem Titanoxid TiO, ergibt, die in an sich bekannter
Weise auf die Oberfläche des Trägers aufgespachtelt aufgepinselt, gepreßt oder durch Ramm- oder Plasmaspritzen
aufgebracht und danach bei einer erhöhten Temperatur aufgesintert wird. Die Dicke der TiO,-Schicht
beträgt mindestens 0,1 mm, insbesondere 0,1 —5 mm. Nach einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung
besteht der Träger vollständig aus einem Titanoxid TiOx.
Zum Herstellen der Verbindungen TiO, werden Titanmetall-
und Tjtandioxidpulver im Verhältnis 7:1 bis 1 :3, gegebenenfalls nach Zusatz eines Bindemittels, wie
z. B. einer wäßrigen Lösung von Polyvinylalkohol, gemischt, das Gemisch zu Platten oder Briketts verpreßt
und die Preßlinge in einer inerten Atmosphäre im Temperaturbereich
zwischen 900 und 15000C gesintert. Durch die Temperaturbehandlung des verdichteten
Ti—TiO2-Pulvergemischs werden im wesentlichen einheitliche,
der jeweiligen stöchiometrischen Zusammensetzung entsprechende TiO^-Phasen gebildet, deren
Gitter beträchtlich gestört ist So liegt z. B. im Bereich χ
= 0,6—1,25 eine Verbindung vom NaCI-Typ mit lükkenhaft
besetzten GitterplätTen vor :m Bereich x<
0,42 ist das Ä-Titan-Gitter durch eingelagerten Sauerstoff ausgeweitet und in den Bereichen χ — 0,42 bis 0,60 bzw.
χ = 1,25 bis 1,50 besteht das Reaktionsprodukt aus Gemischen
der gestörten x-Ti- und TiO-Phaser. bzw. der
TiO- und T12O3-Phasen. Die Preßlinge werden zerkleinert
und zu einem feinen Pulver gemahlen, dessen Korngröße etwa 10—75 μηι beträgt, in dieser Form beispielsweise
einem Plasmabrenner zugeführt und in einer Argonatmosphäre auf den aus Sintertitan hergestellten
Basisteil des Trägers aufgebracht. Nach einem bevorzugten anderen Verfahren wird das Pulver mit einem
Bindemittel, wie z. B. Polyvinylalkohol oder Methylcellulose versetzt und durch Aufstreichen, Bürsten oder
Sprühen auf einen Sintertitankörper aufgebracht und durch Erhitzen auf den Körper aufgesintert. Nach einem
weiteren Verfahren wird eine Schicht aus Titanpulver mit einer Schicht aus TiO,-Pulver überschichtet und
die Schichten dann zu einem Träger der gewünschten Abmessungen gepreßt und anschließend gesintert. Die
Ausbildung und stöchiometrische Zusammensetzung des ΤΐΟ,-Teils des Trägers wird insbesondere auch
durch die Sinterbedingungen bestimmt. Das Sintern erfolgt in einer inerten Atmosphäre, z. B. unter Argon
oder im Vakuum. Die Sintertemperaturen betragen vorzugsweise 900—1400° C, wobei in dem Temperaturbereich
bis etwa 1250°C die jeweils erforderliche Sinterzeit der Temperatur umgekehrt proportional ist. Oberhalb
von etwa 1250°C nimmt die Mobilität des Sauerstoffs erheblich zu, so daß ein größerer Sauersloffanteil
aus der TiO,-Schicht in die Titanschicht des Trägers diffundiert. Dieser für eine feste Verankerung der beiden
Trägerschichten vorteilhafte Effekt ist durch eine Begrenzung der Sinterzeit derartig zu regeln, daß die
Summenformel TiO, der Zwischenschicht innerhalb der Grenzen χ = 0,25 und χ = 1,50 liegt. Die tatsächliche
Zusammensetzung variiert je nach den Sinterbedingungen über die Dicke dieser Schicht, wobei der Sauerstoffgehalt
von der Oberfläche zur Grenzschicht abnimmt. ΤϊΟ,-Schichten mit einem Sauerstoffgehalt oberhalb
1,50 weisen einen für Elektroden ungeeigneten hohen elektrischen Widerstand auf und die Bearbeitung wird
zudem wegen der Sprödigkeit des Werkstoffs erschwert Schichten mit einem Sauerstoffgehalt unterhalb
0,25 können unter ungünstigen Bedingungen die Bildung von Passivierungsschichten nicht hinreichend
unterbinden. Besonders günstige Eigenschaften weisen TiO ,-Schichten mit der Zusammensetzung TiO, mit χ =
0,42-0,60 auf.
Für die Beschichtung des Elektrodenträgers mit einem
Oberzug aus Mangandioxid sind alle bekannten Beschichtungsverfahren gleichermaßen geeignet. Beispielsweise
kann der Träger mit einer wäßrigen Lösung eines Mangansalzes, wie Mangannitrat, imprägniert und
das Salz durch Erhitzen auf etwa 300° C zersetzt werden, wobei das Oxid in der /?-Form erhalten wird. Nach
einem anderen Verfahren wird Mangandioxid elektrolytisch aus einer mangansuifathahigen Lösung auf die
Oberfläche des Trägers aufgebracht Die einen Teil der erfindungsgemäßen Elektrode bildende Schicht aus
Mangandioxid weist eine vorzügliche von der Strombelastung in einem weiten Bereich unabhängige Beständigkeit
auf. Selbst nach mehrfachem Tempern und nachfolgendem Abschrecken sind ein Ablösen der Schicht
und eine Minderung der elektrochemischen Aktivität nicht zu beobachten.
Die Erfindung wird Im folgenden anhand von Beispielen
erläutert
Titanblechabschnitte mit den Maßen 100 χ 20 χ 2 mm wurden mit einem Überzug aus Mangandioxid versehen.
Probe 1
Das Blech wurde ohne eine besondere Oberflächenbehandlung in eine 20%ige wäßrige Mangannitratlösung
getaucht, getrocknet und zur Zersetzung des Mangannitrats auf etwa 300°C erhitzt. Nach fünfmaliger
Wiederholung dieser Schritte enthielt der Überzug etwa 1 mg/cm2 MnO2-
Probe 2
Das Titanblech wurde sandgestrahlt und wie Probe 1 beschichtet.
Probe 3
Auf ein Titanblech, das zunächst wie oben mit einem Überzug aus Mangandioxid versehen worden war, wurde
elektrolytisch bei einer Stromdichte von 2 mA/cm: und einer Temperatur von 6O0C in einem 100 g Mangansulfat
und 10 g konzentrierte Schwefelsäure je Liter enthaltenden Elektrolysebad eine zweite MnO2-Schicht
aufgebracht. Der Überzug enthielt insgesamt etwa 2 mg/cm2 MnO2.
Probe 4
Das Titanblech wurde sandgestrahlt und mit einer 50% TiOo.5(,-PuIver mit einer Korngröße
< 100 μπι und 0,3% Methylcellulose enthaltenden wäßrigen Suspen-
sion durch Pinseln beschichtet Die Schicht, deren Dicke
etwa 0,5 mm betrug, wurde bei einer Temperatur von 80° C entwässert und im Vakuum bei einem Druck von
10-ämbar durch Erhitzen auf eine Temperatur von
1250° C gesintert, wobei eine unlösbare Verbindung mit
dem Blech gebildet wurde. Während des Sinterns diffundierte Sauerstoff aus der Oxidschicht in das Titanblech,
so daß die mittlere Zusammensetzung der Schicht etwa TiOoj betrug. Die Probe wurde dann in der gleichen
Weise wie die Proben 1 und 2 mit einem Überzug aus Mangandioxid versehen, der, bezogen auf die geometrische
Oberfläche, etwa 1 mg/cm2 \4nO2 enthielt
Die Proben wurden als Anode in einer Zelle, die als Elektrolyten 10%ige Schwefelsäure enthielt, bei 25° C
geprüft. Der Elektrodenabstand betrug 3 mm, die Stromdichte 50 mA/cm2.
Zellenspannung (f = Oh) Standzeit*)
(V) (h)
(V) (h)
1 | 3.1 |
2 | 3,0 |
3 | 23 |
4 | 2,5 |
50
175
400
>3000
*) Standzeit ist die Zeit, in der die Zellenspannung weniger
als 5 V beträgt.
Anfangsspannung und Standzeit der Anoden werden durch mechanische Vorbehandlung der Oberfläche des
Titanträgers (Probe 2) und durch mehrere Ei;ize!schichten enthaltende Überzugsschichten (Probe 3) verbessert
Die nach der Erfindung hergestellte Anode 4 weist eine etwa 15% geringere Zellenspannung auf, die sich
während der Versuchszeit von 3000 h nicht änderte.
20 g Titanschwamm mit einer Korngröße von 0,5 bis 2,0 mm wurden in ein Preßgesenk eingefüllt und die
Pulverschüttung mit 6 g TiOo^-Pulver überschichtet und
die übereinander angeordneten Schichten mit einem Druck von 30 kN/cm2 zu einer Anode mit den Maßen
20 χ 50 χ 6 mm verpreßt. Die Dicke der Oxidschicht betrug
etwa ! mm. Der Preßling wuroe unter einem Druck von 10-5 mbar bei einer Temperatur von 1250°C gesintert.
Auf eine erste Trägerplatte (Probe 1) wurde wie in Beispiel 1 beschriebet! durch thermische Zersetzung so
von Mangannitrat ein Überzug aus Mangandioxid aufgebracht, eine zweite Trägerplatte (Probe 2) wurde galvanisch
mit einer Mangandioxidschicht versehen.
Die Proben wurden als Anoden in einem Elektrolyten geprüft, der 100 g Schwefelsäure. 50 g Kupferionen und
10 g Nickelionen je Liter enthielt. Die Stromdichte betrug 100 mA/cm2.
Die Zellenspannung ist unabhängig von der Art des zum Herstellen eines Überzugs aus Mangandioxid verwendeten
Verfahrens und nach einem geringen Anstieg in der Einfahrphase praktisch konstant.
5
5
61,4 Gewichtsteile Titanpulver, Korngröße < 0,06 mm, 38,6 Gewichtsteile Rutilpulver. Korngröße
<0,01 mm. wurden nach Zusatz von 5 Gewichtsteilen einer 2°/oigen wäßrigen Polyvinylalkohollösung in einem
Schnellmischer 10 min gemischt und anschließend auf einer Gesenkpresse mit einem Druck von 30 kN/
cm2 zu zylindrischen Körpern mit einem Durchmesser von 50 mm verpreßt. Die bei einer Temperatur von
105° C getrockneten Vorpreßlinge wurden dann innerhalb
von 4 h in einer Argonatmosphäre auf 1250° C erhitzt,
anschließend auf einem Backenbrecher zerkleinert und in einer Schwingmühle auf eine Körnung
<0,06 mm gemahlen. Das spröde, -raugußfarbene Pulver
hatte eine Zusammensetzung ve:; T.Oojö-
100 Gewichtsteile Pulver wurden mit 5 Gewichtsteilen einer 10%igen Lösung von Hartparaffin in Toluol
versetzt, 5 min in einem Wirbelmischer gemischt und mit einer Gesenkpresse unter einem Druck von 25 kN/
cm2 zu plattenförmigen Elektrodenträgern verpreßt, die nach einer Trocknungsbehandlung in einem Durchstoßofen
in einer Argonatmosphäre au? 1300° C erhitzt wurden.
Der spezifische elektrische Widerstand der dichtgesinterten Träger beträgt etwa 1,8 Qmm2/m, das zugängliche
Porenvolumen etwa 15%.
Die Träger wurden wie in Beispiel 1 beschrieben mit einem Überzug aus Mangandioxid versehen und unter
den gleichen Bedingungen als Anoden geprüft. Die mittlere
Zellenspannung betrug 2,1 V.
Laufzeit | 0 | Probe 1 | Probe 2 |
(h) | 500 | (V) | (V) |
1000 | 1,8 | 1,7 | |
1500 | 2,2 | 2,2 | |
2000 | 2,3 | 2,0 | |
2500 | 2,1 | 2,1 | |
2,1 | 2,1 | ||
2\ | 2.1 |
Claims (6)
1. Elektrode für elektrochemische Prozesse mit einem gesinterten titanhaltigen Träger und einem
äußeren,Mangandioxid enthaltenden Oberzug, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest die
Oberfläche des mit dem Oberzug zu versehenen Teils des Trägers aus einem Titanoxid TiOx besteht,
mit x = 0,25—1,50.
2. Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß zumindest die Oberfläche des mit dem Überzug zu versehenen Teils des Trägers aus einem
Titanoxid TiO, besteht, mit χ = 0,42—0,60.
3. Elektrode nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger vollständig aus einem
Titanoxid TiO, besteht
4. Elektrode nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Träger aus gesintertem Titan
und einer auf den Träger aufgesinterten Schicht aus einem Titanoxid TiO, besteht.
5. Elektrode nach Anspruch 1, 2 und 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der aufgesinterten
Schicht 0,1 bis 5 mm beträgt.
6. Verfahren zum Herstellen einer Elektrode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein plattenförmiger
Trägerkörper aus gesintertem Titan mit einem Titanoxid TiOx, mit a- = 0,25 bis 1,50, beschichtet,
die Schicht mit dem Trägerkörper durch Erhitzen in einer inerten Atmosphäre auf eine Temperatur
von 900— 1400°C verbunden und mit einer Mangandioxid enthaltenden Überzugsschicht versehen
wird.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2752875A DE2752875C2 (de) | 1977-11-26 | 1977-11-26 | Elektrode für elektrochemische Prozesse und Verfahren zu deren Herstellung |
US06/026,523 US4252629A (en) | 1977-11-26 | 1979-04-03 | Electrode for electrochemical processes especially electrowinning and method for manufacturing same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2752875A DE2752875C2 (de) | 1977-11-26 | 1977-11-26 | Elektrode für elektrochemische Prozesse und Verfahren zu deren Herstellung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2752875A1 DE2752875A1 (de) | 1979-05-31 |
DE2752875C2 true DE2752875C2 (de) | 1986-05-15 |
Family
ID=6024722
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2752875A Expired DE2752875C2 (de) | 1977-11-26 | 1977-11-26 | Elektrode für elektrochemische Prozesse und Verfahren zu deren Herstellung |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4252629A (de) |
DE (1) | DE2752875C2 (de) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5693883A (en) * | 1979-12-27 | 1981-07-29 | Permelec Electrode Ltd | Electrolytic apparatus using solid polymer electrolyte diaphragm and preparation thereof |
US4422917A (en) * | 1980-09-10 | 1983-12-27 | Imi Marston Limited | Electrode material, electrode and electrochemical cell |
CA1176115A (en) * | 1982-05-28 | 1984-10-16 | Cornelis Blaauw | Method of preparing ti0.sub.2 thick film photoanodes for photoelectrochemical cells |
DE3521827A1 (de) * | 1985-06-19 | 1987-01-02 | Hoechst Ag | Anodensystem fuer die elektrolytische herstellung von braunstein |
US4931213A (en) * | 1987-01-23 | 1990-06-05 | Cass Richard B | Electrically-conductive titanium suboxides |
US5173215A (en) * | 1991-02-21 | 1992-12-22 | Atraverda Limited | Conductive titanium suboxide particulates |
GB2281741B (en) * | 1993-09-13 | 1997-03-26 | Atraverda Ltd | Titanium suboxide articles |
GB9600210D0 (en) | 1996-01-05 | 1996-03-06 | Vanderstraeten E Bvba | Improved sputtering targets and method for the preparation thereof |
US6524750B1 (en) | 2000-06-17 | 2003-02-25 | Eveready Battery Company, Inc. | Doped titanium oxide additives |
US6855234B2 (en) * | 2003-04-02 | 2005-02-15 | Alcoa Inc. | Sinter-bonded direct pin connections for inert anodes |
US7445679B2 (en) * | 2003-05-16 | 2008-11-04 | Cabot Corporation | Controlled oxygen addition for metal material |
US7294404B2 (en) * | 2003-12-22 | 2007-11-13 | Cardinal Cg Company | Graded photocatalytic coatings |
WO2006017349A1 (en) * | 2004-07-12 | 2006-02-16 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coatings |
US7923114B2 (en) * | 2004-12-03 | 2011-04-12 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films |
US8092660B2 (en) * | 2004-12-03 | 2012-01-10 | Cardinal Cg Company | Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films |
US7820022B2 (en) * | 2005-11-28 | 2010-10-26 | General Electric Company | Photoelectrochemical cell and method of manufacture |
US7989094B2 (en) * | 2006-04-19 | 2011-08-02 | Cardinal Cg Company | Opposed functional coatings having comparable single surface reflectances |
US20080011599A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Brabender Dennis M | Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control |
US7820296B2 (en) | 2007-09-14 | 2010-10-26 | Cardinal Cg Company | Low-maintenance coating technology |
EP3541762B1 (de) | 2016-11-17 | 2022-03-02 | Cardinal CG Company | Statisch-dissipative beschichtungstechnologie |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DD83339A (de) * | ||||
US2631115A (en) * | 1949-08-06 | 1953-03-10 | Manganese Battery Corp | Electrodes for electrochemical cells |
US3855084A (en) * | 1973-07-18 | 1974-12-17 | N Feige | Method of producing a coated anode |
DE2405010C3 (de) * | 1974-02-02 | 1982-08-05 | Sigri Elektrographit Gmbh, 8901 Meitingen | Sinter-Elektrode für elektrochemische Prozesse und Verfahren zum Herstellen der Elektrode |
IT1050048B (it) * | 1975-12-10 | 1981-03-10 | Oronzio De Nora Impianti | Elettrodi rivestiti con biossido di manganese |
-
1977
- 1977-11-26 DE DE2752875A patent/DE2752875C2/de not_active Expired
-
1979
- 1979-04-03 US US06/026,523 patent/US4252629A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2752875A1 (de) | 1979-05-31 |
US4252629A (en) | 1981-02-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2752875C2 (de) | Elektrode für elektrochemische Prozesse und Verfahren zu deren Herstellung | |
EP0169301B1 (de) | Verbundelektrode, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Anwendung | |
DE2403573C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Anoden | |
DE2405010C3 (de) | Sinter-Elektrode für elektrochemische Prozesse und Verfahren zum Herstellen der Elektrode | |
EP0297315B1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Verbundes aus einer Cermet-Schicht und einer porösen Metallschicht auf einer oder beiden Seiten der Cermet-Schicht als Diaphragma mit Elektrode(n) | |
EP0058832A2 (de) | Elektrode | |
DE2630398B2 (de) | Kathode für die Elektrolyse in alkalischem Medium | |
DE1233834B (de) | Elektrode fuer Elektrolyseure und Brennstoff-elemente mit oberflaechlicher Doppelskelett-Katalysator-Struktur | |
DE2113676C2 (de) | Elektrode für elektrochemische Prozesse | |
DE3004080C2 (de) | Verfahren zum Beschichten einer porösen Elektrode | |
DE2723406C2 (de) | Titananode zur elektrolytischen Herstellung von Mangandioxid und Verfahren zu deren Herstellung | |
EP0201759B1 (de) | Anode für elektrochemische Prozesse | |
DE2914094A1 (de) | Poroese nickelelektrode fuer alkalische elektrolysen, verfahren zur herstellung derselben und deren verwendung | |
EP0042984B1 (de) | Edelmetallfreie Elektrode und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE2710802C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Elektroden für Elektrolysezellen | |
EP0245201B1 (de) | Anode für Elektrolysen | |
DE2714605A1 (de) | Elektrode fuer elektrochemische prozesse | |
EP0148439B1 (de) | Aktivierte Metallanoden sowie ein Verfahren zu deren Herstellung | |
DE2844558A1 (de) | Elektrode fuer die verwendung in einem elektrolytischen verfahren | |
DE19523635C2 (de) | Stromkollektor für eine Hochtemperaturbrennstoffzelle mit vermindertem Oberflächenwiderstand, sowie Verfahren zur Herstellung eines solchen und dessen Verwendung | |
DE2623739B2 (de) | Elektrode für die Elektrolyse | |
DE3236988A1 (de) | Bipolare elektrochemische zelle | |
DE2721068A1 (de) | Elektrolytischer kondensator | |
DE1964999A1 (de) | Elektroden mit aufgeschmolzenem glasartigem Material und darin verankerter elektrochemisch aktiver Beschichtung | |
CA1151594A (en) | Sintered titanium oxide electrode with manganese dioxide coating |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: SIGRI GMBH, 8901 MEITINGEN, DE |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |