DE1280418B - Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements - Google Patents
Verfahren zum Herstellen eines HalbleiterbauelementsInfo
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Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. Cl.:
HOIl
Deutsche Kl.: 21g-11/02
Nummer: 1280 418
Aktenzeichen: P 12 80 418.1-33 (J 28816)
Anmeldetag: 19. August 1965
Auslegetag: 17. Oktober 1968
Bei der Verwendung der, beispielsweise aus der deutschen Auslegeschrift 1187 735, bekannten Tunneldioden
mit Mesastruktur, bei denen der Tunnelübergang von einem hochstehenden Teil (Mesa) getragen
wird, bei Mikrowellenfrequenz ist es erforderlieh, daß der Hals der Mesa einen extrem kleinen
Durchmesser, beispielsweise von 0,005 mm hat. Die Folge davon ist nicht nur, daß die bekannten Konstruktionen
sehr zerbrechlich sind, sondern daß auch der schmale freistehende Hals einen sehr flexiblen
Anschluß benötigt, der die unerwünschte Induktivität wesentlich erhöht.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines mechanisch festen Halbleiterbauelements
mit einem pn-übergang sehr kleiner Fläche, welcher durch Legieren mit einer Störstellenmaterial enthaltenden
Kugel erzeugt wird, wie aus den französischen Patentschriften 1 350 402 und 1 320 577 bekannt war.
Das Problem der mechanischen Festigkeit eines Halbleiterbauelements mit einer sehr kleinen pn-Übergangsfläche
wird nach der französischen Patentschrift 1350 402 dadurch gelöst, daß eine Isolierscheibe
an den Flachseiten einerseits mit einer Halbleiterscheibe und andererseits zur verstärkten mechanischen
Halterung der Störstellenmaterial enthaltenden Kugel mit einem weiteren plattenförmigen Körper
verbunden wird. Die Kugel, welche den Rand oder eine Durchbohrung der Isolierscheibe überbrückt,
wird einerseits unter Bildung eines pn-Ubergangs mit der Halbleiterscheibe und andererseits
unter Bildung eines ohmschen Kontaktes mit dem weiteren plattenförmigen Körper verbunden. Diese
Herstellung des Halbleiterbauelements erfordert jedoch das Anbringen der Kontaktelektroden einzeln
bei der Herstellung der Einzelelemente und nicht bereits in der Mehrzahl an der Halbleiterplatte und
kann somit nicht ohne weiteres bei einer Massenanfertigung angewandt werden. Ferner ist eine aufwendige
Herstellung der für die Halterung der Kugel in der Isolierschicht erforderlichen Durchbohrung
oder Ausnehmung erforderlich. Schließlich ist es sehr schwierig, ohne erhebliche Ausfälle durch Bruch bei
der Handhabung und Herstellung der Isolierscheibe, sehr kleinflächige pn-Übergänge mit den dazu erforderlichen
sehr kleinen Kugeln zu legieren, da die Dicke der Isolierscheiben weniger als der Durchmesser der
Kugeln betragen muß.
Diese Probleme bei einem Verfahren zum Herstellen eines mechanisch festen Halbleiterbauelements
mit einem pn-übergang sehr kleiner Fläche, welcher durch Legieren mit einer Störstellenmaterial enthaltenden
Kugel erzeugt wird, werden erfindungsgemäß Verfahren zum Herstellen eines
Halbleiterbauelements
Halbleiterbauelements
Anmelder:
Deutsche ITT Industries Gesellschaft
mit beschränkter Haftung,
7800 Freiburg, Hans-Bunte-Str. 19
Als Erfinder benannt:
John Bernard Setchfield,
New Barnet, Hertfordshire (Großbritannien)
Beanspruchte Priorität:
Großbritannien vom 2. September 1964 (35 926)
dadurch weitgehend gelöst, daß auf einer Oberflächenseite einer Unterlage aus isolierendem oder halbisolierendem
Material nebeneinander und durch einen Zwischenraum voneinander getrennt eine Metallschicht
und epitaktisch eine Halbleiterschicht niedergeschlagen werden, daß in den Zwischenraum im
Kontakt mit den beiden Schichten die Kugel mit Störstellenmaterial vom entgegengesetzten Leitfähigkeitstyp in bezug auf die Halbleiterschicht eingebracht
und durch Erhitzen einerseits unter Bildung eines pn-Übergangs mit der Halbleiterschicht und andererseits
unter Bildung eines ohmschen Kontaktes mit der Metallschicht verbunden wird, und daß an der
Halbleiterschicht mit Ausnahme des pn-Übergangsgebiets eine weitere Metallschicht niedergeschlagen
wird.
Nach der französischen Patentschrift 1320 577, welche der deutschen Patentschrift 1187 735 entspricht,
wird zwar das Problem der mechanischen Festigkeit im wesentlichen bei einem Halbleiterbauelement
mit einem sehr kleinflächigen pn-übergang dadurch gelöst, daß eine begrenzte Fläche des Halbleiterkörpers
mit einer festhaftenden Isolierschicht versehen und dann das Legierungsmaterial so auf die
Isolierschicht und den Halbleiter aufgebracht wird, daß es nur einen kleinen Bruchteil der gesamten
Berührungsfläche bei der nachfolgenden Wärmebehandlung mit dem Halbleiterkörper legiert und die
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Isolierschicht als Träger für die einlegierte Elektrode Die Metallschichten 3 α und 3 b bilden die ohm-
des Halbleiterbauelements dient. Bei einem solchen sehen Kontakte des Halbleiterbauelements, und zwar
Verfahren können sich Benetzungsunterschiede rela- je einen auf jeder Seite des pn-Ubergangs.
tiv stark im Endprodukt als Schwankungen der Le- Die F i g. 6 und 7 zeigen eine nach dem Verfahren
gierungsflächen äußern,, da das geschmolzene Legie- 5 der Erfindung hergestellte Ausbildungsform einer
rungsmaterial bestrebt ist, Kugelform anzunehmen. Halbleiterdiode, die sich zum direkten Anschluß an
Außerdem .hat das;vorliegende. Verfahren den Vor- eine Koaxialleitung eignet. Die Diode ist von runder,
teil, daß ein isolierender Trägerkörper verwendet ebener Form und hergestellt wie oben beschrieben,
werden kann, während das Verfahren nach der ein- Die einzelnen Teile sind mit den gleichen Bezugsgangs genannten französichen Patentschrift .1350402 ίο zeichen versehen. Die im wesentlichen isolierende
ein Halbleiterbauelement liefert, welches nicht gegen Unterlage ist mit 1 bezeichnet, die zentrale p+-Ger-
den Trägerkörper elektrisch isoliert ist. maniumschicht mit 2, die ohmschen Metallschichten
Die Erfindung soll an Hand der Figuren näher be- mit 3 c und 3 b und die einlegierte Kugel mit 7. Die
schrieben werden. ... . _ _. Kugel liegt auf dem Zwischenraum 4. Die Teile 5
F i g. 1 bis 5 stellen aufeinanderfolgende Stufen für 15 und 6 an der Kante der Stufe sind ebenfalls von Me-
die Herstellung einer Tunneldiode gemäß einer Aus- tall freigehalten.
führungsform der Erfindung dar; Wie in F i g. 8 dargestellt, ist der äußere Leiter 9
F i g. 6 und 7 zeigen Grundriß und Seitenansicht der Koaxialleitung direkt an die äußere ringförmige
einer Tunneldiode, die sich zur Montage in einer Metallschicht 3 α angeschlossen und der Ansatz 10
Koaxialleitung eignet; 20 erstreckt sich von der mittleren Metallschicht 3 δ in
Fig. 8 zeigt die Montage einer Tunneldiode von das Innere des Leiters 11.
F i g. 6 und 7 in einer Koaxialleitung; In F i g. 9 ist eine Diode mit rechteckigem Grundriß
F i g. 9 zeigt die Anordnung einer Tunneldiode in' dargestellt, die in einer Streifenleitung angeordnet ist.
einer Streifenleitung; Der Streifenleiter 12 und der Erdungsleiter 13 ragen Fig. 10 bis 13 zeigen aufeinanderfolgende Her- »5 über das Dielektrikum 14 hinaus, und die Diode ist
Stellungsstufen bei der Herstellung einer Tunneldiode zwischen den Leitern 12 und 13 so angeordnet, daß
nach einer anderen Ausführungsform gemäß der Er- der ohmsche Kontakt durch die Metallschicht 3 a mit
findung. der Unterseite des Streifenleiters 12 in Kontakt steht. In F i g. 1 ist eine Unterlage aus gut isolierendem Der ohmsche Kontakt durch die Metallschicht 3 b
Material, beispielsweise mit einem spezifischen Wi- 3o ist über die Oberflächenseite der Diode, welche den
derstand in der Größenordnung von 106 Ohm ■ cm, Tunnelübergang enthält, durch eine Metallisierung
dargestellt, weiche die exakte Struktur für einen epi- über die Seitenfläche zur Unterseite der Diode weitertaktischen
Niederschlag besitzt, beispielsweise halb- geführt und steht in Kontakt mit dem unteren Leiter
isolierendes Galliumarsenid, bei dem eine Schicht 2 13 auf der Unterseite der Diode,
aus p+-leitendem Germanium epitaktisch auf einer 35 Bei der Ausführungsform von F i g. 10 ist wieder
Stirnseite niedergeschlagen ist. eine Unterlage 15 aus im wesentlichen isolierendem
Ein bestimmter Teil der Schicht 2 wird durch Mas- Material vorhanden, beispielsweise mit einem spezikierung
und selektive Ätzung, beispielsweise elektro- fischen Widerstand in der Größenordnung von
lytische Ätzung, entfernt (Fig. 2). 106 Ohm · cm, mit der exakten Struktur für einen
Anschließend werden die Metallschichten 3 α und 40 epitaktischen Niederschlag, beispielsweise aus halb-
3b (Fig. 3), die beispielsweise aus Gold bestehen, isolierendem Galliumarsenid, das eine Schicht 16 aus
durch Aufdampfen auf die abgestufte Oberflächen- p+-Germanium trägt, die epitaktisch auf einer Oberseite
mit Ausnahme der Fläche 4, 5 und 6 aufge- flächenseite niedergeschlagen wurde. Teile der Schicht
bracht. 16(Fi g. 11) werden durch Maskierung und selektive Die unbedeckte Stirnfläche 5 und der unbedeckte 45 Ätzung, z. B. elektrolytische Ätzung, entfernt, so daß
Zwischenraum 6 auf der Unterlage werden erhalten, die Halbleiterschicht 17 in Form eines Querstreifens
indem die Verdampfungsquelle bei dem Aufdampf- aus Germanium erhalten wird,
verfahren in geeigneter Weise angeordnet wird, so Wie in Fig. 12 dargestellt, werden anschließend
daß sich diese Teile im Schatten des Dampfstrahles die Metallschichten 18 α und 18 b, beispielsweise aus
befinden. Die Zone 4 wird durch geeignete Maskie- 50 Gold, auf die abgestufte Oberflächenseite mit Ausrung
freigehalten. nähme der Flächen 19, 20 und 21 aufgebracht. Die
Die Metallschichten 3 α und 3 b werden nun ein- Flächen 20 und 21 anschließend an die Stufenkante
legiert und durch Elektroplattierung verstärkt. bleiben metallfrei, indem die Verdampfungsquelle so
Anschließend wird eine kleine Kugel 7 aus Arsen angeordnet wird, daß diese Teile im Schatten des
und Zinn so angeordnet, wie dies in F i g. 4 darge- 55 Dampfstrahles liegen. Die Fläche 19 wird durch eine
stellt ist, daß sie an der Stirnfläche der Stufe an der geeignete Maskierung abgedeckt.
Halbleiterschicht 2 und an der Metallschicht 3 an- Die Metallschichten 18 α und 18 & werden nun einliegt
und in der metallfreien Zone 4 liegt. Anschlie- legiert und durch Elektroplattierung verstärkt,
ßend wird ein üblicher Legierungsprozeß in nicht Eine Kugel 22 aus Zinn und Arsen wird dann so
oxydierender Atmosphäre durchgeführt. 60 angeordnet (Fig. 12), daß sie die Fläche 20 der HaIb-Dabei
bildet sich ein Tunnelübergang. Schließlich· leiterschicht 17 und die Metallschicht 18c berührt
wird die Stufe durch elektrolytisches Ätzen in die und in dem metallfreien Zwischenraum 21 liegt und
Halbleiterschicht 2 hinein zurückversetzt, so daß ein wird durch einen Legierungsprozeß in nicht oxydieschmaler
Hals 8 (Fig. 5) entsteht, der dem nach render Atmosphäre einlegiert,
oben stehenden Teil bei der bekannten Ausführungs- 65 Auf diese Weise entsteht der Tunnelübergang 23
form entspricht. Bei der Ausführungsform nach der (Fig. 13). Durch elektrolytisches Ätzen wird die
Erfindung werden der Hals und der Teil des pn- Breite der streifenförmigen Halbleiterschicht 17 ver-Ubergangs
von der Unterlage 1 vollkommen getragen. mindert und der schmale Hals 24 gebildet, der dem
nach oben steheuden Hals bei der bekannten Ausführungsform
entspricht. Sowohl der Hals 24 als auch der pn-übergang 23 werden vollkommen von der
Unterlage 15 getragen.
Die Metallschichten 18 a und 186 bilden auf jeder
Seite einen ohmschen Kontakt für das Halbleiterbauelement.
Schließlich kann durch einen letzten Verfahrensschritt die Länge der streifenförmigen Halbleiterschicht
17 vermindert werden, indem das Halbleitermaterial an jeder Seite der pn-Ubergangszone mit
einem Teil der Metallschicht 186, die damit in Kontakt
steht, auf der Seite des Streifens, die vom pnübergang abgewendet ist, entfernt wird.
Wenn eine der Metallschichten 18 bis auf die Unterseite der Unterlage 15 der Vorrichtung ausgedehnt
wird, eignet sich die Vorrichtung zur Montage auf einem Streifenleiter in gleicher Weise, wie dies an
Hand von F i g. 9 beschrieben wurde.
Die beschriebenen Vorrichtungen haben einen ao kompakten einstückigen Aufbau ohne bewegliche
Kontakte und ermöglichen Anordnungen mit sehr geringer Induktivität und Kapazität sowie einem geringen
Reihenwiderstand im Vergleich zu dem bekannten Halbleiterbauelement nach der genannten
französischen Patentschrift 1 320 577.
Die Germaniumschicht kann durch eine Schicht aus irgendeinem anderen geeigneten Halbleitermaterial,
z. B. einer halbleitenden Verbindung wie GaI-liumantimonid, ersetzt werden. Die halbisolierende
Unterlage aus Galliumarsenid kann durch einen geeigneten Isolator ersetzt werden, z. B. durch einen
Saphireinkristall oder einen anderen Isolator, auf dem eine Halbleiterschicht epitaktisch niedergeschlagen
werden kann. Eine geeignete Formgebung der ohmschen Kontakte kann vorteilhaft sein.
Claims (10)
1. Verfahren zum Herstellen eines mechanisch festen Halbleiterbauelements mit einem pn-übergang
sehr kleiner Fläche, welcher durch Legieren mit einer Störstellenmaterial enthaltenden Kugel
erzeugt wird, dadurch gekennzeichnet, daß auf einer Oberflächenseite einer Unterlage
auf isolierendem oder halbisolierendem Material nebeneinander und durch einen Zwischenraum
voneinander getrennt eine Metallschicht und epitaktisch eine Halbleiterschicht niedergeschlagen
werden, daß in den Zwischenraum im Kontakt mit beiden Schichten die Kugel mit Störstellenmaterial
vom entgegengesetzten Leitfähigkeitstyp in bezug auf die Halbleiterschicht eingebracht
und durch Erhitzen einerseits unter Bildung eines pn-Übergangs mit der Halbleiterschicht und andererseits
unter Bildung eines ohmschen Kontaktes mit der Metallschicht verbunden wird, und
daß an der Halbleiterschicht mit Ausnahme des pn-Ubergangsgebiets eine weitere Metallschicht
niedergeschlagen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die pn-Übergangsfläche nach
ihrer Bildung durch Ätzen des Halbleitermaterials vermindert wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine elektrolytische Ätzung
vorgenommen wird.
4. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß zunächst auf der
einen gesamten Oberflächenseite der Unterlage Halbleitermaterial epitaktisch niedergeschlagen
und ein Teil dieser Oberflächenseite der Unterlage wieder freigelegt wird.
5. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Metallschichten
aufgedampft, einlegiert und durch Elektroplattierung verstärkt werden.
6. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Metallschichten
koaxial zueinander angeordnet werden.
7. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das epitaktisch abgeschiedene
Halbleitermaterial als auch die Rekurstallisationsschicht bis zur Entartungskonzentration
dotiert werden.
8. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß als Unterlage Saphir
verwendet wird.
9. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß als Unterlage halbisolierendes
Galliumarsenid verwendet wird.
10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß als Material für die
Halbleiterschicht Germanium verwendet wird.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Auslegeschrift Nr. 1187 735;
französische Patentschriften Nr. 1 320 577,
1350402;
»Solid State Technology«, 10,1967, S. 3 bis 39.
Deutsche Auslegeschrift Nr. 1187 735;
französische Patentschriften Nr. 1 320 577,
1350402;
»Solid State Technology«, 10,1967, S. 3 bis 39.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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GB3592664A GB1046187A (en) | 1964-09-02 | 1964-09-02 | Improvements in or relating to semiconductor devices |
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Publication Number | Publication Date |
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DE1280418C2 DE1280418C2 (de) | 1973-04-26 |
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ID=10383078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE1965J0028816 Expired DE1280418C2 (de) | 1964-09-02 | 1965-08-19 | Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements |
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CH (1) | CH463629A (de) |
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GB (1) | GB1046187A (de) |
NL (1) | NL6511387A (de) |
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FR1350402A (fr) * | 1962-03-16 | 1964-01-24 | Gen Electric | Dispositifs à semiconducteurs et méthodes de fabrication |
DE1187735B (de) * | 1961-04-28 | 1965-02-25 | Ibm | Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelementes |
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1964
- 1964-09-02 GB GB3592664A patent/GB1046187A/en not_active Expired
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1965
- 1965-08-19 DE DE1965J0028816 patent/DE1280418C2/de not_active Expired
- 1965-08-30 CH CH1213865A patent/CH463629A/de unknown
- 1965-08-31 NL NL6511387A patent/NL6511387A/xx unknown
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- 1965-09-02 SE SE1143865A patent/SE301678B/xx unknown
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Publication number | Publication date |
---|---|
DE1280418C2 (de) | 1973-04-26 |
BE669078A (de) | 1966-03-02 |
NL6511387A (de) | 1966-03-03 |
GB1046187A (en) | 1966-10-19 |
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SE301678B (de) | 1968-06-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C2 | Grant after previous publication (2nd publication) |