DE1134967B - Verfahren zum Ziehen eines stabfoermigen kristallinen Halbleiterkoerpers - Google Patents
Verfahren zum Ziehen eines stabfoermigen kristallinen HalbleiterkoerpersInfo
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Description
Für elektrotechnische Zwecke werden Halbleiter-Einkristalle mit einer Folge von Zonen mit verschiedenem
Leitungscharakter benötigt, z. B. p-n-p- oder n-p-n-Kristalle, die für Transistoren verwendet werden
können. Derartige Kristalle bestehen bekanntlich aus einem einheitlichen Grundstoff, wie Germanium,
Silizium oder einer halbleitenden Verbindung von Elementen der III. und V. bzw. der II. und VL Gruppe
des Periodischen Systems, Der verschiedene Leitungscharakter der einzelnen Teile eines Kristalls beruht
auf dem Verhältnis ihres Gehalts an verschiedenartigen Zusatzstoffen, Donatoren und Akzeptoren, welche
n- bzw. p-Leitfähigkeit verursachen, je nachdem, welche der beiden Zusatzstoff arten in größerer Menge
im Grundstoff enthalten ist.
Zum Ziehen eines p-n-p-Einkristalls aus der
Schmelze z. B. eines p-leitenden Germaniums muß diese während des Ziehvorganges zweimal umdotiert
werden. Zu diesem Zwecke kann bekanntlich nach Herstellung einer p-Zone dem flüssigen, p-leitenden
Germanium Donatorstoff, z. B. Antimon, in einem solchen Mengenverhältnis hinzugefügt werden, daß
ihr Anteil im festen Stoff denjenigen der Akzeptoren überwiegt, und nachdem damit eine η-Zone gezogen
ist, kann Akzeptorstoff, z. B. Gallium, in einem entsprechend höheren Verhältnis zugesetzt werden, so
daß beim weiteren Ziehen wieder eine p-Zone entsteht. Der Zusatzstoffgehalt der Schmelze und damit
ihre Leitfähigkeit nehmen durch die wiederholten Umdotierungen progressiv zu. Somit ist die Anzahl
der möglichen Umdotierungen begrenzt. Demgegenüber beruht die Erfindung auf dem Gedanken, nach
Fertigstellung einer Zone eine Zunahme der Leitfähigkeit der nächsten Zone dadurch zu vermeiden,
daß die flüssige Schmelze bezüglich ihres Gehalts an Zusatzstoffen wieder verdünnt wird.
Die Erfindung betrifft also ein Verfahren zum Ziehen eines stabförmigen kristallinen Halbleiterkörpers
mit einer Folge von Zonen voneinander verschiedener Leitfähigkeit aus einem Schmelztiegel, der nach
einem früheren, nicht vorveröffentlichten Vorschlag wesentlich weniger Schmelze enthält, als dem fertigen
Schmelzformling entspricht. Erfindungsgemäß wird im Anschluß an die Herstellung einer durch Dotierung
mit Störstellen durchsetzten Zone des Schmelzlings aus der im Tiegel verbliebenen Schmelze ein weiterer
Stab (Hilfsschmelzling) gezogen und dann der Tiegel mit frischem, gegebenenfalls anders dotiertem Material
gefüllt.
Die Erfindung ermöglicht das Ziehen eines Halbleiterkristalls
mit einer Folge von Zonen verschiedenen Leitungscharakters, deren Leitfähigkeit nicht
Verfahren zum Ziehen eines Stabförmigen
kristallinen Halbleiterkörpers
kristallinen Halbleiterkörpers
Anmelder:
Siemens-Schuckertwerke Aktiengesellschaft,
Siemens-Schuckertwerke Aktiengesellschaft,
Berlin und Erlangen,
Erlangen, Werner-von-Siemens-Str. 50
Erlangen, Werner-von-Siemens-Str. 50
Dr. Hans Schweickert, Pretzfeld,
ist als Erfinder genannt worden
ist als Erfinder genannt worden
monoton zunimmt, sondern beliebig abgestuft werden kann.
Da dieser Hilfsschmelzling nicht einkristallin zu wachsen braucht, kann seine Ziehgeschwindigkeit so
groß gemacht werden, wie es die Oberflächenspannung der Schmelze zuläßt. Dadurch kann — zumal
bei Vermeidung der sonst üblichen Drehbewegung des Schmelzlings — ein verhältnismäßig hoher Verteilungskoeffizient
erzielt und damit die überwiegende Menge des Zusatzstoffes aus der Schmelze herausgezogen
werden. Der verbleibende Resttropfen an flüssigem Material wird durch Nachschub von neuem
geeignetem Vorratsmaterial bezüglich seines Gehalts an Zusatzstoffen verdünnt, und damit wird das Ziehen
einer neuen Zone des einkristaUinen Nutzschmelzlings
von unter Umständen sogar geringerer Leitfähigkeit als die vorangegangene möglich gemacht.
Auf diese Weise kann also auch eine Umdotierung mit verhältnismäßig geringem Aufwand vorgenommen
und beliebig oft wiederholt werden, so daß also auch die Herstellung eines Halbleiters mit einer unbegrenzten
Folge von Zonen verschiedenen Leitungscharakters ermöglicht wird. Für die verschiedenen
Zusatzstoffe können mehrere Hilfsschmelzlinge vorgesehen sein, die abwechselnd zur Entleerung des
Schmelztiegels verwendet werden in der Weise, daß jeder nur eine Art Zusatzstoff aufnimmt.
Das Verfahren kann mit besonderem Vorteil so durchgeführt werden, daß der Nutzschmelzling nach
unten abgezogen und das neue Material von oben zugeführt wird. Das letztere kann beispielsweise in körniger,
insbesondere feinkörniger Form oder in Gestalt eines gesinterten oder geschmolzenen Stabes zuge-
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führt werden. Es können auch mehrere Vorratsstäbe, die von vornherein verschieden dotiert sind, abwechselnd
zur Herstellung einer Zone des Nutzschmelzlings verwendet werden.
In der Zeichnung ist eine Vorrichtung zur Ausübung des Verfahrens nach der Erfindung dargestellt.
Am Boden eines Tiegels 11, der eine geringe Menge des zu verarbeitenden Materials in flüssigem Zustande
enthält, befindet sich eine Austrittsöffnung, aus der das flüssige Material nach unten austritt. Unterhalb
der Öffnung ist ein fertiger Teil 12 des Nutzschmelzlings
dargestellt, der an seinem unteren Ende in einer Halterung 13 befestigt ist. Die Halterung 13 ist in
Achsrichtung des Schmelzlings beweglich, so daß mit ihrer Hufe der Schmelzung allmählich nach unten abgezogen
werden kann. Das hat zur Folge, daß der zwischen dem oberen Ende des Teils 12 und dem
Tiegelll befindliche Tropfen 10 der Schmelze allmählich von unten nach oben fortschreitend erkaltet
und erstarrt, so daß der Schmelzung 12 (nach oben) wächst. Zur Ausführung der Ziehbewegung dient ein
Getriebe 44, welches von zwei Antriebsmotoren 46, von denen in der Zeichnung nur einer zu sehen ist,
auf die Welle 43 eine Bewegung in Achsrichtung und unabhängig davon eine Umlaufbewegung übertragen
kann, die unter anderem zum Umrühren der Schmelze dient. Das Getriebe 44 ist an einer stählernen Grundplatte
30 befestigt, durch welche die Welle 43 vakuumdicht hindurchgefühlt ist. Auf der Grundplatte
30 ist ein Gestell 18 angebracht, an welchem eine Halterung 20 für den Tiegel 11 befestigt ist. Eine
ringförmige Heizeinrichtung 17 umgibt den Tiegel 11 an seinem unteren Ende. Die Heizeinrichtung 17 ist
ebenfalls an dem Gestell 18 befestigt. Von ihr führen
Stromzüleitungen36 über Durchführungsisolatoren37,
die vakuumdicht in die Grundplatte 30 eingelassen sind, zu einem regelbaren Heiztransformator, der in
der Zeichnung nicht dargestellt ist.
Die ganze Vorrichtung ist von einer Stahlhaube 33 einer durch die Stimwandung der Haube 33 vakuumdicht
hindurchgeführten Stange 49 befestigt ist. Mit ihr können die darin vorher untergebrachten, zur Dotierung bestimmten Zusatzstoffe jeweils in vorbestimmter
Menge, z. B. in Form eines oder mehrerer Körner, nach einem gewünschten Dotierungsprogramm
in den Tiegel 11 befördert werden. Die dazu erforderliche Drehung um jeweils einen kleinen Winkel kann
mittels der Stange 53 in den durch das Dotierungsprogramm festgelegten Zeitabständen von Hand erfolgen
oder selbsttätig mittels eines geeigneten Kupplungsgetriebes oder selbsttätig geregelten elektrischen
Antriebes in Abhängigkeit vom Ziehvorgang herbeigeführt werden.
Mit der beschriebenen Vorrichtung wird wie folgt verfahren: Sobald beispielsweise eine p-Zone am
oberen Ende des Nutzschmelzlings: 12 hergestellt ist,
wird der Vorratsstab 14 aus dem Tiegel herausgezogen und statt dessen der Hilfsschmelzling 64 hineingesenkt,
bis seine untere Kuppe mit der Schmelzflüssigkeit in Berührung kommt. Dann wird er verhältnismäßig
schnell nach oben wieder herausgezogen und nimmt dabei die im Schmelztiegel 11 enthaltene
Schmelze, die an ihm haftenbleibt, mit sich nach oben, wo sie erstarrt. Es bleibt im wesentlichen nur
der Tropfen 10 von der Schmelzflüssigkeit zurück. Wird nun der Vorratsstab 14, der keinerlei störstellenbildende
Zusatzstoffe enthalten möge, wieder in den Tiegel 11 eingeführt und von ihm etwa die
9fache Menge des Tropfens 10 abgeschmolzen, so tritt dadurch eine Verdünnung ein, indem der Gehalt
an Zusatzstoffen der gesamten nunmehr vorhandenen Schmelze auf V10 abgesenkt wird. Dementsprechend
hat die Schmelze auch eine verminderte Leitfähigkeit. Sie kann nun mit Donatorstoff aus der Dotierungseinrichtung versetzt werden, beispielsweise in solchem
Maße, daß eine η-Zone gezogen werden kann, deren Leitfähigkeit nicht höher ist als die Leitfähigkeit der
vorher gezogenen p-Zone. Im Anschluß hieran kann
45 gezogen und eine Umdotierung in entgegengesetztem
Sinne vorgenommen werden. Die abwechselnde Umdotierung kann beliebig oft wiederholt werden. Es
können auch mehrere Zonen gleichen Leitungscharakters, aber von verschieden hoher Leitfähigkeit
unmittelbar nacheinander gezogen werden. Ferner können zwischen Zonen gleichen oder verschiedenen
Leitungscharakters, bei denen also entweder die
umschlossen, die auf die Grundplatte 30 vakuumdicht 40 die dotierte Schmelze wieder mittels des Hilf sschmelzaufgesetzt
und mit einem Beobachtungsfenster 35 ver- lings, wie schon beschrieben, aus dem Tiegel heraussehen
ist. Die Grundplatte 30 hat einen Stutzen 34 zum Anschluß einer Vakuumpumpe oder eines Vorratsbehälters
mit Schutzgas. An der Grundplatte 30 befindet sich ferner eine Stellbuchse 40, mit der die
ganze Vorrichtung an einer Stativsäule 41 verschiebbar befestigt ist. Das untere Ende der Säule 41 ist in
ein Fußgestell 42 eingelassen. Die Antriebsmotoren 46 können mittels Stellbuchsen 47 an der Stativsäule
41 befestigt sein. 50 Donatoren oder die Akzeptoren überwiegen, solche
Dem Tiegel 11 wird von oben her Vorratsmaterial Zonen, in denen sich beide Arten von Zusatzstoffen
in Form eines Stabes 14 zugeführt, der in einer Halte- etwa die Waage halten, hergestellt werden. Eine gerung
15 hängt. Ferner ist ein Hilfsschmelzling 64, in wünschte Folge von Zonen kann durch entsprechende
einer Halterung 65 hängend, über dem Tiegel 11 an- programmäßige Beschickung der Dotierungseinrichgebracht.
Die Halterungen 15 und 65 sind an einer 55 rung 50 festgelegt werden. Drehscheibe 22 angebracht, deren Welle 45 durch die
Haube 33 vakuumdicht hindurchgeführt ist und durch ein Getriebe 44 sowohl mittels eines entsprechenden,
in der Zeichnung weggelassenen Hilfsmotors in Achsrichtung bewegt als auch unabhängig davon so gedreht
werden kann, daß nach Bedarf der Hilfsschmelzling 64 oder der Vorratsstab 14 in seine Gebrauchslage
genau senkrecht über dem Tiegel 11 ge-
Claims (3)
1. Verfahren zum Ziehen eines stabförmigen
kristallinen Halbleiterkörpers mit einer Folge von Zonen voneinander verschiedener Leitfähigkeit
aus einem Schmelztiegel, der wesentlich weniger Schmelze enthält, als dem fertigen Schmelzformling
entspricht, dadurch gekennzeichnet, daß im Anschluß an die Herstellung einer durch Dotierung
mit Störstellen durchsetzten Zone des Schmelzlings (12) aus der im Tiegel verbliebenen
Schmelze ein weiterer Stab (64) gezogen und dann der Tiegel mit frischem, gegebenenfalls anders
dotiertem Material gefüllt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Nutzschmelzling (12) nach
unten und der Hilfsschmelzling (64) nach oben abgezogen und frisches Material (14) von oben
zugeführt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Hilfsschmelzling mit höherer
Geschwindigkeit gezogen wird als der Nutzschmelzling.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
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