DE1128048B - Verfahren zur p- bzw. n-Dotierung von Silizium fuer Halbleiteranordnungen - Google Patents

Verfahren zur p- bzw. n-Dotierung von Silizium fuer Halbleiteranordnungen

Info

Publication number
DE1128048B
DE1128048B DES58617A DES0058617A DE1128048B DE 1128048 B DE1128048 B DE 1128048B DE S58617 A DES58617 A DE S58617A DE S0058617 A DES0058617 A DE S0058617A DE 1128048 B DE1128048 B DE 1128048B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
glass
silicon rod
doping
silicon
rod
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DES58617A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Dr Rer Nat Wolfgang Keller
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to NL240106D priority Critical patent/NL240106A/xx
Priority to NL113666D priority patent/NL113666C/xx
Priority to NL261580D priority patent/NL261580A/xx
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DES58617A priority patent/DE1128048B/de
Priority to FR796624A priority patent/FR1226342A/fr
Priority to CH7412659A priority patent/CH371520A/de
Priority to GB19902/59A priority patent/GB892445A/en
Priority to BE579666A priority patent/BE579666A/fr
Priority to DES67834A priority patent/DE1132663B/de
Priority to CH105861A priority patent/CH391107A/de
Priority to FR856654A priority patent/FR79757E/fr
Priority to GB11198/61A priority patent/GB963136A/en
Publication of DE1128048B publication Critical patent/DE1128048B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B13/00Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
    • C30B13/08Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the molten zone
    • C30B13/10Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the molten zone with addition of doping materials
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
DES58617A 1958-06-14 1958-06-14 Verfahren zur p- bzw. n-Dotierung von Silizium fuer Halbleiteranordnungen Pending DE1128048B (de)

Priority Applications (12)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL240106D NL240106A (zh) 1958-06-14
NL113666D NL113666C (zh) 1958-06-14
NL261580D NL261580A (zh) 1958-06-14
DES58617A DE1128048B (de) 1958-06-14 1958-06-14 Verfahren zur p- bzw. n-Dotierung von Silizium fuer Halbleiteranordnungen
FR796624A FR1226342A (fr) 1958-06-14 1959-06-04 Procédé pour la dotation de matière semi-conductrice
CH7412659A CH371520A (de) 1958-06-14 1959-06-08 Verfahren zur Dotierung von Silizium für Halbleiteranordnungen
GB19902/59A GB892445A (en) 1958-06-14 1959-06-10 Improvements in or relating to the doping of silicon
BE579666A BE579666A (fr) 1958-06-14 1959-06-13 Procédé pour la dotation de matière semi-conductrice.
DES67834A DE1132663B (de) 1958-06-14 1960-03-31 Verfahren zur p- bzw. n-Dotierung von Silizium fuer Halbleiteranordnungen
CH105861A CH391107A (de) 1958-06-14 1961-01-30 Verfahren zur Dotierung von Halbleitermaterial
FR856654A FR79757E (fr) 1958-06-14 1961-03-23 Procédé pour la dotation de matière semi-conductrice
GB11198/61A GB963136A (en) 1958-06-14 1961-03-27 Process for doping semi-conductor material

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DES58617A DE1128048B (de) 1958-06-14 1958-06-14 Verfahren zur p- bzw. n-Dotierung von Silizium fuer Halbleiteranordnungen
DES67834A DE1132663B (de) 1958-06-14 1960-03-31 Verfahren zur p- bzw. n-Dotierung von Silizium fuer Halbleiteranordnungen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1128048B true DE1128048B (de) 1962-04-19

Family

ID=25995536

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DES58617A Pending DE1128048B (de) 1958-06-14 1958-06-14 Verfahren zur p- bzw. n-Dotierung von Silizium fuer Halbleiteranordnungen
DES67834A Pending DE1132663B (de) 1958-06-14 1960-03-31 Verfahren zur p- bzw. n-Dotierung von Silizium fuer Halbleiteranordnungen

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DES67834A Pending DE1132663B (de) 1958-06-14 1960-03-31 Verfahren zur p- bzw. n-Dotierung von Silizium fuer Halbleiteranordnungen

Country Status (5)

Country Link
CH (2) CH371520A (zh)
DE (2) DE1128048B (zh)
FR (2) FR1226342A (zh)
GB (2) GB892445A (zh)
NL (3) NL261580A (zh)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR1154322A (fr) * 1955-06-28 1958-04-04 Western Electric Co Dispositif semi-conducteur
DE1029939B (de) * 1955-06-27 1958-05-14 Licentia Gmbh Verfahren zur Herstellung von elektrisch unsymmetrisch leitenden Halbleitersystemen

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1029939B (de) * 1955-06-27 1958-05-14 Licentia Gmbh Verfahren zur Herstellung von elektrisch unsymmetrisch leitenden Halbleitersystemen
FR1154322A (fr) * 1955-06-28 1958-04-04 Western Electric Co Dispositif semi-conducteur

Also Published As

Publication number Publication date
FR1226342A (fr) 1960-07-11
FR79757E (fr) 1963-01-25
CH391107A (de) 1965-04-30
NL261580A (zh) 1900-01-01
NL240106A (zh) 1900-01-01
GB963136A (en) 1964-07-08
DE1132663B (de) 1962-07-05
NL113666C (zh) 1900-01-01
GB892445A (en) 1962-03-28
CH371520A (de) 1963-08-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1446161B2 (de) Supraleitendes Bauelement und Verfahren zu seiner Herstellung
DE1148024B (de) Diffusionsverfahren zum Dotieren eines Silizium-Halbleiterkoerpers fuer Halbleiterbauelemente
DE1123019B (de) Halbleiteranordnung und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE69230962T2 (de) Kristallzüchtungsverfahren zur Herstellung von grossflächigen GaAs und damit hergestellte Infrarot-Fenster/Kuppel
DE4438398A1 (de) Wärmebehandlungsverfahren für Verbindungshalbleiter
DE2334258A1 (de) Verfahren zum dotieren von halbleitermaterialien
DE2122192B2 (de) Verfahren zur Vorbehandlung von beim Züchten von halbleitenden Kristallen als Einschließungsmittel verwendetem Boroxid
DE1544245B2 (de) Verfahren zum Dotieren von Halbleiter korpern
DE2857639C2 (de) Planare P↓2↓O↓5↓- und Al↓2↓O↓3↓-haltige Dotierstoffquelle
DE2720639C2 (de) Glas, verwendbar zur Passivierung von Halbleitervorrichtungen und Verfahren zu seiner Herstellung
DE1930423C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelementes
DE1519837B2 (de) Verfahren zum zonenschmelzen oder kristallziehen
DE1913565C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines Kristalls einer halbleitenden Am Bv -Verbindung
DE1128048B (de) Verfahren zur p- bzw. n-Dotierung von Silizium fuer Halbleiteranordnungen
DE3111657A1 (de) Verfahren zur herstellung von magnetfilmsubstrat-zusammensetzungen
DE1769452A1 (de) Verfahren zum Eindiffundieren von Zink in Galliumarsenid
DE1619977B2 (de) Zweifach dotiertes galliumarsenid
DE2152801A1 (de) Verfahren und Ofen zum Ziehen von Kristallen gleichförmiger Zusammensetzung nach dem Czochralski-Verfahren
AT209955B (de) Verfahren zur Dotierung von Silizium für Halbleiteranordnungen
DE1250006B (zh)
AT321997B (de) Verfahren zur thermischen ausbildung von maskierenden und passivierenden s102-schichten mit der schichtfolge siliziumoxyd-siliziumoxyd mit eingelagerten phosphorionen-siliziumoxyd
DE1138514B (de) Tiegel zum Schmelzen hochreiner Halbleiterstoffe
DE1301799B (de) Verfahren zur Herstellung von hochreinen, halbleitenden A B-Verbindungen, insbesondere von Galliumarsenid
AT242197B (de) Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung
DE1444536C3 (de) Verfahren zum Diffusionsdotieren eines Silicium-Halbleiterkristalls