DE112011104636T5 - Licht abstrahlende Baugruppe, Licht abstrahlende Vorrichtung, Beleuchtungsvorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Licht abstrahlenden Baugruppe - Google Patents

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Abstract

Eine Licht abstrahlende Vorrichtung mit geringem Energieverlust ist geschaffen. Weiter ist eine Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen. Eine Licht abstrahlende Vorrichtung ist auf folgende Weise geschaffen: Eine Trennschicht, die einen Beinbereich und einen Plattformbereich enthält, der über eine Elektrode ragt, ist so ausgebildet, dass eine projizierte Fläche des Plattformbereichs größer ist als diejenige des Beinbereichs; eine Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, eine obere Elektrode des ersten Licht abstrahlenden Elements und eine obere Elektrode des zweiten Licht abstrahlenden Elements sind ausgebildet; und die obere Elektrode des ersten Licht abstrahlenden Elements ist elektrisch mit einer unteren Elektrode des zweiten Licht abstrahlenden Elements in einer Zone verbunden, die sich mit dem Plattformbereich der Trennschicht überlappt.

Description

  • Technisches Gebiet
  • Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bezieht sich auf eine Licht abstrahlende Baugruppe, die eine Vielzahl Licht abstrahlender Elemente enthält, die organische Elektrolumineszenz (EL) nutzen. (Ein solches Licht abstrahlendes Element wird auch als organisches EL-Element bezeichnet.) Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung bezieht sich auf eine Licht abstrahlende Vorrichtung und eine Beleuchtungsvorrichtung, die jeweils die Licht abstrahlende Baugruppe enthalten.
  • Technischer Hintergrund
  • Ein organisches EL-Element wurde aktiv erforscht und entwickelt. Im Grundaufbau des organischen EL-Elements ist eine Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, zwischen ein Elektrodenpaar eingefügt. Durch Anlegen von Spannung an dieses Element kann Licht aus der Licht abstrahlenden organischen Verbindung abgestrahlt werden.
  • Das organische EL-Element kann zu einer Schicht ausgebildet sein; somit kann leicht ein großflächiges Element ausgebildet sein. Daher weist das organische EL-Element einen hohen Nutzwert als flächige Lichtquelle auf, die zur Beleuchtung oder dergleichen angewendet werden kann.
  • Zum Beispiel ist eine Beleuchtungsvorrichtung, die ein organisches EL-Element enthält, in der Patentschrift 1 offenbart.
  • [Bezugsdokument]
    • [Patentschrift 1] Japanische Patentanmeldungsveröffentlichung Nr. 2009-130132
  • Offenbarung der Erfindung
  • Ein organisches EL-Element kann bei relativ niedriger Spannung betrieben werden, genauer ungefähr 3 V bis zu mehreren Dutzend Volt. Daher ist das organische EL-Element als ein Licht abstrahlendes Element für eine Verwendung geeignet, bei der eine Stromquelle mit niedriger Ausgangsspannung (z. B. eine Batterie) als Stromquelle benutzt ist, speziell ein Licht abstrahlendes Element für tragbaren Gebrauch.
  • Jedoch beträgt die von einer Haushaltsnetzleitung oder dergleichen gelieferte Spannung ungefähr 100 V bis 240 V. Somit ist die Differenz zwischen der Spannung und der Betriebsspannung des organischen EL-Elements zu groß. Angesichts des Obigen wird ein Wandler oder dergleichen benötigt, der Stromversorgungsspannung umwandelt, wenn eine solche Stromquelle mit hoher Spannung verwendet wird. In diesem Fall ergibt sich ein Problem des Energieverlusts durch den Wandler. Zum Beispiel neigt der Umwandlungswirkungsgrad eines Wandlers, der Spannung umwandelt, dazu, sich mit steigender Differenz zwischen Eingangsspannung und Ausgangsspannung zu verringern. Genauer ergibt sich, wenn eine Stromversorgungspannung aus einer Netzleitung, die ungefähr 100 V bis 240 V beträgt, auf die Betriebsspannung des organischen EL-Elements verringert wird, die ungefähr 3 V bis mehrere Dutzend Volt beträgt, ein Problem, dass ein großer Betrag an Energie durch den Wandler verloren geht.
  • Weiter enthält ein organisches EL-Element eine Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung zwischen einer unteren Elektrode und einer oberen Elektrode enthält. Als ein Verfahren zum Schichten der eine organische Verbindung enthaltenden Schicht und der oberen Elektrode in dieser Reihenfolge über der über einem isolierenden Substrat ausgebildeten unteren Elektrode bietet sich zum Beispiel ein Vakuumaufdampfverfahren an. Als ein Verfahren zum Ausbilden einer inselförmigen Schicht unter Verwendung eines Vakuumaufdampfverfahrens ist ein Verfahren unter Verwendung einer Metallmaske (auch als Schattenmaske bezeichnet) bekannt, die eine Metallplatte ist, in der eine Öffnung vorgesehen ist. Die Metallmaske ist zwischen einem Substrat und einer Verdampfungsquelle so vorgesehen, dass sie in Kontakt mit dem Substrat steht, und Aufdampfen auf das Substrat erfolgt durch die Öffnung in der Metallmaske, wodurch Aufdampfen mit einer Form erfolgen kann, die von der Form der Öffnung abhängt. Zu bemerken ist, dass, wenn der Abstand zwischen einer Metallmaske und einem Substrat kurz ist, eine inselförmige Schicht mit klarer Form abhängig von der Öffnung ausgebildet werden kann, mit anderen Worten, einer Form, deren Umriss weniger unscharf ist.
  • Jedoch wird die Wahrscheinlichkeit des Auftretens von Problemen hoch, wenn eine Metallmaske in Kontakt mit dem Substrat verwendet wird. Zum Beispiel wird in einigen Fällen eine Oberfläche des Substrats durch eine Kante einer Öffnung in der Metallmaske beschädigt. Insbesondere reibt beim Herstellen des Kontakts der Metallmaske mit dem Substrat die Metallmaske auf der Oberfläche des Substrats, sodass in einigen Fällen eine weitere Schicht, die bereits auf dem Substrat ausgebildet ist, unterbrochen wird. Weiter wird in einigen Fällen an der Metallmaske haftender Staub (einschließlich kleiner Fremdstoffe, als Teilchen bezeichnet) von der Metallmaske auf das Substrat übertragen.
  • Die vorliegende Erfindung entstand angesichts des vorstehenden technischen Hintergrunds. Daher ist es eine Aufgabe einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, eine Licht abstrahlende Baugruppe mit einem geringen Energieverlust zu schaffen. Eine Aufgabe einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist es, eine Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit zu schaffen.
  • Eine Aufgabe einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist es, eine Licht abstrahlende Vorrichtung zu schaffen, die eine Licht abstrahlende Baugruppe mit geringem Energieverlust enthält. Eine Aufgabe einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist es, eine Licht abstrahlende Vorrichtung zu schaffen, die eine Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit enthält.
  • Eine Aufgabe einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist es, eine Beleuchtungsvorrichtung zu schaffen, die eine Licht abstrahlende Baugruppe mit einem geringen Energieverlust enthält. Eine Aufgabe einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist es, eine Beleuchtungsvorrichtung zu schaffen, die eine Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit enthält.
  • Weiter ist es eine Aufgabe einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung einer Licht abstrahlenden Baugruppe mit geringem Energieverlust zu schaffen. Weiter ist es eine Aufgabe einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung einer Licht abstrahlenden Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit zu schaffen.
  • Um ein organisches EL-Element mit möglichst stark reduziertem Energieverlust in der Gebrauchsumgebung zu betreiben, in der hohe Stromversorgungsspannung geliefert wird, kann das organische EL-Element bei hoher Stromversorgungsspannung ohne Verwendung eines Wandlers betrieben werden, der den Energieverlust verursacht, oder die Stromversorgungsspannung kann in eine Stromversorgungsspannung umgewandelt werden, bei der der Umwandlungswirkungsgrad des Wandlers nicht vermindert ist und die Betriebsspannung des organischen EL-Elements auf die Stromversorgungsspannung eingestellt werden kann. Genauer kann eine Licht abstrahlende Baugruppe, in der organische EL-Elemente in Reihe geschaltet sind, um die Betriebsspannung zu erhöhen, ausgebildet sein und über einen Wandler an eine hohe Stromversorgungsspannung angeschlossen werden.
  • Jedoch wird bei der Licht abstrahlenden Baugruppe, bei der die Vielzahl organischer EL-Elemente in Reihe geschaltet ist, die gesamte Licht abstrahlende Baugruppe ausgeschaltet, wenn einer der Verbindungsbereiche der organischen EL-Elemente abgetrennt wird. Mit anderen Worten, der Ausfallanteil einer Beleuchtungsvorrichtung, die die Licht abstrahlende Baugruppe enthält, ist das Produkt der Licht abstrahlenden Elemente, was es schwierig macht, dass die Beleuchtungsvorrichtung Zuverlässigkeit aufweist.
  • Angesicht des Obigen liegt bei einer Licht abstrahlenden Baugruppe, in der eine Vielzahl organischer EL-Elemente (nachstehend einfach als Licht abstrahlende Elemente bezeichnet) in Reihe geschaltet ist, das Augenmerk auf einem Aufbau eines Bereichs, in dem eine obere Elektrode des Licht abstrahlenden Elements mit einer unteren Elektrode des benachbarten Licht abstrahlenden Elements verbunden ist, und auf einer Defekte verursachenden Metallmaske. Dann wird ein Aufbau betrachtet, bei dem eine obere Elektrode eines ersten Licht abstrahlenden Elements mit einer unteren Elektrode eines zweiten Licht abstrahlenden Elements ohne die Verwendung einer Metallmaske verbunden ist. Speziell ist eine erste Trennwand vorgesehen, die einen Randbereich der unteren Elektrode des ersten Licht abstrahlenden Elements bedeckt; eine Trennschicht, die einen Beinbereich und einen Plattformbereich enthält, der über die Elektrode ragt, sodass eine projizierte Fläche des Plattformbereichs größer ist als diejenige des Beinbereichs, und eine zweite Trennwand, die in Kontakt mit einer Seite der Trennschicht steht, sind über der unteren Elektrode des zweiten Licht abstrahlenden Elements vorgesehen; und eine Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, und die obere Elektrode des ersten Licht abstrahlenden Elements und eine obere Elektrode des zweiten Licht abstrahlenden Elements, die sich mit der Schicht überlappen, sind ohne die Verwendung einer Metallmaske ausgebildet, wobei die obere Elektrode des ersten Licht abstrahlenden Elements so vorgesehen ist, dass sie sich über den Randbereich der unteren Elektrode des ersten Licht abstrahlenden Elements hinaus erstreckt, wobei die erste Trennwand dazwischengesetzt ist, und elektrisch mit der unteren Elektrode des zweiten Licht abstrahlenden Elements in einer Zone verbunden ist, die sich mit dem Plattformbereich der Trennschicht überlappt. Mit einem solchen Aufbau wurden die obigen Aufgaben gelöst.
  • Zu bemerken ist, dass in dieser Beschreibung eine untere Elektrode und eine obere Elektrode eines ersten Licht abstrahlenden Elements auch als erste Elektrode bzw. zweite Elektrode bezeichnet sind. Eine untere Elektrode und eine obere Elektrode eines zweiten Licht abstrahlenden Elements sind auch als dritte Elektrode bzw. vierte Elektrode bezeichnet.
  • Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist eine Licht abstrahlende Baugruppe, die ein erstes Licht abstrahlendes Element, ein zweites Licht abstrahlendes Element über einer isolierenden Fläche sowie eine Trennschicht enthält. Das erste Licht abstrahlende Element enthält eine inselförmige erste Elektrode, eine zweite Elektrode, die sich mit der ersten Elektrode überlappt, und eine Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode. Ein Randbereich der ersten Elektrode ist mit einer ersten isolierenden Trennwand bedeckt. Das zweite Licht abstrahlende Element enthält eine inselförmige dritte Elektrode, eine vierte Elektrode, die sich mit der dritten Elektrode überlappt, und eine Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, zwischen der dritten Elektrode und der vierten Elektrode. Eine zweite Trennwand ist über der dritten Elektrode vorgesehen. Die erste Elektrode und die dritte Elektrode sind aus derselben Schicht mit einer Eigenschaft ausgebildet, von der Licht abstrahlenden organischen Verbindung abgestrahltes Licht durchzulassen. Die erste Trennwand und die zweite Trennwand sind aus derselben Schicht ausgebildet. Die zweite Elektrode und die vierte Elektrode sind aus derselben Schicht ausgebildet. Die Trennschicht enthält einen Beinbereich und einen Plattformbereich über dem Beinbereich. Der Plattformbereich ist so vorgesehen, dass er so vorragt, dass eine auf die dritte Elektrode projizierte Fläche davon größer ist als diejenige des Beinbereichs. Im zweiten Licht abstrahlenden Element ist ein Randbereich der zweiten Trennwand mit der Schicht bedeckt, die die Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, und der andere Randbereich der zweiten Trennwand steht in Kontakt mit der Trennschicht. Die zweite Elektrode ist so vorgesehen, dass sie sich über den Randbereich der ersten Elektrode hinaus erstreckt, wobei die erste Trennwand dazwischengesetzt ist, und elektrisch mit der dritten Elektrode in einer Zone verbunden ist, die sich mit dem Plattformbereich überlappt.
  • Gemäß der obigen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die zweite Elektrode, die eine obere Elektrode des ersten Licht abstrahlenden Elements ist, so vorgesehen, dass sie sich über den Randbereich der ersten Elektrode hinaus erstreckt, wobei die erste isolierende Trennwand für den Randbereich der ersten Elektrode, die eine untere Elektrode ist, dazwischengesetzt ist, und elektrisch mit der dritten Elektrode verbunden ist, die eine untere Elektrode des zweiten Licht abstrahlenden Elements ist. Zu bemerken ist, dass eine Zone, in der die zweite Elektrode mit der dritten Elektrode elektrisch verbunden ist, in einer Zone enthalten ist, in der der Plattformbereich der Trennschicht über die dritte Elektrode ragt und sie überlappt. In dieser Zone ist die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode über einen Randbereich der Schicht hinaus ausgebildet, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, sodass sie in Kontakt mit der dritten Elektrode steht. Zum Beispiel ist in dieser Zone die durch Hemmen des Eindringens ausgebildete, eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthaltende Schicht nicht über der dritten Elektrode ausgebildet, und nur die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode ist so ausgebildet, dass sie in Kontakt mit der dritten Elektrode steht.
  • Folglich kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Betriebsspannung, in der das erste Licht abstrahlende Element und das zweite Licht abstrahlende Element in Reihe geschaltet sind, geschaffen sein. Außerdem kann durch Vorsehen der ersten Trennwand ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode an einem am Randbereich der ersten Elektrode ausgebildeten Stufenbereich verhindert sein. Darüber hinaus kann durch Vorsehen der zweiten Trennwand ein Kurzschluss zwischen der dritten Elektrode und der vierten Elektrode in einer Zone verhindert sein, in der sich die dritte Elektrode und die vierte Elektrode mit dem Plattformbereich überlappen. Außerdem können mit einem Aufbau, der in der Lage ist, ohne Verwendung einer Metallmaske gefertigt zu werden, Probleme, die durch Beschädigung einer Oberfläche des Substrats aufgrund einer Kante einer Öffnung in der Metallmaske verursacht werden, verhindert werden; somit kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein. Darüber hinaus gibt es, da eine Metallmaske nicht verwendet wird, Effekte der Reduzierung der Fertigungskosten und Wartungskosten, wie etwa Reinigung.
  • Weiter ist eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung die obige Licht abstrahlende Baugruppe, bei der ein Zwischenraum auf der Beinbereichsseite einer Geraden vorgesehen ist, die in einer Schnittansicht der Trennschicht einen Punkt, an dem der Beinbereich in Kontakt mit der dritten Elektrode steht, mit einem Rand des über den Beinbereich hinaus ragenden Plattformbereichs verbindet.
  • Gemäß der obigen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist in einer Zone, in der sich die dritte Elektrode mit dem Plattformbereich überlappt, die zweite Elektrode, die eine obere Elektrode des ersten Licht abstrahlenden Elements ist, elektrisch mit der dritten Elektrode verbunden, die eine untere Elektrode des zweiten Licht abstrahlenden Elements ist; daher sind das erste Licht abstrahlende Element und das zweite Licht abstrahlende Element miteinander in Reihe geschaltet. Insbesondere ist es vorzuziehen, einen Zwischenraum auf der Beinbereichsseite einer Geraden vorzusehen, die einen Punkt, an dem der Beinbereich der Trennschicht in Kontakt mit der dritten Elektrode steht, mit einem Rand des über den Beinbereich hinaus ragenden Plattformbereichs verbindet. Mit einem solchen Aufbau, mit anderen Worten, mit einem Aufbau, bei dem der Plattformbereich und der Beinbereich mit einem dazwischen vorgesehenen gekrümmten Bereich miteinander verbunden sind, ist das Eindringen einer leitfähigen Schicht, die die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode sein soll, größer als dasjenige der Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält und durch Hemmen des Eindringens ausgebildet ist; daher kann die zweite Elektrode leicht mit der dritten Elektrode elektrisch verbunden sein. Als Ergebnis kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein.
  • Weiter ist eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung die obige Licht abstrahlende Baugruppe, bei der die erste Trennwand den Randbereich der ersten Elektrode und einen Randbereich der dritten Elektrode bedeckt und die zweite Elektrode so vorgesehen ist, dass sie sich über den Randbereich der ersten Elektrode und den Randbereich der dritten Elektrode hinaus erstreckt, wobei die erste Trennwand dazwischengesetzt ist, und elektrisch mit der dritten Elektrode in der Zone verbunden ist, die sich mit dem Plattformbereich überlappt.
  • Gemäß der obigen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die zweite Elektrode, die eine obere Elektrode des ersten Licht abstrahlenden Elements ist, so vorgesehen, dass sie sich über den Randbereich der ersten Elektrode und den Randbereich der dritten Elektrode hinaus erstreckt, wobei die dazwischengesetzte erste isolierende Trennwand vorgesehen ist, die Randbereiche der ersten Elektrode und der dritten Elektrode zu bedecken, die untere Elektroden sind, und die zweite Elektrode ist elektrisch mit der dritten Elektrode in der Zone verbunden, die sich mit dem Plattformbereich überlappt. Bei einem solchen Aufbau ist es weniger wahrscheinlich, dass ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode an einem Stufenbereich auftritt, der am Randbereich der ersten Elektrode ausgebildet ist, und die zweite Elektrode ist an einem am Randbereich der dritten Elektrode ausgebildeten Stufenbereich schwierig zu brechen; daher kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein.
  • Weiter ist eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eine Licht abstrahlende Baugruppe, enthaltend ein erstes Licht abstrahlendes Element und ein zweites Licht abstrahlendes Element über einer isolierenden Fläche, eine Hilfsverdrahtung und eine Trennschicht. Das erste Licht abstrahlende Element enthält eine inselförmige erste Elektrode, eine sich mit der ersten Elektrode überlappende zweite Elektrode und eine Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode. Ein Randbereich der ersten Elektrode ist mit einer ersten isolierenden Trennwand bedeckt. Das zweite Licht abstrahlende Element enthält eine inselförmige dritte Elektrode, eine sich mit der dritten Elektrode überlappende vierte Elektrode und eine Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung umfasst, zwischen der dritten Elektrode und der vierten Elektrode. Eine zweite Trennwand ist über der dritten Elektrode vorgesehen. Die Hilfsverdrahtung ist elektrisch mit der dritten Elektrode verbunden. Die Trennschicht überlappt sich mit der Hilfsverdrahtung und der zweiten Trennwand. Die erste Elektrode und die dritte Elektrode sind aus derselben Schicht mit einer Eigenschaft ausgebildet, von der Licht abstrahlenden organischen Verbindung abgestrahltes Licht durchzulassen. Die erste Trennwand und die zweite Trennwand sind aus derselben Schicht ausgebildet. Die zweite Elektrode und die vierte Elektrode sind aus derselben Schicht ausgebildet. Die Trennschicht enthält einen Beinbereich und einen Plattformbereich über dem Beinbereich. Der Plattformbereich ist so vorgesehen, dass er so vorragt, dass eine auf die Hilfsverdrahtung projizierte Fläche davon größer ist als diejenige des Beinbereichs. Im zweiten Licht abstrahlenden Element ist ein Randbereich der zweiten Trennwand mit der Schicht bedeckt, die die Licht abstrahlende organische Verbindung umfasst, und der andere Randbereich der zweiten Trennwand steht in Kontakt mit der Trennschicht. Die zweite Elektrode ist so vorgesehen, dass sie sich über den Randbereich der ersten Elektrode hinaus erstreckt, wobei die erste Trennwand dazwischengesetzt ist, und elektrisch mit der Hilfsverdrahtung in einer Zone verbunden ist, die sich mit dem Plattformbereich überlappt.
  • Gemäß der obigen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die zweite Elektrode, die eine obere Elektrode des ersten Licht abstrahlenden Elements ist, so vorgesehen, dass sie sich über den Randbereich der ersten Elektrode hinaus erstreckt, wobei die für den Randbereich der ersten Elektrode, die eine untere Elektrode ist, vorgesehene erste isolierende Trennwand dazwischengesetzt ist, und elektrisch mit der Hilfsverdrahtung verbunden ist. Zu bemerken ist, dass eine Zone, in der die zweite Elektrode mit der Hilfsverdrahtung verbunden ist, in einer Zone enthalten ist, in der der Plattformbereich der Trennschicht über die Hilfsverdrahtung ragt. In dieser Zone ist die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode über einen Randbereich der Schicht hinaus ausgebildet, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, sodass sie in Kontakt mit der Hilfsverdrahtung steht. Zum Beispiel ist die durch Hemmen des Eindringens ausgebildete, eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthaltende Schicht nicht ausgebildet, und nur die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode ist in Kontakt mit der Hilfsverdrahtung ausgebildet. Darüber hinaus ist die zweite Elektrode elektrisch mit der dritten Elektrode über eine Hilfsverdrahtung verbunden, die ein Metall enthält.
  • Folglich kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Betriebsspannung, in der das erste Licht abstrahlende Element und das zweite Licht abstrahlende Element in Reihe geschaltet sind, geschaffen sein. Außerdem kann durch Vorsehen der ersten Trennwand ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode an einem am Randbereich der ersten Elektrode ausgebildeten Stufenbereich verhindert sein. Darüber hinaus kann durch Vorsehen der zweiten Trennwand ein Kurzschluss zwischen der dritten Elektrode und der vierten Elektrode in einer Zone verhindert sein, in der sich die dritte Elektrode und die vierte Elektrode mit dem Plattformbereich überlappen. Außerdem können mit einem Aufbau, der in der Lage ist, ohne Verwendung einer Metallmaske gefertigt zu werden, Probleme, die durch Beschädigung einer Oberfläche des Substrats aufgrund einer Kante einer Öffnung in der Metallmaske verursacht werden, verhindert werden; somit kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein. Darüber hinaus gibt es, da eine Metallmaske nicht verwendet wird, Effekte der Reduzierung der Fertigungskosten und Wartungskosten, wie etwa Reinigung. Außerdem kann die Ungleichförmigkeit des Potentials in der dritten Elektrode reduziert sein, ohne Licht, das von der Licht abstrahlenden organischen Verbindung abgestrahlt wird, durch die Hilfsverdrahtung abzublocken, sodass das zweite Licht abstrahlende Element gleichmäßig Licht abstrahlen kann. Darüber hinaus kann das Auftreten schlechter Verbindung am Übergang zwischen der zweiten Elektrode und der dritten Elektrode mit der Eigenschaft verhindert werden, von der Licht abstrahlenden organischen Verbindung abgestrahltes Licht durchzulassen.
  • Weiter ist eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung die obige Licht abstrahlende Baugruppe, bei der ein Zwischenraum auf der Beinbereichsseite einer Geraden vorgesehen ist, die in einer Schnittansicht der Trennschicht einen Punkt, an dem der Beinbereich in Kontakt mit der Hilfsverdrahtung steht, mit einem Rand des über den Beinbereich hinaus ragenden Plattformbereichs verbindet.
  • Gemäß der obigen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die zweite Elektrode, die eine obere Elektrode des ersten Licht abstrahlenden Elements ist, in einer Zone, die sich mit dem vorragenden Plattformbereich überlappt, elektrisch mit der Hilfsverdrahtung verbunden; daher sind das erste Licht abstrahlende Element und das zweite Licht abstrahlende Element in Reihe geschaltet. Insbesondere ist ein Zwischenraum auf der Beinbereichsseite einer Geraden vorgesehen, die einen Punkt, an dem der Beinbereich der Trennschicht in Kontakt mit der Hilfsverdrahtung steht, mit einem Rand des über den Beinbereich hinaus ragenden Plattformbereichs verbindet. Mit einem solchen Aufbau, mit anderen Worten, mit einem Aufbau, bei dem der Plattformbereich und der Beinbereich mit einem dazwischen vorgesehenen gekrümmten Bereich miteinander verbunden sind, ist das Eindringen einer leitfähigen Schicht, die die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode sein soll, größer als dasjenige der Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält und durch Hemmen des Eindringens ausgebildet ist; daher kann die zweite Elektrode leicht mit der Hilfsverdrahtung elektrisch verbunden sein. Als Ergebnis kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein.
  • Weiter ist eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung die obige Licht abstrahlende Baugruppe, bei der die erste Trennwand den Randbereich der ersten Elektrode und einen Randbereich der Hilfsverdrahtung bedeckt, und die zweite Elektrode ist so vorgesehen, dass sie sich über den Randbereich der ersten Elektrode und den Randbereich der Hilfsverdrahtung hinaus erstreckt, wobei die erste Trennwand dazwischengesetzt ist, und ist elektrisch mit der Hilfsverdrahtung in der Zone verbunden, die sich mit dem Plattformbereich überlappt.
  • Gemäß der obigen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die zweite Elektrode, die eine obere Elektrode des ersten Licht abstrahlenden Elements ist, so vorgesehen, dass sie sich über den Randbereich der ersten Elektrode hinaus erstreckt, wobei die für den Randbereich der ersten Elektrode, die eine untere Elektrode ist, vorgesehene erste isolierende Trennwand dazwischengesetzt ist, und ist so vorgesehen, dass sie sich über den Randbereich der Hilfsverdrahtung hinaus erstreckt, wobei die für den Randbereich der Hilfsverdrahtung vorgesehene erste isolierende Trennwand dazwischengesetzt ist. Somit ist die zweite Elektrode elektrisch mit der dritten Elektrode verbunden, die eine untere Elektrode des zweiten Licht abstrahlenden Elements ist. Bei einem solchen Aufbau ist es weniger wahrscheinlich, dass ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode an einem Stufenbereich auftritt, der am Randbereich der ersten Elektrode ausgebildet ist, und die zweite Elektrode ist an einem am Randbereich der Hilfsverdrahtung ausgebildeten Stufenbereich schwierig zu brechen; daher kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein.
  • Weiter ist eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung die obige Licht abstrahlende Baugruppe, die eine erste Seitenverdrahtung enthält, die so vorgesehen ist, dass sie sich mit der die organische Verbindung enthaltenden Schicht und der zweiten Elektrode im ersten Licht abstrahlenden Element überlappt, und dass sie in Kontakt mit der ersten Elektrode steht, und/oder die eine zweite Seitenverdrahtung enthält, die so vorgesehen ist, dass sie sich mit der die organische Verbindung enthaltenden Schicht und der vierten Elektrode im zweiten Licht abstrahlenden Element überlappt, und dass sie in Kontakt mit der dritten Elektrode steht. Die erste Seitenverdrahtung umfasst ein Metall mit höherer Leitfähigkeit als die erste Elektrode, und die zweite Seitenverdrahtung umfasst ein Metall mit höherer Leitfähigkeit als die dritte Elektrode.
  • Gemäß der obigen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die Seitenverdrahtung, die ein Metall enthält, dessen Leitfähigkeit höher ist als diejenige der ersten Elektrode und/oder der dritten Elektrode, in Kontakt mit der ersten Elektrode und/oder der dritten Elektrode vorgesehen. Somit kann die Ungleichmäßigkeit des Potentials der ersten Elektrode und/oder der dritten Elektrode reduziert sein, sodass das erste Licht abstrahlende Element und/oder das zweite Licht abstrahlende Element gleichmäßig Licht abstrahlen kann.
  • Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist eine Licht abstrahlende Vorrichtung, die einen Wandler enthält, und bei der die Licht abstrahlende Baugruppe mit der Ausgangsspannung des Wandlers betrieben wird.
  • Gemäß der obigen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann eine Licht abstrahlende Vorrichtung geschaffen sein, die eine Licht abstrahlende Baugruppe mit einem geringen Energieverlust enthält. Eine Licht abstrahlende Vorrichtung, die eine Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit enthält, kann geschaffen sein.
  • Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist eine Beleuchtungsvorrichtung, die die Licht abstrahlende Baugruppe enthält.
  • Gemäß der obigen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann eine Beleuchtungsvorrichtung geschaffen sein, die eine Licht abstrahlende Baugruppe mit einem geringen Energieverlust enthält. Eine Beleuchtungsvorrichtung, die eine Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit enthält, kann geschaffen sein.
  • Weiter ist eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ein Verfahren zum Fertigen einer Licht abstrahlenden Baugruppe, enthaltend die folgenden Schritte: Ausbilden einer inselförmigen ersten Elektrode und einer inselförmigen dritten Elektrode, die untere Elektroden sein sollen, über einer isolierenden Fläche; Ausbilden einer ersten Trennwand, die einen Randbereich der ersten Elektrode bedeckt, und einer zweiten Trennwand über der dritten Elektrode; Ausbilden eines ersten photoempfindlichen Kunstharzes über der dritten Elektrode und eines zweiten photoempfindlichen Kunstharzes mit einer anderen Empfindlichkeit als derjenigen des ersten photoempfindlichen Kunstharzes über dem ersten photoempfindlichen Kunstharz; selektives Belichten und Entwickeln des ersten photoempfindlichen Kunstharzes und des zweiten photoempfindlichen Kunstharzes, um einen Beinbereich, der in Kontakt mit der dritten Elektrode steht, und die zweite Trennwand unter Verwendung des ersten photoempfindlichen Kunstharzes auszubilden, sowie um einen Plattformbereich, der über den Beinbereich hinaus über die dritte Elektrode ragt, unter Verwendung des zweiten photoempfindlichen Kunstharzes auszubilden, und Ausbilden einer Trennschicht, die den Beinbereich und den Plattformbereich umfasst; Ausbilden einer Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung umfasst, in einer Zone, die sich mit dem Plattformbereich der dritten Elektrode überlappt, durch Hemmen des Eindringens; und Ausbilden einer leitfähigen Schicht, die eine obere Elektrode sein soll, umfassend die zweite Elektrode und die vierte Elektrode, in der Zone, die sich mit dem Plattformbereich der dritten Elektrode überlappt, durch Fördern des Eindringens, sodass die zweite Elektrode in Kontakt mit der dritten Elektrode steht.
  • Gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird eine Schicht, in der zwei Arten photoempfindlicher Kunstharze mit unterschiedlichen Photoempfindlichkeiten geschichtet sind, selektiver Belichtung und Entwicklung ausgesetzt, wodurch die Trennschicht ausgebildet wird. Außerdem wird die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthaltende Schicht ausgebildet, während Eindringen der Schicht verhindert wird, und die obere Elektrode wird ausgebildet, während Eindringen der oberen Elektrode gefördert wird. Auf diese Weise kann die Trennschicht, die den über die dritte Elektrode über den Beinbereich hinaus ragenden Plattformbereich enthält, leicht ausgebildet werden. Außerdem wird die Schicht, die die Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, zwischen den unteren Elektroden (der ersten Elektrode und der dritten Elektrode) und den oberen Elektroden (der zweiten Elektrode und der vierten Elektrode) ohne die Verwendung einer Metallmaske ausgebildet, und die zweite Elektrode und die dritte Elektrode können elektrisch in einer Zone miteinander verbunden werden, in der sich die dritte Elektrode mit dem Plattformbereich überlappt. Weiter können, da in dem Fertigungsverfahren eine Metallmaske nicht verwendet wird, Probleme, die durch Beschädigung einer Oberfläche des Substrats aufgrund einer Kante einer Öffnung in der Metallmaske verursacht werden, verhindert werden; somit kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen werden. Darüber hinaus gibt es, da eine Metallmaske nicht verwendet wird, Effekte der Reduzierung der Fertigungskosten und Wartungskosten, wie etwa Reinigung.
  • Zu bemerken ist, dass das in dieser Beschreibung beschriebene Licht abstrahlende Element einen Aufbau mit Ausstrahlung nach unten aufweist. Demgemäß weist eine untere Elektrode, wie etwa eine erste Elektrode, eine Eigenschaft auf, von einer Licht abstrahlenden organischen Verbindung abgestrahltes Licht durchzulassen. Zu bemerken ist, dass die vorliegende Erfindung für ein Licht abstrahlendes Element mit Aufbau mit Ausstrahlung nach oben oder mit doppelter Ausstrahlung verwendet werden kann. Im Falle eines Licht abstrahlenden Elements mit Aufbau mit Ausstrahlung nach oben weist eine obere Elektrode, wie etwa eine zweite Elektrode, eine Eigenschaft auf, von einer Licht abstrahlenden organischen Verbindung abgestrahltes Licht durchzulassen. Im Falle eines Licht abstrahlenden Elements mit Aufbau mit doppelter Ausstrahlung weisen eine untere Elektrode und eine obere Elektrode eine Eigenschaft auf, von einer Licht abstrahlenden organischen Verbindung abgestrahltes Licht durchzulassen.
  • Zu bemerken ist, dass in dieser Beschreibung die erste Trennwand und die zweite Trennwand, die oben beschrieben sind, in einigen Fällen insgesamt als Trennwand bezeichnet sind.
  • Gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann eine Licht abstrahlende Baugruppe mit einem geringen Energieverlust geschaffen sein. Eine Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit kann geschaffen sein.
  • Eine Licht abstrahlende Vorrichtung, die eine Licht abstrahlende Baugruppe mit einem geringen Energieverlust enthält, kann geschaffen sein. Eine Licht abstrahlende Vorrichtung, die eine Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit enthält, kann geschaffen sein.
  • Eine Beleuchtungsvorrichtung, die eine Licht abstrahlende Baugruppe mit einem geringen Energieverlust enthält, kann geschaffen sein. Eine Beleuchtungsvorrichtung, die eine Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit enthält, kann geschaffen sein.
  • Weiter ist es eine Aufgabe, ein Verfahren zur Herstellung einer Licht abstrahlenden Baugruppe mit einem geringen Energieverlust zu schaffen. Weiter ist es eine Aufgabe, ein Verfahren zur Herstellung einer Licht abstrahlenden Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit zu schaffen.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnung
  • Die 1A und 1B stellen eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • Die 2A und 2B stellen eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • Die 3A und 3B stellen eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • Die 4A bis 4C stellen jeweils eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • Die 5A bis 5D stellen jeweils eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • Die 6A bis 6E stellen ein Verfahren zum Herstellen einer Licht abstrahlenden Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • 7 stellt eine Form einer ersten Elektrode nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • Die 8A bis 8C stellen jeweils eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • Die 9A bis 9C stellen eine Licht abstrahlende Vorrichtung nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • Die 10A und 10B stellen jeweils eine Licht abstrahlende Vorrichtung nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • Die 11A bis 11C stellen eine EL-Schicht dar, die für eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet werden kann.
  • Die 12A und 12B stellen Beleuchtungsvorrichtungen nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • Die 13A bis 13C stellen eine Form einer Trennschicht nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • 14 stellt eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • Die 15A und 15B stellen eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • Die 16A und 16B stellen jeweils eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • 17 stellt eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • Die 18A und 18B stellen eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • Die 19A und 19B stellen eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • 20 stellt eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung dar.
  • Beste Ausführungsweise der Erfindung
  • Ausführungsformen werden mit Bezug auf die begleitende Zeichnung genau beschrieben. Zu bemerken ist, dass die Erfindung nicht auf die folgende Beschreibung beschränkt ist, und Fachleute werden leicht einsehen, dass verschiedene Änderungen und Modifikationen vorgenommen werden können, ohne vom Geist und Umfang der Erfindung abzuweichen. Daher sollte es nicht ausgelegt werden, dass die Erfindung auf die Beschreibung in den folgenden Ausführungsformen beschränkt ist. Zu bemerken ist, dass in den unten beschriebenen Aufbauten der Erfindung dieselben Bereiche oder Bereiche, die ähnliche Funktionen aufweisen, in verschiedenen Figuren mit denselben Bezugsnummern bezeichnet sind, und die Beschreibung solcher Bereiche nicht wiederholt ist.
  • (Ausführungsform 1)
  • In diesem Ausführungsbeispiel wird eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf die 1A und 1B, die 2A und 2B, die 3A und 3B, 4A, 7, die 15A und 15B und die 16A und 16B beschrieben. 1B ist eine Schnittansicht entlang einer Linie A-A' in 1A. 2A ist eine Schnittansicht entlang einer Linie B-B' in 1A. 2B ist eine Schnittansicht entlang einer Linie C-C' in 1A. 3B ist eine Schnittansicht entlang einer Linie D-D' in 3A. 15A ist eine Schnittansicht entlang einer Linie E-E' in 3A. 15B ist eine Schnittansicht entlang einer Linie F-F' in 3A.
  • «Aufbaubeispiel»
  • Zuerst wird ein Aufbau der in dieser Ausführungsform beschriebenen Licht abstrahlenden Baugruppe beschrieben.
  • Zu bemerken ist, dass in dieser Beschreibung ein Licht abstrahlendes Element eine inselförmige untere Elektrode, eine inselförmige obere Elektrode und eine inselförmige Schicht enthält, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält und zwischen der unteren Elektrode und der oberen Elektrode eingefügt ist. Eine EL-Schicht enthält zumindest die Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält. Die EL-Schicht kann einen geschichteten Aufbau aufweisen, bei dem eine Schicht, die eine Substanz mit hoher Elektronentransportfähigkeit enthält, eine Schicht, die eine Substanz mit hoher Lochtransportfähigkeit enthält, eine Schicht, die eine Substanz mit hoher Elektroneninjektionsfähigkeit enthält, eine Schicht, die eine Substanz mit hoher Lochinjektionsfähigkeit enthält, eine Schicht, die eine bipolare Substanz (eine Substanz mit hoher Elektronentransportfähigkeit und hoher Lochtransportfähigkeit) enthält, und dergleichen zusätzlich zu der Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, geeignet kombiniert sind. Zu bemerken ist, dass in einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ein Licht abstrahlendes Element (ein Tandem-Licht abstrahlendes Element) verwendet werden kann, in dem eine Vielzahl von EL-Schichten zwischen einer unteren Elektrode und einer oberen Elektrode vorgesehen ist. Ein geschichteter Aufbau von zwei Schichten, drei Schichten oder vier Schichten (insbesondere ein geschichteter Aufbau von drei Schichten) ist vorzugsweise verwendet.
  • <Aufbaubeispiel 1>
  • Eine in den 1A und 1B und den 2A und 2B dargestellte Licht abstrahlende Baugruppe enthält eine Verdrahtung 133a, eine Verdrahtung 133b, eine Planarisierungsschicht 134, eine Trennwand 107, ein erstes Licht abstrahlendes Element 11, ein zweites Licht abstrahlendes Element 12, ein drittes Licht abstrahlendes Element 13, eine Trennschicht 139 (einen Beinbereich 139a und einen Plattformbereich 139b), eine Versiegelungsschicht 138a und eine Versiegelungsschicht 138b, die über einem Substrat 100 vorgesehen sind.
  • Das erste Licht abstrahlende Element 11 enthält eine erste Elektrode 103a, die über der Planarisierungsschicht 134 ausgebildet ist, eine EL-Schicht 102a, die über der ersten Elektrode 103a ausgebildet ist, und eine zweite Elektrode 108a, die über der EL-Schicht 102a ausgebildet ist.
  • Das zweite Licht abstrahlende Element 12 enthält eine erste Elektrode 103b, die über der Planarisierungsschicht 134 ausgebildet ist, eine EL-Schicht 102b, die über der ersten Elektrode 103b ausgebildet ist, und eine zweite Elektrode 108b, die über der EL-Schicht 102b ausgebildet ist.
  • Das dritte Licht abstrahlende Element 13 enthält eine erste Elektrode 103c, die über der Planarisierungsschicht 134 ausgebildet ist, eine EL-Schicht 102c, die über der ersten Elektrode 103c ausgebildet ist, und eine zweite Elektrode 108c, die über der EL-Schicht 102c ausgebildet ist.
  • Die erste Elektrode 103a im ersten Licht abstrahlenden Element 11 ist mit der Verdrahtung 133a verbunden. Die zweite Elektrode 108c im dritten Licht abstrahlenden Element 13 ist über eine Auskopplungselektrode 160 mit der Verdrahtung 133b verbunden.
  • Im Aufbaubeispiel 1 ist die zweite Elektrode 108a so vorgesehen, dass sie sich über einen Randbereich der ersten Elektrode 103a hinaus erstreckt, wobei eine Trennwand 107 an der Stelle dazwischen gesetzt ist, an der die isolierende Trennwand 107 für den Randbereich der ersten Elektrode 103a vorgesehen ist. Die zweite Elektrode 108a ist mit der ersten Elektrode 103b direkt verbunden. Daher sind das erste Licht abstrahlende Element 11 und das zweite Licht abstrahlende Element 12 in Reihe miteinander geschaltet.
  • Zu bemerken ist, dass die Trennwand 107 einen Randbereich mit einer nach vorn angeschrägten Form aufweist. In der nach vorn angeschrägten Form vergrößert eine Schicht allmählich ihre Dicke von ihrem Rand und steht in Kontakt mit einer Schicht, die im Querschnitt als Basis dient. Mit dem nach vorn angeschrägten Randbereich kann verhindert werden, dass eine über der Trennwand 107 ausgebildete Schicht bricht.
  • Die Trennschicht 139 enthält einen Beinbereich und einen Plattformbereich, der über die Elektrode ragt, sodass eine projizierte Fläche des Plattformbereichs größer ist als diejenige des Beinbereichs. Im Aufbaubeispiel 1 enthält die Trennschicht 139 den Beinbereich 139a und den Plattformbereich 139b.
  • Eine Zone, in der die zweite Elektrode 108a mit der ersten Elektrode 103b verbunden ist, ist in einer Zone enthalten, in der der Plattformbereich 139b der Trennschicht 139 über die erste Elektrode 103b ragt. In dieser Zone ist die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode 108a über einen Randbereich der EL-Schicht 102a hinaus ausgebildet, sodass sie in Kontakt mit der ersten Elektrode 103b steht. Im Aufbaubeispiel 1 ist in dieser Zone die durch Hemmen des Eindringens ausgebildete EL-Schicht 102a nicht über der ersten Elektrode 103b ausgebildet, und nur die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode 108a ist so ausgebildet, dass sie in Kontakt mit der ersten Elektrode 103b steht.
  • Somit sind das erste Licht abstrahlende Element 11 und das zweite Licht abstrahlende Element 12 in Reihe geschaltet, sodass die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Betriebsspannung vorgesehen sein kann.
  • Dasselbe gilt für das zweite Licht abstrahlende Element 12 und das dritte Licht abstrahlende Element 13.
  • Die Trennwand 107 ist vorgesehen, um den Randbereich der ersten Elektrode 103a im ersten, in 1B dargestellten Licht abstrahlenden Element 11 zu bedecken. Somit kann ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode 103a und der zweiten Elektrode 108a an einem am Randbereich der ersten Elektrode 103a ausgebildeten Stufenbereich verhindert werden, wodurch die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein kann.
  • Darüber hinaus kann, wenn eine Trennwand, deren einer Randbereich mit der EL-Schicht 102b bedeckt ist, und deren anderer Randbereich in Kontakt mit der Trennschicht 139 steht, über der ersten Elektrode 103b vorgesehen ist, ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode 103b und der zweiten Elektrode 108b in einer Zone verhindert werden, in der sich die erste Elektrode 103b und die zweite Elektrode 108b mit dem Plattformbereich 139b überlappen.
  • Außerdem können mit einem Aufbau, der in der Lage ist, ohne Verwendung einer Metallmaske gefertigt zu werden, Probleme, die durch Beschädigung einer Oberfläche des Substrats aufgrund einer Kante einer Öffnung in der Metallmaske verursacht werden, verhindert werden; somit kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein. Darüber hinaus gibt es, da eine Metallmaske nicht verwendet wird, Effekte der Reduzierung der Fertigungskosten und Wartungskosten, wie etwa Reinigung.
  • Im Aufbaubeispiel 1 ist eine Höhlung 141 (ein Leerraum) in einer Zone vorgesehen, die sich mit dem Plattformbereich 139b überlappt. Es ist eher vorzuziehen, ein Trocknungsmittel in die Höhlung 141 einzubringen.
  • Durch Vorsehen der Versiegelungsschicht 138a und der Versiegelungsschicht 138b, die eine Deckfläche des Licht abstrahlenden Elements bedecken, kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein.
  • Weiter kann eine Grundschicht über dem Substrat ausgebildet sein. Die Versiegelungsschichten und die Grundschicht weisen eine Funktion auf, die Licht abstrahlenden Elemente vor Wasser oder dergleichen von außen zu schützen. Durch Vorsehen der Versiegelungsschichten und der Grundschicht ist die Qualitätsminderung der Licht abstrahlenden Elemente reduziert, und die Haltbarkeit und Lebensdauer der Beleuchtungseinheit kann verbessert sein.
  • <Form der ersten Elektrode>
  • Hier kann durch sorgfältiges Gestalten einer Form eines Randbereichs einer ersten Elektrode physischer und elektrischer Kontakt zwischen der ersten Elektrode und einer zweiten Elektrode günstig sein, sogar wenn eine EL-Schicht zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode vorgesehen ist.
  • Ein Randbereich einer in 7 dargestellten ersten Elektrode 103 ist so bearbeitet, dass er eine Vielzahl von Stufen aufweist. An einer solchen Stufe kann eine EL-Schicht 102 mit einer relativ geringen Dicke geteilt werden, indem sie an der Stufe gebrochen wird. Andererseits ist eine über der EL-Schicht 102 ausgebildete zweite Elektrode 108 so ausgebildet, dass sie eine größere Dicke aufweist als diejenige der EL-Schicht 102, wodurch die zweite Elektrode 108 die erste Elektrode 103 bedecken kann, ohne an der Stufe geteilt zu werden. Somit können die erste Elektrode 103 und die zweite Elektrode 108 an einer Seitenfläche der Stufe, an der die EL-Schicht 102 geteilt ist, direkt in Kontakt miteinander stehen, sodass der elektrische Kontakt günstig sein kann.
  • Zu bemerken ist, dass vertiefte Bereiche in Teilen des Randbereichs der ersten Elektrode in 7 vorgesehen sind; jedoch kann der Randbereich eine geeignete Form aufweisen, zum Beispiel kann der Randbereich der ersten Elektrode eine kammartige Form aufweisen, sodass die EL-Schicht wirksam geteilt sein kann und die erste Elektrode mit der zweiten Elektrode bedeckt sein kann, ohne dass die zweite Elektrode geteilt ist.
  • Weiter kann die Stufe in einer Hilfsverdrahtung 132 vorgesehen sein, die als ein Beispiel in der Ausführungsform 2 beschrieben ist, wie sie in den 16A und 16B dargestellt ist. Die Dicke der Hilfsverdrahtung 132 ist vorzugsweise größer als diejenige der ersten Elektrode 103; in diesem Fall kann eine große Stufe vorgesehen sein, sodass die EL-Schicht 102 wirksam geteilt sein kann und die zweite Elektrode 108 an einer Seitenfläche der Stufe leicht in Kontakt mit der ersten Elektrode stehen kann.
  • Im Aufbaubeispiel 1 sind der Beinbereich 139a und der Plattformbereich 139b der Trennschicht 139 aus unterschiedlichen Materialien ausgebildet. Wie in einem nachstehend beschriebenen Aufbaubeispiel 2 kann die Trennschicht 139 aus einem einzigen Material ausgebildet sein.
  • <Aufbaubeispiel 2>
  • Eine in den 3A und 3B und den 15A und 15B dargestellte Licht abstrahlende Baugruppe enthält die Verdrahtung 133a, die Verdrahtung 133b, die Planarisierungsschicht 134, die Trennwand 107, das erste Licht abstrahlende Element 11, das zweite Licht abstrahlende Element 12, das dritte Licht abstrahlende Element 13, die Trennschicht 139, die Versiegelungsschicht 138a und die Versiegelungsschicht 138b, die über dem Substrat 100 vorgesehen sind.
  • Das Aufbaubeispiel 2 weist einen ähnlichen Aufbau auf wie derjenige des Aufbaubeispiels 1, außer der Trennschicht 139. Im Aufbaubeispiel 2 ragt ein Plattformbereich (ein oberer Bereich, der zumindest eine obere Basis enthält) der Trennschicht 139 über die Elektrode, sodass eine projizierte Fläche des Plattformbereichs größer ist als diejenige eines Beinbereichs (eines unteren Bereichs, der zumindest eine untere Basis enthält) der Trennschicht 139.
  • In 3B bedeckt die Trennwand 107 einen Randbereich der ersten Elektrode 103. Bei einem solchen Aufbau kann die Trennschicht 139 so ausgebildet sein, dass sie sich so nahe wie möglich an einem Randbereich der ersten Elektrode 103b befindet, wodurch die Fläche einer Öffnung der Licht abstrahlenden Baugruppe vergrößert werden kann, was vorzuziehen ist. Jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diesen Aufbau beschränkt.
  • Zum Beispiel kann, wie in 4A dargestellt, die Trennwand 107 den Randbereich der ersten Elektrode 103a und den Randbereich der ersten Elektrode 103b bedecken.
  • <Aufbaubeispiel 3>
  • Speziell enthält eine in 4A dargestellte Licht abstrahlende Baugruppe die Planarisierungsschicht 134, die Trennwand 107, das erste Licht abstrahlende Element 11, das zweite Licht abstrahlende Element 12, die Trennschicht 139 (den Beinbereich 139a und den Plattformbereich 139b), die Versiegelungsschicht 138a und die Versiegelungsschicht 138b, die über dem Substrat 100 vorgesehen sind.
  • Jedes Licht abstrahlende Element enthält eine erste Elektrode, die über der Planarisierungsschicht 134 ausgebildet ist, eine EL-Schicht, die über der ersten Elektrode ausgebildet ist, und eine zweite Elektrode, die über der EL-Schicht ausgebildet ist.
  • Im Aufbaubeispiel 3 ist die zweite Elektrode 108a so vorgesehen, dass sie sich über einen Randbereich der ersten Elektrode 103a hinaus erstreckt, wobei die Trennwand 107 an der Stelle dazwischen gesetzt ist, an der die isolierende Trennwand 107 für den Randbereich der ersten Elektrode 103a vorgesehen ist. Außerdem ist die zweite Elektrode 108a so vorgesehen, dass sie sich über einen Randbereich der ersten Elektrode 103b hinaus erstreckt, wobei die Trennwand 107 an der Stelle dazwischen gesetzt ist, an der die isolierende Trennwand 107 für den Randbereich der ersten Elektrode 103b vorgesehen ist. Die zweite Elektrode 108a ist mit der ersten Elektrode 103b direkt verbunden. Daher sind das erste Licht abstrahlende Element 11 und das zweite Licht abstrahlende Element 12 in Reihe miteinander geschaltet.
  • Eine Zone, in der die zweite Elektrode 108a mit der ersten Elektrode 103b verbunden ist, ist in einer Zone enthalten, in der der Plattformbereich 139b der Trennschicht 139 über die erste Elektrode 103b ragt. In dieser Zone ist die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode 108a über einen Randbereich der EL-Schicht 102a hinaus ausgebildet, sodass sie in Kontakt mit der ersten Elektrode 103b steht. Im Aufbaubeispiel 3 ist in dieser Zone die durch Hemmen des Eindringens ausgebildete EL-Schicht 102a nicht über der ersten Elektrode 103b ausgebildet, und nur die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode 108a ist so ausgebildet, dass sie in Kontakt mit der ersten Elektrode 103b steht.
  • Folglich kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Betriebsspannung, in der das erste Licht abstrahlende Element 11 und das zweite Licht abstrahlende Element 12 in Reihe geschaltet sind, geschaffen sein.
  • Die Trennwand 107 ist vorgesehen, um den Randbereich der ersten Elektrode 103a im ersten, in 4A dargestellten Licht abstrahlenden Element 11 zu bedecken. Somit kann ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode 103a und der zweiten Elektrode 108a an einem im Randbereich der ersten Elektrode 103a ausgebildeten Stufenbereich verhindert sein, wodurch die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein kann.
  • Weiter ist die Trennwand 107 vorgesehen, um den Randbereich der ersten Elektrode 103b zu bedecken. Daher kann sogar in dem Fall, in dem die zweite Elektrode 108a dünn ist, die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein, bei der die zweite Elektrode 108a an einem am Randbereich der ersten Elektrode 103b ausgebildeten Stufenbereich schwierig zu brechen ist.
  • Darüber hinaus kann durch Vorsehen der Trennwand 107, deren einer Randbereich mit der EL-Schicht 102b bedeckt ist, und deren anderer Randbereich in Kontakt mit der Trennschicht 139 steht, über der ersten Elektrode 103b ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode 103b und der zweiten Elektrode 108b in einer Zone verhindert werden, in der sich die erste Elektrode 103b und die zweite Elektrode 108b mit dem Plattformbereich 139b überlappen.
  • Außerdem können mit einem Aufbau, der in der Lage ist, ohne Verwendung einer Metallmaske gefertigt zu werden, Probleme, die durch Beschädigung einer Oberfläche des Substrats aufgrund einer Kante einer Öffnung in der Metallmaske verursacht werden, verhindert werden; somit kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein. Darüber hinaus gibt es, da eine Metallmaske nicht verwendet wird, Effekte der Reduzierung von Fertigungskosten und Reinigungskosten.
  • «Material»
  • Beispiele von Materialien, die für jede Schicht verwendet werden können, werden nachstehend beschrieben.
  • [Substrat]
  • Das Substrat 100 ist ein Substrat auf der Seite, auf der Licht ausgekoppelt wird. Für das Material des Substrats 100 kann ein Material mit einer lichtdurchlässigen Eigenschaft, wie etwa Glas, Quarz oder ein organisches Kunstharz, verwendet werden.
  • Wenn ein organisches Kunstharz für das Substrat 100 verwendet wird, kann zum Beispiel ein Polyesterharz, wie etwa Polyethylenterephthalat (PET) oder Polyethylennaphthalat (PEN), ein Polyacrylnitrilharz, ein Polyimidharz, ein Polymethylmethacrylatharz, ein Polycarbonatharz (PC-Harz), ein Polyethersulfonharz (PES-Harz), ein Polyamidharz, ein Cycloolefinharz, ein Polystyrolharz, ein Polyamidimidharz, ein Polyvinylchloridharz oder dergleichen als organisches Kunstharz verwendet werden. Weiter kann auch ein Substrat, bei dem eine Glasfaser mit einem organischen Kunstharz imprägniert ist, oder ein Substrat verwendet werden, bei dem ein anorganischer Füllstoff mit einem organischen Kunstharz vermischt ist.
  • [Versiegelungsschicht – Grundschicht]
  • Sowohl die Versiegelungsschicht als auch die Grundschicht können unter Verwendung eines Materials mit einer Sperreigenschaft ausgebildet sein. Außerdem ist entweder die Versiegelungsschicht oder die Grundschicht, die auf der Seite vorgesehen ist, auf der Licht ausgekoppelt wird, unter Verwendung einer lichtdurchlässigen Eigenschaft ausgebildet.
  • Sowohl als Versiegelungsschicht als auch als Grundschicht kann eine anorganische Isolierschicht zum Beispiel durch ein Sputterverfahren ausgebildet werden. Zum Beispiel kann eine Siliziumnitridschicht, eine Aluminiumoxidschicht, eine Siliziumoxidschicht oder dergleichen ausgebildet sein.
  • Die Versiegelungsschicht ist zum Beispiel vorzugsweise eine Schicht mit einer Durchlässigkeit von weniger oder gleich 10–6g/m2·Tag und einer Gassperreigenschaft. Ein geschichteter Aufbau, bei dem mindestens eine Schicht, die ein anorganisches Material enthält, zwischen Schichten eingefügt ist, die ein organisches Material enthalten, kann zum Beispiel für die Versiegelungsschicht verwendet werden. Als die Schicht, die ein organisches Material enthält, kann als Beispiel eine Klebstoffschicht, wie etwa eine Klebstoffschicht auf Epoxidbasis, angegeben werden. Als die Schicht, die ein anorganisches Material enthält, kann als Beispiel eine Schicht mit einer Sperreigenschaft, wie etwa eine Siliziumoxidschicht oder eine Siliziumnitridschicht, angegeben werden.
  • Genauer wird ein wärmehärtendes Kunstharz (z. B. ein Klebstoff auf Epoxidbasis) auf eine Schicht, die ein Träger sein soll, mit einer Dicke von mehreren Dutzend Mikrometern aufgebracht und getrocknet, und eine anorganische Schicht (z. B. eine Siliziumoxidschicht) wird darüber zu einer Dicke von mehreren Mikrometern ausgebildet, um ein erstes Element auszubilden; wärmehärtendes Epoxidharz wird zu einer Formtrennschicht aufgebracht und getrocknet, um ein zweites Element auszubilden; und das erste Element und das zweite Element werden miteinander verbunden, sodass ein Stapel ausgebildet wird. Als Nächstes wird eine Oberfläche des Stapels, von der die Formtrennschicht entfernt ist, mit einer Deckfläche des oben beschriebenen Licht abstrahlenden Elements so verbunden, dass sie zueinander weisen, Thermokompression wird durchgeführt, und dann kann das Epoxidharz durch Wärme ausgehärtet werden. Mit einem solchen Aufbau wird die Qualitätsminderung des Licht abstrahlenden Elements unterdrückt, und die Haltbarkeit und Lebensdauer der Licht abstrahlenden Baugruppe kann verbessert sein.
  • Wenn ein organisches Kunstharz als Substrat verwendet wird, kann eine Glasschicht mit einer Dicke von mehr als oder gleich 25 μm und weniger als oder gleich 100 μm verwendet werden. Die Dicke der Glasschicht beträgt typischerweise mehr als oder gleich 45 μm und weniger als oder gleich 80 μm. Durch Kombinieren eines Substrats aus organischem Kunstharz und einer Glasschicht kann verhindert sein, dass Feuchtigkeit, eine Verunreinigung oder dergleichen von außerhalb der Licht abstrahlenden Baugruppe in eine organische Verbindung oder ein Metallmaterial eindringt, das in dem Licht abstrahlenden Element enthalten ist, und das Gewicht der Licht abstrahlenden Baugruppe kann reduziert sein.
  • [Trennschicht]
  • Eine Trennschicht kann unter Verwendung eines anorganischen Isoliermaterials oder eines organischen Isoliermaterials ausgebildet werden. Zum Beispiel kann ein photoempfindliches Kunstharzmaterial negativen Typs verwendet werden.
  • [Licht abstrahlendes Element]
  • Als lichtdurchlässiges Material für die erste Elektrode kann Indiumoxid, Indium-Zinn-Oxid (ITO), Indium-Zink-Oxid, Zinkoxid, Zinkoxid, dem Gallium zugesetzt ist, Graphen oder dergleichen verwendet werden.
  • Zusätzlich kann für die erste Elektrode ein Metallmaterial, wie etwa Gold, Platin, Nickel, Wolfram, Chrom, Molybdän, Eisen, Kobalt, Kupfer, Palladium oder Titan verwendet werden. Weiter kann ein Nitrid des Metallmaterials (z. B. Titannitrid) oder dergleichen verwendet werden. Im Falle der Verwendung des Metallmaterials (oder dessen Nitrids) kann die erste Elektrode so verdünnt werden, dass sie Licht durchlassen kann.
  • Die Dicke der ersten Elektrode beträgt zum Beispiel mehr als oder gleich 50 nm und weniger als oder gleich 300 nm, vorzugsweise mehr als oder gleich 80 nm und weniger als oder gleich 130 nm, noch mehr vorzuziehen mehr als oder gleich 100 nm und weniger als oder gleich 110 nm.
  • Beispiele von Aufbauten der EL-Schicht werden in der Ausführungsform 8 genau beschrieben.
  • Die zweite Elektrode ist auf der Seite gegenüber der Seite vorgesehen, auf der das Licht ausgekoppelt wird, und ist unter Verwendung eines reflektierenden Materials ausgebildet. Als das reflektierende Material kann ein Metallmaterial, wie etwa Aluminium, Gold, Platin, Silber, Nickel, Wolfram, Chrom, Molybdän, Eisen, Kobalt, Kupfer oder Palladium verwendet werden. Außerdem kann eins der Folgenden verwendet werden: Legierungen, die Aluminium enthalten (Aluminiumlegierungen), wie etwa eine Legierung von Aluminium und Titan, eine Legierung von Aluminium und Nickel und eine Legierung von Aluminium und Neodym; und eine Legierung, die Silber enthält, wie etwa eine Legierung von Silber und Kupfer. Eine Legierung von Silber und Kupfer ist wegen ihres hohen Wärmewiderstands vorzuziehen. Weiter wird eine Metallschicht oder eine Metalloxidschicht auf eine Schicht aus Aluminiumlegierung geschichtet, wodurch Oxidation der Schicht aus Aluminiumlegierung verhindert sein kann. Als Beispiele eines Materials für die Metallschicht oder die Metalloxidschicht sind Titan, Titanoxid und dergleichen angegeben.
  • [Verdrahtung]
  • Für die Verdrahtung kann eine Einzelschicht oder eine Schichtung unter Verwendung eines aus Kupfer (Cu), Titan (Ti), Tantal (Ta), Wolfram (W), Molybdän (Mo), Chrom (Cr), Neodym (Nd), Scandium (Sc) und Nickel (Ni) gewählten Materials oder eines Legierungsmaterials, das beliebige dieser Materialien als Hauptbestandteil enthält, verwendet werden. Aluminium kann ebenfalls für das Material der Verdrahtung verwendet werden; jedoch könnte die Verdrahtung in diesem Fall korrodieren, wenn die Verdrahtung so vorgesehen ist, dass sie in direktem Kontakt mit ITO oder dergleichen stehen soll. Daher ist es vorzuziehen, dass die Verdrahtung einen geschichteten Aufbau enthält und Aluminium in einer Schicht verwendet wird, die nicht in Kontakt mit ITO oder dergleichen steht. Die Verdrahtung dieser Ausführungsform enthält eine Schichtung, in der eine Kupferschicht über einer Titanschicht ausgebildet ist. Kupfer kann vorzugsweise wegen seines niedrigen Widerstands verwendet werden. Die Dicke der Verdrahtung beträgt vorzugsweise mehr als oder gleich 2 μm und weniger als oder gleich 35 μm.
  • [Planarisierungsschicht]
  • Die Planarisierungsschicht 134 kann unter Verwendung eines anorganischen Isoliermaterials oder eines organischen Isoliermaterials ausgebildet werden. Zu bemerken ist, dass die Planarisierungsschicht 134, die unter Verwendung eines organischen Isoliermaterials, wie etwa eines Acrylharzes, eines Polyimids, eines Kunstharzes auf Benzocyclobuten-Basis, eines Polyamids oder eines Epoxidharzes ausgebildet ist, vorzugsweise als eine isolierende Planarisierungsschicht verwendet wird. Außer solchen organischen Isoliermaterialien ist es möglich, ein Material mit niedriger Dielektrizitätskonstante (ein Low-k-Material), ein Kunstharz auf Siloxanbasis, Phosphorsilikatglas (PSG), Borphosphorsilikatglas (BPSG) oder dergleichen zu verwenden. Zu bemerken ist, dass die Planarisierungsschicht 134 durch Übereinanderschichten einer Vielzahl von isolierenden Schichten ausgebildet werden kann, die unter Verwendung beliebiger dieser Materialien ausgebildet sind.
  • Ein Verfahren zum Ausbilden der Planarisierungsschicht 134 ist nicht besonders beschränkt, und ein Sputterverfahren, ein Spin-Coat-Verfahren, ein Tauchverfahren, ein Druckverfahren, ein Tintenstrahlverfahren oder dergleichen kann, abhängig von ihrem Material, verwendet werden.
  • [Trennwand]
  • Für ein Material der Trennwand kann zum Beispiel ein organisches Material, wie etwa Polyimid, Acryl, Polyamid oder Epoxid oder ein anorganisches Isoliermaterial verwendet werden.
  • Der Winkel einer Seitenwandfläche einer Schicht, deren Kantenbereich mit einer nach vorn abgeschrägten Form in Kontakt mit einer Schicht steht, die eine Basis sein soll, ist größer als oder gleich 10° und kleiner als oder gleich 85°, vorzugsweise größer als oder gleich 60° und kleiner als oder gleich 80°.
  • Es ist besonders vorzuziehen, dass die Trennwand unter Verwendung eines photoempfindlichen Kunstharzmaterials so ausgebildet wird, dass sie eine Öffnung über der ersten Elektrode aufweist, sodass eine Seitenwand der Öffnung als schräge Fläche mit durchgehender Krümmung ausgebildet wird. Genauer beträgt der Krümmungsradius einer durch einen Querschnitt eines Isolationsfilms gezogenen Kurve wünschenswert ungefähr 0,2 μm bis 2 μm.
  • Ein Verfahren zum Ausbilden der Trennwand ist nicht besonders beschränkt, und ein Photolithographieverfahren, ein Sputter-Verfahren, ein Bedampfungsverfahren, ein Tröpfchenauftragungsverfahren (z. B. ein Tintenstrahlverfahren), ein Druckverfahren (z. B. ein Siebdruckverfahren oder ein Offsetdruckverfahren) oder dergleichen können verwendet werden.
  • Die Dicke der Trennwand kann zum Beispiel mehr als oder gleich 20 nm und weniger als oder gleich 20 μm, vorzugsweise mehr als oder gleich 20 nm und weniger als oder gleich 200 nm, noch mehr vorzuziehen mehr als oder gleich 50 nm und weniger als oder gleich 100 nm betragen.
  • Diese Ausführungsform kann frei mit anderen Ausführungsformen kombiniert werden.
  • (Ausführungsform 2)
  • In diesem Ausführungsbeispiel wird eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf die 4B und 4C, 17, die 18A und 18B, die 19A und 19B und 20 beschrieben.
  • Bei der in diesem Ausführungsbeispiel beschriebenen Licht abstrahlenden Baugruppe ist eine Hilfsverdrahtung so vorgesehen, dass sie in Kontakt mit einer ersten Elektrode steht. Wenn eine Hilfsverdrahtung enthalten ist, kann Spannungsabfall aufgrund des Widerstands einer ersten Elektrode verhindert werden.
  • «Aufbaubeispiel»
  • Zuerst wird ein Aufbau der in dieser Ausführungsform beschriebenen Licht abstrahlenden Baugruppe beschrieben.
  • <Aufbaubeispiel 4>
  • Eine in 4B dargestellte Licht abstrahlende Baugruppe enthält die Planarisierungsschicht 134, eine Hilfsverdrahtung 132a, eine Hilfsverdrahtung 132b, ein erstes Licht abstrahlendes Element 21, ein zweites Licht abstrahlendes Element 22, die Trennwand 107, die Trennschicht 139 (den Beinbereich 139a und den Plattformbereich 139b), die Versiegelungsschicht 138a und die Versiegelungsschicht 138b, die über dem Substrat 100 vorgesehen sind.
  • Jedes Licht abstrahlende Element enthält eine erste Elektrode, die über der Planarisierungsschicht 134 ausgebildet ist, eine EL-Schicht, die über der ersten Elektrode ausgebildet ist, und eine zweite Elektrode, die über der EL-Schicht ausgebildet ist.
  • Im Aufbaubeispiel 4 ist die zweite Elektrode 108a so vorgesehen, dass sie sich über einen Randbereich der ersten Elektrode 103a hinaus an der Stelle erstreckt, an der die isolierende Trennwand 107 für den Randbereich der ersten Elektrode 103a vorgesehen ist.
  • Die zweite Elektrode 108a ist mit der ersten Elektrode 103b direkt verbunden.
  • Eine Zone, in der die zweite Elektrode 108a mit der ersten Elektrode 103b verbunden ist, ist in einer Zone enthalten, in der der Plattformbereich 139b der Trennschicht 139 über die erste Elektrode 103b ragt. In dieser Zone ist die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode 108a über einen Randbereich der EL-Schicht 102a hinaus ausgebildet, sodass sie in Kontakt mit der ersten Elektrode 103b steht. Im Aufbaubeispiel 4 ist in dieser Zone die durch Hemmen des Eindringens ausgebildete EL-Schicht 102a nicht über der ersten Elektrode 103b ausgebildet, und nur die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode 108a ist so ausgebildet, dass sie in Kontakt mit der ersten Elektrode 103b steht.
  • Folglich kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Betriebsspannung, in der das erste Licht abstrahlende Element 21 und das zweite Licht abstrahlende Element 22 in Reihe geschaltet sind, geschaffen sein.
  • Die Trennwand 107 ist vorgesehen, um den Randbereich der ersten Elektrode 103a im ersten, in 4B dargestellten Licht abstrahlenden Element 21 zu bedecken. Somit kann ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode 103a und der zweiten Elektrode 108a an einem am Randbereich der ersten Elektrode 103a ausgebildeten Stufenbereich verhindert werden, wodurch die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein kann.
  • Darüber hinaus kann, wenn eine Trennwand, deren einer Randbereich mit der EL-Schicht 102b bedeckt ist, und deren anderer Randbereich in Kontakt mit der Trennschicht 139 steht, über der ersten Elektrode 103b vorgesehen ist, ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode 103b und der zweiten Elektrode 108b in einer Zone verhindert werden, in der sich die erste Elektrode 103b und die zweite Elektrode 108b mit dem Plattformbereich 139b überlappen.
  • Außerdem können mit einem Aufbau, der in der Lage ist, ohne Verwendung einer Metallmaske gefertigt zu werden, Probleme, die durch Beschädigung einer Oberfläche des Substrats aufgrund einer Kante einer Öffnung in der Metallmaske verursacht werden, verhindert werden; somit kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein. Darüber hinaus gibt es, da eine Metallmaske nicht verwendet wird, Effekte der Reduzierung von Fertigungskosten und Reinigungskosten.
  • Wenn im Aufbaubeispiel 4 ein leitfähiges Oxid als ein lichtdurchlässiges Material für die erste Elektrode verwendet ist, ist in einigen Fällen eine isolierende Oxidschicht am Übergang zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode ausgebildet, abhängig von einer Kombination des leitfähigen Oxids und einem für die zweite Elektrode verwendeten Metall. Wenn eine isolierende Oxidschicht ausgebildet ist, erhöht sich der elektrische Widerstand, und die Leistungsaufnahme der Licht abstrahlenden Baugruppe steigt.
  • Jedoch sind in einem nachstehend beschriebenen Aufbaubeispiel 5 eine erste Elektrode und eine zweite Elektrode durch eine Hilfsverdrahtung elektrisch miteinander verbunden; somit kann durch geeignete Wahl eines Materials der Hilfsverdrahtung die Bildung einer isolierenden Oxidschicht und eine Erhöhung des elektrischen Widerstands verhindert sein.
  • <Aufbaubeispiel 5>
  • Eine in 4C dargestellte Licht abstrahlende Baugruppe enthält die Planarisierungsschicht 134, die Hilfsverdrahtung 132a, die Hilfsverdrahtung 132b, das erste Licht abstrahlende Element 21, das zweite Licht abstrahlende Element 22, die Trennwand 107, die Trennschicht 139 (den Beinbereich 139a und den Plattformbereich 139b), die Versiegelungsschicht 138a und die Versiegelungsschicht 138b, die über dem Substrat 100 vorgesehen sind.
  • Jedes Licht abstrahlende Element enthält eine erste Elektrode, die über der Planarisierungsschicht 134 ausgebildet ist, eine EL-Schicht, die über der ersten Elektrode ausgebildet ist, und eine zweite Elektrode, die über der EL-Schicht ausgebildet ist.
  • Im Aufbaubeispiel 5 ist die zweite Elektrode 108a so vorgesehen, dass sie sich über einen Randbereich der ersten Elektrode 103a hinaus an der Stelle erstreckt, an der die isolierende Trennwand 107 für den Randbereich der ersten Elektrode 103a vorgesehen ist. Die zweite Elektrode 108a ist mit der Hilfsverdrahtung 132b direkt verbunden. Die Hilfsverdrahtung 132b ist mit der ersten Elektrode 103b direkt verbunden. Daher ist die zweite Elektrode 108a mit der ersten Elektrode 103b direkt verbunden. Demgemäß sind das erste Licht abstrahlende Element 21 und das zweite Licht abstrahlende Element 22 in Reihe miteinander geschaltet.
  • Eine Zone, in der die zweite Elektrode 108a mit der Hilfsverdrahtung 132b verbunden ist, ist in einer Zone enthalten, in der der Plattformbereich 139b der Trennschicht 139 über die Hilfsverdrahtung 132b ragt. In dieser Zone ist die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode 108a über einen Randbereich der EL-Schicht 102a hinaus ausgebildet, sodass sie in Kontakt mit der Hilfsverdrahtung 132b steht. Im Aufbaubeispiel 5 ist in dieser Zone die durch Hemmen des Eindringens ausgebildete EL-Schicht 102a nicht über der Hilfsverdrahtung 132b ausgebildet, und nur die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode 108a ist so ausgebildet, dass sie in Kontakt mit der Hilfsverdrahtung 132b steht.
  • Folglich kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Betriebsspannung, in der das erste Licht abstrahlende Element 21 und das zweite Licht abstrahlende Element 22 in Reihe geschaltet sind, geschaffen sein.
  • Die Trennwand 107 ist vorgesehen, um den Randbereich der ersten Elektrode 103a im ersten, in 4C dargestellten Licht abstrahlenden Element 21 zu bedecken. Somit kann ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode 103a und der zweiten Elektrode 108a an einem am Randbereich der ersten Elektrode 103a ausgebildeten Stufenbereich verhindert werden, wodurch die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein kann.
  • Darüber hinaus kann, wenn eine Trennwand, deren einer Randbereich mit der EL-Schicht 102b bedeckt ist, und deren anderer Randbereich in Kontakt mit der Trennschicht 139 steht, über der ersten Elektrode 103b vorgesehen ist, ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode 103b und der zweiten Elektrode 108b in einer Zone verhindert sein, in der sich die erste Elektrode 103b und die zweite Elektrode 108b mit dem Plattformbereich 139b überlappen.
  • Außerdem können mit einem Aufbau, der in der Lage ist, ohne Verwendung einer Metallmaske gefertigt zu werden, Probleme, die durch Beschädigung einer Oberfläche des Substrats aufgrund einer Kante einer Öffnung in der Metallmaske verursacht werden, verhindert werden; somit kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein. Darüber hinaus gibt es, da eine Metallmaske nicht verwendet wird, Effekte der Reduzierung von Fertigungskosten und Reinigungskosten.
  • <Anwendungsbeispiel>
  • Eine Ausführungsform einer Licht abstrahlenden Baugruppe, die eine Hilfsverdrahtung enthält, wird mit Bezug auf 17, die 18A und 18B, die 19A und 19B und 20 beschrieben. 18B ist eine Schnittansicht entlang einer Linie J-J' in 18A. 19A ist eine Schnittansicht entlang einer Linie K-K' in 18A. 19B ist eine Schnittansicht entlang einer Linie L-L' in 18A.
  • Die als Anwendungsbeispiel beschriebene Licht abstrahlende Baugruppe enthält eine Hilfsverdrahtung in einer Licht abstrahlenden Zone. Die Hilfsverdrahtung erstreckt sich horizontal (in der Richtung J-J'), wodurch Spannungsabfall aufgrund des Schichtwiderstands einer ersten Elektrode verhindert werden kann.
  • Wie in 19A dargestellt, ist die Trennwand 107 so über der ersten Elektrode 103b vorgesehen, dass sie sich mit der Hilfsverdrahtung 132b überlappt, sodass verhindert sein kann, dass die EL-Schicht 102 zerschnitten ist.
  • 20 stellt eine Draufsicht von zwei einander benachbarten Licht abstrahlenden Baugruppen dar. 17 ist eine Schnittansicht entlang einer Linie I-I' in 20. Wie in 17 dargestellt, sind die beiden einander benachbarten Licht abstrahlenden Baugruppen durch die Trennschicht 139 elektrisch voneinander getrennt.
  • «Material»
  • Ein Beispiel eines Materials, das für jede Schicht verwendet werden kann, wird nachstehend beschrieben.
  • Dieselben Aufbauten wie diejenigen in der Ausführungsform 1 können für Aufbauten des Substrats, der Planarisierungsschicht, des Licht abstrahlenden Elements, der Trennwand, der Trennschicht und der Versiegelungsschicht verwendet werden.
  • Zu bemerken ist, dass, da die Hilfsverdrahtung in dem in dieser Ausführungsform beschriebenen Aufbau vorgesehen ist, eine Erhöhung des Widerstands verhindert sein kann, sogar wenn die Dicke der ersten Elektrode auf mehr als oder gleich 70 nm und weniger als oder gleich 100 nm reduziert ist.
  • Außerdem sind in dem in dieser Ausführungsform beschriebenen Aufbau die erste Elektrode und die zweite Elektrode durch die Hilfsverdrahtung elektrisch miteinander verbunden. Daher ist, sogar wenn die erste Elektrode in Kontakt mit der zweiten Elektrode steht, eine isolierende Oxidschicht am Übergang nicht ausgebildet, sodass eine einzelne Aluminiumschicht für die zweite Elektrode verwendet sein kann.
  • [Hilfsverdrahtung]
  • Für ein Material der Hilfsverdrahtung ist eine Einzelschicht oder eine Schichtung unter Verwendung eines aus Kupfer (Cu), Titan (Ti), Tantal (Ta), Wolfram (W), Molybdän (Mo), Chrom (Cr), Neodym (Nd), Scandium (Sc) und Nickel (Ni) gewählten Materials oder eines Legierungsmaterials, das beliebige dieser Materialien als Hauptbestandteil enthält, verwendet. Aluminium kann ebenfalls für das Material der Hilfsverdrahtung verwendet werden; jedoch ist es in diesem Fall vorzuziehen, dass die Hilfsverdrahtung einen geschichteten Aufbau aufweist, sodass die oben beschriebene Korrosion nicht auftreten kann, und Aluminium für eine Schicht verwendet ist, die nicht in Kontakt mit ITO oder dergleichen steht. Die Dicke der Hilfsverdrahtung kann mehr als oder gleich 0,1 μm und weniger als oder gleich 3 μm, vorzugsweise mehr als oder gleich 0,1 μm und weniger als oder gleich 0,5 μm betragen.
  • Diese Ausführungsform kann frei mit anderen Ausführungsformen kombiniert werden.
  • (Ausführungsform 3)
  • In diesem Ausführungsbeispiel werden Licht abstrahlende Baugruppen, von denen jede eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist, mit Bezug auf die 5A bis 5D und 14 beschrieben.
  • Bei der in diesem Ausführungsbeispiel beschriebenen Licht abstrahlenden Baugruppe ist eine Seitenverdrahtung so vorgesehen, dass sie in Kontakt mit einer ersten Elektrode steht. Durch Vorsehen der Seitenverdrahtung kann Spannungsabfall verhindert sein. Folglich kann die Ungleichförmigkeit des Potentials in der ersten Elektrode reduziert sein, und ein Licht abstrahlendes Element kann gleichmäßig Licht abstrahlen. Außerdem ist bei der in diesem Ausführungsbeispiel beschriebenen Licht abstrahlenden Baugruppe die Seitenverdrahtung so vorgesehen, dass sie sich mit einer EL-Schicht und einer zweiten Elektrode überlappt. Die Seitenverdrahtung enthält ein Metall mit höherer Leitfähigkeit als derjenigen der ersten Elektrode. Die Seitenverdrahtung weist eine Eigenschaft auf, von einer Licht abstrahlenden organischen Verbindung abgestrahltes Licht durchzulassen.
  • «Aufbaubeispiel»
  • Zuerst wird ein Aufbau der in dieser Ausführungsform beschriebenen Licht abstrahlenden Baugruppe beschrieben.
  • <Aufbaubeispiel 6>
  • Eine in 5A dargestellte Licht abstrahlende Baugruppe enthält die Planarisierungsschicht 134, ein erstes Licht abstrahlendes Element 31, ein zweites Licht abstrahlendes Element 32, die Trennwand 107, die Trennschicht 139 (den Beinbereich 139a und den Plattformbereich 139b), die Versiegelungsschicht 138a und die Versiegelungsschicht 138b, die über dem Substrat 100 vorgesehen sind.
  • Jedes Licht abstrahlende Element enthält eine erste Elektrode, die über der Planarisierungsschicht 134 ausgebildet ist, eine Seitenverdrahtung, die über der ersten Elektrode ausgebildet ist, eine EL-Schicht, die über der Seitenverdrahtung ausgebildet ist, und eine zweite Elektrode, die über der EL-Schicht ausgebildet ist.
  • Im Aufbaubeispiel 6 ist die zweite Elektrode 108a so vorgesehen, dass sie sich über einen Randbereich der ersten Elektrode 103a und einen Randbereich der Seitenverdrahtung 131a hinaus an der Stelle erstreckt, an der die isolierende Trennwand 107 für den Randbereich der ersten Elektrode 103a und den Randbereich der Seitenverdrahtung 131a vorgesehen ist. Die zweite Elektrode 108a ist mit der Seitenverdrahtung 131b direkt verbunden. Die Seitenverdrahtung 131b ist mit der ersten Elektrode 103b direkt verbunden. Daher ist die zweite Elektrode 108a mit der ersten Elektrode 103b direkt verbunden. Demgemäß sind das erste Licht abstrahlende Element 31 und das zweite Licht abstrahlende Element 32 in Reihe miteinander geschaltet.
  • Eine Zone, in der die zweite Elektrode 108a mit der Seitenverdrahtung 131b verbunden ist, ist in einer Zone enthalten, in der der Plattformbereich 139b der Trennschicht 139 über die Seitenverdrahtung 131b ragt. In dieser Zone ist die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode 108a über einen Randbereich der EL-Schicht 102a hinaus ausgebildet, sodass sie in Kontakt mit der Seitenverdrahtung 131b steht. Im Aufbaubeispiel 6 ist in dieser Zone die durch Hemmen des Eindringens ausgebildete EL-Schicht 102a nicht über der Seitenverdrahtung 131b ausgebildet, und nur die durch Fördern des Eindringens ausgebildete zweite Elektrode 108a ist so ausgebildet, dass sie in Kontakt mit der Seitenverdrahtung 131b steht.
  • Folglich kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Betriebsspannung, in der das erste Licht abstrahlende Element 31 und das zweite Licht abstrahlende Element 32 in Reihe geschaltet sind, geschaffen sein.
  • Die Trennwand 107 ist vorgesehen, um den Randbereich der ersten Elektrode 103a und einen Randbereich der Seitenverdrahtung 131a im ersten, in 5A dargestellten Licht abstrahlenden Element 31 zu bedecken. Somit kann ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode 103a und der Seitenverdrahtung 131a und der zweiten Elektrode 108a an einem im Randbereich der ersten Elektrode 103a und im Randbereich der Seitenverdrahtung 131a ausgebildeten Stufenbereich verhindert werden, wodurch die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein kann.
  • Darüber hinaus kann durch Vorsehen der Trennwand 107, deren einer Randbereich mit der EL-Schicht 102b bedeckt ist und deren anderer Randbereich in Kontakt mit der Trennschicht 139 steht, über der Seitenverdrahtung 131b ein Kurzschluss zwischen der Seitenverdrahtung 131b und der zweiten Elektrode 108b in einer Zone verhindert werden, in der sich die Seitenverdrahtung 131b und die zweite Elektrode 108b mit dem Plattformbereich 139b überlappen.
  • Außerdem können mit einem Aufbau, der in der Lage ist, ohne Verwendung einer Metallmaske gefertigt zu werden, Probleme, die durch Beschädigung einer Oberfläche des Substrats aufgrund einer Kante einer Öffnung in der Metallmaske verursacht werden, verhindert werden; somit kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein. Darüber hinaus gibt es, da eine Metallmaske nicht verwendet wird, Effekte der Reduzierung von Fertigungskosten und Reinigungskosten.
  • Jedoch sind in einem Aufbaubeispiel 6 die erste Elektrode und die zweite Elektrode durch die Seitenverdrahtung elektrisch miteinander verbunden; somit können durch geeignete Wahl eines Materials der Seitenverdrahtung die Bildung einer isolierenden Oxidschicht und eine Erhöhung des elektrischen Widerstands verhindert sein.
  • 14 stellt einen Schnitt dar, der senkrecht zu einer Ebene steht, die eine strichpunktierte Linie H-H' in 5A enthält. In dem in 14 dargestellten Schnitt ist die Seitenverdrahtung 131a zwischen der ersten Elektrode 103a und der EL-Schicht 102a vorgesehen.
  • Die Trennwand 107 deckt den Randbereich der ersten Elektrode 103a im ersten Licht abstrahlenden Element 31 im Aufbaubeispiel 6 ab. Bei einem solchen Aufbau kann die Trennschicht 139 so ausgebildet sein, dass sie sich so nahe wie möglich an einem Randbereich der ersten Elektrode 103b befindet, wodurch die Fläche einer Öffnung der Licht abstrahlenden Baugruppe vergrößert werden kann, was vorzuziehen ist. Jedoch ist die vorliegende Erfindung nicht auf diesen Aufbau beschränkt.
  • Zum Beispiel kann, wie in 5B dargestellt, die Trennwand 107 einen Randbereich der ersten Elektrode 103a, einen Randbereich der Seitenverdrahtung 131a, einen Randbereich der ersten Elektrode 103b und einen Randbereich der Seitenverdrahtung 131b bedecken.
  • <Aufbaubeispiel 7>
  • Eine in 5B dargestellte Licht abstrahlende Baugruppe enthält die Planarisierungsschicht 134, das erste Licht abstrahlende Element 31, das zweite Licht abstrahlende Element 32, die Trennwand 107, die Trennschicht 139 (den Beinbereich 139a und den Plattformbereich 139b), die Versiegelungsschicht 138a und die Versiegelungsschicht 138b, die über dem Substrat 100 vorgesehen sind.
  • Jedes Licht abstrahlende Element enthält eine erste Elektrode, die über der Planarisierungsschicht 134 ausgebildet ist, eine Seitenverdrahtung, die über der ersten Elektrode ausgebildet ist, eine EL-Schicht, die über der Seitenverdrahtung ausgebildet ist, und eine zweite Elektrode, die über der EL-Schicht ausgebildet ist.
  • Im Aufbaubeispiel 7 sind das erste Licht abstrahlende Element 31 und das zweite Licht abstrahlende Element 32 wie im Aufbaubeispiel 6 miteinander in Reihe geschaltet.
  • Die Trennwand 107 ist vorgesehen, um den Randbereich der ersten Elektrode 103a und den Randbereich der Seitenverdrahtung 131a im ersten, in 5B dargestellten Licht abstrahlenden Element 31 zu bedecken. Somit kann ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode 103a und der Seitenverdrahtung 131a und der zweiten Elektrode 108a an einem im Randbereich der ersten Elektrode 103a und im Randbereich der Seitenverdrahtung 131a ausgebildeten Stufenbereich verhindert werden, wodurch die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein kann.
  • Weiter ist die Trennwand 107 vorgesehen, um den Randbereich der ersten Elektrode 103b und den Randbereich der Seitenverdrahtung 131b zu bedecken. Daher kann sogar in dem Fall, in dem die zweite Elektrode 108a dünn ist, die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein, bei der die zweite Elektrode 108a an einem am Randbereich der ersten Elektrode 103b und am Randbereich der Seitenverdrahtung 131b ausgebildeten Stufenbereich schwierig zu brechen ist.
  • Darüber hinaus kann durch Vorsehen der Trennwand 107, deren einer Randbereich mit der EL-Schicht 102b bedeckt ist, und deren anderer Randbereich in Kontakt mit der Trennschicht 139 steht, über der ersten Elektrode 103b ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode 103b und der Seitenverdrahtung 131b und der zweiten Elektrode 108b in einer Zone verhindert werden, in der sich die erste Elektrode 103b, die Seitenverdrahtung 131b und die zweite Elektrode 108b mit dem Plattformbereich 139b überlappen.
  • Die Seitenverdrahtung kann in Kombination mit der in der obigen Ausführungsform beschriebenen und vorgesehenen Hilfsverdrahtung vorgesehen sein. Ein Beispiel wird nachstehend beschrieben.
  • <Aufbaubeispiel 8>
  • Eine in 5C dargestellte Licht abstrahlende Baugruppe enthält die Planarisierungsschicht 134, die Hilfsverdrahtung 132a, die Hilfsverdrahtung 132b, die Trennschicht 139 (den Beinbereich 139a und den Plattformbereich 139b), die Versiegelungsschicht 138a, die Versiegelungsschicht 138b, ein erstes Licht abstrahlendes Element 41 und ein zweites Licht abstrahlendes Element 42, die über dem Substrat 100 vorgesehen sind.
  • Jedes Licht abstrahlende Element enthält eine Seitenverdrahtung, die über der Planarisierungsschicht 134 ausgebildet ist, eine erste Elektrode, die über der Seitenverdrahtung ausgebildet ist, eine EL-Schicht, die über der ersten Elektrode ausgebildet ist, und eine zweite Elektrode, die über der EL-Schicht ausgebildet ist.
  • Im Aufbaubeispiel 8 ist die zweite Elektrode 108a so vorgesehen, dass sie sich über einen Randbereich der ersten Elektrode 103a und einen Randbereich der Seitenverdrahtung 131a hinaus an der Stelle erstreckt, an der die isolierende Trennwand 107 für den Randbereich der ersten Elektrode 103a und den Randbereich der Seitenverdrahtung 131a vorgesehen ist. Die zweite Elektrode 108a ist mit der Hilfsverdrahtung 132b direkt verbunden. Die Hilfsverdrahtung 132b ist mit der Seitenverdrahtung 131b direkt verbunden. Die Seitenverdrahtung 131b ist mit der ersten Elektrode 103b direkt verbunden. Daher ist die zweite Elektrode 108a mit der ersten Elektrode 103b direkt verbunden. Demgemäß sind das erste Licht abstrahlende Element 41 und das zweite Licht abstrahlende Element 42 miteinander in Reihe geschaltet.
  • Folglich kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Betriebsspannung, in der das erste Licht abstrahlende Element 41 und das zweite Licht abstrahlende Element 42 in Reihe geschaltet sind, geschaffen sein.
  • In 5C sind die erste Elektrode und die zweite Elektrode durch die Hilfsverdrahtung und die Seitenverdrahtung elektrisch miteinander verbunden. Daher kann durch geeignete Wahl von Materialien der Hilfsverdrahtung und der Seitenverdrahtung die Bildung einer isolierenden Oxidschicht und eine Erhöhung des elektrischen Widerstands verhindert sein.
  • Die Trennwand 107 ist vorgesehen, um den Randbereich der ersten Elektrode 103a und den Randbereich der Seitenverdrahtung 131a zu bedecken. Somit kann ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode 103a und der zweiten Elektrode 108a an einem am Randbereich der ersten Elektrode 103a ausgebildeten Stufenbereich verhindert werden, wodurch die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein kann.
  • In 5C ist die erste Elektrode über der Seitenverdrahtung vorgesehen; jedoch kann die Seitenverdrahtung über der ersten Elektrode vorgesehen sein, wie in 5D dargestellt.
  • Eine in 5D dargestellte Licht abstrahlende Baugruppe enthält die Planarisierungsschicht 134, die Hilfsverdrahtung 132a, die Hilfsverdrahtung 132b, die Trennschicht 139 (den Beinbereich 139a und den Plattformbereich 139b), die Versiegelungsschicht 138a, die Versiegelungsschicht 138b, ein erstes Licht abstrahlendes Element 51 und ein zweites Licht abstrahlendes Element 52, die über dem Substrat 100 vorgesehen sind.
  • Jedes Licht abstrahlende Element enthält eine erste Elektrode, die über der Planarisierungsschicht 134 ausgebildet ist, eine Seitenverdrahtung, die über der ersten Elektrode ausgebildet ist, eine EL-Schicht, die über der Seitenverdrahtung ausgebildet ist, und eine zweite Elektrode, die über der EL-Schicht ausgebildet ist.
  • Im Aufbaubeispiel 8 ist die zweite Elektrode 108a so vorgesehen, dass sie sich über einen Randbereich der ersten Elektrode 103a und einen Randbereich der Seitenverdrahtung 131a hinaus an der Stelle erstreckt, an der die isolierende Trennwand 107 für den Randbereich der ersten Elektrode 103a und den Randbereich der Seitenverdrahtung 131a vorgesehen ist. Die zweite Elektrode 108a ist mit der Hilfsverdrahtung 132b direkt verbunden. Die Hilfsverdrahtung 132b ist mit der ersten Elektrode 103b direkt verbunden. Daher ist die zweite Elektrode 108a mit der ersten Elektrode 103b direkt verbunden. Demgemäß sind das erste Licht abstrahlende Element 51 und das zweite Licht abstrahlende Element 52 miteinander in Reihe geschaltet.
  • Folglich kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Betriebsspannung, in der das erste Licht abstrahlende Element 51 und das zweite Licht abstrahlende Element 52 in Reihe geschaltet sind, geschaffen sein.
  • In 5D sind die erste Elektrode und die zweite Elektrode durch eine Hilfsverdrahtung und die Seitenverdrahtung elektrisch miteinander verbunden. Daher kann durch geeignete Wahl von Materialien der Hilfsverdrahtung und der Seitenverdrahtung die Bildung einer isolierenden Oxidschicht und eine Erhöhung des elektrischen Widerstands verhindert sein.
  • Die Trennwand 107 ist vorgesehen, um den Randbereich der ersten Elektrode 103a und den Randbereich der Seitenverdrahtung 131a zu bedecken. Somit kann ein Kurzschluss zwischen der ersten Elektrode 103a und der zweiten Elektrode 108a an einem am Randbereich der ersten Elektrode 103a ausgebildeten Stufenbereich verhindert werden, wodurch die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein kann.
  • Beispiele von Materialien, die für jede Schicht verwendet werden können, werden nachstehend beschrieben.
  • Dieselben Aufbauten wie diejenigen in den obigen Ausführungsformen können für Aufbauten des Substrats, der Planarisierungsschicht, des Licht abstrahlenden Elements, der Trennwand, der Hilfsverdrahtung, der Versiegelungsschicht und der Trennschicht verwendet sein.
  • Außerdem sind in dem in dieser Ausführungsform beschriebenen Aufbau die erste Elektrode und die zweite Elektrode durch die Hilfsverdrahtung elektrisch miteinander verbunden. Daher ist eine isolierende Oxidschicht am Übergang zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode nicht ausgebildet, sodass eine einzelne Aluminiumschicht für die zweite Elektrode verwendet sein kann.
  • [Seitenverdrahtung]
  • Für ein Material der Seitenverdrahtung ist eine Einzelschicht oder eine Schichtung unter Verwendung eines aus Kupfer (Cu), Titan (Ti), Tantal (Ta), Wolfram (W), Molybdän (Mo), Chrom (Cr), Neodym (Nd), Scandium (Sc) oder Nickel (Ni) gewählten Materials oder eines Legierungsmaterials, das beliebige dieser Materialien als Hauptbestandteil enthält, verwendet. Aluminium kann ebenfalls für das Material der Seitenverdrahtung verwendet werden; jedoch ist es in diesem Fall vorzuziehen, dass die Seitenverdrahtung einen geschichteten Aufbau aufweist, sodass die oben beschriebene Korrosion nicht auftreten kann, und Aluminium für eine Schicht verwendet ist, die nicht in Kontakt mit ITO oder dergleichen steht. Die Seitenverdrahtung weist eine Eigenschaft auf, von einer Licht abstrahlenden organischen Verbindung abgestrahltes Licht durchzulassen. Die Dicke der Seitenverdrahtung kann mehr als oder gleich 3 nm und weniger als oder gleich 30 nm, vorzugsweise mehr als oder gleich 5 nm und weniger als oder gleich 15 nm betragen.
  • Diese Ausführungsform kann frei mit anderen Ausführungsformen kombiniert werden.
  • (Ausführungsform 4)
  • In diesem Ausführungsbeispiel wird ein Fertigungsverfahren einer in einer beliebigen der obigen Ausführungsformen beschriebenen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf die 6A bis 6E und die 13A bis 13C beschrieben. Zu bemerken ist, dass zwei benachbarte Licht abstrahlende Elemente aus der Vielzahl in Reihe geschalteter Licht abstrahlender Elemente, die in den 1A und 1B beschrieben sind, zur Einfachheit in den 6A bis 6E dargestellt sind und beschrieben sind.
  • <Aufbaubeispiel 1>
  • Zuerst wird eine leitfähige Schicht zum Ausbilden der Verdrahtung über dem Substrat 100 ausgebildet. Die leitfähige Schicht kann unter Verwendung eines schichtbildenden Verfahrens, wie etwa eines Sputter-Verfahrens, ausgebildet werden. Dann wird eine bekannte Halbleiterverarbeitungstechnik verwendet, um unnötige Bereiche der leitfähigen Schicht zu entfernen, sodass die Verdrahtung 133a und die Verdrahtung 133b (siehe 1A und 1B) ausgebildet werden.
  • Als Nächstes wird die Planarisierungsschicht 134 ausgebildet, die die Verdrahtung 133a und die Verdrahtung 133b bedeckt. Es gibt keine besondere Einschränkung bezüglich eines Verfahrens zum Ausbilden der Planarisierungsschicht 134, und die Planarisierungsschicht 134 kann unter Verwendung etwa eines der folgenden Verfahren ausgebildet werden: eines Sputter-Verfahrens, eines SOG-Verfahrens, Spin-Coating, Tauchen, Sprühbeschichten, eines Tröpfchenabgabeverfahrens (z. B. eines Tintenstrahlverfahrens), eines Druckverfahrens (z. B. eines Siebdruckverfahrens oder eines Offsetdruckverfahrens), oder mit einem Werkzeug (einer Einrichtung), wie etwa einer Rakel, einem Walzenbeschichter, einem Vorhangbeschichter oder einem Messerbeschichter, abhängig von ihrem Material. Dann werden Öffnungen ausgebildet (nicht gezeigt), die jeweils die Verdrahtung 133a und die Verdrahtung 133b erreichen.
  • Als Nächstes wird eine leitfähige Schicht ausgebildet, die durch die Öffnungen Verbindung zu der Verdrahtung 133a und der Verdrahtung 133b herstellt, und dann werden die erste Elektrode 103b, die erste Elektrode 103c und die Auskopplungselektrode 160 (nicht gezeigt) unter Verwendung einer bekannten Halbleiterverarbeitungstechnik ausgebildet.
  • Dann werden die Trennwand 107, die einen aus einem Randbereich der ersten Elektrode 103b und einem Randbereich der ersten Elektrode 103c bedeckt, und die Trennwand 107 über der ersten Elektrode 103b und der ersten Elektrode 103c gleichzeitig ausgebildet (6A).
  • Als Nächstes wird die Trennschicht 139 über der ersten Elektrode 103b und der ersten Elektrode 103c ausgebildet.
  • Die Trennschicht 139 enthält den Beinbereich 139a und den Plattformbereich 139b. Hier werden der Beinbereich 139a und der Plattformbereich 139b so ausgebildet, dass die Fläche des Teils des Beinbereichs 139a, der in Kontakt mit der ersten Elektrode steht, kleiner ist als eine projizierte Fläche des Plattformbereichs 139b. Diese Bearbeitung erfolgt vorzugsweise über einen einzigen Strukturierungsschritt.
  • Zuerst werden eine isolierende Schicht 149a, die später der Beinbereich sein soll, und eine isolierende Schicht 149b, die später der Plattformbereich sein soll, in dieser Reihenfolge ausgebildet (6B).
  • In dieser Ausführungsform wird eine photoempfindliche organische Kunstharzschicht für die isolierende Schicht 149a und die isolierende Schicht 149b verwendet. Für die isolierende Schicht 149a wird ein Material mit einer geringeren Photoempfindlichkeit für Licht zur Belichtung verwendet als dasjenige der isolierenden Schicht 149b. Der Unterschied dieser Photoempfindlichkeiten bedeutet, dass der Durchmesser eines Musters der isolierenden Schicht 149a mit einer niedrigeren Photoempfindlichkeit kleiner wird als derjenige der isolierenden Schicht 149b, wenn die isolierenden Schichten 149a und 149b mit Licht derselben Intensität bestrahlt werden.
  • Nachdem die isolierende Schicht 149a und die isolierende Schicht 149b ausgebildet sind, werden die isolierenden Schichten 149a und 149b selektiv mit Licht bestrahlt. Dann wird eine Entwicklungsbehandlung durchgeführt, sodass die Trennschicht 139, die den Beinbereich 139a und den Plattformbereich 139b enthält, ausgebildet wird (6C). Dabei ist in der Trennschicht 139 wegen des Unterschieds der Photoempfindlichkeiten eine Fläche, in der der Beinbereich 139a in Kontakt mit der ersten Elektrode steht, kleiner als eine Fläche, in der der Plattformbereich 139b auf die erste Elektrode projiziert ist.
  • Zu bemerken ist, dass die Entwicklungsbehandlung mehrere Male durchgeführt werden kann. Zum Beispiel kann die Entwicklungsbehandlung zweimal unter Verwendung zweier Arten von Wellenlängen durchgeführt werden.
  • Als Nächstes werden die EL-Schicht 102b, die EL-Schicht 102c, die zweite Elektrode 108b und die zweite Elektrode 108c ohne Verwendung einer Metallmaske ausgebildet (6D). Dabei wird ein Teil der EL-Schicht, die ausgebildet wird, physisch durch die Trennschicht 139 geteilt, sodass sie elektrisch getrennt ist. Ein Teil der zweiten Elektrode, die ausgebildet wird, wird physisch durch die Trennschicht 139 geteilt, sodass sie elektrisch getrennt ist.
  • Die zweite Elektrode wird so ausgebildet, dass die zweite Elektrode in einen Bereich direkt unter den Plattformbereich 139b eintritt, der ein vorspringender Bereich der Trennschicht 139 ist und die unmittelbar vor der zweiten Elektrode ausgebildete EL-Schicht bedeckt. Wenn die zweite Elektrode auf eine solche Weise ausgebildet wird, überquert ein Randbereich der zweiten Elektrode die EL-Schicht und steht direkt unter dem Plattformbereich 139b in Kontakt mit der ersten Elektrode; somit ist die zweite Elektrode elektrisch mit der ersten Elektrode verbunden. Weiter wird der andere Randbereich der zweiten Elektrode so ausgebildet, dass er direkt unter dem Plattformbereich 139b in Kontakt mit der Trennwand 107 steht.
  • Als Schichtbildungsverfahren der EL-Schicht kann ein Bedampfungsverfahren oder dergleichen verwendet werden. Als Schichtbildungsverfahren der zweiten Elektrode kann ein Bedampfungsverfahren, ein Sputterverfahren oder dergleichen verwendet werden. Als Sputterverfahren wird vorzugsweise gegenüber einem Magnetron-Sputterverfahren ein Mirrortron-Sputterverfahren verwendet, weil das Ausmaß des Eindringens der EL-Schicht erhöht werden kann.
  • Um die zweite Elektrode so auszubilden, dass sie die EL-Schicht wie oben beschrieben bedeckt, wird der Abstand zwischen einer Abscheidungsquelle und dem Substrat geeignet eingestellt. Wenn zum Beispiel der Abstand zwischen der Abscheidungsquelle und dem Substrat groß ist, kann das Ausmaß des Eindringens der zweiten Elektrode in eine Zone unter dem vorspringenden Bereich des Plattformbereichs 139b reduziert sein. Wenn andererseits dieser Abstand klein ist, kann das Ausmaß des Eindringens der zweiten Elektrode in eine Zone unter dem vorspringenden Bereich des Plattformbereichs 139b erhöht sein. Daher wird beim Ausbilden der EL-Schicht der Abstand zwischen der Abscheidungsquelle und dem Substrat groß gewählt, sodass das Ausmaß des Eindringens der EL-Schicht reduziert wird. Andererseits wird beim Ausbilden der zweiten Elektrode der Abstand zwischen der Abscheidungsquelle und dem Substrat klein gewählt.
  • Wie oben beschrieben, können das zweite Licht abstrahlende Element 12 und das dritte Licht abstrahlende Element 13, die in Reihe geschaltet sind, über dem Substrat 100 ausgebildet werden.
  • Als Nächstes werden die Versiegelungsschicht 138a und die Versiegelungsschicht 138b ausgebildet, die die gesamten Bestandteile über dem Substrat 100 bedecken (6E). Als Versiegelungsschicht 138a kann eine Schicht mit einer Sperreigenschaft für eine Verunreinigung, wie etwa Feuchtigkeit, die eine Verschlechterung des Licht abstrahlenden Elements verursacht, verwendet werden. Zum Beispiel kann eine anorganische Isolierschicht verwendet werden, die über ein Sputterverfahren ausgebildet wird.
  • Wenn die Versiegelungsschicht 138a ausgebildet wird, wird in einigen Fällen die Höhlung 141 in einer Zone direkt unter dem vorspringenden Bereich des Plattformbereichs 139b der Trennschicht 139 ausgebildet. Da jedoch die Versiegelungsschicht 138a ausgebildet wird, um die gesamten Bestandteile über dem Substrat 100 zu bedecken, beeinträchtigt die Höhlung 141 nicht die Zuverlässigkeit des Licht abstrahlenden Elements.
  • Weiter kann die Höhlung 141 mit einem Trocknungsmittel gefüllt werden. Zum Beispiel wird, bevor die Versiegelungsschicht 138a ausgebildet wird, eine ein Trocknungsmittel enthaltende Lösung nach einem Tröpfchenauftragungsverfahren oder dergleichen in eine Zone getropft, in der sich der Plattformbereich 139b mit dem Substrat 100 überlappt, und getrocknet. Hier ist vorzuziehen, dass ein Lösungsmittel für die verwendete Lösung keine Feuchtigkeit enthält.
  • Als die Versiegelungsschicht 138b kann eine beliebige der als Beispiel in der obigen Ausführungsform beschriebenen Versiegelungsschichten nach Eignung verwendet werden. Zum Beispiel wird eine Schicht, die ein Epoxidharz enthält, auf das Substrat 100 geklebt und Thermokompressionsverklebung unterworfen, sodass die Versiegelungsschicht 138b ausgebildet werden kann.
  • Zu bemerken ist, dass in dieser Ausführungsform ein Verfahren mit Verwendung zweier Arten organischer Kunstharzschichten mit unterschiedlichen Photoempfindlichkeiten als das Ausbildungsverfahren für die Trennschicht 139 beschrieben ist; jedoch können auch andere Fertigungsverfahren verwendet werden.
  • Zum Beispiel kann die isolierende Schicht 149a unter Verwendung einer anorganischen isolierenden Schicht ausgebildet sein, und die isolierende Schicht 149b kann unter Verwendung einer photoempfindlichen organischen Schicht ausgebildet sein. Zuerst werden Belichtungsbehandlung, Entwicklungsbehandlung und dergleichen durchgeführt, und unnötige Bereiche der isolierenden Schicht 149b werden entfernt; somit wird der Plattformbereich 139b ausgebildet. Dann wird der Plattformbereich 139b als Maske benutzt, und die isolierende Schicht 149a wird geätzt, sodass der Beinbereich 139a ausgebildet wird. Dabei werden Bedingungen, wie etwa Ätzzeit oder dergleichen, geeignet eingestellt, sodass die projizierte Fläche des Fußbereichs 139a, der ausgebildet wird, kleiner ist als diejenige des Plattformbereichs 139b. Zum Ätzen der isolierenden Schicht 149a wird vorzugsweise ein Verfahren verwendet, das weniger Schäden an der freiliegenden ersten Elektrode und der freiliegenden Trennwand aufgrund des Ätzens verursacht.
  • Alternativ werden die isolierende Schicht 149a und die isolierende Schicht 149b unter Verwendung einer Kombination anorganischer Materialien mit unterschiedlichen Ätzraten ausgebildet. Typischerweise ist eine Kombination einer Siliziumoxidschicht und einer Siliziumnitridschicht gegeben; jedoch ist die Kombination nicht darauf beschränkt, und eine Kombination von Schichten, gewählt aus einer isolierenden Schicht, enthaltend Silizium, Germanium oder dergleichen; einer organischen isolierenden Schicht; einer isolierenden Metalloxidschicht; und dergleichen kann verwendet werden, wie angemessen. Zuerst wird eine Lackmaske in einem Photolithographieverfahren über der isolierenden Schicht 149b ausgebildet, und die isolierende Schicht 149b wird unter einer Bedingung geätzt, in der die Ätzrate der isolierenden Schicht 149b niedrig ist, sodass der Plattformbereich 139b ausgebildet wird, und dann wird die Lackmaske entfernt. Dann wird der Plattformbereich 139b als Maske benutzt, und die isolierende Schicht 149a wird unter einer Bedingung geätzt, in der die Ätzrate der Schicht zum Ausbilden des Beinbereichs 139a niedrig ist; somit wird der Beinbereich 139a ausgebildet. Die Lackmaske kann entfernt werden, nachdem der Plattformbereich 139b ausgebildet ist, oder nachdem der Beinbereich 139a ausgebildet ist, oder die Lackmaske kann, ohne entfernt zu werden, gelassen werden und kann verbleiben. Bezüglich eines Verfahrens zum Ätzen ist es vorzuziehen, Beschädigung einer unteren Schicht aufgrund des Ätzens in Betracht zu ziehen, wie oben beschrieben.
  • Die isolierende Schicht 149a und die isolierende Schicht 149b können unter Verwendung organischer Kunstharzschichten mit entgegengesetzter Photoempfindlichkeit ausgebildet sein. Zum Beispiel kann die isolierende Schicht 149a unter Verwendung einer organischen Kunstharzschicht mit einer positiven Photoempfindlichkeit ausgebildet werden, und die isolierende Schicht 149b kann unter Verwendung einer organischen Kunstharzschicht mit einer negativen Photoempfindlichkeit ausgebildet werden. In diesem Fall wird die isolierende Schicht 149a ausgebildet und einer selektiven Belichtungsbehandlung, Entwicklungsbehandlung, Wärmebehandlung und dergleichen unterworfen; somit wird der Beinbereich 139a ausgebildet. Als Nächstes wird die isolierende Schicht 149b ausgebildet und einer selektiven Belichtungsbehandlung, Entwicklungsbehandlung, Wärmebehandlung und dergleichen unterworfen; somit wird der Plattformbereich 139b ausgebildet. Folglich kann die Trennschicht 139 ausgebildet werden.
  • Weiter können eine organische isolierende Schicht und eine anorganische isolierende Schicht als die isolierende Schicht 149a bzw. die isolierende Schicht 149b verwendet werden. Zuerst wird eine Schichtung aus der isolierenden Schicht 149a und der isolierenden Schicht 149b ausgebildet, und die isolierende Schicht 149b wird nach einem Photolithographieverfahren geätzt, sodass der Plattformbereich 139b ausgebildet wird. Als Nächstes wird der Plattformbereich 139b als harte Maske benutzt, und die isolierende Schicht 149a wird so geätzt, dass sie umgekehrt angeschrägt wird; somit wird der Beinbereich 139a ausgebildet. Hier wird beim Ätzen der isolierenden Schicht 149a vorzugsweise Trockenätzen verwendet; in diesem Fall kann die Form des Beinbereichs 139a leicht gesteuert werden.
  • Das Fertigungsverfahren der Trennschicht 139 ist nicht auf die obigen Verfahren beschränkt. Als die isolierende Schicht 149a und die isolierende Schicht 149b werden Schichten aus einer nicht photoempfindlichen organischen Schicht, einer negativ photoempfindlichen organischen Schicht, einer positiv photoempfindlichen organischen Schicht, einer anorganischen isolierenden Schicht und dergleichen geeignet kombiniert. Im Obigen liegt der Fall vor, in dem die Trennschicht 139 einen zweilagigen Aufbau aufweist; jedoch kann die Trennschicht 139 einen einlagigen Aufbau oder einen geschichteten Aufbau aus zwei oder mehr Lagen aufweisen.
  • Wie oben beschrieben, kann die Trennschicht 139 nach verschiedenen Fertigungsverfahren ausgebildet werden. Daher kann die Trennschicht 139 verschiedene Formen aufweisen, abhängig von einem Unterschied der Fertigungsverfahren. Nachstehend werden Merkmale einer Form, die für die Trennschicht 139 verwendet werden kann, mit Bezug auf die 13A bis 13C beschrieben.
  • Die in 13A dargestellte Trennschicht 139 enthält den Beinbereich 139a und den Plattformbereich 139b, die aus unterschiedlichen isolierenden Schichten ausgebildet sind. Querschnitte des Beinbereichs 139a und des Plattformbereichs 139b sind im Wesentlichen viereckig, und gesehen von oben, ist eine projizierte Fläche des Plattformbereichs 139b größer als eine Fläche des Beinbereichs 139a, der in Kontakt mit der ersten Elektrode 103 steht. Zu bemerken ist, dass eine obere Kante des Plattformbereichs 139b abgerundet sein kann. Ein oberer Bereich des Beinbereichs 139a ist breit, wie in 13A dargestellt.
  • Die in 13B dargestellte Trennschicht 139 ist aus einer einzigen isolierenden Schicht ausgebildet. In einem Querschnitt der Trennschicht 139 krümmt sich ein Prisma vom mittleren zum unteren Bereich. Weiter ragt ein oberer Bereich des Prismas horizontal zum unteren Bereich. Zu bemerken ist, dass eine obere Kante abgerundet sein kann, wie oben beschrieben.
  • Die in 13C dargestellte Trennschicht 139 enthält den Beinbereich 139a und den Plattformbereich 139b, die aus unterschiedlichen isolierenden Schichten ausgebildet sind. Querschnitte des Beinbereichs 139a und des Plattformbereichs 139b sind im Wesentlichen trapezförmig. Wenn die Trennschicht 139 von oben gesehen wird, ist eine projizierte Fläche des unteren Bereichs des Beinbereichs 139a größer als diejenige des oberen Bereichs. Andererseits ist die projizierte Fläche des unteren Bereichs des Plattformbereichs 139b kleiner als diejenige des oberen Bereichs. Darüber hinaus gibt es ein Merkmal, dass die Fläche des unteren Bereichs des Beinbereichs 139a kleiner ist als die Fläche des oberen Bereichs des Plattformbereichs 139b.
  • Hier weisen die in den 13A bis 13C dargestellten Trennschichten 139 die folgenden gemeinsamen Merkmale auf. Wie in den 13A bis 13C durch gestrichelte Linien gezeigt, ist in jeder der Trennschichten ein Zwischenraum auf der Beinbereichsseite einer Geraden vorgesehen, die einen Punkt, an dem die Trennschicht am meisten vorspringt, mit einem Punkt verbindet, an dem eine Seitenfläche der Trennschicht in Kontakt mit der ersten Elektrode 103 steht. Durch Vorsehen einer solchen Einschränkung kann ein Schichtbildungsverfahren, bei dem Eindringen der EL-Schicht verhindert wird, beim Ausbilden der EL-Schicht verwendet werden, und ein Schichtbildungsverfahren, bei dem Eindringen der zweiten Elektrode gefördert wird, kann beim Ausbilden der zweiten Elektrode verwendet werden; daher können die zweite Elektrode und die erste Elektrode leicht elektrisch miteinander verbunden werden.
  • Für die anderen, neben dem Aufbaubeispiel 1 als Beispiele in der obigen Ausführungsform beschriebenen Aufbaubeispiele kann ein ähnliches Fertigungsverfahren wie dasjenige beim Aufbaubeispiel 1 verwendet werden. Unterschiede beim Fertigungsverfahren zwischen dem Aufbaubeispiel 1 und den anderen Aufbaubeispielen sind unten angegeben.
  • <Aufbaubeispiel 2>
  • Die Form der Trennschicht 139 im Aufbaubeispiel 2 (siehe 3A und 3B) unterscheidet sich von dem des Aufbaubeispiels 1. Eine organische Schicht mit einer negativen Photoempfindlichkeit wird ausgebildet und einer Belichtungsbehandlung und Entwicklungsbehandlung unterworfen, wodurch die Trennschicht 139 ausgebildet werden kann. Hier wird die Lichtstärke der Belichtung so eingestellt, dass sich die Lichtstärke zu einem unteren Bereich der organischen Schicht hin verringert, wodurch der Einfluss von Licht erhöht wird, das in einen unteren Bereich der Trennschicht 139 eindringt, und die Trennschicht 139 eine so genannte umgekehrt angeschrägte Form aufweisen kann.
  • <Aufbaubeispiel 3>
  • Das Aufbaubeispiel 3 (siehe 4A) unterscheidet sich vom Aufbaubeispiel 1. Die Trennwand 107 bedeckt im Aufbaubeispiel 1 einen Randbereich der ersten Elektrode 103a; andererseits bedeckt die Trennwand 107 im Aufbaubeispiel 3 auch den anderen Randbereich der ersten Elektrode 103b, der der ersten Elektrode 103a benachbart ist. Daher kann beim Ausbilden der Trennwand 107 die Trennwand 107 so ausgebildet werden, dass sie ein solches Muster aufweist.
  • <Aufbaubeispiele 4 und 5>
  • Die Aufbaubeispiele 4 und 5 (siehe 4B und 4C) unterscheiden sich stark vom Aufbaubeispiel 1, indem die Hilfsverdrahtung 132a und die Hilfsverdrahtung 132b vorgesehen sind. Eine leitfähige Schicht wird vor dem Ausbilden der ersten Elektrode ausgebildet, und unnötige Bereiche der leitfähigen Schicht werden unter Verwendung einer Halbleiterbearbeitungstechnik entfernt; somit werden die Hilfsverdrahtung 132a und die Hilfsverdrahtung 132b ausgebildet. Die leitfähige Schicht kann durch ein schichtbildendes Verfahren, wie etwa ein Sputter-Verfahren oder dergleichen, unter Verwendung eines beliebigen der in der obigen Ausführungsform als Beispiel gegebenen Materialien ausgebildet werden. Außerdem unterscheidet sich die Form der ersten Elektrode im Aufbaubeispiel 4 von einer Form der ersten Elektrode im Aufbaubeispiel 5. Daher können das Aufbaubeispiel 4 und das Aufbaubeispiel 5 durch Verwendung verschiedener Muster beim Bearbeiten der ersten Elektrode verschieden ausgebildet werden.
  • <Aufbaubeispiele 6 und 7>
  • Die Aufbaubeispiele 6 und 7 (siehe 5A und 5B) unterscheiden sich stark vom Aufbaubeispiel 1, indem die Seitenverdrahtung 131a und die Seitenverdrahtung 131b enthalten sind. Für die Seitenverdrahtung 131a und die Seitenverdrahtung 131b wird beim Ausbilden einer ersten leitfähigen Schicht, die die erste Elektrode werden soll, anschließend eine zweite leitfähige Schicht ausgebildet. Dann wird die zweite leitfähige Schicht bearbeitet, sodass die Seitenverdrahtung 131a und die Seitenverdrahtung 131b ausgebildet werden, wenn die erste leitfähige Schicht bearbeitet wird, um unnötige Bereiche zu entfernen, sodass die erste Elektrode ausgebildet wird. Hier kann, wenn die Seitenverdrahtung in einem unteren Bereich der ersten Elektrode vorgesehen ist, eine leitfähige Schicht, die die Seitenverdrahtung werden soll, ausgebildet werden, bevor eine leitfähige Schicht ausgebildet wird, die die ersten Elektrode sein soll. Weiter unterscheidet sich die Form der Trennwand 107 zwischen dem Aufbaubeispiel 6 und dem Aufbaubeispiel 7 wie bei Aufbaubeispiel 1 und Aufbaubeispiel 3; daher können die Aufbaubeispiele 6 und 7 in ähnlicher Weise wie bei den Aufbaubeispielen 1 und 3 unterschiedlich ausgebildet sein.
  • Darüber hinaus können Aufbauten in den 5C und 5D durch geeignetes Kombinieren des in den Aufbaubeispielen 4 und 5 beschriebenen Fertigungsverfahrens der Hilfsverdrahtung 132a und der Hilfsverdrahtung 132b und des in den Aufbaubeispielen 6 und 7 beschriebenen Fertigungsverfahrens der Seitenverdrahtung 131a und der Seitenverdrahtung 131b ausgebildet werden.
  • Beim Fertigungsverfahren dieser Ausführungsform wird eine Schicht, in der zwei Arten photoempfindlicher Kunstharze mit unterschiedlichen Photoempfindlichkeiten geschichtet sind, selektiver Belichtung und Entwicklung ausgesetzt, wodurch die Trennschicht 139 ausgebildet wird. Außerdem wird die EL-Schicht ausgebildet, während Eindringen der EL-Schicht verhindert wird, und die zweite Elektrode wird ausgebildet, während Eindringen der zweiten Elektrode gefördert wird. Auf solche Weise kann die Trennschicht, die den über die zweite Elektrode über den Beinbereich hinaus ragenden Plattformbereich enthält, leicht ausgebildet werden. Außerdem wird die Schicht, die eine Licht. abstrahlende organische Verbindung enthält, zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode ohne die Verwendung einer Metallmaske ausgebildet, und die zweite Elektrode 108a und die erste Elektrode 103b können elektrisch in einer Zone miteinander verbunden werden, in der sich die zweite Elektrode mit dem Plattformbereich überlappt. Weiter können, da in dem Fertigungsverfahren eine Metallmaske nicht verwendet wird, Probleme, die durch Beschädigung einer Oberfläche des Substrats aufgrund einer Kante einer Öffnung in der Metallmaske verursacht werden, verhindert werden; somit kann die Licht abstrahlende Baugruppe mit hoher Zuverlässigkeit geschaffen sein. Darüber hinaus gibt es, da eine Metallmaske nicht verwendet wird, Effekte der Reduzierung der Fertigungskosten und Wartungskosten, wie etwa Reinigung.
  • Diese Ausführungsform kann frei mit anderen Ausführungsformen kombiniert werden.
  • (Ausführungsform 5)
  • In diesem Ausführungsbeispiel wird eine Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung mit Bezug auf 8A beschrieben.
  • Eine Licht abstrahlende Baugruppe, die ein organisches EL-Element enthält, strahlt Licht in einer Zone aus, in der ihr Brechungsindex höher ist als der Brechungsindex der Luft. Somit gibt es eine Bedingung, unter der Totalreflexion innerhalb der Licht abstrahlenden Baugruppe oder an der Grenze zwischen der Licht abstrahlenden Baugruppe und der Luft auftritt, wenn Licht zur Luft ausgekoppelt wird, was ein Problem eines niedrigeren Lichtauskopplungswirkungsgrads als 100% verursacht. Im Allgemeinen heißt es, dass der Lichtauskopplungswirkungsgrad der Licht abstrahlenden Baugruppe ungefähr 20% bis 30% beträgt.
  • Insbesondere in dem Fall, in dem der Brechungsindex eines Mediums A höher ist als der Brechungsindex eines Mediums B und der Brechungsindex des Mediums B niedriger ist als der Brechungsindex einer Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, tritt, wenn Licht in das Medium B vom Medium A her eintritt, in einigen Fällen, abhängig vom Einfallswinkel, Totalreflexion auf.
  • Dabei ist es vorzuziehen, dass eine unebene Struktur am Übergang zwischen dem Medium A und dem Medium B vorgesehen ist. Eine solche Struktur kann ein Phänomen unterdrücken, bei dem Totalreflexion von Licht, das in das Medium B vom Medium A unter einem Einfallswinkel eintritt, der einen kritischen Winkel übersteigt, auftritt, und sich das Licht innerhalb der Licht abstrahlenden Baugruppe ausbreitet, was eine Reduktion des Lichtauskopplungswirkungsgrads verursacht.
  • Der Lichtauskopplungswirkungsgrad einer Licht abstrahlenden Baugruppe einer nachstehend beschriebenen Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann ungefähr 1,2- bis 2-mal höher sein als der Lichtauskopplungswirkungsgrad einer Licht abstrahlenden Baugruppe, bei der die vorliegende Erfindung nicht angewandt ist.
  • <Modifikationsbeispiel 1>
  • Die in 8A dargestellte Licht abstrahlende Baugruppe weist denselben Aufbau auf wie das in der Ausführungsform 1 beschriebene Aufbaubeispiel 1, außer einer unebenen Struktur 118, die auf einer Oberfläche des Substrats 100 auf der Seite vorgesehen ist, die in Kontakt mit der Luft steht. Das Aufbaubeispiel, das auf das Modifikationsbeispiel 1 angewandt werden kann, ist nicht auf Aufbaubeispiel 1 beschränkt. Die in den obigen Ausführungsformen beschriebenen Aufbauten können nach Eignung verwendet werden.
  • Der Brechungsindex des Substrats 100 ist höher als der Brechungsindex der Luft; somit tritt in einigen Fällen Totalreflexion an der Grenze zwischen dem Substrat 100 und der Luft auf. Im Modifikationsbeispiel 1 ist die unebene Struktur 118 an der Grenze zwischen der Luft und dem Substrat 100 vorgesehen, was es ermöglicht, Licht zu reduzieren, das aufgrund der Totalreflexion nicht ausgekoppelt werden kann, sodass der Lichtauskopplungswirkungsgrad der Licht abstrahlenden Baugruppe erhöht sein kann.
  • [Unebene Struktur]
  • Die unebene Struktur 118 in einer Matrix ist vorzuziehen, obwohl die unebene Struktur 118 in einer streifigen Form wirksam ist. Es gibt keine besondere Einschränkung beim Muster der Unebenheit; zum Beispiel kann eine Form mit einem Scheitel, wie etwa ein Kreiskegel, eine Pyramide (z. B. eine Dreieckspyramide oder eine Viereckspyramide) oder eine Schirmform oder eine Halbkugel, verwendet werden.
  • Es ist vorzuziehen, dass die Größe und Höhe der Unebenheit ungefähr größer als oder gleich 0,1 μm und kleiner als oder gleich 1000 μm betragen. Insbesondere weist die Unebenheit vorzugsweise eine Größe oder Höhe von mehr als oder gleich 1 μm auf; in diesem Fall kann der Einfluss von Lichtinterferenz reduziert sein. Zu bemerken ist, dass die unebene Struktur eine Größe oder Höhe von mehr als 1000 μm aufweisen kann.
  • Ein Muster, in dem Unebenheit so vorgesehen ist, dass keine Lücken zwischen benachbarten Bereichen der Unebenheit ausgebildet sind, ist vorzugsweise vorgesehen. Zum Beispiel ist es vorzuziehen, dass die Unebenheit in dem Muster in einer dichtest gepackten Weise vorgesehen ist. In dem Muster kann die Unebenheit über einem Teil oder einer gesamten Luft-Kontaktfläche des Substrats ausgebildet sein. Es ist vorzuziehen, dass die Unebenheit zumindest in einer Licht abstrahlenden Zone ausgebildet ist.
  • Die unebene Struktur kann auf solche Weise ausgebildet sein, dass eine halbkugelförmige Linse, eine Mikrolinsenanordnung, ein Kunstharz, auf dem eine unebene Struktur vorgesehen ist, eine Schicht, auf der eine unebene Struktur vorgesehen ist, eine Licht streuende Schicht oder dergleichen auf die Oberfläche des Substrats mit einem bekannten Klebstoff oder dergleichen geklebt wird.
  • Alternativ kann eine unebene Struktur direkt auf dem Substrat ausgebildet werden. Als ein Verfahren zum Ausbilden einer unebenen Struktur direkt auf dem Substrat kann zum Beispiel ein Ätzverfahren, ein Sandstrahlverfahren, ein Feinstrahlverfahren, ein Tröpfchen-Abscheidungsverfahren, ein Druckverfahren (Siebdruck oder Offsetdruck, durch den ein Muster ausgebildet wird), ein Beschichtungsverfahren, wie etwa ein Spin-Coat-Verfahren, ein Tauchverfahren, ein Dispenserverfahren, ein Nanoimprintverfahren oder dergleichen je nach Eignung verwendet werden.
  • In einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die unebene Struktur auf der Oberfläche vorgesehen, die in Kontakt mit der Luft steht, wodurch Licht reduziert werden kann, das aufgrund der Totalreflexion nicht zur Luft ausgekoppelt werden kann, was zu einer Erhöhung des Lichtauskopplungswirkungsgrads der Licht abstrahlenden Baugruppe führt.
  • Diese Ausführungsform kann frei mit beliebigen der anderen Ausführungsformen kombiniert werden.
  • (Ausführungsform 6)
  • In diesem Ausführungsbeispiel werden Licht abstrahlende Baugruppen, von denen jede eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist, mit Bezug auf die 8B und 8C beschrieben.
  • Der Aufbau, in dem die erste Elektrode des Licht abstrahlenden Elements in Kontakt mit der Planarisierungsschicht steht und die Planarisierungsschicht in Kontakt mit dem Substrat steht, ist in der Ausführungsform 1 beschrieben (z. B. 1A und 1B). Im Allgemeinen ist der Brechungsindex eines für ein Substrat verwendeten Materials (z. B. ungefähr 1,5 (Brechungsindex von Glas)) niedriger als der Brechungsindex einer EL-Schicht (z. B. 1,6 oder höher). Aus diesem Grund wird in einigen Fällen, wenn Licht in das Substrat von der ersten Elektrode durch die Planarisierungsschicht eintritt, das Licht totalreflektiert. Somit ist es vorzuziehen, dass ein Körper mit unebener Struktur an einer Grenze mit einer Bedingung vorgesehen ist, unter der Totalreflexion auftritt.
  • Wenn jedoch die erste Elektrode uneben ist, könnte Leckstrom in der EL-Schicht oder dergleichen erzeugt werden, die über der ersten Elektrode ausgebildet ist.
  • In jeder der in dieser Ausführungsform beschriebenen Licht abstrahlenden Baugruppen ist ein Körper mit unebener Struktur über einem Substrat vorgesehen, sind eine Kunstharzschicht und eine Planarisierungsschicht über dem Körper mit unebener Struktur vorgesehen, und ist eine erste Elektrode über der Planarisierungsschicht vorgesehen; somit kann die Erzeugung von Leckstrom in einer EL-Schicht oder dergleichen unterdrückt werden.
  • Darüber hinaus kann, wenn der Körper mit unebener Struktur vorgesehen ist, Licht reduziert werden, das aufgrund der Totalreflexion an der Grenze zwischen dem Substrat und der Kunstharzschicht nicht ausgekoppelt werden kann, was zu einer Erhöhung des Lichtauskopplungswirkungsgrads der Licht abstrahlenden Baugruppe führt.
  • Weiter kann, wenn die Kunstharzschicht und die Planarisierungsschicht jeweils unter Verwendung eines Materials ausgebildet werden, dessen Brechungsindex höher ist als der Brechungsindex der EL-Schicht (insbesondere einer Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält), eine Licht abstrahlende Baugruppe erreicht werden, bei der Totalreflexion unterdrückt ist.
  • <Modifikationsbeispiel 2>
  • Eine in 8B dargestellte Licht abstrahlende Baugruppe enthält einen Körper mit unebener Struktur 122 über dem Substrat 100. Außerdem enthält die Licht abstrahlende Baugruppe eine Kunstharzschicht 124 über dem Körper mit unebener Struktur 122. Außer diesen weist die Licht abstrahlende Baugruppe denselben Aufbau auf wie das in der Ausführungsform 1 beschriebene Aufbaubeispiel 1. Das Aufbaubeispiel, das auf das Modifikationsbeispiel 2 angewandt werden kann, ist nicht auf das Aufbaubeispiel 1 beschränkt. Die in den obigen Ausführungsformen beschriebenen Aufbauten können je nach Eignung verwendet werden.
  • Im Modifikationsbeispiel 2 ist der Brechungsindex sowohl der Planarisierungsschicht 134 als auch der Kunstharzschicht 124 höher als der Brechungsindex einer Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält und in der EL-Schicht enthalten ist, oder der Brechungsindex der ersten Elektrode. Ein solcher Aufbau ermöglicht es, Totalreflexion am Übergang zwischen der Kunstharzschicht 124 und der Planarisierungsschicht 134 und am Übergang zwischen der Planarisierungsschicht 134 und der ersten Elektrode zu verhindern.
  • Im Modifikationsbeispiel 2 ist der Brechungsindex des Substrats 100 niedriger als der Brechungsindex der Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält und in der EL-Schicht enthalten ist (z. B. 1,6 oder mehr). Somit gibt es eine Bedingung, unter der Totalreflexion am Übergang zwischen dem Substrat 100 und der Kunstharzschicht 124 auftritt.
  • Im Modifikationsbeispiel 2 ist der Körper mit unebener Struktur 122 über einer Oberfläche vorgesehen, wo das Substrat 100 in Kontakt mit der Kunstharzschicht 124 steht. Eine solche Struktur kann ein Phänomen unterdrücken, bei dem Totalreflexion von Licht, das unter einem Einfallswinkel eintritt, der einen kritischen Winkel übersteigt, auftritt, und sich das Licht innerhalb der Licht abstrahlenden Baugruppe ausbreitet, was eine Reduktion des Lichtauskopplungswirkungsgrads verursacht.
  • Eine Schutzschicht kann zwischen der Kunstharzschicht 124 und der ersten Elektrode ausgebildet werden. Wenn die Schutzschicht vorgesehen ist, kann verhindert werden, dass Feuchtigkeit in die EL-Schicht von der Kunstharzschicht 124 her eintritt; somit kann eine Verringerung der Lebensdauer der Licht abstrahlenden Baugruppe unterdrückt werden.
  • Zu bemerken ist, dass 8C ein Beispiel eines Aufbaus darstellt, bei dem der Körper mit unebener Struktur 122 und die in der obigen Ausführungsform beschriebene unebene Struktur 118 kombiniert sind.
  • [Kunstharzschicht]
  • Beispiele von Materialien für die Kunstharzschicht 124 enthalten eine Flüssigkeit, ein Kunstharz und dergleichen mit hohem Brechungsindex. Die Kunstharzschicht 124 weist eine lichtdurchlässige Eigenschaft auf. Beispiele des Kunstharzes mit einem hohen Brechungsindex enthalten ein Kunstharz, das Brom enthält, und ein Kunstharz, das Schwefel enthält. Zum Beispiel kann ein schwefelhaltiges Polyimidharz, ein Episulfidharz, ein Thiourethanharz und ein bromiertes aromatisches Kunstharz verwendet werden. Außerdem kann Polyethylenterephthalat (PET), Triacetylcellulose (TAC) oder dergleichen verwendet werden. Als die Flüssigkeit mit einem hohen Brechungsindex kann eine Kontaktflüssigkeit (Brechnungsflüssigkeit) verwendet werden, die Schwefel und Methylenjodid oder dergleichen enthält. Ein beliebiges aus den für das Material geeigneten Verfahren kann zum Ausbilden der Kunstharzschicht 124 benutzt werden. Zum Beispiel wird ein beliebiges der obigen Kunstharze nach einem Spin-Coat-Verfahren abgeschieden und durch Wärme oder Licht ausgehärtet, sodass die Kunstharzschicht 124 ausgebildet werden kann. Das Material und das Abscheidungsverfahren können gewählt werden, wie es in Anbetracht der Haftfestigkeit, Verarbeitungsfreundlichkeit oder dergleichen angemessen ist.
  • [Planarisierungsschicht]
  • Die Planarisierungsschicht 134 kann unter Verwendung eines beliebigen der obigen Kunstharze mit einem hohen Brechungsindex ausgebildet werden, die als die Materialien für die Kunstharzschicht 124 angegeben sind.
  • [Schutzschicht]
  • Die Schutzschicht kann aus einer Siliziumnitridschicht, einer Silizium-Nitrid-Oxidschicht, einer Aluminiumnitridschicht oder dergleichen ausgebildet werden.
  • [Körper mit unebener Struktur]
  • Der Körper mit unebener Struktur 122 kann auf solche Weise ausgebildet werden, dass eine halbkugelförmige Linse, eine Mikrolinsenanordnung, ein Kunstharz, auf dem eine unebene Struktur vorgesehen ist, eine Schicht, auf der eine unebene Struktur vorgesehen ist, eine Licht streuende Schicht oder dergleichen auf die Oberfläche des Substrats 100 mit einem bekannten Klebstoff oder dergleichen geklebt wird. Der Körper mit unebener Struktur kann direkt auf dem Substrat in ähnlicher Weise ausgebildet werden wie die unebene Struktur.
  • Der Körper mit unebener Struktur in einer Matrix ist vorzuziehen, obwohl der Körper mit unebener Struktur 122 in einer streifigen Form wirksam ist. Es gibt keine besondere Einschränkung zum Muster der Unebenheit; zum Beispiel kann eine Form mit einem Scheitel, wie etwa ein Kreiskegel, eine Pyramide (z. B. eine Dreieckspyramide oder eine Viereckspyramide) oder eine Schirmform oder eine Halbkugel, verwendet werden.
  • Es ist vorzuziehen, dass die Größe und Höhe der Unebenheit ungefähr größer als oder gleich 0,1 μm und kleiner als oder gleich 1000 μm betragen. Insbesondere weist die Unebenheit vorzugsweise eine Größe oder Höhe von mehr als oder gleich 1 μm auf; in diesem Fall kann der Einfluss von Lichtinterferenz reduziert sein. Die Größe und Höhe der Unebenheit beeinflussen die Verwendungsmenge des Materials für die Kunstharzschicht. Die Unebenheit weist vorzugsweise eine Größe oder Höhe von weniger als oder gleich 100 μm auf; in diesem Fall kann die Verwendung einer großen Menge an Materialien für die Kunstharzschicht reduziert werden.
  • Wenn das Muster der Unebenheit im Körper mit unebener Struktur 122 periodisch ist, dessen Größe im obigen Bereich liegt, fungiert die Unebenheit als Beugungsgitter, sodass ein Interferenzeffekt erhöht wird und Licht mit einer bestimmten Wellenlänge leicht zur Luft ausgekoppelt wird. Aus diesem Grund ist es vorzuziehen, dass das Muster der Unebenheit nicht periodisch ist. Weiter ist das Muster mindestens in einer Licht abstrahlenden Zone ausgebildet.
  • In dieser Ausführungsform ist die unebene Struktur vorgesehen, wodurch Totalreflexion von Licht, das unter einem Einfallswinkel eintritt, der einen kritischen Winkel übersteigt, und eine Reduktion des Lichtauskopplungswirkungsgrads aufgrund der Ausbreitung des Lichts innerhalb der Licht abstrahlenden Baugruppe verhindert werden können.
  • Diese Ausführungsform kann frei mit anderen Ausführungsformen kombiniert werden.
  • (Ausführungsform 7)
  • In dieser Ausführungsform wird ein Ausführungsbeispiel einer Licht abstrahlende Vorrichtung, die beliebige der in den obigen Ausführungsformen als Beispiele beschriebenen Licht abstrahlenden Baugruppen enthält, mit Bezug auf die 9A bis 9C und die 10A bis 10B beschrieben.
  • 9A ist schematische Ansicht eines Aufbaus einer Licht abstrahlenden Vorrichtung 1000, die eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist.
  • Die Licht abstrahlende Vorrichtung 1000 enthält einen Wandler 150 und eine Vielzahl von Licht abstrahlenden Baugruppen 10. Die Vielzahl von Licht abstrahlenden Baugruppen 10 ist parallel geschaltet, und jede der Licht abstrahlenden Baugruppen 10 ist mit der Verdrahtung 133a und der Verdrahtung 133b verbunden, die mit dem Wandler 150 verbunden sind.
  • Für den Wandler 150 kann zum Beispiel ein AC-DC-Wandler, der einen Spannungsausgang von einer Wechselstromquelle für den Haushaltsgebrauch in eine Gleichspannung umwandelt, ein Gleichspannungswandler oder dergleichen verwendet werden. Unterschiedliche Spannungen werden zur Verdrahtung 133a und zur Verdrahtung 133b ausgegeben, die mit dem Wandler 150 verbunden sind. Strom fließt durch diesen Spannungsunterschied zwischen der Verdrahtung 133a und der Verdrahtung 133b zu den Licht abstrahlenden Baugruppen 10, sodass die Licht abstrahlenden Baugruppen 10 Licht abstrahlen.
  • Die Anzahl der Vielzahl parallel geschalteter Licht abstrahlender Baugruppen 10 kann abhängig von den Ausgangswerten des Wandlers 150 geeignet festgelegt werden. Die Anzahl der parallel geschalteten Licht abstrahlenden Baugruppen 10 kann sich erhöhen, wenn sich die Strommenge erhöht, die vom Wandler 150 fließt.
  • Als Nächstes wird ein Aufbau einer Licht abstrahlenden Baugruppe 10 mit Bezug auf die 9B und 9C beschrieben. 9B ist eine schematische Ansicht, die den Aufbau und die Verbindungsbeziehung der Licht abstrahlenden Baugruppen 10 darstellt. 9C stellt ein Ersatzschaltbild zum Beschreiben der Verbindungsbeziehungen einer Vielzahl von Licht abstrahlenden Elementen 1100 in der Licht abstrahlenden Baugruppe 10 dar.
  • In 9B dargestellte Licht abstrahlende Baugruppen 10a bis 10c enthalten jeweils die Vielzahl von Licht abstrahlenden Elementen 1100 und sind jeweils mit der Verdrahtung 133a und der Verdrahtung 133b verbunden. In dieser Ausführungsform ist die Licht abstrahlende Baugruppe 10 mit einem Aufbau, bei dem die Vielzahl von Licht abstrahlenden Elementen 1100 in einer Matrix in der Zeilenrichtung und der Spaltenrichtung angeordnet ist, als Beispiel beschrieben. Die Anzahl der in der Licht abstrahlenden Baugruppe 10 vorgesehenen Licht abstrahlenden Elemente 1100 kann abhängig von den Ausgangswerten des Wandlers 150, einem Grundriss oder dergleichen geeignet festgelegt werden.
  • Beliebige der als Beispiele in den obigen Ausführungsformen beschriebenen Licht abstrahlenden Elemente können als das Licht abstrahlende Element 1100 verwendet werden, und das Licht abstrahlende Element 1100 enthält die erste Elektrode 103, die EL-Schicht 102 und die zweite Elektrode 108.
  • Die Licht abstrahlenden Elemente 1100 sind in Zeilenrichtung in Reihe geschaltet. Genauer ist die zweite Elektrode 108 in einem beliebigen der in der Zeilenrichtung angeordneten Licht abstrahlenden Elemente 1100 mit der ersten Elektrode 103 im benachbarten Licht abstrahlenden Element 1100 verbunden, und dieser Aufbau wird wiederholt; somit sind die Licht abstrahlenden Elemente 1100 in Reihe geschaltet. Die beiden Licht abstrahlenden Elemente 1100, die in Reihe geschaltet sind, können unter Verwendung eines beliebigen der Verfahren und Aufbauten verbunden sein, die als Beispiele in den obigen Ausführungsformen beschrieben sind. Außerdem sind Gruppen, die jeweils die Vielzahl in Reihe geschalteter Licht abstrahlender Elemente 1100 enthalten, in der Spaltenrichtung parallel angeordnet.
  • In 9B sind die beiden Licht abstrahlenden Baugruppen 10 symmetrisch vorgesehen. Bei einem solchen Aufbau können die Licht abstrahlenden Baugruppen 10 einen Teil der Verdrahtung 133a und einen Teil der Verdrahtung 133b gemeinsam nutzen, die mit den Licht abstrahlenden Elementen verbunden sind, sodass ein Abstand zwischen den Licht abstrahlenden Baugruppen 10 klein sein kann; daher kann die Lichtabstrahlungsfläche, bezogen auf die Fläche des Substrats, groß sein.
  • 9C stellt das Ersatzschaltbild dar, das die oben beschriebene Verbindungsbeziehung zeigt. Durch Parallelschalten der Gruppen, in denen jeweils die Licht abstrahlenden Elemente 1100 in Reihe geschaltet sind, auf solche Weise kann sogar in dem Fall, in dem eins der Licht abstrahlenden Elemente 1100 in der Licht abstrahlenden Baugruppe 10 kurzgeschlossen ist, Licht abgestrahlt werden, ohne den Stromfluss durch die anderen Licht abstrahlenden Elemente zu blockieren.
  • In dieser Ausführungsform sind die Gruppen, die jeweils die in Reihe geschalteten Licht abstrahlenden Elemente enthalten, parallel geschaltet. Jedoch kann ein Aufbau verwendet werden, bei dem in den einander in der Spaltenrichtung benachbarten Licht abstrahlenden Elementen die erste Elektrode und die zweite Elektrode des Licht abstrahlenden Elements jeweils mit der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode des benachbarten Licht abstrahlenden Elements verbunden sind, sodass die Licht abstrahlenden Elemente in der Spaltenrichtung parallel geschaltet sind. Wie oben beschrieben, kann mit einer Verbindungsbeziehung, die eine Reihenschaltung und eine Parallelschaltung kombiniert, sogar wenn eins der Licht abstrahlenden Elemente 1100 in der Licht abstrahlenden Baugruppe 10 kurzgeschlossen oder isoliert ist, Licht abgestrahlt werden, ohne den Stromfluss durch die anderen, dem Licht abstrahlenden Element 1100 benachbarten Licht abstrahlenden Elemente 1100 zu blockieren.
  • Die 10A und 10B stellen jeweils eine Schnittansicht entlang einer Linie G-G' in 9A dar.
  • Ein Beispiel einer Licht abstrahlenden Vorrichtung, die ein organisches Kunstharzsubstrat als Substrat verwendet, wird mit Bezug auf 10A beschrieben. (Das heißt, ein erstes Substrat 100a in 10A entspricht dem in 1B dargestellten Substrat 100 und dergleichen.) In der in 10A dargestellten Licht abstrahlenden Vorrichtung ist eine erste Glasschicht 173a über dem ersten Substrat 100a ausgebildet, und die Vielzahl von Licht abstrahlenden Baugruppen 10 ist über der ersten Glasschicht 173a vorgesehen. In 10A sind die erste Glasschicht 173a und eine zweite Glasschicht 173b mit einer Dichtungsmasse 171 miteinander verklebt. In der in 10A dargestellten Licht abstrahlenden Vorrichtung ist die Licht abstrahlende Baugruppe 10 in einem Zwischenraum 175 vorgesehen, der von der ersten Glasschicht 173a, der zweiten Glasschicht 173b und der Dichtungsmasse 171 umgeben ist. Das erste Substrat 100a und ein zweites Substrat 100b sind mit einer Dichtungsmasse 172 miteinander verklebt.
  • In der Licht abstrahlenden Vorrichtung sind das erste Substrat 100a und das zweite Substrat 100b vorzugsweise aus demselben organischen Kunstharzmaterial ausgebildet. Wenn dasselbe Material zum Ausbilden des ersten Substrats 100a und des zweiten Substrats 100b verwendet wird, kann das Auftreten defekter Form aufgrund von Wärmeverwerfen oder physischen Stoß verhindert werden. Daher kann das Auftreten von Verformung oder Bruch der Beleuchtungsvorrichtung bei Herstellung oder Gebrauch der Licht abstrahlenden Vorrichtung verhindert werden.
  • Ein organisches Kunstharzsubstrat und eine Glasschicht sind in der Licht abstrahlenden Vorrichtung einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verwendet. Aus diesem Grund kann die Licht abstrahlende Vorrichtung im Gewicht reduziert sein. Darüber hinaus kann das Eindringen von Feuchtigkeit, einer Verunreinigung oder dergleichen von außerhalb der Licht abstrahlenden Vorrichtung in eine organische Verbindung oder ein Metallmaterial verhindert sein, das in der Licht abstrahlenden Baugruppe enthalten ist.
  • Ein Beispiel einer Licht abstrahlenden Vorrichtung, die ein Glassubstrat als Substrat und ein Metallsubstrat als zweites Substrat verwendet, wird mit Bezug auf 10B beschrieben. (Das heißt, das erste Substrat 100a in 10B entspricht dem in 1B und dergleichen dargestellten Substrat 100.) In der in 10B dargestellten Licht abstrahlenden Vorrichtung ist die Vielzahl von Licht abstrahlenden Baugruppen 10 über dem ersten Glassubstrat 100a vorgesehen. In 10B sind das erste Substrat 100a und das zweite Substrat 100b mit der Dichtungsmasse 171 und der Dichtungsmasse 172 miteinander verklebt.
  • Es gibt keine besondere Beschränkung bei einem Material eines als das zweites Substrat verwendeten Metallsubstrats, aber es ist vorzuziehen, ein Metall, wie etwa Aluminium, Kupfer oder Nickel, eine Metalllegierung, wie etwa eine Aluminiumlegierung oder Edelstahl oder dergleichen, zu verwenden. Es gibt keine besondere Einschränkung bei der Dicke des Metallsubstrats. Zum Beispiel wird vorzugsweise ein Metallsubstrat mit einer Dicke von mehr als oder gleich 10 μm und weniger als oder gleich 200 μm verwendet; in diesem Fall kann die Licht abstrahlende Vorrichtung im Gewicht reduziert sein.
  • Als das zweite Substrat kann außer dem Metallsubstrat ein Glassubstrat, ein Quarzsubstrat oder dergleichen verwendet werden.
  • Der Wandler 150 kann zwischen dem oberen Substrat und dem unteren Substrat vorgesehen sein (10A). Weiter kann, wenn das zweite Substrat 100b kleiner ist als das erste Substrat 100a, wie in 10B dargestellt, ein dicker Wandler vorgesehen sein, ohne die Dicke der Licht abstrahlenden Vorrichtung zu ändern.
  • Ein Zwischenraum kann zwischen der Dichtungsmasse 171 und der Dichtungsmasse 172 vorgesehen sein. Alternativ können die Dichtungsmasse 171 und die Dichtungsmasse 172 in Kontakt miteinander stehen.
  • [Zwischenraum]
  • Als Füllstoff füllt ein Inertgas (wie etwa Stickstoff oder Argon, den Zwischenraum 175 (10A). Der Zwischenraum 175 kann mit der Dichtungsmasse 171 gefüllt sein (10B). Weiter kann in der Licht abstrahlenden Vorrichtung in 10A ein Füllstoff, der sich von der Dichtungsmasse 171 und der Dichtungsmasse 172 unterscheidet, zum Füllen des Zwischenraums 175 verwendet werden. Wenn ein Material mit niedriger Viskosität unter den Materialien für eine Dichtungsmasse als Füllstoff verwendet wird, kann der Zwischenraum 175 leicht gefüllt werden.
  • [Dichtungsmasse]
  • Ein bekanntes Material kann als die Dichtungsmasse verwendet werden. Zum Beispiel kann ein wärmehärtendes Material oder ein UV-härtendes Material verwendet werden. Ein Material, das in der Lage ist, Glas zu verkleben, wird als Dichtungsmasse 171 verwendet, und ein Material, das in der Lage ist, organische Kunstharze zu verkleben, wird als Dichtungsmasse 172 verwendet. Es ist wünschenswert, dass diese Materialien so wenig Feuchtigkeit oder Sauerstoff wie möglich durchlassen. Außerdem kann eine Dichtungsmasse verwendet werden, die ein Trocknungsmittel enthält.
  • Ein Trocknungsmittel kann in den Zwischenraum 175 eingeführt werden. Zum Beispiel kann eine Substanz verwendet werden, die Feuchtigkeit durch chemische Adsorption absorbiert, wie etwa ein Oxid eines Erdalkalimetalls (z. B. Calciumoxid oder Bariumoxid). Außer den obigen kann eine Substanz, die Feuchtigkeit durch physikalische Adsorption adsorbiert, wie etwa Zeolith oder Silicagel, als das Trocknungsmittel verwendet werden.
  • Diese Ausführungsform kann frei mit anderen Ausführungsformen kombiniert werden.
  • (Ausführungsform 8)
  • In dieser Ausführungsform wird ein Beispiel einer EL-Schicht, die bei einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung angewendet werden kann, mit Bezug auf die 11A bis 11C beschrieben.
  • Wie in 11A dargestellt, ist die EL-Schicht 102 zwischen der ersten Elektrode 103 und der zweiten Elektrode 108 vorgesehen. Die erste Elektrode 103 und die zweite Elektrode 108 können ähnliche Aufbauten aufweisen wie diejenigen in der Ausführungsform 1.
  • In dieser Ausführungsform sind in der EL-Schicht 102 eine Lochinjektionsschicht 701, eine Lochtransportschicht 702, eine Schicht 703, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, eine Elektronentransportschicht 704 und eine Elektroneninjektionsschicht 705 in dieser Reihenfolge von der Seite der ersten Elektrode 103 her geschichtet.
  • Ein Fertigungsverfahren des in 11A dargestellten Licht abstrahlenden Elements wird beschrieben.
  • Die Lochinjektionsschicht 701 ist eine Schicht, die eine Substanz mit hoher Lochinjektionsfähigkeit enthält. Als die Substanz mit hoher Lochinjektionsfähigkeit können zum Beispiel Metalloxide, wie etwa Molybdänoxid, Titanoxid, Vanadiumoxid, Rheniumoxid, Rutheniumoxid, Chromoxid, Zirkonoxid, Hafniumoxid, Tantaloxid, Silberoxid, Wolframoxid und Manganoxid, verwendet werden. Eine Verbindung auf Phthalocyaninbasis, wie etwa Phthalocyanin (Abkürzung: H2Pc), oder Kupfer(II)-Phthalocyanin (Abkürzung: CuPc) kann ebenfalls verwendet werden.
  • Alternativ können die folgenden aromatischen Aminverbindungen verwendet werden, die niedermolekulare organische Verbindungen sind: 4,4',4''-Tris(N,N-diphenylamino)-Triphenylamin (Abkürzung: TDATA), 4,4',4''-Tris[N-(3-methylphenyl)-N-phenylamino]-Triphenylamin (Abkürzung: MTDATA), 4,4'-Bis[N-(4-diphenylaminophenyl)-N-phenylamino]-Biphenyl (Abkürzung: DPAB), 4,4'-Bis(N-{4-[N'-(3-methylphenyl)-N'-phenylamino]phenyl}-N-phenylamino)-Biphenyl (Abkürzung: DNTPD), 1,3,5-Tris[N-(4-diphenylaminophenyl)-N-phenylamino]-Benzen (Abkürzung: DPA3B), 3-[N-(9-phenylcarbazol-3-yl)-N-phenylamino]-9-Phenylcarbazol (Abkürzung: PCzPCAl), 3,6-Bis[N-(9-phenylcarbazol-3-yl)-N-phenylamino]-9-Phenylcarbazol (Abkürzung: PCzPCA2), 3-[N-(1-naphthyl)-N-(9-phenylcarbazol-3-yl)amino]-9-Phenylcarbazol (Abkürzung: PCzPCN1) oder dergleichen.
  • Weiter alternativ können beliebige hochmolekulare Verbindungen (z. B. Oligomere, Dendrimere oder Polymere) verwendet werden. Zum Beispiel können die folgenden hochmolekularen Verbindungen verwendet werden: Poly(Nvinylcarbazol) (Abkürzung: PVK), Poly(4-vinyl-triphenylamin) (Abkürzung: PVTPA), Poly[N-(4-{N'-[4-(4-diphenylamino)phenyl]phenyl-N'-phenylamino}phenyl)methacrylamid] (Abkürzung: PTPDMA) und Poly[N,N'-bis(4-butylphenyl)-N,N'-bis(phenyl)benzidin] (Abkürzung: Poly-TPD). Eine hochmolekulare Verbindung, der Säure zugesetzt ist, wie etwa Poly(3,4-ethylendioxythiophen)/Poly(styrensulfonsäure) (PEDOT/PSS) oder Polyanilin/poly(styrensulfonsäure) (PAni/PSS), kann ebenfalls verwendet werden.
  • Insbesondere für die Lochinjektionsschicht 701 wird vorzugsweise ein Kompositmaterial verwendet, bei dem eine Akzeptorsubstanz mit einer organischen Verbindung mit hoher Lochtransportfähigkeit gemischt ist. Mit der Verwendung des Kompositmaterials, bei dem eine Akzeptorsubstanz mit einer Substanz mit hoher Lochtransportfähigkeit gemischt ist, kann ausgezeichnete Lochinjektion von der ersten Elektrode 103 erhalten werden, was zu einer Reduktion der Betriebsspannung des Licht abstrahlenden Elements führt. Ein solches Kompositmaterial kann durch gemeinsames Verdampfen einer Substanz mit hoher Lochtransportfähigkeit und einer Substanz mit Akzeptoreigenschaft ausgebildet werden. Wenn die Lochinjektionsschicht 701 unter Verwendung des Kompositmaterials ausgebildet ist, werden Löcher leicht von der ersten Elektrode 103 in die EL-Schicht 102 injiziert.
  • Als die organische Verbindung für das Kompositmaterial können verschiedene Verbindungen verwendet werden, wie etwa eine aromatische Aminverbindung, Carbazolderivate, aromatische Kohlenwasserstoffe und eine hochmolekulare Verbindung (wie etwa Oligomere, Dendrimere oder Polymere). Die für das Kompositmaterial verwendete organische Verbindung ist vorzugsweise eine organische Verbindung mit hoher Lochtransportfähigkeit. Genauer wird vorzugsweise eine Substanz mit einer Lochbeweglichkeit von 10–6 cm2/V·s oder höher verwendet. Es ist anzumerken, dass eine andere Substanz als die obige verwendet werden kann, solange sie höhere Lochtransportfähigkeit als Elektronentransportfähigkeit aufweist. Die organischen Verbindungen, die für das Kompositmaterial verwendet werden können, werden nachstehend genauer gezeigt.
  • Beispiele der organischen Verbindungen, die für das Kompositmaterial verwendet werden können, enthalten: aromatische Aminverbindungen, wie etwa TDATA, MTDATA, DPAB, DNTPD, DPA3B, PCzPCA1, PCzPCA2, PCzPCN1, 4,4'-Bis[N-(1-naphthyl)-N-phenylamino]biphenyl (Abkürzung: NPB oder α-NPD), N,N'-Bis(3-methylphenyl)-N,N'-diphenyl-[1,1'-biphenyl]-4,4'-diamin (Abkürzung: TPD) und 4-Phenyl-4'-(9-phenylfluoren-9-yl)triphenylamin (Abkürzung: BPAFLP); und Carbazolderivate, wie etwa 4,4'-Di(N-carbazolyl)biphenyl (Abkürzung: CBP), 1,3,5-Tris[4-(N-carbazolyl)phenyl]benzen (Abkürzung: TCPB), 9-[4-(10-phenyl-9-anthryl)phenyl]-9H-carbazol (Abkürzung: CzPA), 9-Phenyl-3-[4-(10-phenyl-9-anthryl)phenyl]-9H-carbazol (Abkürzung: PCzPA) und 1,4-Bis[4-(N-carbazolyl)phenyl-2,3,5,6-tetraphenylbenzen.
  • Weiter ist es möglich, die folgenden aromatischen Kohlenwasserstoffverbindungen zu verwenden: 2-tert-Butyl-9,10-di(2-naphthyl)anthracen (Abkürzung: t-BuDNA), 2-tert-Butyl-9,10-di(1-naphthyl)anthracen, 9,10-Bis(3,5-diphenylphenyl)anthracen (Abkürzung: DPPA), 2-tert-Butyl-9,10-bis(4-phenylphenyl)anthracen (Abkürzung: t-BuDBA), 9,10-Di(2-naphthyl)anthracen (Abkürzung: DNA), 9,10-Diphenylanthracen (Abkürzung: DPAnth), 2-tert-Butylanthracen (Abkürzung: t-BuAnth), 9,10-Bis(4-methyl-1-naphthyl)anthracen (Abkürzung: DMNA), 9,10-Bis[2-(1-naphthyl)phenyl]-2-tert-butylanthracen, 9,10-Bis[2-(1-naphthyl)phenyl]anthracen, 2,3,6,7-Tetramethyl-9,10-di(1-naphthyl)anthracen, oder dergleichen.
  • Weiter kann eine aromatische Kohlenwasserstoffverbindung, wie etwa 2,3,6,7-Tetramethyl-9,10-di(2-naphthyl)anthracen, 9,9'-Bianthryl, 10,10'-Diphenyl-9,9'-bianthryl, 10,10'-Bis(2-phenylphenyl)-9,9'-bianthryl, 10,10'-Bis[(2,3,4,5,6-pentaphenyl)phenyl]-9,9'-bianthryl, Anthracen, Tetracen, Rubren, Perylen, 2,5,8,11-Tetra(tertbutyl)perylen, Pentacen, Coronen, 4,4'-Bis(2,2-diphenylvinyl)biphenyl (Abkürzung: DPVBi) oder 9,10-Bis[4-(2,2-diphenylvinyl)phenyl]anthracen (Abkürzung: DPVPA), verwendet werden.
  • Als der Elektronenakzeptor können organische Verbindungen, wie etwa 7,7,8,8-Tetracyano-2,3,5,6-tetrafluorchinodimethan (Abkürzung: F4-TCNQ) und Chloranil, und Übergangsmetalloxide angegeben sein. Außerdem können auch Oxide von Metallen, die zu den Gruppen IV bis VIII des Periodischen Systems gehören, angegeben werden. Genauer sind Vanadiumoxid, Nioboxid, Tantaloxid, Chromoxid, Molybdänoxid, Wolframoxid, Manganoxid und Rheniumoxid vorzuziehen, da ihre Elektronenakzeptanzfähigkeit hoch ist. Darunter ist Molybdänoxid besonders vorzuziehen, da es an Luft beständig ist, seine hygroskopische Eigenschaft niedrig ist und es leicht zu behandeln ist.
  • Zu bemerken ist, dass die Lochinjektionsschicht 701 unter Verwendung eines Kompositmaterials der hochmolekularen Verbindung, wie etwa PVK, PVTPA, PTPDMA oder Poly-TPD, und des Elektronenakzeptors ausgebildet werden kann.
  • Die Lochtransportschicht 702 ist eine Schicht, die eine Substanz mit hoher Lochtransportfähigkeit enthält. Als die Substanz mit hoher Lochtransportfähigkeit kann eine beliebige der folgenden aromatischen Aminverbindungen verwendet werden, zum Beispiel: NPB, TPD, BPAFLP, 4,4'-Bis[N-(9,9-dimethylfluoren-2-yl)-N-phenylamino]biphenyl (Abkürzung: DFLDPBi) und 4,4'-Bis[N-(spiro-9,9'-bifluoren-2-yl)-N-phenylamino]biphenyl (Abkürzung: BSPB). Die hier erwähnten Substanzen sind hauptsächlich solche, die eine hohe Beweglichkeit von 10–6 cm2/V·s oder höher aufweisen. Es ist anzumerken, dass eine andere Substanz als die obigen verwendet werden kann, solange sie eine höhere Lochtransportfähigkeit als Elektronentransportfähigkeit aufweist. Die Schicht, die eine Substanz mit hoher Lochtransportfähigkeit aufweist, ist nicht auf eine einzige Schicht beschränkt und kann ein Schichtung von zwei oder mehreren Schichten sein, die beliebige der obigen Substanzen enthalten.
  • Für die Lochtransportschicht 702 kann ein Carbazol-Derivat, wie etwa CBP, CzPA oder PCzPA, oder ein Anthracen-Derivat, wie etwa t-BuDNA, DNA oder DPAnth, verwendet werden.
  • Für die Lochtransportschicht 702 kann eine hochmolekulare Verbindung, wie etwa PVK, PVTPA, PTPDMA oder Poly-TPD, verwendet werden.
  • Für die Schicht 703, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, kann eine fluoreszierende Verbindung, die Fluoreszenz aufweist, oder eine phosphoreszierende Verbindung, die Phosphoreszenz aufweist, verwendet werden.
  • Beispiele der fluoreszierenden Materialien, die blaues Licht abstrahlen, enthalten N,N'-Bis[4-(9H-carbazol-9-yl)phenyl]-N,N'-diphenylstilben-4,4'-diamin (Abkürzung: YGA2S), 4-(9H-Carbazol-9-yl)-4'-(10-phenyl-9-anthryl)triphenylamin (Abkürzung: YGAPA), 4-(10-Phenyl-9-anthryl)-4'-(9-phenyl-9H-carbazol-3-yl)triphenylamin (Abkürzung: PCBAPA) und dergleichen. Außerdem enthalten Beispiele der Materialien, die grünes Licht abstrahlen, N-(9,10-Diphenyl-2-anthryl)-N,9-diphenyl-9H-carbazol-3-amin (Abkürzung: 2PCAPA), N-[9,10-Bis(1,1'-biphenyl-2-yl)-2-anthryl]-N,9-diphenyl-9H-carbazol-3-amin (Abkürzung: 2PCABPhA), N-(9,10-Diphenyl-2-anthryl)-N,N',N'-triphenyl-1,4-phenylendiamin (Abkürzung: 2DPAPA), N-[9,10-Bis(1,1'-biphenyl-2-yl)-2-anthryl]-N,N',N'-triphenyl-1,4-phenylendiamin (Abkürzung: 2DPABPhA), N-[9,10-Bis(1,1'-biphenyl-2-yl)]-N-[4-(9H-carbazol-9-yl)phenyl]-N-phenylanthracen-2-amin (Abkürzung: 2YGABPhA), N,N',9-triphenylanthracen-9-amin (Abkürzung: DPhAPhA) und dergleichen. weiter enthalten Beispiele der Materialien, die gelbes Licht abstrahlen, Rubren, 5,12-Bis(1,1'-biphenyl-4-yl)-6,11-diphenyltetracen (Abkürzung: BPT) und dergleichen. weiter enthalten Beispiele von Materialien für Abstrahlung von rotem Licht N,N,N',N'-Tetrakis(4-methylphenyl)tetracen-5,11-diamin (Abkürzung: p-mPhTD), 7,14-Diphenyl-N,N,N',N'-tetrakis (4-methylphenyl)acenaphtho[1,2-α]fluoranthen-3,10-diamin (Abkürzung: p-mPhAFD) und dergleichen.
  • Die phosphoreszierenden Verbindungen, die für die Schicht 703 verwendet werden können, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, werden angegeben. Beispiele der Materialien, die blaues Licht abstrahlen, enthalten Bis[2-(4'‚6'-difluorphenyl)pyridinato-N,C2']iridium(III)tetrakis(l-pyrazolyl)borat (Abkürzung: FIr6), Bis[2-(4',6'-difluorphenyl)pyridinato-N,C2']iridium(III)picolinat (Abkürzung: FIrpic), Bis{2-[3',5'-bis(trifluormethyl)phenyl]pyridinato-N,C2'}iridium(III)picolinat (Abkürzung: Ir(CF3ppy)2(pic)), Bis[2-(4',6'-difluorphenyl)pyridinato-N,C2']iridium(III)acetylacetonat (Abkürzung : FIr (acac)) und dergleichen. Beispiele der Materialien, die grünes Licht abstrahlen, enthalten Tris(2-phenylpyridinato-N,C2')iridium(III)(Abkürzung: Ir(ppy)3), Bis (2-phenylpyridinato-N,C2')iridium(III)acetylacetonat (Abkürzung: Ir(ppy)2(acac)), Bis(1,2-diphenyl-1H-benzimidazolato)iridium(III)acetylacetonat (Abkürzung: Ir(pbi)2(acac)), Bis(benzo[h]chinolinato)iridium(III)acetylacetonat (Abkürzung: Ir(bzq)2(acac)). Tris(benzo[h]chinolinato)iridium(III) (Abkürzung: Ir(bzq)3) und dergleichen. Beispiele der Materialien, die gelbes Licht abstrahlen, enthalten Bis(2,4-diphenyl-1,3-oxazolato-N,C2 ')iridium(III)acetylacetonat (Abkürzung: Ir(dpo)2(acac)), Bis[2-(4'-(perfluorphenylphenyl)pyridinato]iridium(III)acetylacetonat (Abkürzung: Ir(p-PF-ph)2(acac)), Bis(2-phenylbenzothiazolato-N,C2')iridium(III)acetylacetonat (Abkürzung: Ir(bt)2(acac)), (Acetylacetonato)bis[2,3-bis(4-fluorphenyl)-5-methylpyrazinato]iridium(III) (Abkürzung: Ir(Fdppr-Me)2(acac)), (Acetylacetonato)bis{2-(4-methoxyphenyl)-3,5-dimethylpyrazinato}iridium(III) (Abkürzung: Ir(dmmoppr)2(acac)) und dergleichen. Beispiele der Materialien, die oranges Licht abstrahlen, enthalten Tris(2-phenylchinolinato-N,C2)iridium(III) (Abkürzung: Ir(pq)3), Bis(2-phenylchinolinato-N,C2')iridium(III)acetylacetonat (Abkürzung: Ir(pq)2(acac)), (Acetylacetonato)bis(3,5-dimethyl-2-phenylpyrazinato)iridium(III) (Abkürzung: Ir(mppr-Me)2(acac)), (Acetylacetonato)bis(5-isopropyl-3-methyl-2-phenylpyrazinato)iridium(III) (Abkürzung: Ir(mppr-iPr)2(acac)) und dergleichen. Beispiele der Materialien, die rotes Licht abstrahlen, enthalten die folgenden metallorganischen Komplexe: Bis[2-(2'-benzo[4,5-α]thienyl)pyridinato-N,C3')iridium(III)acetylacetonat (Abkürzung: Ir(btp)2(acac)), Bis(1-phenylisochinolinato-N,C2')iridium(III)acetylacetonat (Abkürzung: Ir(piq)2(acac)), (Acetylacetonato)bis[2,3-bis(4-fluorphenyl)chinoxalinato)iridium(III) (Abkürzung: Ir(Fdpq)2(acac)), (Acetylacetonato)bis(2,3,5-triphenylpyrazinato)iridium(III) (Abkürzung: Ir(tppr)2(acac)), (Dipivaloylmethanato)bis(2,3,5-triphenylpyrazinato)iridium(III) (Abkürzung: Ir(tppr)2(dpm)), (2,3,7,8,12,13,17,18-Octaethyl-21H,23H-porphyrin)platin(II) (Abkürzung: PtOEP) und dergleichen. Außerdem zeigt ein Sentenerdmetallkomplex, wie etwa Tris(acetylacetonato)(monophenanthrolin)terbium(III) (Abkürzung: Tb(acac)3(Phen)), Tris[1,3-diphenyl-1,3-propandionato)(monophenanthrolin)europium(III) (Abkürzung: Eu(DBM)3(Phen)) oder Tris [1-(2-thenoyl)-3,3,3-trifluoracetonato](monophenanthrolin)europium(III) (Abkürzung: Eu(TTA)3(Phen)), Lichtabstrahlung von einem Seltenerdmetallion (Elektronenübergang zwischen verschiedenen Mehrwertigkeiten); daher kann ein solcher Seltenerdmetallkomplex als phosphoreszierende Verbindung verwendet werden.
  • Zu bemerken ist, dass die Schicht 703, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, einen Aufbau aufweisen kann, in dem die obige Licht abstrahlende organische Verbindung (ein Gastmaterial) in einer weiteren Substanz (einem Wirtsmaterial) dispergiert ist. Als Wirtsmaterial können verschiedene Arten von Materialien verwendet werden, und es ist vorzuziehen, eine Substanz zu verwenden, die ein niedrigstes unbelegtes Molekularorbitalniveau (LUMO-Niveau) aufweist, das höher ist als das der Licht abstrahlenden Substanz, und ein höchstes belegtes Molekularorbitalniveau (HOMO-Niveau) aufweist, das niedriger ist als das der Licht abstrahlenden Substanz.
  • Spezielle Beispiele der Wirtsmaterialien sind wie folgt:
    ein Metallkomplex, wie etwa Tris(8-chinolinolato)aluminium(III) (Abkürzung: Alq), Tris(4-methyl-8-chinolinolato)aluminium(III) (Abkürzung: Almq3), Bis(10-hydroxybenzo[h]chinolinato)beryllium(II) (Abkürzung: BeBq2), Bis (2-methyl-8-chinolinolato)-(4-phenylphenolato)aluminium(III) (Abkürzung: BAlq), Bis(8-chinolinolato)zink(II) (Abkürzung: Znq), Bis[2-(2-benzoxazolyl)phenolato]zink(II) (Abkürzung: ZnPBO) oder Bis[2-(2-benzothiazolyl)phenolato)zink(II) (Abkürzung: ZnBTZ); eine heterozyklische Verbindung, wie etwa 2-(4-Biphenylyl)-5-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazol (Abkürzung: PBD), 1,3-Bis[5-(p-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazol-2-yl]benzen (Abkürzung: OXD-7), 3-(4-Biphenylyl)-4-phenyl-5-(4-tert-butylphenyl)-1,2,4-triazol (Abkürzung: TAZ), 2,2',2''-(1,3,5-Benzentriyl)tris(1-phenyl-H-benzimidazol) (Abkürzung: TPBI), Bathophenanthrolin (Abkürzung: BPhen) oder Bathocuproin (Abkürzung: BCP); eine kondensierte aromatische Verbindung, wie etwa 9-[4-(10-Phenyl-9-anthryl)phenyl]-9H-carbazol (Abkürzung: CzPA), 3,6-Diphenyl-9-[4-(10-phenyl-9-anthryl)phenyl]-9H-carbazol (Abkürzung: DPCzPA), 9,10-Bis(3,5-diphenylphenyl)anthracen (Abkürzung: DPPA), 9,10-Di(2-naphthyl)anthracen (Abkürzung: DNA), 2-Tert-butyl-9,10-di(2-naphthyl)anthracen (Abkürzung: t-BuDNA), 9,9'-Hianthryl (Abkürzung: BANT), 9,9'-(Stilben-3,3'-diyl)diphenanthren (Abkürzung: DPNS), 9,9'-(Stilben-4,4'-diyl)diphenanthren (Abkürzung: DPNS2), 3,3',3''-(Benzen-1,3,5-triyl)tripyren (Abkürzung: TPB3), 9,10-Diphenylanthracen (Abkürzung: DPAnth) oder 6,12-Dimethoxy-5,11-diphenylchrysen; eine aromatische Aminverbindung, wie etwa N,N-dipheyl-9-[4-(10-phenyl-9-anthryl)phenyl]-9H-carbazol-3-amin (Abkürzung: CzAlPA), 4-(10-Phenyl-9-anthryl)triphenylamin (Abkürzung: DPhPA), N,9-Diphenyl-N-[4-(10-phenyl-9-anthryl)phenyl]-9H-carbazol-3-amin (Abkürzung: PCAPA), N,9-Diphenyl-N-{4-[4-(10-phenyl-9-anthryl)phenyl]phenyl}-9H-carbazol-3-amin (Abkürzung: PCAPBA), N-(9,10-Diphenyl-2-anthryl)-N,9-diphenyl-9H-carbazol-3-amin (Abkürzung: 2PCAPA), NPB (oder α-NPD), TPD, DFLDPBi oder BSPB; und dergleichen.
  • Alternativ können als das Wirtsmaterial vielfache Arten von Materialien verwendet werden. Zum Beispiel kann weiter, um Kristallisation zu unterdrücken, eine Substanz, wie etwa Rubren, die Kristallisation unterdrückt, zugesetzt werden. Außerdem können weiter NPB, Alq oder dergleichen zugesetzt werden, um Energie effizient auf das Gastmaterial zu übertragen.
  • Wenn ein Aufbau benutzt wird, in dem ein Gastmaterial in einem Wirtsmaterial dispergiert ist, kann Kristallisation der Schicht 703, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, unterdrückt werden. Weiter kann Konzentrationslöschung aufgrund hoher Konzentration des Gastmaterials unterdrückt werden.
  • Für die Schicht 703, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, kann eine hochmolekulare Verbindung verwendet werden. Speziell enthalten Beispiele der Materialien, die blaues Licht abstrahlen, Poly(9,9-dioctylfluoren-2,7-diyl) (Abkürzung: PFO), Poly[(9,9-dioctylfluoren-2,7-diyl)-co-(2,5-dimethoxybenzen-1,4-diyl)] (Abkürzung: PF-DMOP), Poly{(9,9-dioctylfluoren-2,7-diyl)-co[N,N'-di(p-butylphenyl)-1, 4-diaminobenzen]} (Abkürzung: TAB-PFH) und dergleichen. Beispiele der Materialien, die grünes Licht abstrahlen, enthalten Poly(p-phenylenvinylen) (Abkürzung: PPV), Poly[(9,9-dihexylfluoren-2,7-diyl)-alt-co-(benzo[2,1,3]thiadiazol-4,7-diyl)] (Abkürzung: PFBT), Poly[(9,9-dioctyl-2,7-divinylenfluorenylen)-alt-co-(2-methoxy-5-(2-ethylhexyloxy)-1,4-phenylen)] oder dergleichen. Weiter enthalten Beispiele der Materialien, die oranges Licht abstrahlen, Poly[2-methoxy-5-(2'-ethylhexoxy)-1,4-phenylenvinylen] (Abkürzung: MEH-PPV), Poly(3-butylthiophen-2,5-diyl) (Abkürzung: R4-PAT), Poly{[9,9-dihexyl-2,7-bis(1-cyanovinylen)fluorenylen]-alt-co-[2,5-bis(N,N'-diphenylamino)-1,4-phenylen]}, Poly{[2-methoxy-5-(2-ethylhexyloxy)-1,4-bis(1-cyanovinylenphenylen)]-alt-co-[2,5-bis(N,N'-diphenylamino)-1,4-phenylen]} (Abkürzung: CN-PPV-DPD), und dergleichen.
  • Weiter kann durch Vorsehen einer Vielzahl von Schichten, die jeweils eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthalten, und indem die Abstrahlungsfarben der Schichten verschieden gemacht werden, Lichtabstrahlung einer gewünschten Farbe von dem Licht abstrahlenden Element als Ganzem erhalten werden. Zum Beispiel werden in einem Licht abstrahlenden Element, das zwei Schichten enthält, die jeweils eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthalten, die Lichtabstrahlungsfarbe einer ersten Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, und die Lichtabstrahlungsfarbe einer zweiten Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, komplementär gemacht, sodass das Licht abstrahlende Element als Ganzes weißes Licht abstrahlen kann. Zu bemerken ist, dass das Wort „komplementär” eine Farbbeziehung meint, bei der eine achromatische Farbe erhalten wird, wenn Farben gemischt werden. Das heißt, wenn von Substanzen abgestrahltes komplementär gefärbtes Licht gemischt wird, kann Abstrahlung von weißem Licht erhalten werden. Dies kann auf ein Licht abstrahlendes Element angewandt werden, das drei oder mehr Schichten enthält, die jeweils eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthalten.
  • Die Elektronentransportschicht 704 ist eine Schicht, die eine Substanz mit hoher Elektronentransportfähigkeit enthält. Als die Substanz mit hoher Elektronentransportfähigkeit kann eine beliebige der folgenden Substanzen verwendet werden, zum Beispiel: ein Metallkomplex mit einem Chinolinskelett oder einem Benzochinolinskelett, wie etwa Tris(8-chinolinolato)aluminium (Abkürzung: Alq), Tris(4-methyl-8-chinolinolato)aluminium (Abkürzung: Almqa), Bis(10-hydroxybenzo[h]-chinolinato)beryllium (Abkürzung: BeBq2) oder Bis(2-methyl-8-chinolinolato)(4-phenylphenolato)aluminium (Abkürzung: BAlq). Alternativ kann ein Metallkomplex verwendet werden, der einen Oxazol-basierten oder Thiazol-basierten Liganden enthält, wie etwa Bis[2-(2-hydroxyphenyl)benzoxazolato]zink (Abkürzung: Zn(BOX)2) oder Bis [2-(2-hydroxyphenyl)benzothiazolato]zink (Abkürzung: Zn(BTZ)2). Außer den Metallkomplexen können auch (4-Biphenylyl)-5-(4-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazol (Abkürzung: PBD), 1,3-bis[5-(p-tert-butylphenyl)-1,3,4-oxadiazol-2-yl]benzen (Abkürzung: OXD-7), 3-(4-biphenylyl)-4-phenyl-5-(4-tert-butylphenyl)-1,2,4-triazol (Abkürzung: TAZ), Bathophenanthrolin (Abkürzung: BPhen), Bathocuproin (Abkürzung: BCP) oder dergleichen verwendet werden. Die hier erwähnten Substanzen sind hauptsächlich solche, die eine Elektronenbeweglichkeit von 10–6 cm2/V·s oder höher aufweisen. Die Elektronentransportschicht ist nicht auf eine einzige Schicht beschränkt und kann eine Schichtung von zwei oder mehr Schichten sein, die beliebige der obigen Substanzen enthalten.
  • Die Elektroneninjektionsschicht 705 ist eine Schicht, die eine Substanz mit hoher Elektroneninjektionsfähigkeit enthält. Für die Elektroneninjektionsschicht 705 kann ein Alkalimetall, ein Erdalkalimetall oder eine Verbindung davon, wie etwa Lithium, Cäsium, Calcium, Lithiumfluorid, Cäsiumfluorid, Calciumfluorid oder Lithiumoxid verwendet werden. Außerdem kann auch eine Erdalkalimetallverbindung, wie etwa Erbiumfluorid, verwendet werden. Beliebige der obigen Substanzen zum Ausbilden der Elektronentransportschicht 704 können ebenfalls verwendet werden.
  • Zu bemerken ist, dass die Lochinjektionsschicht 701, die Lochtransportschicht 702, die Schicht 703, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, die Elektronentransportschicht 704 und die Elektroneninjektionsschicht 705, die oben beschrieben sind, jeweils nach einem Verfahren, wie etwa einem Bedampfungsverfahren (z. B. einem Vakuumaufdampfverfahren), einem Tintenstrahlverfahren oder einem Beschichtungsverfahren ausgebildet werden können.
  • Zu bemerken ist, dass eine Vielzahl von EL-Schichten zwischen der ersten Elektrode 103 und der zweiten Elektrode 108 geschichtet werden können, wie in 11B dargestellt. In diesem Fall ist eine Ladungserzeugungsschicht 803 vorzugsweise zwischen einer ersten EL-Schicht 800 und einer zweiten EL-Schicht 801 vorgesehen, die geschichtet sind. Die Ladungserzeugungsschicht 803 kann unter Verwendung des oben beschriebenen Kompositmaterials ausgebildet werden. Weiter kann die Ladungserzeugungsschicht 803 einen geschichteten Aufbau aufweisen, der eine das Kompositmaterial enthaltende Schicht und eine ein weiteres Material enthaltende Schicht enthält. In diesem Fall kann als die ein weiteres Material enthaltende Schicht eine Schicht, die eine Elektronen spendende Substanz und eine Substanz mit hoher Elektronentransportfähigkeit enthält, eine aus einer transparenten leitfähigen Schicht ausgebildete Schicht oder dergleichen verwendet werden. Was ein Licht abstrahlendes Element mit einem solchen Aufbau betrifft, treten Probleme, wie etwa Energieübertragung und Löschen kaum auf, und ein Licht abstrahlendes Element, das sowohl hohen Lichtabstrahlungswirkungsgrad als auch lange Lebensdauer aufweist, kann aufgrund von Ausweitung bei der Wahl von Materialien leicht erhalten werden. Darüber hinaus kann ein Licht abstrahlendes Element, das Phosphoreszenz von einer der EL-Schichten und Fluoreszenz von der anderen der EL-Schichten vorsieht, leicht erhalten werden. Zu bemerken ist, dass dieser Aufbau mit den oben beschriebenen Aufbauten der EL-Schicht kombiniert werden kann.
  • Weiter kann, indem die Abstrahlungsfarben von EL-Schichten unterschiedlich gemacht werden, Licht einer gewünschten Farbe von dem Licht abstrahlenden Element als Ganzem erhalten werden. Zum Beispiel sind die Abstrahlungsfarben der ersten und der zweiten EL-Schicht komplementär in einem Licht abstrahlenden Element mit den beiden EL-Schichten, sodass das Licht abstrahlende Element veranlasst werden kann, als Ganzes weißes Licht abzustrahlen. Weiter gilt dasselbe für ein Licht abstrahlendes Element mit drei oder mehr EL-Schichten.
  • Wie in 11C dargestellt, kann die EL-Schicht 102 zwischen der ersten Elektrode 103 und der zweiten Elektrode 108 die Lochinjektionsschicht 701, die Lochtransportschicht 702, die Schicht 703, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, die Elektronentransportschicht 704, eine Elektroneninjektionspufferschicht 706, eine Elektronenweiterleitungsschicht 707 und eine Kompositmaterialschicht 708 enthalten, die in Kontakt mit der zweiten Elektrode 108 steht. Es ist vorzuziehen, die Kompositmaterialschicht 708 vorzusehen, die in Kontakt mit der zweiten Elektrode 108 steht; in diesem Fall kann Schaden reduziert werden, der an der EL-Schicht 102 verursacht wird, insbesondere, wenn die zweite Elektrode 108 nach einem Sputterverfahren ausgebildet wird. Die Kompositmaterialschicht 708 kann unter Verwendung des oben beschriebenen Kompositmaterials ausgebildet werden, bei dem eine Akzeptorsubstanz mit einer organischen Verbindung mit hoher Lochtransportfähigkeit gemischt ist.
  • Weiter kann durch Vorsehen der Elektroneninjektionspufferschicht 706 eine Injektionssperre zwischen der Kompositmaterialschicht 708 und der Elektronentransportschicht 704 reduziert sein; somit können in der Kompositmaterialschicht 708 erzeugte Elektronen leicht in die Elektronentransportschicht 704 injiziert werden.
  • Für die Elektroneninjektionspufferschicht 706 kann eine Substanz mit einer hohen Elektroneninjektionsfähigkeit, wie etwa ein Alkalimetall, ein Erdalkalimetall, ein Seltenerdmetall, eine Verbindung des obigen Metalls (z. B. eine Alkalimetallverbindung (z. B. ein Oxid, wie etwa Lithiumoxid, ein Halid und ein Carbonat, wie etwa Lithiumcarbonat oder Cäsiumcarbonat), eine Erdalkalimetallverbindung (z. B. ein Oxid, ein Halid und ein Carbonat) oder eine Seltenerdmetallverbindung (z. B. ein Oxid, ein Halid und ein Carbonat) verwendet werden.
  • Weiter wird in dem Fall, in dem die Elektroneninjektionspufferschicht 706 eine Substanz mit einer hohen Elektronentransportfähigkeit und eine Donorsubstanz enthält, die Donorsubstanz vorzugsweise so zugefügt, dass das Massenverhältnis der Donorsubstanz zu der Substanz mit hoher Elektronentransportfähigkeit 0,001:1 bis 0,1:1 beträgt. Beispiele der Donorsubstanz enthalten eine organische Verbindung, wie etwa Tetrathianaphthacen (Abkürzung: TTN), Nickelocen und Decamethylnickelocen, zusätzlich zu einem Alkalimetall, einem Erdalkalimetall, einem Seltenerdmetall, einer Verbindung des obigen Metalls (z. B. einer Alkalimetallverbindung (z. B. einem Oxid, wie etwa Lithiumoxid, einem Halid und einem Carbonat, wie etwa Lithiumcarbonat oder Cäsiumcarbonat), einer Erdalkalimetallverbindung (z. B. einem Oxid, einem Halid und einem Carbonat) und einer Seltenerdmetallverbindung (z. B. einem Oxid, einem Halid und einem Carbonat)). Zu bemerken ist, dass als die Substanz mit hoher Elektronentransportfähigkeit ein Material ähnlich dem Material für die oben beschriebene Elektronentransportschicht 704 verwendet werden kann.
  • Weiter ist die Elektronenweiterleitungsschicht 707 vorzugsweise zwischen der Elektroneninjektionspufferschicht 706 und der Kompositmaterialschicht 708 ausgebildet. Die Elektronenweiterleitungsschicht 707 ist nicht unbedingt vorgesehen; jedoch können durch Vorsehen der Elektronenweiterleitungsschicht 707 mit hoher Elektronentransportfähigkeit Elektronen schnell zur Elektroneninjektionspufferschicht 706 transportiert werden.
  • Der Aufbau, in dem die Elektronenweiterleitungsschicht 707 zwischen der Kompositmaterialschicht 708 und der Elektroneninjektionspufferschicht 706 eingefügt ist, ist ein Aufbau, in dem die in der Kompositmaterialschicht 708 enthaltene Akzeptorsubstanz und die in der Elektroneninjektionspufferschicht 706 enthaltene Donorsubstanz weniger dazu neigen, miteinander zu interagieren, und somit stören ihre Funktionen einander kaum. Daher kann ein Anstieg der Betriebsspannung verhindert werden.
  • Die Elektronenweiterleitungsschicht 707 enthält eine Substanz mit hoher Elektronentransportfähigkeit und ist so ausgebildet, dass das LUMO-Niveau der Substanz mit hoher Elektronentransportfähigkeit zwischen dem LUMO-Niveau der in der Kompositmaterialschicht 708 enthaltenen Akzeptorsubstanz und dem LUMO-Niveau der in der Elektronentransportschicht 704 enthaltenen Substanz mit hoher Elektronentransportfähigkeit liegt. In dem Fall, in dem die Elektronenweiterleitungsschicht 707 eine Donorsubstanz enthält, wird das Donorniveau der Donorsubstanz so gesteuert, dass es zwischen dem LUMO-Niveau der in der Kompositmaterialschicht 708 enthaltenen Akzeptorsubstanz und dem LUMO-Niveau der in der Elektronentransportschicht 704 enthaltenen Substanz mit hoher Elektronentransportfähigkeit liegt. Als ein spezieller Wert des Energieniveaus ist das LUMO-Niveau der in der Elektronenweiterleitungsschicht 707 enthaltenen Substanz mit hoher Elektronentransportfähigkeit vorzugsweise höher oder gleich –5,0 eV, mehr vorzuziehen höher oder gleich –5,0 eV und niedriger oder gleich –3,0 eV.
  • Als die in der Elektronenweiterleitungsschicht 707 enthaltene Substanz mit hoher Elektronentransportfähigkeit wird vorzugsweise ein Phthalocyanin-basiertes Material oder ein Metallkomplex mit einer Metall-Sauerstoffbindung und einem aromatischen Liganden verwendet.
  • Als das in der Elektronenweiterleitungsschicht 707 enthaltene Phthalocyanin-basierte Material werden insbesondere beliebige der folgenden verwendet: CuPc, Phthalocyanin-Zinn(II)-Komplex (SnPc), Phthalocyanin-Zink-Komplex (ZnPc), Cobalt(II)-Phthalocyanin, β-Form (CoPc), Phthalocyanin-Eisen (FePc) und Vanadyl-2,9,16,23-tetraphenoxy-29H,31H-phthalocyanin (PhO-VOPc).
  • Als der Metallkomplex, der eine Metall-Sauerstoffbindung und einen aromatischen Liganden aufweist und in der Elektronenweiterleitungsschicht 707 enthalten ist, wird vorzugsweise ein Metallkomplex mit einer Metall-Sauerstoff-Doppelbindung verwendet. Die Metall-Sauerstoff-Doppelbindung weist eine Akzeptoreigenschaft auf (eine Eigenschaft, leicht Elektronen aufzunehmen); somit können Elektronen leichter übertragen (abgegeben und aufgenommen) werden. Weiter wird der Metallkomplex mit einer Metall-Sauerstoff-Doppelbindung als stabil betrachtet. Somit ermöglicht es die Verwendung des Metallkomplexes mit einer Metall-Sauerstoff-Doppelbindung, das Licht abstrahlende Element bei niedriger Spannung stabiler zu betreiben. Als ein Metallkomplex mit einer Metall-Sauerstoff-Bindung und einem aromatischen Liganden ist ein Phthalocyaninbasiertes Material vorzuziehen. Genauer ist ein beliebiges aus Vanadyl-Phthalocyanin (VOPc), einem Phthalocyanin-Zinn(IV)-Oxid-Komplex (SnOPc), und einem Phthalocyanin-Titanoxid-Komplex (TiOPc) vorzuziehen, weil eine Metall-Sauerstoff-Doppelbindung eher auf ein weiteres Molekül wirkt, was molekulare Struktur betrifft, und eine Akzeptoreigenschaft hoch ist.
  • Zu bemerken ist, dass als die oben beschriebenen Phthalocyanin-basierten Materialien ein Phthalocyaninbasiertes Material mit einer Phenoxy-Gruppe vorzuziehen ist. Genauer ist ein Phthalocyaninderivat mit einer Phenoxy-Gruppe, wie etwa PhO-VOPc, vorzuziehen. Ein Phthalocyaninderivat mit einer Phenoxy-Gruppe ist in einem Lösungsmittel löslich. Somit weist ein Phthalocyaninderivat einen Vorteil auf, dass es während des Ausbildens des Licht abstrahlenden Elements leicht zu handhaben ist, sowie einen Vorteil, dass es die Wartung einer Vorrichtung erleichtert, die zum Ausbilden einer Schicht verwendet wird.
  • Die Elektronenweiterleitungsschicht 707 kann weiter eine Donorsubstanz enthalten. Beispiele der Donorsubstanz enthalten eine organische Verbindung, wie etwa Tetrathianaphthacen (Abkürzung: TTN), Nickelocen und Decamethylnickelocen, zusätzlich zu einem Alkalimetall, einem Erdalkalimetall, einem Seltenerdmetall und einer Verbindung der obigen Metalle (z. B. einer Alkalimetallverbindung (enthaltend ein Oxid, wie etwa Lithiumoxid, ein Halid und ein Carbonat, wie etwa Lithiumcarbonat oder Cäsiumcarbonat), einer Erdalkalimetallverbindung (enthaltend ein Oxid, ein Halid und ein Carbonat) und einer Seltenerdmetallverbindung (enthaltend ein Oxid, ein Halid und ein Carbonat)). Wenn eine solche Donorsubstanz in der Elektronenweiterleitungsschicht 707 enthalten ist, können Elektronen leicht übertragen werden, und das Licht abstrahlende Element kann bei niedrigerer Spannung betrieben werden.
  • In dem Fall, in dem eine Donorsubstanz in der Elektronenweiterleitungsschicht 707 enthalten ist, kann zusätzlich zu den oben als die Substanz mit hoher Elektronentransportfähigkeit beschriebenen Materialien eine Substanz mit einem höheren LUMO-Niveau als das Akzeptorniveau der in der Kompositmaterialschicht 708 enthaltenen Akzeptorsubstanz benutzt werden. Als ein spezielles Energieniveau ist ein LUMO-Niveau höher oder gleich –5,0 eV, vorzugsweise höher oder gleich –5,0 eV und niedriger oder gleich –3,0 eV. Als Beispiele einer solchen Substanz sind ein Perylen-Derivat und eine stickstoffhaltige kondensierte aromatische Verbindung angegeben. Zu bemerken ist, dass eine stickstoffhaltige kondensierte aromatische Verbindung vorzugsweise wegen ihrer Stabilität für die Elektronenweiterleitungsschicht 707 verwendet wird.
  • Als spezielle Beispiele der Perylenderivate sind die folgenden angegeben: 3,4,9,10-Perylentetracarboxyldianhydrid (Abkürzung: PTCDA), 3,4,9,10-Perylentetracarboxyl-bis-benzimidazol (Abkürzung: PTCBI), N,N'-Dioctyl-3,4,9,10-perylentetracarboxyl-diimid (Abkürzung: PTCDI-C8H), N,N'-Dihexyl-3,4,9,10-perylentetracarboxyl-diimid (Hex PTC) und dergleichen.
  • Als spezielle Beispiele der stickstoffhaltigen kondensierten aromatischen Verbindung sind die folgenden angegeben: Pirazino[2,3-f][1,10]phenanthrolin-2,3-dicarbonitril (Abkürzung: PPDN), 2,3,6,7,10,11-Hexacyano-1,4,5,8,9,12-hexaazatriphenylen (Abkürzung: HAT (CN)6), 2,3-Diphenylpyridin[2,3-b]pyrazin (Abkürzung: 2PYPR), 2,3-Bis(4-fluorphenyl)pyridin[2,3-b]pyrazin (Abkürzung: F2PYPR), und dergleichen.
  • Außer den obigen können 7,7,8,8-Tetracyanchinodimethan (Abkürzung: TCNQ), 1,4,5,8-Naphthalentetracarboxyldianhydrid (Abkürzung: NTCDA), Perfluorpentacen, Kupfer-hexadecafluorphthalocyanin (Abkürzung: F16CuPc), bis(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-pentadecafluoroctyl)-1,4,5,8-naphthalentetracarboxyl-diimid (Abkürzung: NTCDI-C8F), 3',4'-Dibutyl-5,5''-bis(dicyanmethylen)-5,5''-dihydro-2,2':5',2''-terthiophen) (Abkürzung: DCMT), Methanofulleren (z. B. [6,6]-Phenyl-C61-Buttersäuremethylester) oder dergleichen verwendet werden.
  • Zu bemerken ist, dass in dem Fall, in dem eine Donorsubstanz in der Elektronenweiterleitungsschicht 707 enthalten ist, die Elektronenweiterleitungsschicht 707 nach einem Verfahren, wie etwa gemeinsamem Verdampfen einer Substanz mit hoher Elektronentransportfähigkeit und einer Donorsubstanz, ausgebildet werden kann.
  • Die Lochinjektionsschicht 701, die Lochtransportschicht 702, die Schicht 703, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, und die Elektronentransportschicht 704 können jeweils unter Verwendung eines beliebigen der oben beschriebenen Materialien ausgebildet werden.
  • In der obigen Weise kann die EL-Schicht 102 dieser Ausführungsform hergestellt werden.
  • Diese Ausführungsform kann frei mit anderen Ausführungsformen kombiniert werden.
  • (Ausführungsform 9)
  • In dieser Ausführungsform wird ein Beispiel einer Beleuchtungsvorrichtung, die die Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung enthält, mit Bezug auf die 12A und 12B beschrieben.
  • In dieser Ausführungsform kann eine Beleuchtungsvorrichtung vorgesehen sein, deren Licht abstrahlender Bereich eine gewölbte Oberfläche aufweist.
  • Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann zur Beleuchtung in einem Auto verwendet werden; zum Beispiel kann Beleuchtung für ein Armaturenbrett, den Dachhimmel oder dergleichen vorgesehen sein.
  • 12A stellt eine Innenbeleuchtungsvorrichtung 901, eine Schreibtischleuchte 903 und eine ebene Beleuchtungsvorrichtung 904 dar, bei denen eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung angewandt ist. Die Fläche der Licht abstrahlenden Vorrichtung kann erhöht sein, und sie kann daher als großflächige Beleuchtungsvorrichtung verwendet werden. Weiter kann die Licht abstrahlende Vorrichtung, da die Licht abstrahlende Vorrichtung dünn ist, an einer Wand montiert werden. Weiter kann die Licht abstrahlende Vorrichtung als eine rollenartige Beleuchtungsvorrichtung 902 verwendet werden.
  • 12B stellt ein weiteres Beispiel der Beleuchtungsvorrichtung dar. Eine in 12B dargestellte Schreibtischleuchte enthält einen Beleuchtungsteil 9501, einen Träger 9503, eine Trägerbasis 9505 und dergleichen. Der Beleuchtungsteil 9501 enthält die Licht abstrahlende Baugruppe nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Wie oben beschrieben, kann in einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung eine Beleuchtungsvorrichtung mit einer gekrümmten Oberfläche oder eine Beleuchtungsvorrichtung mit einem flexiblen Beleuchtungsteil vorgesehen sein. Die Verwendung einer flexiblen Licht abstrahlenden Baugruppe für eine Beleuchtungsvorrichtung, wie oben beschrieben, verbessert nicht nur den Freiheitsgrad bei der Gestaltung der Beleuchtungsvorrichtung, sondern ermöglicht auch, dass die Beleuchtungsvorrichtung auf einem Teil mit einer gekrümmten Oberfläche montiert wird, wie etwa dem Dachhimmel oder einem Armaturenbrett eines Autos.
  • Diese Ausführungsform kann frei mit anderen Ausführungsformen kombiniert werden.
  • Erläuterung der Bezugsnummern
    • 10: Licht abstrahlende Baugruppe, 10a: Licht abstrahlende Baugruppe, 10b: Licht abstrahlende Baugruppe, 10c: Licht abstrahlende Baugruppe, 11: erstes Licht abstrahlendes Element, 12: zweites Licht abstrahlendes Element, 13: drittes Licht abstrahlendes Element, 21: erstes Licht abstrahlendes Element, 22: zweites Licht abstrahlendes Element, 31: erstes Licht abstrahlendes Element, 32: zweites Licht abstrahlendes Element, 41: erstes Licht abstrahlendes Element, 42: zweites Licht abstrahlendes Element, 51: erstes Licht abstrahlendes Element, 52: zweites Licht abstrahlendes Element, 100: Substrat, 100a: erstes Substrat, 100b: zweites Substrat, 102: EL-Schicht, 102a: EL-Schicht, 102b: EL-Schicht, 102c: EL-Schicht, 103: erste Elektrode, 103a: erste Elektrode, 103b: erste Elektrode, 103c: erste Elektrode, 107: Trennwand, 108: zweite Elektrode, 108a: zweite Elektrode, 108b: zweite Elektrode, 108c: zweite Elektrode, 118: unebene Struktur, 122: Körper mit unebener Struktur, 124: Kunstharzschicht, 131a: Seitenverdrahtung, 131b: Seitenverdrahtung 132: Hilfsverdrahtung, 132a: Hilfsverdrahtung, 132b: Hilfsverdrahtung, 133a: Verdrahtung, 133b: Verdrahtung, 134: Planarisierungsschicht, 138a: Versiegelungsschicht, 138b: Versiegelungsschicht, 139: Trennschicht, 139a: Beinbereich, 139b: Plattformbereich, 141: Höhlung, 149a: isolierende Schicht, 149b: isolierende Schicht, 150: Wandler, 160: Auskopplungselektrode, 171: Dichtungsmasse, 172: Dichtungsmasse, 173a: erste Glasschicht, 173b: zweite Glasschicht, 175: Zwischenraum, 701: Lochinjektionsschicht, 702: Lochtransportschicht, 703: Schicht, die eine Licht abstrahlende organische Verbindung enthält, 704: Elektronentransportschicht, 705: Elektroneninjektionsschicht, 706: Elektroneninjektionspufferschicht, 707: Elektronenweiterleitungsschicht, 708: Kompositmaterialschicht, 800: erste EL-Schicht, 801: zweite EL-Schicht, 803: Ladungserzeugungsschicht, 901: Beleuchtungsvorrichtung, 902: Beleuchtungsvorrichtung, 903: Schreibtischleuchte, 904: ebene Beleuchtungsvorrichtung, 1000: Licht abstrahlende Vorrichtung, 1100: Licht abstrahlendes Element, 9501: Beleuchtungsteil, 9503: Träger und 9505: Trägerbasis.
  • Diese Anmeldung beruht auf der japanischen Patentanmeldung Nr. 2010-293944 , eingereicht beim Japanischen Patentamt am 28. Dezember 2010, und der japanischen Patentanmeldung Nr. 2011-022567 , eingereicht beim Japanischen Patentamt am 4. Februar 2011, deren gesamter Inhalt durch Verweis hier aufgenommen wird.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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  • Zitierte Patentliteratur
    • JP 2009-130132 [0005]
    • JP 2010-293944 [0356]
    • JP 2011-022567 [0356]

Claims (20)

  1. Licht abstrahlende Baugruppe, umfassend: ein erstes Licht abstrahlendes Element über einer isolierenden Fläche; ein zweites Licht abstrahlendes Element über der isolierenden Fläche; eine Trennschicht; eine erste isolierende Schicht; und eine zweite isolierende Schicht, wobei das erste Licht abstrahlende Element umfasst: eine erste Elektrode; eine zweite Elektrode, die sich mit der ersten Elektrode überlappt; und eine erste Licht abstrahlende Schicht, die eine organische Verbindung enthält, zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode, wobei das zweite Licht abstrahlende Element umfasst: eine dritte Elektrode; eine vierte Elektrode, die sich mit der dritten Elektrode überlappt; und eine zweite Licht abstrahlende Schicht, die eine organische Verbindung umfasst, zwischen der dritten Elektrode und der vierten Elektrode, wobei: die erste isolierende Schicht einen Randbereich der ersten Elektrode bedeckt; die zweite isolierende Schicht über der dritten Elektrode ausgebildet ist; die erste Elektrode und die dritte Elektrode inselförmig sind; die erste Elektrode und die dritte Elektrode aus derselben Schicht ausgebildet sind, die in der Lage ist, durch die erste Licht abstrahlende Schicht abgestrahltes Licht durchzulassen; die erste isolierende Schicht und die zweite isolierende Schicht aus derselben Schicht ausgebildet sind; die zweite Elektrode und die vierte Elektrode aus derselben Schicht ausgebildet sind; die Trennschicht über der dritten Elektrode ausgebildet ist; die Trennschicht einen Beinbereich und einen Plattformbereich über dem Beinbereich umfasst; eine auf die dritte Elektrode projizierte Fläche des Plattformbereichs größer ist als diejenige des Beinbereichs; ein Randbereich der zweiten isolierenden Schicht mit der zweiten Licht abstrahlenden Schicht bedeckt ist und der andere Randbereich der zweiten isolierenden Schicht in Kontakt mit der Trennschicht steht; die zweite Elektrode so gestaltet ist, dass sie sich über den Randbereich der ersten Elektrode hinaus erstreckt, wobei die erste isolierende Schicht dazwischen gesetzt ist; und die zweite Elektrode elektrisch mit der dritten Elektrode in einer Zone verbunden ist, die sich mit dem Plattformbereich überlappt.
  2. Licht abstrahlende Baugruppe nach Anspruch 1, wobei in einem Querschnitt der Trennschicht ein Zwischenraum auf einer Beinbereichsseite einer Geraden vorgesehen ist, die einen Punkt, an dem der Beinbereich in Kontakt mit der dritten Elektrode steht, mit einem Rand des über den Beinbereich hinaus ragenden Plattformbereichs verbindet.
  3. Licht abstrahlende Baugruppe nach Anspruch 2, wobei die erste isolierende Schicht einen Randbereich der dritten Elektrode bedeckt; und die zweite Elektrode so gestaltet ist, dass sie sich über einen Randbereich der dritten Elektrode hinaus erstreckt, wobei die erste isolierende Schicht dazwischen gesetzt ist.
  4. Licht abstrahlende Baugruppe nach Anspruch 1, weiter umfassend: eine erste Seitenverdrahtung, so gestaltet, dass sie sich mit der ersten Licht abstrahlenden Schicht und der zweiten Elektrode überlappt und in Kontakt mit der ersten Elektrode steht; und eine zweite Seitenverdrahtung, so gestaltet, dass sie sich mit der zweiten Licht abstrahlenden Schicht und der vierten Elektrode überlappt und in Kontakt mit der dritten Elektrode steht, wobei: die erste Seitenverdrahtung ein Metall mit höherer Leitfähigkeit als die erste Elektrode umfasst, und die zweite Seitenverdrahtung ein Metall mit höherer Leitfähigkeit als die dritte Elektrode umfasst.
  5. Licht abstrahlende Vorrichtung, umfassend einen Wandler, wobei die Licht abstrahlende Baugruppe nach Anspruch 1 durch eine Ausgangsspannung des Wandlers betrieben wird.
  6. Beleuchtungsvorrichtung, umfassend die Licht abstrahlende Baugruppe gemäß Anspruch 1 in einem Licht abstrahlenden Teil.
  7. Licht abstrahlende Baugruppe, umfassend: ein erstes Licht abstrahlendes Element über einer isolierenden Fläche; ein zweites Licht abstrahlendes Element über der isolierenden Fläche; eine Trennschicht; eine erste isolierende Schicht; und eine zweite isolierende Schicht, wobei das erste Licht abstrahlende Element umfasst: eine erste Elektrode; eine sich mit der ersten Elektrode überlappende zweite Elektrode; und eine erste Licht abstrahlende Schicht, die eine organische Verbindung enthält, zwischen der ersten Elektrode und der zweiten Elektrode, wobei das zweite Licht abstrahlende Element umfasst: eine dritte Elektrode; eine sich mit der dritten Elektrode überlappende vierte Elektrode; eine zweite Licht abstrahlende Schicht, die eine organische Verbindung umfasst, zwischen der dritten Elektrode und der vierten Elektrode; und eine elektrisch mit der dritten Elektrode verbundene Verdrahtung; wobei: die erste isolierende Schicht einen Randbereich der ersten Elektrode bedeckt; die zweite isolierende Schicht über der dritten Elektrode ausgebildet ist; die erste Elektrode und die dritte Elektrode inselförmig sind; die erste Elektrode und die dritte Elektrode aus derselben Schicht ausgebildet sind, die in der Lage ist, durch die erste Licht abstrahlende Schicht abgestrahltes Licht durchzulassen; die erste isolierende Schicht und die zweite isolierende Schicht aus derselben Schicht ausgebildet sind; die zweite Elektrode und die vierte Elektrode aus derselben Schicht ausgebildet sind; sich die Trennschicht mit der Verdrahtung und der dritten Elektrode überlappt; die Trennschicht einen Beinbereich und einen Plattformbereich über dem Beinbereich umfasst; eine auf die Verdrahtung projizierte Fläche des Plattformbereichs größer ist als diejenige des Beinbereichs; ein Randbereich der zweiten isolierenden Schicht mit der zweiten Licht abstrahlenden Schicht bedeckt ist und der andere Randbereich der zweiten isolierenden Schicht in Kontakt mit der Trennschicht steht; die zweite Elektrode so gestaltet ist, dass sie sich über den Randbereich der ersten Elektrode hinaus erstreckt, wobei die erste isolierende Schicht dazwischen gesetzt ist; und die zweite Elektrode elektrisch mit der Verdrahtung in einer Zone verbunden ist, die sich mit dem Plattformbereich überlappt.
  8. Licht abstrahlende Baugruppe nach Anspruch 7, wobei in einem Querschnitt der Trennschicht ein Zwischenraum auf einer Beinbereichsseite einer Geraden vorgesehen ist, die einen Punkt, an dem der Beinbereich in Kontakt mit der Verdrahtung steht, mit einem Rand des über den Beinbereich hinaus ragenden Plattformbereichs verbindet.
  9. Licht abstrahlende Baugruppe nach Anspruch 8, wobei die erste isolierende Schicht einen Randbereich der dritten Elektrode bedeckt; und die zweite Elektrode so gestaltet ist, dass sie sich über einen Randbereich der Verdrahtung hinaus erstreckt, wobei die erste isolierende Schicht dazwischen gesetzt ist.
  10. Licht abstrahlende Baugruppe nach Anspruch 7, weiter umfassend: eine erste Seitenverdrahtung, so gestaltet, dass sie sich mit der ersten Licht abstrahlenden Schicht und der zweiten Elektrode überlappt und in Kontakt mit der ersten Elektrode steht; und eine zweite Seitenverdrahtung, so gestaltet, dass sie sich mit der zweiten Licht abstrahlenden Schicht und der vierten Elektrode überlappt und in Kontakt mit der dritten Elektrode steht, wobei: die erste Seitenverdrahtung ein Metall mit höherer Leitfähigkeit als die erste Elektrode umfasst, und die zweite Seitenverdrahtung ein Metall mit höherer Leitfähigkeit als die dritte Elektrode umfasst.
  11. Licht abstrahlende Vorrichtung, umfassend einen Wandler, wobei die Licht abstrahlende Baugruppe nach Anspruch 7 durch eine Ausgangsspannung des Wandlers betrieben wird.
  12. Beleuchtungsvorrichtung, umfassend die Licht abstrahlende Baugruppe gemäß Anspruch 7 in einem Licht abstrahlenden Teil.
  13. Licht abstrahlende Baugruppe, umfassend: ein erstes Licht abstrahlendes Element über einer isolierenden Fläche; ein zweites Licht abstrahlendes Element über der isolierenden Fläche; und eine Trennschicht, wobei das erste Licht abstrahlende Element umfasst: eine erste Elektrode; und eine sich mit der ersten Elektrode überlappende zweite Elektrode, wobei das zweite Licht abstrahlende Element umfasst: eine dritte Elektrode, wobei: die erste Elektrode und die dritte Elektrode inselförmig sind; die Trennschicht über der dritten Elektrode ausgebildet ist; die Trennschicht einen Beinbereich und einen Plattformbereich über dem Beinbereich umfasst; eine auf die dritte Elektrode projizierte Fläche des Plattformbereichs größer ist als diejenige des Beinbereichs; und die zweite Elektrode elektrisch mit der dritten Elektrode in einer Zone verbunden ist, die sich mit dem Plattformbereich überlappt.
  14. Licht abstrahlende Baugruppe nach Anspruch 13, wobei in einem Querschnitt der Trennschicht ein Zwischenraum auf einer Beinbereichsseite einer Geraden vorgesehen ist, die einen Punkt, an dem der Beinbereich in Kontakt mit der dritten Elektrode steht, mit einem Rand des über den Beinbereich hinaus ragenden Plattformbereichs verbindet.
  15. Licht abstrahlende Vorrichtung, umfassend einen Wandler, wobei die Licht abstrahlende Baugruppe nach Anspruch 13 durch eine Ausgangsspannung des Wandlers betrieben wird.
  16. Beleuchtungsvorrichtung, umfassend die Licht abstrahlende Baugruppe gemäß Anspruch 13 in einem Licht abstrahlenden Teil.
  17. Verfahren zum Fertigen einer Licht abstrahlenden Baugruppe, umfassend die Schritte: Ausbilden einer ersten Elektrode und einer dritten Elektrode, die untere Elektroden sein sollen, über einer isolierenden Fläche; Ausbilden einer ersten isolierenden Schicht, die einen Randbereich der ersten Elektrode bedeckt, und einer zweiten isolierenden Schicht über der dritten Elektrode; Ausbilden eines, ersten photoempfindlichen Kunstharzes über der dritten Elektrode und eines zweiten photoempfindlichen Kunstharzes mit einer anderen Empfindlichkeit als derjenigen des ersten photoempfindlichen Kunstharzes über dem ersten photoempfindlichen Kunstharz; selektives Belichten des ersten photoempfindlichen Kunstharzes und des zweiten photoempfindlichen Kunstharzes; Entwickeln des ersten photoempfindlichen Kunstharzes und des zweiten photoempfindlichen Kunstharzes, um einen Beinbereich, der in Kontakt mit der dritten Elektrode steht, und die zweite isolierende Schicht aus dem ersten photoempfindlichen Kunstharz auszubilden, sowie um einen Plattformbereich, der über den Beinbereich hinaus über die dritte Elektrode ragt, aus dem zweiten photoempfindlichen Kunstharz auszubilden, und dadurch Ausbilden einer Trennschicht, die den Beinbereich und den Plattformbereich umfasst; Ausbilden einer Licht abstrahlenden Schicht, die eine organische Verbindung umfasst, in einer Zone, die sich mit dem Plattformbereich der dritten Elektrode überlappt, durch Hemmen des Eindringens der Licht abstrahlenden Schicht; und Ausbilden einer leitfähigen Schicht, die eine obere Elektrode sein soll, umfassend eine zweite Elektrode, in einer Zone, die sich mit dem Plattformbereich der dritten Elektrode überlappt, durch Fördern des Eindringens der leitfähigen Schicht, sodass die zweite Elektrode in Kontakt mit der dritten Elektrode steht, wobei die erste Elektrode und die dritte Elektrode so ausgebildet werden, dass sie inselförmig sind.
  18. Verfahren zum Fertigen einer Licht abstrahlenden Baugruppe nach Anspruch 13, wobei in einem Querschnitt der Trennschicht ein Zwischenraum auf einer Beinbereichsseite einer Geraden vorgesehen ist, die einen Punkt, an dem der Beinbereich in Kontakt mit der dritten Elektrode steht, mit einem Rand des über den Beinbereich hinaus ragenden Plattformbereichs verbindet.
  19. Verfahren zum Fertigen einer Licht abstrahlenden Baugruppe nach Anspruch 14, wobei: die erste isolierende Schicht einen Randbereich der dritten Elektrode bedeckt; und die zweite Elektrode so gestaltet ist, dass sie sich über einen Randbereich der dritten Elektrode hinaus erstreckt, wobei die erste isolierende Schicht dazwischen gesetzt ist.
  20. Licht abstrahlende Baugruppe nach Anspruch 13, weiter umfassend die Schritte: Ausbilden einer ersten Seitenverdrahtung, so gestaltet, dass sie sich mit der ersten Licht abstrahlenden Schicht und der zweiten Elektrode überlappt und in Kontakt mit der ersten Elektrode steht; und Ausbilden einer zweiten Seitenverdrahtung derart, dass sie in Kontakt mit der dritten Elektrode steht, wobei: die erste Seitenverdrahtung ein Metall mit höherer Leitfähigkeit als die erste Elektrode umfasst, und die zweite Seitenverdrahtung ein Metall mit höherer Leitfähigkeit als die dritte Elektrode umfasst.
DE112011104636.7T 2010-12-28 2011-12-14 Licht abstrahlende Baugruppe, Licht abstrahlende Vorrichtung, Beleuchtungsvorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer Licht abstrahlenden Baugruppe Active DE112011104636B4 (de)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102014118699A1 (de) 2013-12-16 2015-06-18 Emdedesign Gmbh Leuchte oder Display umfassend wenigstens ein Licht-Panel auf einer Trägerplatte

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101872925B1 (ko) 2010-12-24 2018-06-29 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 조명 장치
US8552440B2 (en) 2010-12-24 2013-10-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Lighting device
WO2012102218A1 (ja) * 2011-01-24 2012-08-02 株式会社日立製作所 有機発光装置及びその製造方法
KR102050505B1 (ko) 2011-02-10 2019-11-29 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 발광 장치 및 그 제작 방법, 조명 장치 및 표시 장치
KR102004305B1 (ko) 2011-02-11 2019-07-26 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 발광 장치 및 그 제작 방법, 그리고 조명 장치 및 표시 장치
JP5925511B2 (ja) 2011-02-11 2016-05-25 株式会社半導体エネルギー研究所 発光ユニット、発光装置、照明装置
US8735874B2 (en) 2011-02-14 2014-05-27 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device, display device, and method for manufacturing the same
US8772795B2 (en) 2011-02-14 2014-07-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device and lighting device
TWI562423B (en) * 2011-03-02 2016-12-11 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Light-emitting device and lighting device
KR20130049728A (ko) 2011-11-04 2013-05-14 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 발광 모듈 및 발광 장치
JP6068073B2 (ja) * 2012-09-18 2017-01-25 スタンレー電気株式会社 Ｌｅｄアレイ
US9341951B2 (en) * 2012-12-21 2016-05-17 Ultratech, Inc. Wynn-dyson imaging system with reduced thermal distortion
KR102241441B1 (ko) * 2013-06-28 2021-04-19 엘지디스플레이 주식회사 유기발광표시장치 및 그의 제조방법
KR102152846B1 (ko) * 2013-12-11 2020-09-07 엘지디스플레이 주식회사 유기전계 발광소자 및 이의 제조 방법
US9478591B2 (en) * 2013-12-23 2016-10-25 Lg Display Co., Ltd. Organic light emitting display device and repair method thereof
TWI790965B (zh) 2014-05-30 2023-01-21 日商半導體能源研究所股份有限公司 觸控面板
EP2998997B1 (de) * 2014-09-17 2020-01-08 LG Display Co., Ltd. Organische lichtemittierende anzeigevorrichtung und verfahren zu deren herstellung
CN111490146A (zh) 2014-11-18 2020-08-04 首尔半导体株式会社 发光装置
CN105118929B (zh) * 2015-08-03 2018-01-02 京东方科技集团股份有限公司 电极结构和有机发光单元及其制造方法
KR102460407B1 (ko) * 2015-10-30 2022-10-27 엘지디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그의 제조방법
JP6700309B2 (ja) * 2016-01-05 2020-05-27 パイオニア株式会社 発光装置
JP2017157782A (ja) * 2016-03-04 2017-09-07 ソニー株式会社 有機電界発光素子、および有機電界発光素子の製造方法
KR102612040B1 (ko) * 2016-08-31 2023-12-07 엘지디스플레이 주식회사 격벽을 포함하는 유기 발광 표시 장치
KR102711102B1 (ko) * 2016-11-15 2024-09-27 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치 및 그 제조 방법
CN108155207B (zh) * 2016-12-05 2020-08-28 群创光电股份有限公司 显示装置
TWI840337B (zh) 2017-11-30 2024-05-01 日商半導體能源研究所股份有限公司 顯示面板、顯示裝置、顯示模組、電子裝置及顯示面板的製造方法
KR102578544B1 (ko) 2017-12-11 2023-09-13 엘지디스플레이 주식회사 전계발광 표시장치
CN110164909B (zh) * 2018-04-24 2021-03-16 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法、显示装置
WO2022222070A1 (zh) * 2021-04-21 2022-10-27 京东方科技集团股份有限公司 显示基板及其制备方法、显示装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009130132A (ja) 2007-11-22 2009-06-11 Panasonic Electric Works Co Ltd 面状発光型照明装置
JP2011022567A (ja) 2009-06-15 2011-02-03 Taihei Kagaku Seihin Kk 位相差フィルム用樹脂組成物、位相差フィルムの製造方法、及び位相差フィルム

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3813217B2 (ja) * 1995-03-13 2006-08-23 パイオニア株式会社 有機エレクトロルミネッセンスディスプレイパネルの製造方法
JP2000082588A (ja) 1997-09-22 2000-03-21 Fuji Electric Co Ltd 有機発光素子およびその製造方法
JP3646510B2 (ja) 1998-03-18 2005-05-11 セイコーエプソン株式会社 薄膜形成方法、表示装置およびカラーフィルタ
JP3987770B2 (ja) 2002-07-26 2007-10-10 松下電工株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法
GB0226401D0 (en) 2002-11-12 2002-12-18 Koninkl Philips Electronics Nv Electroluminescent devices and their manufacture
JP2005078828A (ja) * 2003-08-28 2005-03-24 Konica Minolta Holdings Inc 照明装置および照明装置の駆動方法
JP4664604B2 (ja) * 2004-02-18 2011-04-06 Ｔｄｋ株式会社 画像表示装置
JP2006049853A (ja) * 2004-06-29 2006-02-16 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 発光装置、表示装置及び照明
CN1893105A (zh) 2005-03-31 2007-01-10 精工爱普生株式会社 发光装置、发光装置的制造方法及电子设备
JP2006310289A (ja) * 2005-03-31 2006-11-09 Seiko Epson Corp 発光装置、発光装置の製造方法、及び電子機器
US7737629B2 (en) 2005-03-31 2010-06-15 Seiko Epson Corporation Light emitting device, method of manufacturing the same, and electronic apparatus
FR2913146B1 (fr) * 2007-02-23 2009-05-01 Saint Gobain Electrode discontinue, dispositif electroluminescent organique l'incorporant, et leurs fabrications
US8183766B2 (en) * 2007-03-07 2012-05-22 Au Optronics Corp. Pixel structure of organic electroluminescent display panel and method of making the same
JP4356899B2 (ja) * 2007-03-15 2009-11-04 財団法人山形県産業技術振興機構 有機ｅｌ発光装置およびその製造方法
JP2009181752A (ja) 2008-01-29 2009-08-13 Fuji Electric Holdings Co Ltd 有機ｅｌデバイス
JP2009266803A (ja) * 2008-04-03 2009-11-12 Fuji Electric Holdings Co Ltd 有機ｅｌディスプレイパネル及びその製造方法
JP5157825B2 (ja) * 2008-10-29 2013-03-06 ソニー株式会社 有機ｅｌディスプレイの製造方法
JP4661971B2 (ja) * 2009-05-27 2011-03-30 住友化学株式会社 発光装置
US20110037054A1 (en) * 2009-08-17 2011-02-17 Chan-Long Shieh Amoled with cascaded oled structures
KR101872925B1 (ko) 2010-12-24 2018-06-29 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 조명 장치
US8552440B2 (en) 2010-12-24 2013-10-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Lighting device
JP5925511B2 (ja) * 2011-02-11 2016-05-25 株式会社半導体エネルギー研究所 発光ユニット、発光装置、照明装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009130132A (ja) 2007-11-22 2009-06-11 Panasonic Electric Works Co Ltd 面状発光型照明装置
JP2011022567A (ja) 2009-06-15 2011-02-03 Taihei Kagaku Seihin Kk 位相差フィルム用樹脂組成物、位相差フィルムの製造方法、及び位相差フィルム

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102014118699A1 (de) 2013-12-16 2015-06-18 Emdedesign Gmbh Leuchte oder Display umfassend wenigstens ein Licht-Panel auf einer Trägerplatte
WO2015090279A1 (de) 2013-12-16 2015-06-25 Emdedesign Gmbh Leuchte oder display umfassend wenigstens ein licht-panel auf einer trägerplatte

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