DE112008002704T5 - Schaltungsschutzvorrichtung und Gehäuse für elektrischen Anschluss - Google Patents

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DE112008002704T
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Yutaka Yokkaichi-shi Higuchi
Mitsuaki Yokkaichi-shi Kohsaka
Seiji Yokkaichi-shi Takahashi
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Sumitomo Wiring Systems Ltd
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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Sumitomo Wiring Systems Ltd
AutoNetworks Technologies Ltd
Sumitomo Electric Industries Ltd
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    • H02H3/087Emergency protective circuit arrangements for automatic disconnection directly responsive to an undesired change from normal electric working condition with or without subsequent reconnection ; integrated protection responsive to excess current for dc applications
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    • H02H5/04Emergency protective circuit arrangements for automatic disconnection directly responsive to an undesired change from normal non-electric working conditions with or without subsequent reconnection responsive to abnormal temperature
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Abstract

Schaltungsschutzvorrichtung, mit:
einem Halbleiterschaltelement (32) zur Verbindung mit einer Leistungsversorgung,
einem Leitungspfad (18), der mit dem Halbleiterschaltelement verbunden ist und das Halbleiterschaltelement mit einer Last (L) verbindet,
einem Halbleiterelement (D), das elektrisch mit dem Leitungspfad verbunden ist, Wärme überträgt und einen PN-Übergang aufweist,
einer Beurteilungseinrichtung (19) zum Beurteilen, ob ein Spannungsabfallwert zwischen Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen (25, 26) des Halbleiterelements größer als ein Schwellenwert ist oder nicht, und
einer Steuereinrichtung (19) zum Ausgeben eines Ausschaltbefehlsignals an das Halbleiterschaltelement, falls eine Beurteilung durch die Beurteilungseinrichtung dahingehend getroffen wird, dass der Spannungsabfallwert kleiner als der Schwellenwert ist.

Description

  • Technisches Gebiet
  • Die Erfindung betrifft eine Schaltungsschutzvorrichtung und ein Gehäuse für elektrischen Anschluss.
  • Stand der Technik
  • Die Patentliteratur 1 war gut bekannt als eine konventionelle Schaltungsschutzvorrichtung, welche eine Schaltung durch Erfassen eines in der Schaltung fließenden, abnormalen Stroms schützt. Diese Schaltungsschutzvorrichtung umfasst ein Halbleiterschaltelement, das zwischen einer Leistungsversorgung und einer Last verschaltet ist, und eine Schutzschaltung zum Ausgeben eines Steuersignals an das Halbleiterschaltelement. Das Halbleiterschaltelement und die Last sind über eine Verdrahtung verbunden. Ein Schwellenstrom zum Verhindern einer Beschädigung des Halbleiterschaltelements ist in der Schutzschaltung festgelegt. Wenn aufgrund zum Beispiel eines Kurzschlusses der Last ein den vorstehend erwähnten Schwellenstrom überschreitender Überstrom zwischen dem Halbleiterschaltelement und der Last fließt, gibt die Schutzschaltung ein Ausschaltbefehlssignal an das Halbleiterschaltelement aus und schaltet dasselbe in den Aus-Zustand. Dies kann die Verhinderung einer Beschädigung des Halbleiterschaltelements erzielen.
    • [Patentliteratur 1]: Japanische ungeprüfte Patentveröffentlichung Nr. H04-334640
  • Offenbarung der Erfindung
  • Etwas wie beispielsweise eine Alterungsverschlechterung der Isolationsbeschichtung von Leitungen kann wahrscheinlich einen so genannten Schichtkurzschluss verursachen, bei welchem ein Strom fließt, der kleiner ist als ein Schwellenstrom für die Beschädigungsverhinderung des Halbleiterschaltelements, aber größer ist als der zur Zeit einer normalen Speisung. In diesem Fall ist in Übereinstimmung mit der bekannten Konfiguration der in der Leitung fließende Strom kleiner als der Schwellenstrom, und gibt daher die Schutzschaltung kein Ausschaltbefehlsignal an das Halbleiterschaltelement aus. Daher fließt fortlaufend ein relativ großer elektrischer Strom in der Leitung, welcher dazu führt, dass die von dem Kernleiter erzeugte Wärme in der Leitung verbleibt, und folglich die Isolationsbeschichtung der Leitung weiter verschlechtern kann.
  • Um das vorstehende Problem zu überwinden, kann ein mit einer Abnormalitätsbestimmungsschaltung verbundenes Temperaturerfassungselement in der Leitung angeordnet werden, und kann dann, wenn die Temperatur der Leitung eine Schwelle überschritten hat, das Halbleiterschaltelement in den Aus-Zustand versetzt werden.
  • Im allgemeinen ist jedoch ein Temperaturerfassungselement über zwei Leitungspfade, die aus dem Temperaturerfassungselement herausgeführt sind, mit der Abnormalitätsbestimmungsschaltung verbunden. Die Leitungspfade in der doppelten Anzahl des Temperaturerfassungselements sind daher separat erforderlich, und können eine komplizierte Konfiguration der Schaltungsschutzvorrichtung insgesamt verursachen.
  • Die Erfindung erfolgte auf der Grundlage der vorstehenden Gegebenheiten, und hat als eine Aufgabe, eine Schaltungsschutzvorrichtung mit einem einfacheren Aufbau zu schaffen.
  • Mittel zur Lösung der Aufgabe
  • Die Erfindung bezieht sich auf eine Schaltungsschutzvorrichtung und ein Gehäuse für elektrischen Anschluss, mit: einem Halbleiterschaltelement, das mit einer Leistungsversorgung verbunden ist, einem Leitungspfad, der mit dem Halbleiterschaltelement verbunden ist und das Halbleiterschaltelement mit einer Last verbindet, einem Halbleiterelement, das elektrisch mit dem Leitungspfad verbunden ist, um Wärme zu übertragen, und einen PN-Übergang aufweist, einer Beurteilungseinrichtung zum Beurteilen, ob ein Spannungsabfallwert zwischen Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen des Halbleiterelements größer als ein Schwellenwert ist oder nicht, und einer Steuereinrichtung zum Ausgeben eines Ausschaltbefehlsignals an das Halbleiterschaltelement, falls eine Beurteilung durch die Beurteilungseinrichtung dahingehend getroffen wird, dass der Spannungsabfallwert kleiner als der Schwellenwert ist.
  • Dass das Halbleiterelement mit dem Leitungspfad verbunden ist, um Wärme zu übertragen, bedeutet darüber hinaus einen Zustand, in dem Wärme von dem Leitungspfad auf das Halbleiterelement übertragen wird, so dass die Temperatur des Leitungspfads und die des Halbleiterelements nahezu gleich werden, und kurz gesagt, dass das Halbleiterelement mit dem Leitungspfad verbunden ist.
  • Ein Element zum Erfassen von Temperaturen und die Beurteilungseinrichtung sind allgemein über zwei aus dem Element heraus geführte Leitungen verbunden. In Übereinstimmung mit der Erfindung ist das Halbleiterelement mit sowohl dem Leitungspfad als auch der Beurteilungseinrichtung verbunden. Demgemäß kann der Leitungspfad als eine Zuleitung in dem bzw. des Halbleiterelement(s) dienen, und kann folglich die Konfiguration der Schaltungsschutzvorrichtung vereinfacht werden.
  • Die Erfindung kann die Konfigurationen der Schaltungsschutzvorrichtung und des Gehäuses zum elektrischen Anschluss vereinfachen.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • 1 ist eine Querschnittsansicht, die ein Gehäuse für elektrischen Anschluss gemäß einem Ausführungsbeispiel 1 nach der Erfindung zeigt;
  • 2 ist eine vergrößerte ebene Ansicht eines Hauptteils einer Verbindungsstruktur zwischen einem Diodenelement und einem Zweigpfad;
  • 3 ist ein Blockdiagramm, das eine elektrische Konfiguration des Gehäuses für elektrischen Anschluss zeigt;
  • 4 ist ein Ablaufdiagramm der Verarbeitung eines Einschaltens/Ausschaltens;
  • 5 ist ein Diagramm, das einen Inhalt von Temperatur-Spannungs-Daten zeigt;
  • 6 ist ein Blockdiagramm, das eine elektrische Struktur eines Gehäuses für elektrischen Anschluss gemäß einem Ausführungsbeispiel 2 zeigt;
  • 7 ist ein Hauptablaufdiagram der Verarbeitung des Einschaltens/Ausschaltens;
  • 8 ist ein Ablaufdiagramm, das eine Anfangsverarbeitung zeigt;
  • 9 ist ein Blockdiagramm, das eine elektrische Struktur eines Gehäuses für elektrischen Anschluss gemäß einem Ausführungsbeispiel 3 zeigt; und
  • 10 ist ein Ablaufdiagramm der Verarbeitung des Einschaltens/Ausschaltens.
  • 10
    Gehäuse für elektrischen Anschluss
    12
    Leiterplatte
    15
    Leitung (Leitungspfad)
    16
    weibliche Anschlusskupplung (Leitungspfad)
    18
    substratseitiger Leitungspfad (Leitungspfad)
    19
    CPU (Beurteilungseinrichtung, Steuereinrichtung)
    21
    Zweigpfad (Leitungspfad)
    23
    männlicher Anschluss (Leitungspfad)
    32
    FET (Halbleiterschaltelement)
    33
    ROM (Speichereinrichtung)
    45
    Schaltelement
    D
    Diode (Halbleiterelement)
  • Beste Art zur Ausführung der Erfindung
  • <Ausführungsbeispiel 1>
  • Ein Ausführungsbeispiel 1, in welchem eine Schaltungsschutzvorrichtung gemäß der Erfindung auf ein Gehäuse für elektrischen Anschluss bzw. Elektroanschlussgehäuse 10 für ein Fahrzeug angewandt ist, wird unter Bezugnahme auf die 1 bis 5 beschrieben. Das vorliegende Ausführungsbeispiel ist zwischen einer Leistungsversorgung B und einer Last L wie beispielsweise einer Leuchte und einer Audioausrüstung angeordnet, um eine Energieversorgung (Ein/Aus) der Last L zu steuern.
  • Wie in 1 gezeigt ist, beinhaltet das Gehäuse für elektrischen Anschluss 10 eine Leiterplatte bzw. gedruckte Schaltung 12, die in einem Gehäuse 11 untergebracht ist. Das Gehäuse 11 ist mit einem Verbinder bzw. Stecker 13 versehen. Der Verbinder 13 kann mit einem paarenden Verbinder bzw. Stecker 14 in Eingriff gebracht werden. Der paarende Verbinder 14 beherbergt eine weibliche Anschlusskupplung 16 (entsprechend einem Leitungspfad), die mit einer Leitung 15 (entsprechend einem Leitungspfad) verbunden ist. Die Leitung 15 ist mit der Last L verbunden.
  • Die gedruckte Schaltung 12 wird durch ein Halteelement 17 gehalten, das darin mittels einem bekannten Verfahren, wie beispielsweise einem Klebebonden oder Verschrauben, ausgebildet ist. Ein substratseitiger Leitungspfad 18 (entsprechend einem Leitungspfad) ist auf der gedruckten Schaltung 12 mittels einer Technik für gedruckte Verdrahtung ausgebildet. Eine zentrale Verarbeitungseinheit oder CPU 19 ist auf der gedruckten Schaltung 12 angebracht und mit dem substratseitigen Leitungspfad 18 verbunden. Darüber hinaus ist ein Feldeffekttransistor oder FET 32 (entsprechend einem Halbleiterschaltelement) auf der gedruckten Schaltung 12 angebracht und mit dem substratseitigen Leitungspfad 18 verbunden.
  • Der substratseitige Leitungspfad 18 beinhaltet Zweigpfade 21, die in eine Vielzahl von Teilen verzweigt sind (vgl. 3). Wie in 2 gezeigt ist, ist ein mit dem Zweigpfad 21 verbundenes Durchgangsloch 22 (entsprechend einem Leitungspfad) in der gedruckten Schaltung 12 ausgebildet. Ein Ende des metallischen männlichen Anschlusses 23 (entsprechend einem Leitungspfad) ist in das Durchgangsloch 22 eingesetzt und mit diesem mittels beispielsweise einem Weichlöten verbunden. Wie in 1 gezeigt ist, ist das andere Ende des männlichen Anschlusses 23 in einer Richtung einer Plattenstirnseite der gedruckten Schaltung 12 gebogen, und dringt dabei in die Rückwand des Verbinders 13 ein. Das andere Ende des männlichen Anschlusses 23 ist im Inneren des Verbinders 13 positioniert und mit der vorstehend erwähnten weiblichen Anschlusskupplung 16 verbindbar. Dieses ermöglicht es dem Zweigpfad 21, elektrisch mit der Last L verbunden zu werden.
  • Wie in 2 gezeigt ist, ist in dem Zweigpfad 21 ein schmaler Abschnitt 24 (entsprechend einem leicht Wärme erzeugenden Element) mit einer Breite kleiner als andere Regionen nahe dem Durchgangsloch 22 ausgebildet. Dieser schmale Abschnitt 24 ist so ausgeformt, dass er eine Breite kleiner als andere Regionen in dem Zweigpfad 21 hat, um im Vergleich mit anderen Regionen zur Zeit der Energieversorgung leichter Wärme erzeugen zu können. In dem Zweigpfad 21 ist ein Eingangsanschluss 25 eines Diodenelements D (entsprechend einem Halbleiterelement) mit einem PN-Übergang elektrisch mit dem Bereich zwischen dem schmalen Abschnitt 24 und dem Durchgangsloch 22 mittels beispielsweise Weichlöten verbunden, so dass Wärme übertragen werden kann. Dass das Diodenelement D so mit dem Zweigpfad 21 verbunden ist, so dass Wärme übertragen werden kann, bedeutet darüber hinaus einen Zustand, in dem Wärme von dem Zweigpfad 21 auf das Diodenelement D übertragen wird, so dass die Temperatur des Zweigpfads 21 und die des Diodenelements D nahezu gleich werden, und kurz gesagt, dass das Diodenelement D mit dem Zweigpfad 21 verbunden ist.
  • Darüber hinaus ist das Diodenelement D auf eine Art und Weise derart angeordnet, dass es auf der Oberfläche des substratseitigen Leitungspfads 18 (des Zweigpfads 21), der mit dem Eingangsanschluss 25 verbunden ist, überlagert ist.
  • Der Ausgangsanschluss 26 des Diodenelements D ist mit einer auf der gedruckten Schaltung 12 ausgeformten Erhebung 27 verbunden. Die Erhebung 27 ist mit dem substratseitigen Leitungspfad 18 verbunden, der sich von dem einen des Zweigpfads 21 unterscheidet. Der substratseitige Leitungspfad 18 mit dem mit ihm verbundenen Ausgangsanschluss 26 des Diodenelements D ist so ausgebildet, dass er schmaler ist als der Zweigpfad 21, und mit der CPU 19 verbunden, um zu einem Signalleitungspfad 28 zum Übertragen eines von dem Diodenelement D ausgegebenen Signals an die CPU 19 zu werden. Der Signalleitungspfad 28 insgesamt ist so ausgebildet, dass er schmaler ist als der substratseitige Leitungspfad 18.
  • Wie in 3 gezeigt ist, sind eine Vielzahl von (in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel zwei) Dioden 29 mit dem einen Diodenelement D seriell verbunden. Dies kann den später beschriebenen Spannungsabfallwert verstärken. Im dem vorliegenden Ausführungsbeispiel ist das Diodenelement D eines mit einem vergossenen Gehäuse oder Formteilgehäuse. Das Diodenelement D ist in einer Vorwärtsrichtung, die von dem Zweigpfad 21 zu dem Signalleitungspfad 28 führt, verschaltet.
  • Als Nächstes wird die elektrische Konfiguration des Gehäuses für elektrischen Anschluss 10 beschrieben. 3 ist ein Blockdiagramm, das die elektrische Konfiguration des Gehäuses für elektrischen Anschluss 10 zeigt.
  • Die Leistungsversorgung B, wie beispielsweise eine Batterie, ist mit dem substratseitigen Leitungspfad 18 im Inneren des Gehäuses für elektrischen Anschluss 10 über die Leitung 15 und den Verbinder 13 verbunden. Der substratseitige Leitungspfad 18 ist mit (n) Stücken (n ist eine natürliche Zahl) von FETen 32 parallel verbunden. Dieser substratseitige Leitungspfad 18 ist mit einem Sourcebereich 30 in dem FET 32 verbunden. Der substratseitige Leitungspfad 18, der mit einem Drainbereich 31 in jedem FET 32 verbunden ist, ist in eine Vielzahl von Teilen verzweigt, um Zweigpfade 21 zu bilden. In dem vorliegenden Ausführungsbeispiel wird ein FET eines P-Kanal-Typs verwendet, es kann jedoch auch ein FET eines N-Kanal-Typs verwendet werden. Darüber hinaus sind dann, wenn der N-Kanal-Typ verwendet wird, der Sourcebereich 30 und der Drainbereich 31 vertauscht. Jeder Zweigpfad 21 ist über den Verbinder 13 und die Leitung 15 mit der Last L verbunden. (Mi) Stücke (”Mi” ist eine natürliche Zahl) der Lasten L sind mit dem (i)-ten FET 32i verbunden (”i” ist eine natürliche Zahl). In der folgenden Beschreibung sind Bezugszeichen wie beispielsweise ”i” und ”Mi” nach den Symbolen von Elementen zugeordnet, und zeigen an, dass das Element das (i)-te oder das (Mi)-te ist.
  • Die Leistungsversorgung B ist mit der CPU 19 (entsprechend einer Steuereinrichtung und einer Beurteilungseinrichtung) über eine Konstantspannungs-Leistungsversorgungsschaltung 47 verbunden. Die CPU 19 steuert jede Komponente, während sie ihr Verarbeitungsergebnis in Übereinstimmung mit den in einem Festspeicher oder ROM 33 (entsprechend einer Speichereinrichtung) aufgezeichneten Schritten in einem Direktzugriffsspeicher oder RAM 34 oder in einem nichtflüchtigen Speicher 35 aufzeichnet.
  • Außerdem erhält die CPU 19, obwohl nicht im Einzelnen gezeigt, einen Wert eines in den FET 32 fließenden elektrischen Stroms von einer Erfassungseinrichtung, welche einen in den FET 32 fließenden elektrischen Strom erfasst. Als die Erfassungseinrichtung können beispielsweise ein mit dem FET 32 verbundener Mess-MOSFET oder eine Messeinrichtung zum Messen eines Nebenschluss- bzw. Shunt-Widerstands oder einer Vds des FET 32 verwendet werden. Die CPU 19 gibt ein Ausschaltbefehlsignal an den FET 32 aus, wenn, zum Beispiel, ein toter Kurzschluss auftritt und dann ein einen Schwellenstrom übersteigender Überstrom in dem FET 21 durch die Erfassungseinrichtung erfasst wird. Dies kann eine durch den Überstrom verursachte Beschädigung des FET 32 verhindern.
  • Darüber hinaus kann der FET 32 eine Erfassungseinrichtung zum Erfassen eines in dem FET 32 selbst fließenden elektrischen Stroms und eine Abschneideeinrichtung zum Abschneiden eines in dem FET 32 fließenden Stroms, wenn ein einen Schwellenwert übersteigender Überstrom in dem FET 32 durch die Erfassungseinrichtung erfasst wird, beinhalten.
  • Die Verarbeitungsschritte des Einschaltens/Ausschaltens zum Einschalten/Ausschalten der Last L sind in dem ROM 33 aufgezeichnet. Darüber hinaus sind die Temperatur-Spannungs-Daten (entsprechend Daten), die einen Zusammenhang zwischen einem Spannungsabfallwert zwischen den Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen 25 und 26 des Diodenelements D (nachstehend als ein ”Spannungsabfallwert” bezeichnet) und eine Temperatur in dem ROM 33 aufgezeichnet.
  • 5 zeigt einen Teil des Inhalts der Temperatur-Spannungs-Daten. Ein Anstieg in der Temperatur des Diodenelements D bewirkt, dass der Spannungsabfallwert linear verringert wird. Daher erlaubt die Verwendung des Diodenelements D eine genaue Temperaturmessung des Zweigpfads 21, der mit dem Diodenelement D verbunden ist, in einem breiten Temperaturbereich.
  • Wie in 5 gezeigt ist, nimmt bei derselben Temperatur, wenn die an den Eingangsanschluss 25 des Diodenelements D anzulegende Spannung langsam auf bzw. um 8 V, 12 V und 16 V ansteigt, der Spannungsabfallwert aufgrund einer Zunahme des in das Diodenelement D fließenden elektrischen Stroms ebenfalls zu. Eine Änderung des Spannungsabfallwerts auf der Grundlage der Temperatur-Spannungs-Daten erlaubt es, die Temperatur des Zweigpfads 21 auch dann genauer zu messen, wenn sich die an den Eingangsanschluss 25 des Diodenelements D anzulegende Spannung geändert hat.
  • Ein Abnormalitätskennzeichen bzw. Abnormalitätsflag, welches anzeigt, ob es eine Abnormalität in dem mit dem Drainbereich 31 in einem (i)-ten FET 32i verbundenen Zweigpfad 21 gibt oder nicht, wird in dem nichtflüchtigen Speicher 35 aufgezeichnet. Wenn es eine Abnormalität in dem Zweigpfad 21 gibt, wird ”1” in dem Abnormalitätsflag gesetzt, und andernfalls wird 0 gesetzt.
  • In Antwort auf (n) Stücke der FETen 32 ist die CPU 19 mit (n) Stücken von Einrichtungen 36 wie beispielsweise einer elektronischen Steuereinheit bzw. ECU verbunden. Darüber hinaus beinhaltet die CPU 19 (n) Stücke von Ausgangsanschlüssen 37 entsprechend zu (n) Stücken der FETen 32. Der (i)-te Ausgangsanschluss 37 ist mit einem Gateanschluss in dem entsprechenden (i)-ten FET 32i verbunden. Die CPU 19 empfängt ein Ein-Signal zum Anlegen von Leistung an den FET 32i von der (i)-ten Einrichtung 36i, und gibt dann ein Einschaltbefehlsignal aus dem (i)-ten Ausgangsanschluss 37i an den FET 32i aus. Außerdem empfängt die CPU 19 ein Aus-Signal zum Anlegen von Leistung an den FET 32i von der (i)-ten Einrichtung 36i, und gibt dann ein Ausschaltbefehlsignal aus dem (i)-ten Ausgangsanschluss 37i an den FET 32i aus.
  • Der substratseitige Leitungspfad 18 ist, nachdem er so verzweigt ist, dass er mit (n) Stücken der FETen 32 verbunden ist, weiter in dem Stirnbereich verzweigt, um mit dem FET 32 verbunden zu sein, um mit einem in der CPU 19 bereitgestellten B-Anschluss 40 über eine Spannungsumwandlungsschaltung 39 zum Umwandlung auf einen Spannungspegel, der für eine Zufuhr zu der CPU 19 geeignet ist, verbunden zu sein. Der B-Anschluss 40 weist die Analog/Digital- bzw. A/D-Umwandlungsfunktion auf. (n) Stücke der B-Anschlüsse 40 sind für entsprechende (n) Stücke der FETen 32 bereitgestellt. Der (i)-te B-Anschluss 40 ist mit dem substratseitigen Leitungspfad 18 verbunden, der mit dem Sourcebereich 30 in dem entsprechenden FET 32i verbunden ist. Dies erlaubt es der CPU 19, eine Spannung in der Seite des Sourcebereichs 30 in dem FET 32i zu erhalten.
  • Der substratseitige Leitungspfad 18, der mit dem Drainbereich 31 in dem FET 32 verbunden ist, ist an der Position zwischen dem Drainbereich 31 und dem Eingangsanschluss 35 des Diodenelements D verzweigt, und dann mit einem in der CPU 19 über die Spannungsumwandlungsschaltung 39 bereitgestellten V-Anschluss 41 verbunden. Der V-Anschluss 41 weist die A/D-Umwandlungsfunktion auf. (n) Stücke der V-Anschlüsse 41 sind für entsprechende (n) Stücke der FETen 32 bereitgestellt. Der (i)-te V-Anschluss 41 ist mit dem substratseitigen Leitungspfad 18 verbunden, der mit dem Drainbereich 31 in dem FET 32i verbunden ist. Dies erlaubt es der CPU 19, eine Spannung in der Seite des Eingangsanschlusses 25 des Diodenelements D zu erhalten.
  • Wie vorstehend erwähnt wurde, ist jeder einer Vielzahl von Zweigpfaden 21 elektrisch mit dem Diodenelement D verbunden, so dass Wärme übertragen werden kann. Das Diodenelement D ist parallel mit der Last L verbunden. Die Signalleitungspfade 28, die mit den Anschlüssen auf der Seite stromab des Diodenelements D verbunden sind, sind an einem Verbindungspunkt 42 zusammengebündelt und miteinander verbunden, und dann mit einem V-Kom-Anschluss 43 verbunden, der in der CPU 19 über die Spannungsumwandlungsschaltung 39 bereitgestellt ist. Der V-Kom-Anschluss 43 weist die A/D-Umwandlungsfunktion auf. Dies erlaubt es der CPU 19, eine Spannung in der Seite des Ausgangsanschlusses 26 des Diodenelements D zu erhalten.
  • Darüber hinaus sind in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel jeder B-Anschluss 40, V-Anschluss 41 und V-Kom-Anschluss 43 mit der Spannungsumwandlungsschaltung 39 versehen, jedoch ist die Erfindung nicht hierauf beschränkt, sondern es kann die Erfassung mittels einem A/D-Anschluss mit einem analogen Spannungsschalter, wie beispielsweise einem Multiplexer, durchgeführt werden.
  • Die CPU 19 ist mit (n) Stücken von ersten Leuchtdioden oder LED 44 entsprechend zu (n) Stücken der FETen 32 verbunden, um ein Aufleuchten der ersten Leuchtdioden 44 zu steuern.
  • Zum Beispiel kann aufgrund etwa einer alterungsbedingten Verschlechterung der isolierenden Beschichtung (nicht gezeigt) der Leitung 15 ein elektrischer Strom kleiner als ein Schwellenstrom zur Beschädigungsverhinderung des FET 32, aber größer als der Strom zur Zeit einer normalen Speisung fließen, kurz gesagt, es kann ein so genannter Schichtkurzschluss auftreten. In einem solchen Fall ist der in der Leitung 15 fließende Strom größer als der Schwellenstrom, und gibt daher die CPU 19 kein Ausschaltbefehlsignal an den FET 32 aus. Infolge eines relativ großen elektrischen Stroms, der kontinuierlich in der Leitung 15 fließt, verbleibt von der Kernleitung (nicht gezeigt) erzeugte Wärme in der Leitung 15, und könnte eine Verschlechterung der isolierenden Beschichtung der Leitung 15 verursachen.
  • In Anbetracht des Vorstehenden ist in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel der Zweigpfad 21 elektrisch mit dem Diodenelement D verbunden, so dass Wärme übertragen werden kann. Dies ermöglicht es, dass die Temperatur des Zweigpfads 21 und die des Diodenelements D nahezu gleich werden. Infolge dessen kann die Temperatur des Zweigpfads 21 durch Erfassen der Temperaturänderung des Spannungsabfallwerts zwischen den Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen 25 und 26 des Diodenelements berechnet werden.
  • Wenn die Temperatur des Diodenelements D einen Schwellenwert überschritten hat, führt die CPU 19 die Verarbeitung des Ein-/Aus-Schaltens aus, wie beispielsweise das Ausgeben eines Ausschaltbefehlsignals an den FET 32. Infolge dessen kann eine Raucherzeugung der Leitung 15 zur Zeit des Schichtkurzschlusses unterdrückt werden.
  • Nachstehend wird die Verarbeitung des Ein-/Aus-Schaltens beschrieben. In dem Gehäuse für elektrischen Anschluss 10 steuert die CPU 19 die folgende Verarbeitung des Ein-/Aus-Schaltens und führt diese aus. 4 ist ein Ablaufdiagramm, das den Inhalt der Verarbeitung des Ein-/Aus-Schaltens zeigt.
  • Bei einem Beginnen der Verarbeitung des Ein-/Aus-Schaltens beurteilt die CPU 19, ob ein Einschaltsignal sequenziell von der ersten (S101) bis zu der (i)-ten Einrichtung 36i (S102) zugeführt wird oder nicht. Wenn ein Einschaltsignal von der Einrichtung 361 zugeführt wurde, erhält sodann die CPU 19 ein Abnormalitätsflag i entsprechend dem (i)-ten FET 321 aus dem nichtflüchtigen Speicher 35 (S103). Wenn das Abnormalitätsflag i ”0” ist (S104: Nein), gibt die CPU 19 ein Einschaltsignal an den FET 32i aus. Demgemäß speist die CPU 19 zwischen dem Sourcebereich 30 und dem Drainbereich 31 in dem FET 32i und liefert die elektrische Leistung an eine Vielzahl von Lasten LiM1 oder Lasten LiMi, die mit dem Drainbereich 31 in dem FET 32i verbunden sind.
  • Als Nächstes erhält in dem Schritt S106 die CPU 19 eine Spannung in der Seite des Sourcebereichs 30 in dem FET 32i von einem Anschluss Bi. Die CPU 19 erhält darüber hinaus eine Spannung in der Seite des Eingangsanschlusses 25 eines Diodenelements Di1 oder iMi aus einem Anschluss Vi. Und außerdem erhält die CPU 19 eine zusammengesetzte Spannung in der Seite des Ausgangsanschlusses 26 des Diodenelements Di1 oder DiMi aus dem V-Kom-Anschluss 43.
  • Hierbei steigt dann, wenn ein Schichtkurzschluss in irgend einem der Leitungspfade 21 auftritt, die Temperatur dieses Leitungspfads 21 an. Dann steigt die Temperatur des Diodenelements D, das mit dem Leitungspfad 21 mit einem aufgetretenen Schichtkurzschluss verbunden ist, höher als diejenige der anderen Diodenelemente D. Dies bewirkt, dass der Spannungsabfallwert abnimmt, so dass folglich ein elektrischer Strom größer als diejenigen Ströme in den anderen Diodenelementen D fließt, die mit dem Leitungspfad 21 verbunden sind, in dem ein Schichtkurzschluss aufgetreten ist. Demgemäß wird der Spannungsabfallwert des Diodenelements D, das mit dem Leitungspfad 21 verbunden ist, in dem ein Schichtkurzschluss aufgetreten ist, als eine zusammengesetzte Spannung einer Vielzahl der Diodenelemente D dominant.
  • Als Nächstes erhält die CPU 19 die Temperatur-Spannungs-Daten aus dem ROM 33 (S107). Die CPU 19 berechnet den Spannungsabfallwert zwischen den Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen 25 und 26 des Diodenelements D. Dann ändert die CPU 19 den Spannungsabfallwert zwischen den Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen 25 und 26 auf der Grundlage einer an den Eingangsanschluss 25 in dem Diodenelement D angelegten Spannung und der Temperatur-Spannungs-Daten. In diesem Augenblick arbeitet die CPU 19 als eine Steuereinrichtung.
  • Die CPU 19 berechnet eine Temperatur des Diodenelements D auf der Grundlage des geänderten Spannungsabfallwerts (S108).
  • Die CPU 19 beurteilt, ob die Temperatur des Diodenelements D, welches anhand der zusammengesetzten Spannung unterschieden wurde, einen Schwellenwert überschreitet oder nicht (S109). In anderen Worten beurteilt die CPU 19, dass die Temperatur des Diodenelements D einen Schwellenwert überschritten hat, wenn der Spannungsabfallwert des Diodenelements D (oder der geänderte Spannungsabfallwert) kleiner ist als ein vorbestimmter Schwellenwert. In diesem Augenblick arbeitet die CPU 19 als eine Beurteilungseinrichtung. Die CPU 19 gibt ein Ausschaltbefehlsignal an den FET 32i aus (S115), wenn die Temperatur des Diodenelements D einen Schwellenwert überschritten hat (S109: Ja). In diesem Augenblick arbeitet die CPU 19 als eine Steuereinrichtung. Wie vorstehend erwähnt wurde, ist in der zusammengesetzten Spannung der Spannungsabfallwert des Diodenelements D, das mit dem Leitungspfad 21 mit einem aufgetretenen Schichtkurzschluss verbunden ist, dominant. Demgemäß kann die CPU 19 beurteilen, ob die Temperatur des Diodenelements D, das mit dem Leitungspfad 21 mit einem aufgetretenen Schichtkurzschluss verbunden ist, einen Schwellenwert überschreitet oder nicht.
  • Als Nächstes zeichnet die CPU 19 ”1” in dem (i)-ten Abnormalitätsflag in dem nichtflüchtigen Speicher 35 auf (S116). Dann informiert die CPU 19 einen Benutzer durch Einschalten der (i)-ten ersten LED 44i, dass eine Abnormalität in dem mit dem FET 321 verbundenen Leitungspfad 21 aufgetreten ist (S117).
  • Die CPU 19 wiederholt die vorstehende Verarbeitung, bis sie die (n)-te Einrichtung 36n erreicht (S113: Nein). Die CPU 19 führt die vorstehende Verarbeitung bis zu der (n)-ten Einrichtung 36n aus (S113: Ja), bevor sie die vorstehende Verarbeitung von der ersten Einrichtung 36 an wiederholt (S101).
  • Wenn die Temperatur des Diodenelements D den Schwellenwert nicht überschreitet (S109: Nein), setzt die CPU 19 das Abnormalitätsflag in dem nichtflüchtigen Speicher 35 auf ”0” (S110).
  • Darauf folgend beurteilt die CPU 19, ob dem FET 32i von der (i)-ten Einrichtung 36i ein Ausschaltsignal zugeführt wird, und gibt, falls dem so ist (S111: Ja), ein Ausschaltbefehlsignal an den FET 32i aus. Die CPU 19 schaltet daher die Last LiM1 oder die Last LiMi, die mit dem FET 32i verbunden ist, ab. Als Nächstes führt die CPU 19 die Verarbeitung in den Schritten S113 und S114 aus, wiederholt dann die vorstehende Verarbeitung, bis sie die (n)-te Einrichtung 36 erreicht, und wiederholt danach erneut die vorstehende Verarbeitung ausgehend von der ersten Einrichtung 36.
  • Zusätzlich führt dann, wenn kein Einschaltsignal von der Einrichtung 36i zugeführt wird (S102: Nein), die CPU 19 S113 und SS14 aus, und wartet dann, bis ein Einschaltsignal von der Einrichtung 36i zugeführt wird,
  • Darüber hinaus schreibt dann, wenn das Abnormalitätsflag i in S104 ”1” ist (Ja), die CPU 19 die Abnormalitätsinformation durch Ausführen des Schritts S116 in den nichtflüchtigen Speicher 35, und schaltet durch Ausführen von S117 die (i)-te erste LED 44i ein. Die nachfolgende Verarbeitung ist dieselbe wie die Vorstehende.
  • Die CPU 19 und ein Element zum Erfassen von Temperatur sind vorwiegend über zwei aus dem Element heraus geführte Leitungen miteinander verbunden. In Übereinstimmung mit dem vorliegenden Ausführungsbeispiel ist das Diodenelement D mit dem Zweigpfad 21 und dem Signalleitungspfad 28 verbunden, welcher mit der CPU 19 verbunden ist. Demgemäß kann der Zweigpfad als eine Leitung in dem Diodenelement D dienen, und dadurch die Konfiguration bzw. den Aufbau des Gehäuses für elektrischen Anschluss 10 vereinfachen.
  • Zusätzlich ist in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel das Diodenelement D auf der gedruckten Schaltung 12 angebracht und mit dem substratseitigen Leitungspfad 18 (Zweigpfad 21), der auf dieser gedruckten Schaltung 12 ausgebildet ist, verbunden. Dies kann die Konfiguration des Gehäuses für elektrischen Anschluss 10 vereinfachen.
  • Und außerdem sind in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel die mehreren Lasten L mit jedem FET 32 verbunden. Daher kann ein FET 32 das Einschalten/Ausschalten einer Vielzahl der Lasten L steuern, so dass dadurch eine Kostenverringerung erzielt wird.
  • Zusätzlich ändert sich, wie in 5 gezeigt ist, ein Spannungsabfallwert zwischen den Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen 25 und 26 des Diodenelements D in Übereinstimmung mit der an den Eingangsanschluss 25 des Diodenelements D anzulegenden Spannung. Unter Berücksichtigung dieses Punkts ist das vorliegende Ausführungsbeispiel derart aufgebaut, dass die Temperatur-Spannungs-Daten, die den Zusammenhang zwischen einem Spannungsabfallwert und einer Temperatur angeben, in dem ROM 33 aufgezeichnet sind. Auf der Grundlage dieser Temperatur-Spannungs-Daten kann der Spannungsabfallwert zwischen den Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen 25 und 26 des Diodenelements D geändert werden, und kann daher eine genaue Temperaturmessung auch dann erzielt werden, wenn sich die an den Eingangsanschluss 25 des Diodenelements D anzulegende Spannung geändert hat.
  • Zusätzlich ändert sich, wie in 5 gezeigt ist, der Spannungsabfallwert des Diodenelements D mit einem PN-Übergang relativ linear relativ zu der Temperatur, so dass eine genaue Beurteilung in einem breiteren Temperaturbereich durchgeführt werden kann.
  • In dem vorliegenden Ausführungsbeispiel ist der schmale Abschnitt 24 nahe an dem Diodenelement D bereitgestellt. Der schmale Abschnitt 24 so gebildet, dass verglichen mit dem anderen substratseitigen Leitungspfad 18 leicht Wärme erzeugt wird. Daher steigt dann, wenn zum Beispiel ein Schichtkurzschluss aufgetreten ist, die Temperatur des schmalen Abschnitts 24 höher als diejenige anderer Teile. Der schmale Abschnitt 24 ist nahe an dem Diodenelement D angeordnet, so dass das Diodenelement D das Auftreten eines Kurzschlusses sicher erfassen kann.
  • Wenn die mehreren Lasten L mit einem FET 32 verbunden sind, kann ein in den Lasten L fließender Überstrom durch Verbinden eines Widerstands in Serie mit der Last L und Messen des in dem Widerstand fließenden elektrischen Stroms erfasst werden.
  • Bei dem vorstehenden Verfahren muss jedoch ein Widerstand mit jeder Last L verbunden werden. Wenn ein relativ großer elektrischer Strom in der Last L fließt, werden die Kosten des Widerstands relativ hoch. Dies kann zu einem Kostenanstieg führen.
  • Darüber hinaus fließt selbst zu normalen Zeiten ein elektrischer Strom in dem in Serie mit der Last L verbundenen Widerstand, wodurch verursacht wird, dass die elektrische Leistung, die der Last L zuzuführen ist, in dem Widerstand verbraucht wird. Dies kann zu einem Leistungsverlust führen.
  • In dem vorliegenden Ausführungsbeispiel ist das Diodenelement D auf eine Art und Weise derart angeordnet, dass sie dem substratseitigen Leitungspfad 18 überlagert ist, so dass der Spannungsabfall des Diodenelements D, der der Temperaturänderung zugehörig ist, gemessen wird, und dadurch der in der Last L fließende Überstrom erfasst wird. Dies kann eine Kostenverringerung erzielen, da keine Notwendigkeit besteht, einen relativ teuren Widerstand zu verwenden.
  • Darüber hinaus ist, wie in 3 gezeigt ist, das Diodenelement D parallel mit der Last L verbunden, so dass der Verlust der Leistung, die der Last L zugeführt werden sollte, unterdrückt werden kann.
  • <Ausführungsbeispiel 2>
  • Nachstehend wird ein Ausführungsbeispiel 2 der Erfindung unter Bezugnahme auf die 6 bis 8 beschrieben. In dem vorliegenden Ausführungsbeispiel ist, wie in 6 gezeigt ist, ein Schaltelement S wie beispielsweise ein FET zwischen jedem Diodenelement D und dem Verbindungspunkt 42 angeordnet.
  • Die CPU 19 verbindet selektiv mit einem beliebigen einer Vielzahl von Diodenelementen D durch Ausgeben eines Einschaltbefehlsignals und eines Ausschaltbefehlsignals an das Schaltelement S. Das Einschaltbefehlsignal und das Ausschaltbefehlsignal entsprechen Auswahlsignalen.
  • Darüber hinaus ist die CPU 19 mit den mehreren zweiten Leuchtdioden bzw. LED 46 verbunden, die auf eine Art und Weise derart bereitgestellt sind, dass sie allen der Diodenelemente D entsprechen. Die CPU 19 steuert das Einschalten der zweiten LED 46.
  • Die Konfigurationen außer den vorstehenden sind nahezu dieselben wie in dem ersten Ausführungsbeispiel, so dass dieselben Bezugszeichen denselben Elementen zugewiesen sind, um wiederholte Beschreibungen derselben wegzulassen.
  • 7 ist ein Hauptablaufdiagramm der Verarbeitung des Einschaltens/Ausschaltens gemäß dem Ausführungsbeispiel 2. Bei Beginnen der Verarbeitung des Einschaltens/Ausschaltens führt die CPU 19 zunächst eine Anfangsverarbeitung aus (S201).
  • 8 zeigt ein Ablaufdiagramm der Anfangsverarbeitung. Die CPU 19 führt die Verarbeitung von S221 bis S227 aus, um Ausschaltbefehlsignale an alle Schaltelemente S auszugeben. Demgemäß schaltet die CPU 19 alle Schaltelemente S aus.
  • Als Nächstes führt die CPU 19 dieselbe Verarbeitung wie diejenige der Schritte S101 bis S105 in 4 aus. Wenn das Abnormalitätsflag ”0” ist (S104: Nein), dann gibt die CPU 19 ein Einschaltbefehlsignal an den FET 32i aus (S105).
  • Als Nächstes gibt die CPU 19 ein Einschaltbefehlsignal an ein mit dem FET 32i verbundenes Schaltelement Sij sequenziell ausgehend von dem ersten aus (S202). Dadurch wird ein Diodenelement Dij (j ist eine natürliche Zahl) selektiv mit der CPU 19 verbunden.
  • Als Nächstes führt die CPU 19 dieselbe Verarbeitung wie diejenige der Schritte S106 bis S107 in 4 aus. Die CPU 19 berechnet die Temperatur des Diodenelements Dij auf der Grundlage des geänderten Spannungsabfallwerts (S204).
  • Die CPU 19 beurteilt, ob die Temperatur des Diodenelements Dij einen Schwellenwert überschritten hat oder nicht (S205). In diesem Augenblick arbeitet die CPU 19 als eine Beurteilungseinrichtung. Wenn die Temperatur des Diodenelements Dij den Schwellenwert überschritten hat (S205: Ja), führt die CPU 19 dieselbe Verarbeitung wie diejenige der Schritte S115 bis S117 in 4 aus.
  • Als Nächstes scheltet die CPU 19 eine zweite Leuchtdiode 46ij ein. Dies erlaube es der CPU 19, den Benutzer darüber zu informieren, welches mit dem Zweigpfad 21 verbundene Diodenelement Dij eine in dem Zweigpfad aufgetretene Abnormalität aufweist.
  • Die CPU 19 wiederholt die vorstehend erwähnte Verarbeitung, bis sie die (n)-te Einrichtung 36n erreicht (S113: Nein, S114). Die CPU 19 führt die vorstehende Verarbeitung bis zu der (n)-ten Einrichtung 36n aus (S113: Ja), bevor sie die vorstehende Verarbeitung ausgehend von der ersten Einrichtung 36 wiederholt (S101).
  • Wenn die Temperatur des Diodenelements Dij den Schwellenwert nicht überschreitet (S205: Nein), gibt die CPU 19 ein Ausschaltbefehlsignal an das Schaltelement Sij aus. Dadurch trennt die CPU 19 die elektrische Verbindung zwischen dem Diodenelement Dij und der CPU 19.
  • Als Nächstes führt die CPU 19 die vorstehend erwähnte Verarbeitung für das Schaltelement von S11 bis SiMi aus, die mit dem FET 32i verbunden sind (S207, S208).
  • Bei der Ausführung der vorstehend erwähnten Verarbeitung für das Schaltelement SiMi (S207: Ja) führt die CPU 19 dieselbe Verarbeitung wie diejenige von S110 bis S112 in 4 aus. Als Nächstes führt die CPU 19 die Verarbeitung in S113 und S114 in 4 aus, wiederholt dann die vorstehende Verarbeitung, bis sie die (n)-te Einrichtung 36 erreicht, und wiederholt danach erneut die vorstehende Verarbeitung ausgehend von der ersten Einrichtung 36.
  • Darüber hinaus schreibt dann, wenn das Abnormalitätsflag i ”1” ist in S104 (Ja), die CPU 19 durch Ausführen von S116 die Abnormalitätsinformation in den nichtflüchtigen Speicher 35, und schaltet durch Ausführen von S117 die (i)-te erste Leuchtdiode 44i ein. Die nachfolgende Verarbeitung ist dieselbe wie die vorstehende.
  • In dem vorliegenden Ausführungsbeispiel erlaubt das Verbinden der CPU 19 mit einem beliebigen der mehreren Diodenelemente Dij und das sequenzielle Beurteilen, ob der Spannungsabfallwert dieses Diodenelements Dij größer ist als der Schwellenwert, die Beurteilung, auf welchem der mehreren Leitungspfade 21 ein Schichtkurzschluss aufgetreten ist.
  • <Ausführungsbeispiel 3>
  • Nachstehend wird ein Ausführungsbeispiel 3 der Erfindung unter Bezugnahme auf die 9 und 10 beschrieben. In dem vorliegenden Ausführungsbeispiel ist, wie in 9 gezeigt ist, ein Signalleitungspfad 28, der mit einem Anschluss auf der stromabwärtigen Seite jedes Diodenelements verbunden ist, über die Spannungsumwandlungsschaltung 39 mit einem in der CPU 19 bereitgestellten Anschluss VD 50 verbunden. Der Anschluss VD 50 ist so bereitgestellt, dass er jedem Diodenelement D entspricht. Genauer ist ein auf der stromabwärtigen Seite des (i)-ten FETi liegendes und mit dem (Mi)-ten substratseitigen Leitungspfad 18 verbundenes Diodenelement DiMi mit einem Anschluss VD 50iMi verbunden. Jeder Anschluss VD 50 weist die A/D-Umwandlungsfunktion auf. Dies erlaubt es der CPU 19, eine Spannung in der Seite des Ausgangsanschlusses 26 des Diodenelements D zu erhalten.
  • Die weiteren Konfigurationen neben der vorstehenden sind nahezu dieselben wie in Ausführungsbeispiel 2, so dass dieselben Bezugszeichen denselben Elementen zugewiesen sind, um wiederholte Beschreibungen derselben zu vermeiden.
  • 10 ist ein Hauptablaufdiagramm der Verarbeitung des Einschaltens/Ausschaltens gemäß dem Ausführungsbeispiel 3. Zu Beginn der Verarbeitung des Einschaltens/Ausschaltens führt die CPU 19 dieselbe Verarbeitung wie diejenige von S101 bis S202 in 7 aus. Als Nächstes erhält die CPU 19 in dem Schritt S301 eine Spannung in der Seite des Sourcebereichs 30 in dem FET 32i aus dem Anschluss Bi. Und außerdem erhält die CPU 19 eine Spannung in der Seite des Eingangsanschlusses 25 des Diodenelements Di1 oder des Diodenelements DiMi aus dem Anschluss Vi. Weiter außerdem erhält die CPU 19 eine Spannung in der Seite jedes Ausgangsanschlusses 26 des Diodenelements D11 oder des Diodenelements DnMn aus jedem Anschluss VD 50iMi.
  • Als Nächstes führt die CPU 19 dieselbe Verarbeitung wie diejenige von S107 bis S205 in 7 aus. Wenn die Temperatur des Diodenelements Dij den Schwellenwert überschreitet (S205: Ja), führt die CPU 19 dieselbe Verarbeitung wie diejenige von S115 bis S209 in 7 aus.
  • Die CPU 19 wiederholt die vorstehende Verarbeitung, bis sie die (n)-te Einrichtung 36 erreicht (S113: Nein, S114). Die CPU 19 führt die vorstehende Verarbeitung für die (n)-te Einrichtung 36n aus (S113: Ja), bevor sie die vorstehende Verarbeitung ausgehend von der ersten Einrichtung 36 wiederholt (S101).
  • Wenn die Temperatur des Diodenelements Dij den Schwellenwert nicht überschreitet (S205: Nein), führt die CPU 19 die vorstehende Verarbeitung für die Diodenelemente von Di1 bis DiMi aus, die mit dem FET 32i verbunden sind (S207, S208).
  • Bei der Ausführung der vorstehenden Verarbeitung für das Diodenelement DiMi (S207: Ja) führt die CPU 19 dieselbe Verarbeitung wie diejenige von S110 bis S112 in 7 aus. Als Nächstes führt die CPU 19 die Verarbeitung in S113 und S114 in 7 aus, wiederholt dann die vorstehende Verarbeitung, bis sie die (n)-te Einrichtung 36 erreicht, und wiederholt danach erneut die vorstehende Verarbeitung ausgehend von der ersten Einrichtung 36.
  • In dem vorliegenden Ausführungsbeispiel kann das mit jedem Diodenelement D verbundene Schaltelement S weggelassen werden. Dies erzielt eine weitere Kostenreduktion.
  • <Andere Ausführungsbeispiele>
  • Mit den vorstehend unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen beschriebenen Ausführungsbeispielen ist zu verstehen, dass die Erfindung nicht auf genau diese Ausführungsbeispiele beschränkt ist, und dass zum Beispiel die Ausführungsbeispiele wie nachstehend innerhalb des Schutzumfangs der Erfindung liegen können.
    • (1) In den vorliegenden Ausführungsbeispielen wird das Diodenelement D als ein Halbleiterelement verwendet, jedoch ist die Erfindung nicht darauf beschränkt, und können beliebige wahlfreie Halbleiterelemente mit einem PN-Übergang, wie beispielsweise eine Zener-Diode und ein Transistor verwendet werden. Darüber hinaus kann dann, wenn eine Zener-Diode verwendet wird, die Zener-Diode in einer Richtung verschaltet sein, die der von dem Zweigpfad 21 in Richtung des Signalleitungspfads führenden Richtung entgegengesetzt ist. Was einen Transistor anbelangt, kann zum Beispiel beurteilt werden, ob eine Spannung Vbe zwischen der Basis und dem Emitter größer ist als der Schwellenwert oder nicht.
    • (2) In den vorliegenden Ausführungsbeispielen weist der Leitungspfad eine Vielzahl von Zweigpfaden 21 auf, jedoch ist die Erfindung nicht darauf beschränkt, und können ein Halbleiterschaltelement und eine Last L über einen Leitungspfad verschaltet sein, mit welchem ein Halbleiterelement verbunden sein kann.
    • (3) In den vorliegenden Ausführungsbeispielen ist der ROM 33 enthalten, welcher mit den Temperatur-Spannungs-Daten versehen ist, die einen Zusammenhang zwischen einer an den Eingangsanschluss 25 des Diodenelements D anzulegenden Spannung und einem Spannungsabfallwert wischen den Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen 25 und 26 zeigen, jedoch ist die Erfindung nicht darauf beschränkt. Wenn zum Beispiel eine an den Eingangsanschluss 25 des Diodenelements D aus einer Konstantspannungsquelle anzulegende Spannung konstant gehalten wird, ist eine Änderung des Spannungsabfallwerts unnötig, und braucht die Änderung auf der Grundlage der Temperatur-Spannungs-Daten nicht notwendiger Weise durchgeführt zu werden.
    • (4) Die Schaltungsschutzvorrichtung beinhaltet das Gehäuse zum oder für elektrischen Anschluss bzw. das Elektroanschlussgehäuse, und außerdem breiter eine breitere Einrichtung. Die Schaltungsschutzvorrichtung braucht das Gehäuse 11 nicht aufzuweisen. In den vorliegenden Ausführungsbeispielen ist die erfindungsgemäße Schaltungsschutzvorrichtung auf das in einem Fahrzeug zu verbauende Elektroanschlussgehäuse angewandt, jedoch ist die Erfindung nicht darauf beschränkt, und kann die erfindungsgemäße Schaltungsschutzvorrichtung auf beliebige elektrische Schaltungsanordnungen angewandt werden.
    • (5) In den vorliegenden Ausführungsbeispielen wird das Diodenelement D mit dem Formteilgehäuse verwendet, jedoch kann ein aus einem bloßen Halbleiterplättchen oder Chip bestehendes Diodenelement D verwendet werden. Eine aus einem bloßen bzw. nackten Chip bestehende Diode ist bevorzugenswert, da sie verglichen mit einer Diode in einem Formteilgehäuse leicht Wärme aus der Außenumgebung absorbiert.
    • (6) In den vorliegenden Ausführungsbeispielen beinhaltet das Diodenelement D zwei Dioden 29, jedoch ist die Erfindung nicht darauf beschränkt, und kann das Diodenelement D eine oder drei oder mehr Dioden 29 beinhalten.
    • (7) In den vorliegenden Ausführungsbeispielen arbeitet die CPU 19 als eine Beurteilungseinrichtung, jedoch ist die Erfindung nicht darauf beschränkt, und kann die Beurteilungseinrichtung durch einen analogen Vergleicher gebildet sein.
    • (8) In den vorliegenden Ausführungsbeispielen ist das Diodenelement D parallel mit der Last L verschaltet, jedoch ist die Erfindung nicht darauf beschränkt, und kann das Diodenelement D seriell mit der Last L verschaltet sein, wobei seine beiden Enden mit Zweigpfaden zum Erfassen von Spannungen versehen sind, und die Zweigpfade mit der CPU 19 verbunden sein können.
  • Zusammenfassung
  • Ein Gehäuse für elektrischen Anschluss 10 beinhaltet einen FET 32 zur Verbindung mit einer Leistungsversorgung B, einen substratseitigen Leitungspfad 18, der mit dem FET 32 verbunden ist und den FET 32 mit einer Last L verbindet, ein Diodenelement D, das elektrisch mit dem substratseitigen Leitungspfad 18 verbunden ist, Wärme überträgt und einen PN-Übergang aufweist, und eine CPU 19 zum Beurteilen, ob der Spannungsabfallwert zwischen den Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen 25 und 26 des Diodenelements D größer ist als ein Schwellenwert oder nicht, und Liefern eines Ausschaltbefehlssignals an den FET 32, falls eine Entscheidung dahingehend getroffen wird, dass der Spannungsabfallwert kleiner als der Schwellenwert ist.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • - JP 04-334640 [0002]

Claims (12)

  1. Schaltungsschutzvorrichtung, mit: einem Halbleiterschaltelement (32) zur Verbindung mit einer Leistungsversorgung, einem Leitungspfad (18), der mit dem Halbleiterschaltelement verbunden ist und das Halbleiterschaltelement mit einer Last (L) verbindet, einem Halbleiterelement (D), das elektrisch mit dem Leitungspfad verbunden ist, Wärme überträgt und einen PN-Übergang aufweist, einer Beurteilungseinrichtung (19) zum Beurteilen, ob ein Spannungsabfallwert zwischen Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen (25, 26) des Halbleiterelements größer als ein Schwellenwert ist oder nicht, und einer Steuereinrichtung (19) zum Ausgeben eines Ausschaltbefehlsignals an das Halbleiterschaltelement, falls eine Beurteilung durch die Beurteilungseinrichtung dahingehend getroffen wird, dass der Spannungsabfallwert kleiner als der Schwellenwert ist.
  2. Schaltungsschutzvorrichtung nach Anspruch 1, bei der: der Leitungspfad (18) einen Zweigpfad (21) beinhaltet, der in eine Vielzahl von Teilen verzweigt ist, eine Vielzahl der Zweigpfade jeweils mit der Last (L) und dem Halbleiterelement (D) verbunden sind, die Beurteilungseinrichtung (19) beurteilt, ob irgend einer von Spannungsabfallwerten zwischen Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen einer Vielzahl der Halbleiterelemente größer ist als der Schwellenwert oder nicht, und die Steuereinrichtung (19) ein Ausschaltbefehlsignal an das Halbleiterschaltelement ausgibt, wenn eine Beurteilung durch die Beurteilungseinrichtung dahingehend getroffen wird, dass irgend einer der Spannungsabfallwerte zwischen Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen einer Vielzahl der Halbleiterelemente kleiner ist als der Schwellenwert.
  3. Schaltungsschutzvorrichtung nach Anspruch 2, bei der ein Schaltelement (S) zum selektiven Verbinden irgend eines einer Vielzahl der Halbleiterelemente (D) und der Beurteilungseinrichtung (19) bei Empfangen eines von der Steuereinrichtung (19) ausgegebenen Auswahlsignals zwischen einer Vielzahl der Halbleiterelemente und der Beurteilungseinrichtung angeordnet ist.
  4. Schaltungsschutzvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, beinhaltend eine Speichereinrichtung (35), die Daten aufzeichnet, die einen Zusammenhang zwischen einer an einen Eingangsanschluss (25) des Halbleiterelements (D) anzulegenden Spannung und einem Spannungsabfallwert zwischen Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen (25, 26) des Halbleiterelements zeigen, wobei die Steuereinrichtung (19) einen Spannungsabfallwert zwischen Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen des Halbleiterelements auf der Grundlage einer an einen Eingangsanschluss des Halbleiterelements angelegten Spannung und der Daten ändert und dann den geänderten Spannungsabfallwert an die Beurteilungseinrichtung (19) ausgibt, die Beurteilungseinrichtung beurteilt, ob der geänderte Spannungsabfallwert größer ist als ein Schwellenwert oder nicht, und die Steuereinrichtung ein Ausschaltbefehlsignal an das Halbleiterschaltelement ausgibt, wenn eine Beurteilung durch die Beurteilungseinrichtung dahingehend getroffen wird, dass der geänderte Spannungsabfallwert kleiner ist als der Schwellenwert.
  5. Schaltungsschutzvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei der das Halbleiterelement (D) parallel mit der Last (L) verschaltet ist.
  6. Gehäuse für elektrischen Anschluss, mit: einem Halbleiterschaltelement (32) zur Verbindung mit einer Leistungsversorgung, einem Leitungspfad (18), der mit dem Halbleiterschaltelement verbunden ist und das Halbleiterschaltelement mit einer Last (L) verbindet, einem Halbleiterelement (D), das elektrisch mit dem Leitungspfad verbunden ist, Wärme überträgt und einen PN-Übergang aufweist, einer Beurteilungseinrichtung (19) zum Beurteilen, ob ein Spannungsabfallwert zwischen Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen (25, 26) des Halbleiterelements größer als ein Schwellenwert ist oder nicht, und einer Steuereinrichtung (19) zum Ausgeben eines Ausschaltbefehlsignals an das Halbleiterschaltelement, falls eine Beurteilung durch die Beurteilungseinrichtung dahingehend getroffen wird, dass der Spannungsabfallwert kleiner als der Schwellenwert ist.
  7. Gehäuse für elektrischen Anschluss nach Anspruch 6, bei dem: der Leitungspfad (18) einen Zweigpfad (21) beinhaltet, der in eine Vielzahl von Teilen verzweigt ist, eine Vielzahl der Zweigpfade jeweils mit der Last (L) und dem Halbleiterelement (D) verbunden sind, die Beurteilungseinrichtung (19) beurteilt, ob irgend einer von Spannungsabfallwerten zwischen Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen einer Vielzahl der Halbleiterelemente größer ist als der Schwellenwert oder nicht, und die Steuereinrichtung (19) ein Ausschaltbefehlsignal an das Halbleiterschaltelement ausgibt, wenn eine Beurteilung durch die Beurteilungseinrichtung dahingehend getroffen wird, dass irgend einer der Spannungsabfallwerte zwischen Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen einer Vielzahl der Halbleiterelemente kleiner ist als der Schwellenwert.
  8. Gehäuse für elektrischen Anschluss nach Anspruch 7, bei dem ein Schaltelement (S) zum selektiven Verbinden irgend eines einer Vielzahl der Halbleiterelemente (D) und der Beurteilungseinrichtung (19) bei Empfangen eines von der Steuereinrichtung (19) ausgegebenen Auswahlsignals zwischen einer Vielzahl der Halbleiterelemente und der Beurteilungseinrichtung angeordnet ist.
  9. Gehäuse für elektrischen Anschluss nach einem der Ansprüche 6 bis 8, beinhaltend eine Speichereinrichtung (35), die Daten aufzeichnet, die einen Zusammenhang zwischen einer an einen Eingangsanschluss (25) des Halbleiterelements (D) anzulegenden Spannung und einem Spannungsabfallwert zwischen Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen (25, 26) des Halbleiterelements zeigen, wobei die Steuereinrichtung (19) einen Spannungsabfallwert zwischen Eingangs-/Ausgangs-Anschlüssen des Halbleiterelements auf der Grundlage einer an einen Eingangsanschluss des Halbleiterelements angelegten Spannung und der Daten ändert und dann den geänderten Spannungsabfallwert an die Beurteilungseinrichtung (19) ausgibt, die Beurteilungseinrichtung beurteilt, ob der geänderte Spannungsabfallwert größer ist als ein Schwellenwert oder nicht, und die Steuereinrichtung ein Ausschaltbefehlsignal an das Halbleiterschaltelement ausgibt, wenn eine Beurteilung durch die Beurteilungseinrichtung dahingehend getroffen wird, dass der geänderte Spannungsabfallwert kleiner ist als der Schwellenwert.
  10. Gehäuse für elektrischen Anschluss nach einem der Ansprüche 6 bis 9, bei dem das Halbleiterelement (D) parallel mit der Last (L) verschaltet ist.
  11. Gehäuse für elektrischen Anschluss nach einem der Ansprüche 6 bis 10, bei dem das Halbleiterschaltelement (32) auf einer Leiterplatte (12) angebracht ist, der Leitungspfad (18) ein substratseitiges Halbleiterelement (D) beinhaltet, das mittels einer Technik für gedruckte Verdrahtung auf der Leiterplatte ausgebildet ist, und das Halbleiterelement mit dem substratseitigen Leitungspfad verbunden ist.
  12. Gehäuse für elektrischen Anschluss nach Anspruch 11, bei dem ein leicht Wärme erzeugendes Element (24), das Wärme leichter erzeugt als andere Teile in dem substratseitigen Leitungspfad (18), in dem substratseitigen Leitungspfad nahe einem mit dem Halbleiterelement (D) verbundenen Teil ausgebildet ist.
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