DE1079950B - Lichtempfindliche Schicht fuer reproduktionstechnische Zwecke und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents

Lichtempfindliche Schicht fuer reproduktionstechnische Zwecke und Verfahren zu ihrer Herstellung

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DE1079950B
DE1079950B DEK36937A DEK0036937A DE1079950B DE 1079950 B DE1079950 B DE 1079950B DE K36937 A DEK36937 A DE K36937A DE K0036937 A DEK0036937 A DE K0036937A DE 1079950 B DE1079950 B DE 1079950B
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DEK36937A
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Martin Hepher
Hans Max Wagner
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Kodak Ltd
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Kodak Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/008Azides

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

  • Lichtempfindliche Schicht für reproduktionstechnische Zwecke und Verfahren zu ihrer Herstellung Die Erfindung betrifft lichtempfindliche Schichten, @vie sie für verschiedene photomechanische Zwecke, z. B. zur Herstellung von Ätzresistageschablonen, dienen und zur bildgerechten Annahme von Farben und für lithographische und ähnliche Druckverfahren geeignet sind, in denen »fettartige« Farben verwendet werden.
  • Es ist bekannt, für Ätzresistagen und in lithographischen und ähnlichen Reproduktionsverfahren lichtcInIptindliche Schichten zu verwenden, die z. B. aus einer mit Kaliumbichromat imprägnierten Gelatineschicht oder einer mit einem wasserlöslichen Arylazid sensibilisierten Kolloidschicht bestehen, die dem Licht ausgesetzt und dann über die ganze Fläche gefärbt wird, worauf man sie mit Wasser spült und so die Farben von den Teilen der Schicht entfernt, die nicht durch die Belichtung gehärtet wurden. Es sind auch viele Variationen dieses Verfahrens vorgeschlagen werden.
  • Um eine so erhaltene Kolloidschicht als Druckform zu verwenden, ist es häufig nötig, sie durch chemische oder thermische Behandlung weiterzuhärten Oder sie durch Aufbringen eines gegen Wasser widerstandsfähigen Harzes oder einer solchen Farbe zu verstärken.
  • Auch ist es bekannt, daß Schablonebilder mit besserer Widerstandsfähigkeit gegen wäßrige Säure oder andere Ätzmittel aus sensibilisierten wasserunlöslichen Harzen oder Polymeren erhalten werden können. Hierzu verwendet man gewisse lichtempfindliche synthetische Harze, die ungesättigte Gruppierungen enthalten, die die Lichtempfindlichkeit bewirken. Es ist auch bekannt, Mischungen nicht lichtempfindlicher wasserunlöslicher Harze mit organischen Verbindungen zu verwenden, die ungesättigte Gruppierungen aufweisen, die beim Belichten bewirken, daß die Harze quervernetzt und in gewissen Lösungsmitteln unlöslich werden.
  • Zur Erzielung verbesserter, wasserundurchlässiger Bilder mit guter Widerstandsfähigkeit gegen saure oder alkalische Lösungen, die aber zugleich keiner Verstärkung oder zusätzlichen Hitzebehandlung bedürfen, verwendet man nach der britischen Patentschrift 767 985 aromatische Azidoverbindungen, die nur in organischen Lösungsmitteln löslich sind und so zur Erzielung lichtempfindlicher Schichten mit wasserunlöslichen Harzen gemischt oder diesen einverleibt werden können. Nach dem Belichten werden die unbelichtet gebliebenen Flächen durch Baden in geeigneten organischen Lösungsmitteln entfernt.
  • Diese mit Aziden sensibilisierten Schichten von in organischen Lösungsmitteln löslichen Harzen bringen, verglichen etwa mit den bichromathaltigen Schichten, eine Reihe von Vorteilen, wie niedrige Kosten, gute Stabilität, gute Widerstandsfähigkeit gegen wäßrige Säuren und Alkalien und verbesserte Empfindlichkeit. Für manche Zwecke ist aber die Empfindlichkeit noch zu niedrig, so daß der Bedarf bestand, die Empfindlichkeit zu erhöhen, ohne eine Einbuße der Stabilität oder eine Erhöhung der Herstellungskosten in Kauf nehmen zu müssen.
  • Erfindungsgemäß ist dies dadurch verwirklicht, daß die lichtempfindliche Schicht aus einem in organischen Lösungsmitteln löslichen, von polaren Gruppen im wesentlichen freien Kolloid mit einem Gehalt an einem Diarylazid besteht, in dessen Molekül die beiden aromatischen Kerne durch eine Kette von mindestens drei Kohlenstoffatomen verbunden sind. Die Herstellung dieser Schicht erfolgt erfindungsgemäß derart, daß man eine nichtwäßrige Lösung öder Dispersion des Kolloids in einem organischen Lösungsmittel mit dem Diarylazid versetzt, diese Mischung in Form einer Schicht auf einen Träger aufträgt und das organische Lösungsmittel entfernt.
  • Nach einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung besteht die die beiden aromatischen Kerne verbindende Kette aus mindestens 4 oder 5 Kohlenstoffatomen, von denen mindestens zwei ungesättigt sind. In dieser Verbindungsklasse werden die Chalkondiazide und analoge Verbindungen bevorzugt. Viele dieser Verbindungen sind neu. Die genannten Verbindungen können zur Sensibilisierung in organischen Lösungsmitteln löslicher Kolloide verwendet werden, die selbst nicht lichtempfindlich sind, oder solcher, die eine Eigenlichtempfindlichkeit aufweisen, wie zyklisierte Kautschuke, Polyvinylcinnamat oder Mischpolymerisate von Butadien und Styrol. Es ist zweckmäßig, den Zutritt von Luft zu der sensibilisierten-Schicht während der bildgerechten Belichtung der Schicht möglichst auszuschließen. Die erfindungsgemäße Kombination der in organischen Lösungsmitteln löslichen Harze und Azide führen zu Produkten mit fünf- bis zehnmal größerer Lichtempfindlichkeit als bei ähnlichen bekannten Erzeugnissen. Die bekannten Vorzüge solcher Schichten sind daher auch mit weit geringeren Mengen erzielbar.
  • Im folgenden wird die Herstellung der erfindungsgemäß verwendeten Diarylazide an einigen Beispielen beschrieben: 4,4'-Diazidordibenzalaceton
    6,1 g p-Aminobenzaldehyd, der aus p-Nitrotoluol nach dem im »Journal of the Chemical Society«, 1944, S. 4, beschriebenen Verfahren hergestellt wurde, oder handelsüblicher polymerer p-Aminobenzaldehyd werden mit 20 g Eis und 25 ml konzentrierter Salzsäure unter Kühlung in einem Eisbad gerührt. Die Lösung wird mit 4 g Natriumnitrit, gelöst in 20 ml Wasser, diazotiert. Nach halbstündigem Rühren filtriert man eine kleine Menge Teer ab und fügt zu dem wieder in Eis gekühlten Filtrat eine Lösung von 3,5 g Natriumazid in 20 ml Wasser unter die Oberfläche der Flüssigkeit. Es scheidet sich ein Öl ab, das man nach einem weiteren halbstündigen Stehenlassen mit drei Portionen zu 40 ml Äthyläther extrahiert. Die ätherischen Lösungen -werden vereinigt und mit 50 ml 10%iger Salzsäure, dann mit 50 ml Wasser gewaschen und über Natriumsulfat getrocknet. Nun wird filtriert, der Äther im Vakuum abgedampft und der rohe Azidobenzaldehyd ohne weitere Reinigung verwendet.
  • 7,4 g des rohen p-Azidobenzaldehyds und 1,5g Aceton werden in 50 ml Äthanol gelöst und mit einer Lösung von 0,6 g Natriumhydroxyd in 10, ml Wasser versetzt. Bald bildet sich ein Niederschlag. Man läßt die Mischung über Nacht im Dunkeln stehen, filtriert und extrahiert den Festkörper mit heißem Aceton. Nach dem Abkühlen der acetonischen Suspension erhält man das Produkt als gelbes Pulver mit einem Zersetzungspunkt von 156° C.
    C,7 H12 O N
    Berechnet ...... N 26,60;
    gefunden ...... N 26,50.
    1,3-Di-(4-azidophenyl)-2,3-propen-l-on Man dispergiert 13,5 g p-Aminoacetophenon in 80 ml Wasser und fügt 36 ml konzentrierte Salzsäure zu. Man kühlt die Lösung in einer Eis-Kochsalz-Mischung und fügt unter Rühren tropfenweise unter der Flüssigkeitsoberfläche eine Lösung von 7 g Natriumnitrit in 30 ml Wasser zu. Nach 30, Minuten langem Rühren versetzt man mit einer Lösung von 8 g Natriumazid in 40 ml Wasser. Es fällt p-Azidoacetophenon aus und wird nach nochmaligem 1stündigem Rühren ab-filtriert und aus Äthanol umkristallisiert (Fp. = 44° C).
  • 3,2 g p-Azidoacetophenon löst man in 25 ml Äthanol und fügt 3 g p-Azidobenzaldehyd sowie anschließend 0,3 g Natriumhydroxyd in 5 ml Wasser zu. Man läßt 4 Stunden stehen, filtriert das Produkt und kristallisiert das 1,3-Di-(4'-azidophenyl)-2,3-propen-l-on in Form orangefarbener Nadeln vom Fp. = 119' C aus Äthanol. 1,2-Di-(4-azidocinnamoyloxy)-äthan Man nitriert Zimtsäure und trennt das Gemisch von 2- und 4-lTitrozimtsäure über die Äthylester. Der 4-ilTitrozimtsäureäthylester wird mit Zinn und Salzsäure zu 4-Aminozimtsäure reduziert. Die Aminosäure wird diazotiert und die Diazoverbindung mit Natriumazid zu 4-Azidozimtsäure umgesetzt. Diese wird mit Thionylchlorid in 4-Azidocinnamoylchlorid (Fp. = 63 bis 65° C) übergeführt.
  • 4,2 g 4-Azidocinnamoylehlorid werden in 40 ml Pyridin und 40 ml Dimethylformamid gelöst und die Lösung tropfenweise unter Rühren bei Zimmertemperatur zu einer Lösung von 0,6 g Äthylenglykol in 10m1 Pyridin gefügt. Man läßt über Nacht stehen, entfernt dann die Hauptmenge des Lösungsmittels unter Vakuum und gießt den Rückstand in Wasser. Das Produkt wird filtriert und aus Äthanol umkristallisiert (Fp. = 123 bis 124° C). Beispiel 1
    Lösung von zyklisiertem Kautschuk (un-
    gefähr 27 bis 28%- Festkörper in Pe-
    troleum) ............................ 100 ml
    Trichloräthylen ....................... 900 ml
    p,p'-Diazidodibenzalaceton ............. 0,4 g
    Die angegebene Lösung wird zur Erzeugung einer Schicht auf eine Tiefdruckkupferplatte fließen gelassen, wobei die Schicht, sobald der überschuß abgeflossen ist, mit Hilfe eines Fächers in wenigen Sekunden getrocknet ist. Die Schicht wird in engem Kontakt mit einem Strich- oder Rasterdia in einem Vakuumrahmen 45 Sekunden lang durch eine Quecksilberdampflampe (125 Watt) im Abstand von etwa 30 cm belichtet. Nach dem Belichten wird die Platte 30 Sekunden in ein Bad von Trichloräthylen und in eine Lösung aus 2 g Waxoline (Colour Index Nr. 4251013) und 100m1 Trichloräthylen gegeben. Dann wird es unter einem Wasserstrahl zur Entfernung überschüssiger Farb@stofflösung gespült und getrocknet. Das Schablonebild ist ein Negativ des verwendeten Dias und ist als Resistage zum Ätzen einer Kupferplatte gut geeignet.
  • Beispiel 2 Man verwendet an Stelle des zyklisierten Kautschuks von Beispiel l l Teil Butadien-Acry lnitril-Mischpolymerisat. In diesem Beispiel wird ein Mischpolymerisat verwendet, das 24 bis 28 Gewichtsprozent Acrylnitril enthält. Man kann aber auch andere Arten bis zu 38 Gewichtsprozent Acrylnitril verwenden.
  • Beispiel 3 Man bereitet die folgende Lösung:
    Lösung von zyklisiertem Kautschuk
    (ungefähr 27 bis 28% Festkörper in
    Petroleum) ....................... 100 ml
    Chlorierter Kautschuk .............. 10 g
    Trichloräthylen ..................... 900 ml
    4,4'-Diazidodibenzalaceton ........... 0,75 g
    Die Lösung wird zu einer Schicht verarbeitet und belichtet, wie im Beispiel 1 beschrieben.
  • Beispiel 4
    Kondensationsprodukt von Epichlor-
    hydrin und Bisphenol-:-............... 16 ml
    Trichloräthylen ....................... 100 ml
    Chlorierter Kautschuk ................. 4 g
    Äthylacetat ........................... 30 ml
    4,4'-Diazidobenzaläceton ............... 0,5 g
    Aus dieser Mischung stellt man eine Schicht her und belichtet sie analog Beispiel 3 und entwickelt in Trichloräthylen (75 ml) und Äthylacetat (25 ml).
  • Beispiel 5
    Butadien-Styrol-Mischpolymerisat ...... 2 g
    p,p'-Diazidodibenzalaceton ............. 0,3 g
    Trichloräthylen ....................... 100 ml
    Diese Lösung wird auf eine Tiefdrückkupferplatte zu einer Schicht auffließen gelassen, und nach dem Abrinnen des Überschusses läßt sich die Schicht innerhalb weniger Sekunden mit Hilfe eines Fächers trocknen. Sie wird in engem Kontakt mit einer Strich- oder Rastervorlage in einem Vakuumrahmen 10 Sekunden durch eine im Abstand von etwa 30 cm angeordnete Quecksilberdampflampe (125 Watt) belichtet.
  • Nach Belichten wird die Platte 30 Sekunden in ein Bad von Trichloräthylen. und dann in eine Lösung aus 2 g Waxoline und 100 ml Trichloräthylen gebracht. Sie wird unter einem Strahl Wasser zur Entfernung überschüssiger Farblösung gespült und getrocknet. Das Schablonebild enthält ein Negativ der Vorlage und ist als Resistage zum Ätzen einer Kupferplatte gut geeignet.
  • Die beschriebenen Lösungen können z. B auch zur Herstellung geätzter oder plattierter Schaltungsmatrizen auf mit Kupfer bekleideten Schichten verwendet werden. Einige Vorteile dieser Lösungen sind die folgenden 1. Aus der Lösung kann rasch durch Tauchen oder Vergießen eine Schicht hergestellt werden, deren Trocknen nur wenige Sekunden dauert, wodurch die Gefahr von Staubflecken vermindert ist.
  • 2. Man erhält eine hohe Empfindlichkeit der Schicht, wenn diese hinter Glasplatten dem Licht einer Hochdruckquecksilberdampflampe ausgesetzt wird.
  • 3. Die Auswahl der Lösungsmittel für die Beschichtungslösung und auch für den Entwickler und den Farbstoff ist sehr flexibel, so daß z. B. so verschiedene Lösungsmittel wie Lackbenzin u. dgl., chlorierte Kohlenwasserstoffe und Benzol mit gleichem Erfolg verwendet werden können.
  • 4. Die Widerstandsfähigkeit gegen saure und alkalische Ätz- oder Plattierbäder ist sehr gut. Beispiele von Kolloiden mit Eigenempfindlichkeit gegen Licht, die gemäß der Erfindung verwendet werden können; sind Zimtsäureester des Polyvinylalkohols. So wird z. B. die Empfindlichkeit dieser Ester durch Zusatz von 4,4'-Diazidodibenzalaceton sehr stark, bis auf das Mehrhundertfache, gesteigert. Das folgende Beispiel zeigt diese Ausführungsform der Erfindung. Beispiel 6 Man löst Polyvinylcinnamat in Glykolmonomethylätheracetat zu einer Lösung mit einem Gehalt von 5 g Polyvinylcinnamat pro 100 ml. Diese Lösung trägt man auf ein Stück körniger Aluminiumfolie durch Auffließenlassen auf und läßt bei Zimmertemperatur zum Trocknen stehen: Die Folie wird dann hinter einem Strichnegativ zusammen mit einem HaJb@ton-Stufenkeil 40 Minuten im Abstand von etwa 30 cm von einer Hochdruckquecksilberdampflampe (125 Watt) belichtet. Nachher werden die unbelichteten Flächen der Schicht durch Baden in einer Mischung von 1 Volumteil Glykolmonomethylätheracetatund4Volumteilen Xylod entfernt. Das verbleibende Schablonenbild wird dann durch Anfärben mit der folgenden Mischung sichtbar gemacht:
    Waxolinerot-Farbstoff ................ 2 g
    Glykolmonomethylätheracetat .......... 20 ml
    Xylol ................................. 80M1
    Isopropanol ........................... 20 ml
    Zu einer ähnlichen Polyvinylcinnamatlösung fügt man 0,1 g 4,4'-Diazidodibenzalaceton. Man stellt eine Schicht her und belichtet in gleicher Weise wie zuvor, doch die nun zur Erzeugung des gleichen Bildes wie zuvor benötigte Belichtungsdauer beträgt nur 6 Sekunden, d. h. den vierhundertsten Teil der ursprünglichen Belichtungszeit.
  • Die Menge des verwendeten Azidsensibilisators zusammen mit dem Polyvenylcinnamat kann stark variieren, und es wurden gute Ergebnisse im Bereich von 0,5 bis 8 Gewichtsteilen 4,4'-Diazidodibenzalaceton auf 100 Gewichtsteile Polyvinylcinnamat erhalten. Die bevorzugten Mengen liegen in der Größenordnung von 2 zu 100 Gewichtsteilen.

Claims (9)

  1. PATENTANSPRÜCHE: 1. Lichtempfindliche Schicht für reproduktionstechnische Zwecke, dadurch gekennzeichnet, daß sie aus einem in organischen Lösungsmitteln löslichen, von polaren Gruppen im wesentlichen freien Kolloid mit einem Gehalt an einem Diaryla.zid besteht, in dessen Molekül die beiden aromatischen Kerne durch eine Kette mit mindestens 3 Kohlenstofatomen verbunden sind.
  2. 2. Schicht nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie als Kolloid zyklisierten Kautschuk und/oder Polyvinylcinnamat und/oder ein Butadien-Styrol-Mischpolymerisat enthält.
  3. 3. Schicht nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß sie ein in organischen Lösungsmitteln lösliches und in Wasser und wäßrigem Alkali unlösliches Diarylazid enthält.
  4. 4. Schicht nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Kette mindestens ein an Sauerstoff gebundenes Kohlenstoffatom enthält.
  5. 5. Schicht nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Kette zwischen den beiden aromatischen Kernen des Azids mindestens 2 ungesättigte Kohlenstoffatome enthält.
  6. 6. Schicht nach Ansprüchen 4 und 5, dadurch gekennzeichnet, daß das an Sauerstoff gebundene Kohlenstoffatom benachbart zu einem ungesättigten Kohlenstoffatom steht.
  7. 7. Schicht nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Kette 5 Kohlenstoffatome enthält. B.
  8. Schicht nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß sie mindestens eine der folgenden Verbindungen enthält:
  9. 9. Verfahren zur Herstellung der Schichten nach einem der Ansprüche 1 bis $, dadurch gekennzeichnet, daß eine nicht wäßrige Lösung oder Dispersion des Kolloids in einem organischen Lösungsmittel mit dem Diarylazid versetzt, auf einen Träger in Schichtform aufgebracht und daß das organische Lösungsmittel entfernt wird.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3215667A (en) * 1961-09-14 1965-11-02 Eastman Kodak Co Polycarbonates cross-linked by aromatic azides or diazides

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3215667A (en) * 1961-09-14 1965-11-02 Eastman Kodak Co Polycarbonates cross-linked by aromatic azides or diazides

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