DE1040140B - Herstellungsverfahren fuer Magnetkernanordnungen - Google Patents
Herstellungsverfahren fuer MagnetkernanordnungenInfo
- Publication number
- DE1040140B DE1040140B DEI11666A DEI0011666A DE1040140B DE 1040140 B DE1040140 B DE 1040140B DE I11666 A DEI11666 A DE I11666A DE I0011666 A DEI0011666 A DE I0011666A DE 1040140 B DE1040140 B DE 1040140B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- cores
- mounting plate
- holes
- light
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims description 12
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 3
- 230000000712 assembly Effects 0.000 title description 4
- 238000000429 assembly Methods 0.000 title description 4
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 19
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 4
- 238000004382 potting Methods 0.000 claims description 3
- 150000001875 compounds Chemical group 0.000 claims description 2
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 claims description 2
- 230000008030 elimination Effects 0.000 claims 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 claims 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 claims 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 4
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N potassium dichromate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O KMUONIBRACKNSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- JHWIEAWILPSRMU-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-pyrimidin-4-ylpropanoic acid Chemical compound OC(=O)C(C)CC1=CC=NC=N1 JHWIEAWILPSRMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000006089 photosensitive glass Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000009738 saturating Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0005—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation
- C03C23/002—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by irradiation by ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/04—Compositions for glass with special properties for photosensitive glass
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C5/00—Details of stores covered by group G11C11/00
- G11C5/02—Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
- G11C5/04—Supports for storage elements, e.g. memory modules; Mounting or fixing of storage elements on such supports
- G11C5/05—Supporting of cores in matrix
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49069—Data storage inductor or core
Description
DEUTSCHES
Die Erfindung betrifft Magnetkernanordnungen, die für Speicherzwecke oder als Schalter Verwendung
finden. Für solche Magnetkernanordnungen werden im allgemeinen ringförmige Magnetkerne mit weitgehend
rechteckförmiger Hystereseschleife benutzt, die in Zeilen und Spalten in einer Ebene oder in
mehreren Ebenen angeordnet werden; dabei verläuft eine Wicklung aus einer Windung durch die Kerne
in jeder einzelnen Zeile und Spalte. Die Auswahl eines bestimmten Kerns in einer ausgewählten Ebene oder
Gruppe von Ebenen erfolgt durch gleichzeitige Erregung je einer Spalten- und Zeilenwicklung. Jede
einzelne Ebene ist mit einer dritten Wicklung, einer Abfühlwicklung, versehen, die die Kerne der Ebene
in der einen oder der anderen Polaritätsrichtung oder in abwechselnder Richtung oder mit der Hälfte der
Kerne in der einen und mit der Hälfte der Kerne in der anderen Richtung verkettet, um die Störwirkung
derjenigen Kerne auszugleichen, welche bei der Abfühlung nur teilweise erregt werden. In einer dreidimensionalen
Anordnung ist jede Ebene von Kernen außerdem mit einer vierten Wicklung, der Sperrwicklung,
versehen.
Bisher wurden Magnetkernanordnungen der beschriebenen Art von Hand montiert, und zwar wurden
die Wicklungen durch die Kerne gefädelt und diese in der fertiggestellten Matrix festgehalten. Diese Art
der Montage ist immer zeitraubender und teurer geworden, da Anordnungen großer Kapazität mit vielen
Kernen gebraucht werden. Dabei besteht die Tendenz, sehr kleine Kerne zu verwenden.
Bei dem Verfahren gemäß der Erfindung werden die Wicklungen nach dem Prinzip der »gedruckten
Schaltungen« hergestellt. Die Anwendung der Technik der »gedruckten Schaltungen«, unter der verschiedene,
mit dem Druckverfahren vergleichbare Methoden zur Bildung von Strompfaden verstanden werden und die
sich photographischer Verfahren, der Ätzung, des Metallspritzens, des Druckes im eigentlichen Sinne
oder ähnlicher Arbeitsvorgänge bedienen, auf Geräte der Nachrichtentechnik ist bekannt. Ebenfalls bekannt
ist das Aufbringen von Leitungen auf die Oberfläche von Hochfrequenzspulenkernen mittels dieser Technik.
Es ist auch bereits vorgeschlagen worden, die Technik der »gedruckten Schaltungen« für Magnetkernanordnungen
heranzuziehen, in denen mehrere Kerne untereinander durch Wicklungen verkettet sind. Der
den Kern durchdringende Leiter wird bei diesen bekannten Verfahren durch U-förmige Drähte gebildet,
welche über die Kerne in die Montageplatte gesteckt werden.
Bei dem Verfahren gemäß der Erfindung wird eine aus einer Vielzahl ferromagnetischer Kerne bestehende
Anordnung, deren Kerne mit untereinander ver-Herstellungsverfahren
für Magnetkernanordnungen
für Magnetkernanordnungen
Anmelder:
IBM Deutschland
Internationale Büro-Maschinen
Gesellschaft m.b.H.,
Sindelfingen (Württ), Tübinger Allee 49
Sindelfingen (Württ), Tübinger Allee 49
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 10. Mai 1955
V. St. v. Amerika vom 10. Mai 1955
Paul Vernon Horton, Poughkeepsie, N. Y.
(V. St. A.),
ist als Erfinder genannt worden
ist als Erfinder genannt worden
bundenen Wicklungen versehen sind, so hergestellt, daß die Magnetkerne in Vertiefungen einer Montageplatte
eingebettet werden und anschließend die Verdrahtung beiderseits der Montageplatte über die durch
Vergußmasse festgelegten Kerne hinweg und durch ein oder mehrere in deren Mitte vorgesehene Löcher
hindurch mit einem Druckverfahren, durch Photoätzung, mit Metallspritzen oder einem ähnlichen Verfahren
vorgenommen wird.
Besonders vorteilhaft ist es, für die Montageplatte einen lichtempfindlichen Werkstoff, insbesondere lichtempfindliches
Glas, zu verwenden, dessen Löslichkeit in einem Lösungsmittel durch Belichtung eine Änderung
erfährt. Bei Verwendung eines solchen Werkstoffes lassen sich die in der Montageplatte benötigten
Löcher durch Ätzen nach Belichtung mit einer der Verdrahtung entsprechenden Schablone erzeugen.
Als Werkstoff mit einer solchen Lichtempfindlichkeit sind Glasarten bekannt, die durch Belichtung,
insbesondere mit kurzwelligem Licht, an den exponierten Stellen eine mehrfach höhere Löslichkeit, ζ. Β.
in einer Säure, annehmen. Sie schaffen die Möglichkeit, außerordentlich kleine und scharf abgegrenzte
Öffnungen herzustellen. Außerdem sind Kunststoffe bekannt, deren Löslichkeit in Lösungsmitteln durch
Belichtung beträchtlich vermindert wird.
Ein Ausführungsbeispiel des Verfahrens gemäß der Erfindung wird an Hand der Zeichnung einer
Speicheranordnung beschrieben, die in
809 640/369
Fig. 1 und 2 eine schematische Darstellung der Wicklungsanordnungen für eine Ebene einer dreidimensionalen
Speichermatrix, in
Fig. 3 eine einzelne Ebene einer gedruckten Schaltung,
in
Fig. 4a und 4b einen Teil der Anordnung von Fig. 3 in größerem Maßstab und in
Fig. 5 eine Gruppe von gedruckten Schaltungsebenen für die Bildung einer dreidimensionalen Anordnung
zeigen.
Eine Ebene einer typischen dreidimensionalen Anordnung von Magnetkernen bekannter Art ist in
Fig. 1 gezeigt; dort sind toroidförmige Kerne 10 in Zeiten und Spalten angeordnet und durch Spaltenwicklungen
X und Zeilenwicklungen Y verkettet.
In einer solchen Anordnung wird ein bestimmter Kern zur Abfühlung ausgewählt durch die gleichzeitige
Erregung derjenigen X- und Y-Auswahlleitung oder -wicklung, welche den betreffenden Kern durchsetzt.
Der Stromimpuls auf jeder Leitung liefert zu jedem ihrer Kerne eine MMK kleiner als die Koerzitivkraft,
und der durch beide Wicklungen erregte einzelne Kern empfängt dann die doppelte Kraft; er wird
ummagnetisiert. Seine Magnetflußänderung induziert eine Spannung in der Abtühlwicklung S. Kerne, die
nur von Impulsen einer Leitung durchsetzt werden, bleiben unverändert. In dreidimensionalen Anordnungen,
in denen X- und F-Leitungen mit gleichwertigen Kernen mehrerer Ebenen verkettet sind, kann durch
Impulsgabe auf die Z-Wicklung einer Ebene die Umschaltung ihrer Kerne verhindert werden. Fig. 1 und 2
zeigen zwei verschiedene Möglichkeiten für die Schaltung der Abfühlwicklung S, deren Verlauf auf die
gegenseitige Auslöschung der Störsignale von halbmagnetisierten Kernen von Einfluß ist.
Fig. 3 zeigt nun eine Anordnung von Kernen in einer Ebene, bei der gemäß der Erfindung ein geeignetes
Schema von gedruckten leitenden Bereichen auf eine Platte 20 aufgebracht ist, wobei die gedruckten
Leitungen dem Wicklungsschema der X-, Y-, S- und Z-Leitungen in der Darstellung von Fig. 1 entsprechen.
Das Material für die Platte 20 ist ein lichtempfindliches Glas. Um die richtigen Wicklungsrichtungen
zu erzielen und den durch die Mitte der Kerne laufenden Teil der Wicklungen zu bilden, wird die
Materialplatte mit kleinen Löchern versehen. Außerdem sind zum Festhalten der Kerne Aussparungen in
der einen Fläche der Platte vorgesehen. Die Herstellung der Löcher und Aussparungen wird im folgenden
an Hand der Fig. 4 a und 4 b erläutert.
Zuerst wird ein photographisches Negativ der Lochanordnung hergestellt. Die auf die gewünschte Größe
zugeschnittene Platte 20 wird dann mit dem Negativ bedeckt und mit einer ultravioletten Lichtquelle belichtet.
Der belichtete Teil kann nun etwa 50mal so schnell wie der nichtbelichtete Teil weggeätzt werden.
Bei diesem Verfahren kann man bei Verwendung von Fluorwasserstoffsäure Löcher von 0,25 mm Durchmesser
und einem Mittenabstand von 0,55 mm durch eine 1,2 mm dicke Glasplatte ätzen.
Außer den die Platte 20 durchsetzenden Löchern 32 wird nach diesem Verfahren auch eine Aussparung 30.
wie sie in Fig. 4a und 4b gezeigt ist, in die eine Oberfläche der Materialplatte 20 für die Unterbringung
jedes Ferritkerns geätzt; die Aussparung ist so tief, daß die obere Fläche des Kerns etwas unterhalb
der Plattenebene liegt. Bei der Anbringung von Löchern in den obengenannten Abständen und bei
Verwendung von Kernen; mit 2,5 mm Außendurchmesser und 1,7 mm Innendurchmesser können z. B.
64 Kerne 10 in Aussparungen 30 auf 6,5 cm2 der Glasfläche
angeordnet werden.
Durch entsprechende Ausbildung der Schablone ist der Bereich in der Mitte jeder Kernaussparung gegen
Belichtung geschützt und wird daher, wie aus den Fig. 4 a und 4 b hervorgeht, während der Ätzvorgänge
nicht entfernt, so daß ein Pfosten 31 entsteht, der sich durch die Mitte jedes Kerns erhebt. Das photographische
Negativ hat jedoch Ausschnitte für einen Satz
ίο von vier getrennten Löchern 32^ welche innerhalb des
Pfostens 31 ganz durch die Platte 20 geätzt werden.
Nach Einätzen der Löcher und Kernaussparungen
in die Platte werden die Kerne einsortiert, indem man
sie einfach hineinschüttelt. Es ist dann noch die Schaltung herzustellen.
Dies kann durch Metallspritzen durch Schablone, photographische Leitungsbildung od. dgl. in an sich
bekannter Weise geschehen. Bei einem bevorzugten Verfahren wird die mit Ferritkernen gefüllte Platte
20 mit heißem Paraffinwachs bedeckt, um jeden einzelnen Kern in seiner Aussparung 30 zu verankern.
Das überschüssige Wachs wird durch die vier Löcher innerhalb jedes der Pfosten 31 gesaugt, und dann wird
die Platte 20 abgekühlt, damit das Wachs erstarrt. Die Platte mit den festgelegten Kernen 10 wird in ein Bad
aus einer stark oxydierenden Lösung eingetaucht (etwa durch Sättigung einer Schwefelsäurelösung mit
Natriumbichromat hergestellt), wonach sie in Leitungswasser gewaschen wird. Durch diese Behandlung
wird die Wachsoberfläche für einen Metallniederschlag empfangsbereit gemacht. Nun wird das Aggregat
durch Eintauchen in eine Silberlösung, zu der dann Formaldehyd zugesetzt wird, vollständig mit Silber
überzogen. Die Lösung wird hergestellt durch Lösung von Silbernitrat in Wasser, wozu nach und nach
Ammoniumhydroxyd zugesetzt wird, bis der sich zuerst bildende braune Niederschlag verschwindet. Der
Silberüberzug bildet die Grundlage für die durch Galvanisieren zu bildenden Leitungen.
4.0 Die Platte 20 wird nun auf beiden Seiten mit einem
Überzug aus einem lichtempfindlichen Stoff versehen, der etwa aus einer wäßrigen Lösung von Gelatine,
Polyvinylalkohol oder anderem Harz besteht, zu welcher Kaliumbichromat hinzugefügt wird. Durch eine
Schablone des Schaltschemas wird die Platte mit ultraviolettem Licht belichtet. Es werden zwei Schablonen
benötigt, je eine für jede Seite der Platte 20. Sie müssen sich mit den durch jeden Kern 10 hindurchgehenden
Löchern decken. Jetzt wird die belichtete Glasplatte 20 mit Wasser gewaschen, der belichtete
Teil der Schicht läßt sich auswaschen, so daß der Silberüberzug an diesen Stellen freigelegt ist.
Danach wird die Platte in ein Kupferbad gebracht. Dabei überziehen sich auch die Innenwände der
Löcher 32 und stellen Verbindungen zwischen den Schaltungen auf beiden Seiten der Platte her; dies
sind die aus einer Windung bestehenden Wicklungen der Kerne 10. Auf die Oberseite des Kupfers wird
noch etwas Gold aufgebracht. Die restliche Beschichtung wird dann abgewaschen, so daß der Silbergrund
auf den Plattenflächen freiliegt. Er wird durch ein kurzes Bad in verdünnter Salpetersäure entfernt, wonach
die Platte in Wasser gewaschen und getrocknet wird. Damit ist das Aggregat fertig; die gedruckte
Schaltung ist vollständig, und alle Ferritkerne sind eingebettet. Als weiterer Schutz kann die ganze Einheit
mit Wachs oder Lack überzogen werden.
Gemäß Fig. 3 sind am Ende jeder gedruckten Leitung Löcher 35 vorgesehen, die auch zur Aufnahme
einer Verbindungsklammer dienen können, damit ein
schneller Anschluß an ein anderes Gerät oder eine Verbindung von Gruppen einzelner Ebenen zu einer
dreidimensionalen Speichereinheit ermöglicht wird. Dieselben Löcher oder andere beliebiger Form und
Anordnung können auch zur Erleichterung der Montage einer einzigen Ebene oder von Gruppen übereinanderliegender
Ebenen verwendet werden.
. Gemäß Fig. 5 ruht eine Gruppe einzelner Ebenen auf Stangen 40, die durch solche Löcher hindurchgehen, und zwar sind zwischen je zwei montierten An-Ordnungen Abstandsstücke 41 vorgesehen, damit Raum für die Zirkulation von Kühlluft bleibt. Bei Verwendung von Kunststoffen, deren Lösbarkeit in Lösungsmitteln durch Belichtung beträchtlich vermindert wird, als Grundplatte für die Magnetkernanordnung, erfolgt die Belichtung der Platte zur Bildung des Lochmusters durch eine das Muster positiv enthaltende Schablone hindurch.
. Gemäß Fig. 5 ruht eine Gruppe einzelner Ebenen auf Stangen 40, die durch solche Löcher hindurchgehen, und zwar sind zwischen je zwei montierten An-Ordnungen Abstandsstücke 41 vorgesehen, damit Raum für die Zirkulation von Kühlluft bleibt. Bei Verwendung von Kunststoffen, deren Lösbarkeit in Lösungsmitteln durch Belichtung beträchtlich vermindert wird, als Grundplatte für die Magnetkernanordnung, erfolgt die Belichtung der Platte zur Bildung des Lochmusters durch eine das Muster positiv enthaltende Schablone hindurch.
Claims (3)
1. Verfahren zur Herstellung einer aus einer Vielzahl ferromagnetischer Kerne bestehenden An-Ordnung,
deren Kerne mit untereinander verbundenen Wicklungen versehen sind, dadurch gekennzeichnet,
daß die Magnetkerne in Vertiefungen einer Montageplatte eingebettet werden und anschließend
die Verdrahtung beidseits der Montageplatte über die durch Vergußmasse festgelegten
Kerne hinweg und durch ein oder mehrere in deren Mitte vorgesehene Löcher hindurch mit einem
Druckverfahren, durch Photoätzung, mit Metallspritzen oder einem ähnlichen Verfahren vorgenommen
wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß für die Montageplatte ein lichtempfindlicher
Werkstoff, insbesondere lichtempfindliches Glas, verwendet wird, dessen Löslichkeit
in einem Lösungsmittel durch Belichtung eine Änderung erfährt.
3. Verfahren nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch folgende Schritte:
a) Belichten der lichtempfindlichen Montageplatte durch eine Schablone hindurch;
b) Ausätzen von Vertiefungen für die Kerne und von Löchern in deren Mitte;
c) Einbringen der Kerne und Vergießen derselben unter Aussparung der Mittellöcher;
d) Auftrag einer Silber- und einer lichtempfindlichen Schicht beidseits der Montageplatte;
e) beidseitige Belichtung der Platte mit (verschiedenen) Stromkreisschablonen und Auswaschen
der lichtempfindlichen Schicht über den Strompfaden;
f) galvanische Verstärkung der Strompfade und Beseitigung der restlichen lichtempfindlichen
Schicht und der nicht verstärkten Silberschichten.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Patentschrift Nr. 922 734;
deutsche Patentanmeldung S 619 VIII a/21 a4, (bekanntgemacht
am 11.6.1953);
USA.-Patentschriften Nr. 2 610 120, 2 700150;
»Electronics«, April 1953, S. 146 ... 149;
»FTZ«, Heft 2, 1955, S. 83...88;
»Wireless World«, August 1954, S. 363.. .366;
November 1954, S. 536.. .539;
November 1954, S. 536.. .539;
»Industrial and Engineering Chemistry«, Januar 1954, S.174...176.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
> 809 640/369 9.58
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US507229A US2970296A (en) | 1955-05-10 | 1955-05-10 | Printed circuit ferrite core memory assembly |
US738587A US3071843A (en) | 1955-05-10 | 1958-05-28 | Method of fabricating an array of magnetic cores |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1040140B true DE1040140B (de) | 1958-10-02 |
Family
ID=27055762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEI11666A Pending DE1040140B (de) | 1955-05-10 | 1956-05-09 | Herstellungsverfahren fuer Magnetkernanordnungen |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3071843A (de) |
DE (1) | DE1040140B (de) |
FR (1) | FR1167583A (de) |
GB (1) | GB821637A (de) |
NL (2) | NL206792A (de) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1112110B (de) * | 1959-11-12 | 1961-08-03 | Telefonbau | Verfahren zur Verdrahtung einer Ringkerne enthaltenden Matrix |
DE1125971B (de) * | 1959-05-21 | 1962-03-22 | Ibm | Verfahren zum Herstellen eines Magnetkern-Matrixspeichers |
DE1141105B (de) * | 1967-06-20 | 1962-12-13 | Siemens S. Halske Aktiengesellschaft, Berlin und München | Magnetkernspeichermatrix, bei der die Magnetkerne zwischen Platten aus Isolierstoff angeordnet sind |
DE1246814B (de) * | 1961-11-30 | 1967-08-10 | Rca Corp | Verfahren zur Herstellung einer Anordnung magnetischer Elemente |
DE1259388B (de) * | 1964-10-09 | 1968-01-25 | Hermsdorf Keramik Veb | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Speichern mit magnetischen Kernen |
DE1286234B (de) * | 1961-04-14 | 1969-01-02 | Plessey Co Ltd | Verfahren zum Herstellen einer Matrix aus magnetischen Duennschicht-Ringkernen |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3219886A (en) * | 1959-12-28 | 1965-11-23 | Bunker Ramo | Modular circuit fabrication |
US3233310A (en) * | 1962-10-09 | 1966-02-08 | United Aircraft Corp | Method of making a two-dimension component assembly |
US3381357A (en) * | 1965-12-09 | 1968-05-07 | Robert J. Billingsley | Ferromagnetic core wiring fixture |
US3439087A (en) * | 1966-07-27 | 1969-04-15 | Electronic Res Corp | Method of making memory core plane |
US4239312A (en) * | 1978-11-29 | 1980-12-16 | Hughes Aircraft Company | Parallel interconnect for planar arrays |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2610120A (en) * | 1950-03-09 | 1952-09-09 | Eastman Kodak Co | Photosensitization of polymeric cinnamic acid esters |
US2700150A (en) * | 1953-10-05 | 1955-01-18 | Ind Patent Corp | Means for manufacturing magnetic memory arrays |
DE922734C (de) * | 1951-08-30 | 1955-01-24 | Corning Glass Works | Verfahren zur Herstellung von gemusterten Glasgegenstaenden aus vorzugsweise lichtempfindlichem Glas |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US369121A (en) * | 1887-08-30 | William r | ||
US2613252A (en) * | 1947-09-23 | 1952-10-07 | Erie Resistor Corp | Electric circuit and component |
US2651833A (en) * | 1950-04-28 | 1953-09-15 | Bell Telephone Labor Inc | Method of mounting apparatus |
US2719965A (en) * | 1954-06-15 | 1955-10-04 | Rca Corp | Magnetic memory matrix writing system |
US2824294A (en) * | 1954-12-31 | 1958-02-18 | Rca Corp | Magnetic core arrays |
-
0
- NL NL108816D patent/NL108816C/xx active
- NL NL206792D patent/NL206792A/xx unknown
-
1956
- 1956-05-04 FR FR1167583D patent/FR1167583A/fr not_active Expired
- 1956-05-07 GB GB14026/56A patent/GB821637A/en not_active Expired
- 1956-05-09 DE DEI11666A patent/DE1040140B/de active Pending
-
1958
- 1958-05-28 US US738587A patent/US3071843A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2610120A (en) * | 1950-03-09 | 1952-09-09 | Eastman Kodak Co | Photosensitization of polymeric cinnamic acid esters |
DE922734C (de) * | 1951-08-30 | 1955-01-24 | Corning Glass Works | Verfahren zur Herstellung von gemusterten Glasgegenstaenden aus vorzugsweise lichtempfindlichem Glas |
US2700150A (en) * | 1953-10-05 | 1955-01-18 | Ind Patent Corp | Means for manufacturing magnetic memory arrays |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1125971B (de) * | 1959-05-21 | 1962-03-22 | Ibm | Verfahren zum Herstellen eines Magnetkern-Matrixspeichers |
DE1112110B (de) * | 1959-11-12 | 1961-08-03 | Telefonbau | Verfahren zur Verdrahtung einer Ringkerne enthaltenden Matrix |
DE1286234B (de) * | 1961-04-14 | 1969-01-02 | Plessey Co Ltd | Verfahren zum Herstellen einer Matrix aus magnetischen Duennschicht-Ringkernen |
DE1246814B (de) * | 1961-11-30 | 1967-08-10 | Rca Corp | Verfahren zur Herstellung einer Anordnung magnetischer Elemente |
DE1259388B (de) * | 1964-10-09 | 1968-01-25 | Hermsdorf Keramik Veb | Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Speichern mit magnetischen Kernen |
DE1141105B (de) * | 1967-06-20 | 1962-12-13 | Siemens S. Halske Aktiengesellschaft, Berlin und München | Magnetkernspeichermatrix, bei der die Magnetkerne zwischen Platten aus Isolierstoff angeordnet sind |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL108816C (de) | |
GB821637A (en) | 1959-10-14 |
FR1167583A (fr) | 1958-11-26 |
US3071843A (en) | 1963-01-08 |
NL206792A (de) |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE60036496T2 (de) | Verfahren zum Herstellen eines IC-Elements mit Spule | |
DE1029875B (de) | Vorrichtung zur Kernspeicher-Montage | |
DE1073652B (de) | Magnetkernanordnung für eine magnetische Speichereinrichtung, insbesondere für elektronische Rechenmaschinen | |
DE1271235B (de) | Verfahren zur Herstellung von leitenden Verbindungen zwischen den leitenden Schichten einer elektrischen Schaltungsplatte | |
DE1040140B (de) | Herstellungsverfahren fuer Magnetkernanordnungen | |
DE1069236B (de) | ||
DE2125511A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von elektrischen Verbindungen mit zumindest einer öffnung einer Trägerschicht sowie mit diesen Verbindungen versehene Schaltungsplatte | |
DE2809359C2 (de) | Verfahren zum Markieren von fehlerhaften Stellen in integrierten Schaltkreisen bzw. auf ihrem Träger | |
DE3013667A1 (de) | Leiterplatte und verfahren zu deren herstellung | |
DE3337300A1 (de) | Verfahren zum herstellen integrierter halbleiterschaltkreise | |
DE2521485A1 (de) | Magnetisches bauelement | |
DE1125971B (de) | Verfahren zum Herstellen eines Magnetkern-Matrixspeichers | |
DE1123723B (de) | Verfahren zum Herstellen gedruckter Schaltungen | |
DE2926516A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines metallfolienwiderstandes und metallfolienwiderstand | |
DE1774381C3 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Magnetspeichers mit drei übereinander angeordneten Sätzen paralleler, voneinander isolierter Leiter | |
DE1194939B (de) | Verfahren zur Herstellung von Matrizen fuer elektronische Schaltungseinheiten | |
DE1145231B (de) | Verfahren zur Montage von Magnetkernspeichern | |
DE1158111B (de) | Magnetische Speichereinrichtung | |
DE1665248C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Trägers für eine miniaturisierte Schaltung | |
DE1098536B (de) | Speicher- oder Schaltanordnung | |
DE1285581C2 (de) | Traeger mit einer Mikroschaltung und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE1499747C3 (de) | Semlpermamenter Matrixspeicher | |
DE2329488A1 (de) | Magnetischer fuehler mit einem parametrisch erregten zweiten harmonischen oszillator | |
DE2010264A1 (de) | Matrixspeicher und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE1549052C (de) | Aus dünnen magnetischen Schichten bestehendes Speicherelement |