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Die Erfindung betrifft eine Gargerätemuffel, die einen Garraum eingrenzt und zumindest eine von einer Muffelwand vorspringende Rillenstruktur aufweist und ein eine derartige Gargerätemuffel aufweisendes Gargerät.
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Aus
DE 90 15 846 U1 ist ein Backrohr mit einer einseitig offenen, quaderförmigen Ofenmuffel aus Blechmaterial, das zumindest an der Innenseite emailliert ist, bekannt. Die Oberfläche des Blechmaterials ist in einem Kantenbereich durch wellenartige Ausformungen vergrößert. Durch diese Maßnahme wird in dem Kantenbereich, in dem sich insbesondere bei Anwendung eines Pulveremaillierverfahrens größere Emailmaterialansammlungen ergeben könnten, die Oberfläche derart vergrößert, dass sich die Emailmaterial-Ansammlung über eine größere Fläche verteilt. Auf dem Kantenbereich können sich ungleichmäßige Materialansammlungen eines Emailgrundmaterials und daher ungleichmäßige Emailschichtdicken ergeben. Derartige ungleichmäßige Emailschichtdicken auf dem Kantenbereich vergrößern thermische Spannungen in der Emailschicht und führen zum Reißen der Emailschicht.
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Aus
EP 12 53 383 A1 ist ein Gargerät mit in einer Muffelwand eingebrachten Gargutträgeraufnahmen bekannt. Diese Gargutträgeraufnahmen weisen Ausformungen zur Aufnahme eines Gargutträgers auf.
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Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, eine Gargerätemuffel und ein Gargerät bereitzustellen, bei der ein Reißen oder Abplatzen einer auf einer Muffelinnenseite aufgetragenen Emailschicht verhindert ist.
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Die Aufgabe wird durch die Gargerätemuffel mit den Merkmalen des Patentanspruches 1 und durch das Gargerät mit den Merkmalen des Patentanspruches 8 gelöst. Gemäß dem kennzeichnenden Teil des Patentanspruches 1 verringert sich eine Oberfläche der vorspringenden Rillenstruktur, mit einer von Prägungen gebildeten Rillenstruktur-Oberfläche, in einer Querrichtung zur Muffelwand mit zunehmendem Abstand zur Muffelwand. Die Erfindung beruht auf der Erkenntnis, dass bei einem Beschichtungsvorgang von Emailgrundmaterial eine Mengenverteilung des Emailgrundmaterials auf der Oberfläche der vorspringenden Rillenstruktur unterschiedlich ist. D. h., dass erfindungsgemäß die Rillenstruktur-Oberfläche an Stellen mit größeren Ansammlungen des Emailgrundmaterials entsprechend vergrößert ist. Umgekehrt ist die Rillenstruktur-Oberfläche an Stellen mit kleineren Ansammlungen des Emailgrundmaterials entsprechend verkleinert.
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Erfindungsgemäß ist die Größe der Oberfläche der vorspringenden Rillenstruktur in Abhängigkeit von einer Größe einer Prägung unterschiedlich, die in der Oberfläche ausgebildet ist. So verläuft in einer Ausführungsform der Erfindung die Prägung in der Rillenstruktur-Oberfläche mit zunehmendem Abstand von der Muffelwand flach aus. In Versuchen hat sich nämlich gezeigt, dass sich auf der Rillenstruktur-Oberfläche unmittelbar an der Muffelwand Emailgrundmaterial vermehrt ansammelt. Mit zunehmendem Abstand zur Muffelwand sammelt sich immer weniger Emailgrundmaterial auf der Rillenstruktur-Oberfläche an.
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Aus optischen Gründen ist es besonders vorteilhaft, wenn die Prägung bereits vor Erreichen einer maximalen Höhe der Rillenstruktur flach ausläuft. In diesem Fall kann die Prägung hinter der Rillenstruktur sichtgeschützt ausgebildet sein.
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Von Vorteil ist es, wenn die Prägung in der Rillenstruktur-Oberfläche wellenartig ausgebildet ist. Durch die wellenartige Prägung ist ein besonders guter Ausgleich von thermisch bedingten Wärmedehnungen der Muffel ermöglicht, wodurch ebenfalls einem Reißen oder Abplatzen der Emailschicht entgegengewirkt ist.
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Von Vorteil ist es auch, wenn die Prägung quer zur Muffelwand auf der Oberfläche wellenförmig verläuft. In diesem Fall erstrecken sich die Scheitellinien der wellenartigen Prägung im wesentlichen quer zur Muffelwand. Dies ermöglicht eine einfache Herstellung der Prägung in einem Tiefziehverfahren. Weiterhin können die zwischen den Scheitellinien gebildeten Wellentäler in Richtung auf den Muffelinnenraum offen ausgebildet sein und schräg nach unten verlaufen. Dadurch sammelt sich im Beschichtungsvorgang wesentlich weniger Emailgrundmaterial in den Wellentälern der Prägung an.
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In einer Ausführungsform der Erfindung kann sich die Amplitudenhöhe der wellenartigen Prägung mit zunehmendem Abstand von der Muffelwand verkleinern. Durch die kleiner werdende Amplitudenhöhe nimmt entsprechend die Rillenstruktur-Oberfläche ab.
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In einer Ausführungsform der Erfindung kann eine in den Muffelraum vorspringende Rillenstruktur an einem frontseitigen Rand in einer Deckenwand der Muffel ausgebildet sein. In diesem Fall dient die Rillenstruktur als ein Sichtschutz und/oder Hitzeschutz für einen an der Deckenwand gehalterten Oberhitze-Heizkörper. Durch die erfindungsgemäß wesentlich gleichmäßigere Schichtdicke in der Rillenstruktur kann der Oberhitze-Heizkörper bis unmittelbar an den vorspringenden Wandbereich herangeführt sein, ohne dass es aufgrund der Wärmeabgabe des Oberhitze-Heizkörpers zu einem Reißen in der Emailschicht der Rillenstruktur kommt.
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Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist nachfolgend anhand der beigefügten Figuren beschrieben. Es zeigen:
- 1 in einer perspektivischen Ansicht ein Gargerät mit geöffneter Gargerätetür;
- 2 eine Gargerätemuffel des Gargerätes während eines Emailpulverbeschichtungsvorganges;
- 3 in vergrößertem Maßstab eine Einzelheit X aus der 2; und
- 4 eine Schnittansicht in Pfeilrichtung von einer Schnittebene A aus der 3.
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In der 1 ist ein Gargerät mit einer geöffneten Tür 3 sowie einer Gargerätemuffel 5 dargestellt, die einen Garraum eingrenzt. Die Muffel 5 ist aus einem tiefgezogenen Dünnblech aus einem oder mehreren Blechteilen gefertigt. Innenseitig ist die Muffel 5 mit einer nicht dargestellten Emailleschicht überzogen. Weiterhin weist die Muffel 5 eine frontseitige Muffelöffnung 7 auf. In einer Deckenwand 8 der Muffel 5 ist eine Sicke 9 geprägt, die von oben in den Garraum vorspringt und einen nicht gezeigten oberen Heizkörper zur Frontseite hin abdeckt. In den gegenüberliegenden Muffelseitenwänden 10 sind seitliche Profilierungen 11 ausgebildet, die ebenfalls in den Garraum vorspringen. Die seitlichen Profilierungen 11 dienen als Auflageflächen für Zubehörteile, wie z. B. einen Gargutträger, der in den Garraum der Muffel 5 eingeschoben und abgestützt wird.
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Die seitlichen Profilierungen 11 sowie die Sicke 9 weisen jeweils Oberflächen 19 auf, die sich abgewinkelt in den Garraum erstrecken und von der frontseitigen Muffelöffnung 7 abgewandt sind, wie es in der 2 dargestellt ist. In der 2 ist die Muffel 5 separat vom Gargerät während eines Emailpulverbeschichtungsvorganges gezeigt. Gegenüber der Darstellung aus der 1 ist die Muffel 5 so gedreht, dass deren frontseitige Muffelöffnung 7 nach unten weist. In dieser Lage wird mittels einer angedeuteten Pulverausblasdüse 20 Emailpulver in den Pfeilrichtungen 18 in den Garraum der Muffel 5 geblasen, um es in Kontakt mit der Innenseite der Muffel 5 zu bringen.
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Gemäß der 3 sind in der Oberfläche 19 der Sicke 9 wellenartig ausgebildete Prägungen 22 vorgesehen. Entsprechende Prägungen 22 sind auch an einer Oberfläche 19 der seitlichen Profilierungen 11 ausgebildet, die ebenfalls sich abgewinkelt in den Garraum erstreckt und von der frontseitigen Muffelöffnung 7 abgewandt ist. Hierbei verlaufen die Prägungen 22 quer zur Deckenwand 8 auf der Rillenstruktur-Oberfläche 19. D.h., dass Scheitellinien 23 der wellenartigen Prägungen 22 quer zu der Muffelwand 8 verlaufen. Die Wellentäler zwischen den Scheitellinien 23 sind dabei in Richtung auf den Garraum offen und verlaufen in Richtung auf den Garraum schräg nach unten. Unmittelbar im Bereich der Deckenwand 8 weist die Amplitudenhöhe y der wellenartigen Prägung 22 ihren größten Wert auf. Mit zunehmenden Abstand z von der Deckenwand 8 reduziert sich die Amplitudenhöhe der wellenartigen Prägung 22 von einem maximalen Wert y1 von ca. 0,5 mm bis auf Null. Dabei ändert sich die Größe der Prägung 22 derart, dass sie vor Erreichen einer maximalen Höhe zmax der Rillenstruktur flach ausläuft. In diesem Fall sind die wellenartigen Prägungen 22 von der frontseitigen Muffelöffnung 7 her unsichtbar.
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In der 4 ist angedeutet, wie sich das Emailpulver 27 auf der abgewinkelten Rillenstruktur-Oberfläche 19 der Sicke 9 ansammelt. Entsprechendes gilt auch für die Rillenstruktur-Oberfläche 19 der seitlichen Profilierungen 11. Während des Beschichtungsvorgangs trifft zunächst das von der Pulverausblasdüse 20 ausgeblasene Emailpulver 27 auf die Muffelwandungen und haftet dort an. Überschüssiges Emailpulver 27, das nicht an den Muffelwandungen gehalten wird, bewegt sich entlang der Muffelwandungen nach unten bis zu den abgewinkelten Rillenstruktur-Oberflächen 19, an denen es sich vermehrt ansammelt. Die Mengenverteilung des auf der Rillenstruktur-Oberfläche 19 angesammelten Emailpulvers 27 ist gemäß der 4 ungleichmäßig. Demzufolge sammelt sich unmittelbar an der Deckenwand 8 das meiste Emailpulver 27 an. Mit zunehmenden Abstand z von der Deckenwand 8 verringert sich die angesammelte Menge an Emailpulver 27.
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In Abhängigkeit dieser ungleichmäßigen Mengenverteilung ändert sich erfindungsgemäß die Größe der Amplitude y der wellenförmigen Prägung 22. D.h. die Rillenstruktur-Oberfläche 19 ist unmittelbar an der Deckenwand 8 am größten und verringert sich mit zunehmendem Abstand z von der Deckenwand 8. Dadurch ist gewährleistet, dass sich trotz der ungleichmäßiger Mengenverteilung des Emailpulvers 27 auf der Rillenstruktur-Oberfläche 19 eine gleichmäßige Emailpulverschichtdicke ergibt.
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Nach dem Emailpulverbeschichtungsvorgang wird die Muffel 5 erhitzt, wodurch die Innenseite der Muffel 5 mit einer Emailschicht überzogen wird, deren Schichtdicke auch in den Oberflächen 19 der Rillenstrukturen gleichmäßig ist.
