DE102018130701A1

DE102018130701A1 - Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung

Info

Publication number: DE102018130701A1
Application number: DE102018130701.2A
Authority: DE
Inventors: Kyungman Kim
Original assignee: LG Display Co Ltd
Current assignee: LG Display Co Ltd
Priority date: 2017-12-08
Filing date: 2018-12-03
Publication date: 2019-06-13
Also published as: US20190180682A1; KR20190068315A; CN110034238A; CN110034238B; US10896640B2

Abstract

Eine elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung weist auf: ein erstes Substrat (100); ein zweites Substrat (700), das dem ersten Substrat (100) zugewandt ist; eine lichtemittierende Schicht (500) auf dem ersten Substrat (100) zwischen dem ersten und dem zweiten Substrat (100, 700); eine Verkapselungsschicht (650) auf der lichtemittierenden Schicht (500); eine Pufferschicht (750) auf einer inneren Oberfläche des zweiten Substrats (700), die dem ersten Substrat zugewandt ist (100); und eine Farbfilterschicht (800), die einen ersten Farbfilter und einen zweiten Farbfilter aufweist, auf der Pufferschicht (750).

Description

HINTERGRUND
Technisches Gebiet
Die vorliegende Offenbarung betrifft eine elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung, und mehr ins Besondere eine elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung, die Defekte reduziert, die von Fremdmaterialien verursacht werden.
Diskussion der bezogenen Technik
Eine elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung hat eine Struktur, bei der eine lichtemittierende Schicht zwischen zwei Elektroden ausgebildet ist und die lichtemittierende Schicht Licht mittels eines elektrischen Feldes zwischen den beiden Elektroden emittiert, um ein Bild anzuzeigen. Die lichtemittierende Schicht kann aus einem organischen Material gebildet sein, welches Licht emittiert, wenn aufgrund einer Kombination von Elektronen und Löchern Exzitonen erzeugt werden und von einem angeregten Zustand in einen Grundzustand übergehen. Andererseits kann die lichtemittierende Schicht aus einem anorganischen Material, wie beispielsweise Quantenpunkten, gebildet sein.
Nachfolgend wird mit Bezug zu den Zeichnungen eine herkömmliche elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung beschrieben. 1 ist eine Querschnittsansicht der herkömmlichen elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung.
Wie in 1 dargestellt weist die herkömmliche elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung auf: ein erstes Substrat 10, eine Schaltungselementschicht 20, eine erste Elektrode 30, einen Wall 40, eine lichtemittierende Schicht 50, eine zweite Elektrode 60 und ein zweites Substrat 40.
Die Schaltungselementschicht 20 ist auf dem ersten Substrat 10 ausgebildet. Verschiedene Signalleitungen, Dünnfilmtransistoren (TFTs), Kondensatoren und Ähnliches sind auf der Schaltungselementschicht 20 ausgebildet.
Die erste Elektrode 30 ist auf der Schaltungselementschicht 20 ausgebildet. Die erste Elektrode 30 ist den Pixeln entsprechend strukturiert und dient als Anode für die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung.
Der Wall 40 hat eine Matrixstruktur, die Emissionsbereiche vorgibt. Die lichtemittierende Schicht 50 ist in einem Emissionsbereich ausgebildet, der mittels des Walls 40 vorgegeben ist. Die zweite Elektrode 60 ist auf der lichtemittierenden Schicht 50 ausgebildet. Die zweite Elektrode 60 dient als Kathode der elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung.
Das zweite Substrat 70 ist über der zweiten Elektrode 60 angeordnet und mittels einer Klebstoffschicht an dem ersten Substrat 10 befestigt.
Bei der herkömmlichen Anzeigevorrichtung kann während eines Herstellungsprozesses Fremdmaterial f auftreten und auf der zweiten Elektrode 60 sein. Wenn das zweite Substrat 70 auf dem ersten Substrat 10 mit dem Fremdmaterial f befestigt wird, kann aufgrund des Anpressdrucks durch das Fremdmaterial f ein Element beschädigt werden oder defekt sein.
KURZE BESCHREIBUNG
Dementsprechend sind Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung auf eine elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung gerichtet, die im Wesentlichen eines oder mehrere der Probleme aufgrund der Beschränkungen und Nachteile des Standes der Technik vermeidet.
Ein Aspekt der vorliegenden Erfindung ist es, eine elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung bereitzustellen, bei welcher Defekte von Elementen, die aus einem Pressen von Fremdmaterial während eines Befestigungsprozesses resultieren, vermieden werden können.
Zusätzliche Merkmale und Aspekte werden in der folgenden Beschreibung fortgesetzt und werden zum Teil von der Beschreibung offensichtlich, oder können durch Praktizieren des erfinderischen Konzepts, das hierin bereitgestellt wird, erlernt werden. Andere Merkmale und Aspekte des erfinderischen Konzepts können realisiert und erhalten werden mittels der Struktur, die insbesondere in der geschriebenen Beschreibung und den Ansprüchen hiervon sowie in den angehängten Zeichnungen vorgestellt ist, oder können davon abgeleitet werden.
Um diese und andere Vorteile zu erhalten und in Übereinstimmung mit dem Zwecke der Offenbarung, wie sie hierin ausgeführt und breit beschrieben ist, wird eine elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung gemäß den unabhängigen Ansprüchen bereitgestellt. Weitere Ausführungsformen sind in den abhängigen Ansprüchen beschrieben. Eine elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung weist auf: ein erstes Substrat; ein zweites Substrat, das dem ersten Substrat zugewandt ist; eine lichtemittierende Schicht auf dem ersten Substrat zwischen dem ersten und dem zweiten Substrat; eine Verkapselungsschicht auf der lichtemittierenden Schicht; eine Pufferschicht auf einer inneren Oberfläche des zweiten Substrats, die dem ersten Substrat zugewandt ist; und eine Farbfilterschicht, die einen ersten Farbfilter und einen zweiten Farbfilter aufweist, auf der Pufferschicht.
Ein Elastizitätsmodul der Pufferschicht kann kleiner sein als ein Elastizitätsmodul der Verkapselungsschicht.
Die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung kann ferner eine Dammstruktur aufweisen, die das erste Substrat und das zweite Substrat an Kanten des ersten Substrats und des zweiten Substrats aneinander befestigt, wobei die Dammstruktur von der Pufferschicht beabstandet ist.
Die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung kann ferner eine Füllschicht zwischen der Verkapselungsschicht und der Farbfilterschicht aufweisen, wobei die Füllschicht in Kontakt mit der Pufferschicht ist.
Die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung kann ferner eine Lichtabblockschicht auf der inneren Oberfläche des zweiten Substrats zwischen dem ersten Farbfilter und dem zweiten Farbfilter aufweisen, wobei die Lichtabblockschicht von der Dammstruktur beabstandet ist.
Die Lichtabblockschicht kann sich entlang einer Kante der Pufferschicht erstrecken und kann in Kontakt mit der inneren Oberfläche des zweiten Substrats sein.
Die Pufferschicht kann eine erste Pufferschicht und eine zweite Pufferschicht aufweisen, die voneinander beabstandet sind.
Die erste Pufferschicht kann zwischen dem zweiten Substrat und dem ersten Farbfilter sein und die zweite Pufferschicht kann zwischen dem zweiten Substrat und dem zweiten Farbfilter sein.
Die Pufferschicht kann eine Mehrzahl von ersten Pufferschichten aufweisen, die in einer ersten Richtung voneinander beabstandet sind.
Der erste Farbfilter kann zwischen der Mehrzahl von ersten Pufferschichten, die zueinander benachbart sind, in Kontakt mit dem zweiten Substrat sein.
Gemäß einem anderen Aspekt weist eine elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung auf: ein erstes Substrat, ein zweites Substrat, das dem ersten Substrat zugewandt ist; eine lichtemittierende Schicht auf dem ersten Substrat zwischen dem ersten und dem zweiten Substrat; eine Verkapselungsschicht auf der lichtemittierenden Schicht; und eine Pufferschicht auf einer inneren Oberfläche des zweiten Substrats, die dem ersten Substrat zugewandt ist, wobei ein Elastizitätsmodul der Pufferschicht kleiner als ein Elastizitätsmodul der Verkapselungsschicht ist.
Die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung kann ferner eine Farbfilterschicht auf der Pufferschicht aufweisen.
Die Farbfilterschicht kann einen ersten Farbfilter und einen zweiten Farbfilter aufweisen.
Die Pufferschicht kann eine erste Pufferschicht zwischen dem zweiten Substrat und dem ersten Farbfilter und eine zweite Pufferschicht zwischen dem zweiten Substrat und dem zweiten Farbfilter aufweisen.
Die erste Pufferschicht und die zweite Pufferschicht können voneinander beabstandet sein.
Die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung kann ferner eine Dammstruktur aufweisen, die das erste Substrat und das zweite Substrat an Kanten des ersten Substrats und des zweiten Substrats aneinander befestigt, wobei die Dammstruktur von der Pufferschicht beabstandet ist.
Gemäß einem anderen Aspekt weist eine elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung, bei der ein aktiver Bereich und ein Dummybereich vorgegeben sind, auf: ein erstes Substrat; ein zweites Substrat, das dem ersten Substrat zugewandt ist; eine lichtemittierende Schicht in dem aktiven Bereich und dem Dummybereich auf dem ersten Substrat; eine Verkapselungsschicht in dem aktiven Bereich und dem Dummybereich auf der lichtemittierenden Schicht; und eine Pufferschicht in dem aktiven Bereich und dem Dummybereich auf einer inneren Oberfläche des zweiten Substrats, die dem ersten Substrat zugewandt ist, wobei ein Elastizitätsmodul der Pufferschicht kleiner als ein Elastizitätsmodul der Verkapselungsschicht ist.
Die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung kann in dem aktiven Bereich ferner eine Farbfilterschicht auf der Pufferschicht aufweisen.
Die Farbfilterschicht kann einen ersten Farbfilter und einen zweiten Farbfilter aufweisen.
Die Pufferschicht kann eine erste Pufferschicht zwischen dem zweiten Substrat und dem ersten Farbfilter und eine zweite Pufferschicht zwischen dem zweiten Substrat und dem zweiten Farbfilter aufweisen.
Die erste Pufferschicht und die zweite Pufferschicht können voneinander beabstandet sein.
Die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung kann ferner eine Dammstruktur aufweisen, die das erste Substrat und das zweite Substrat an Kanten des ersten Substrats und des zweiten Substrats aneinander befestigt, wobei die Dammstruktur von der Pufferschicht beabstandet ist.
Es ist zu verstehen, dass sowohl die vorhergehende allgemeine Beschreibung als wieso auch die folgende detaillierte Beschreibung beispielhaft und erläuternd sind und dazu gedacht sind, eine weitere Erläuterung des erfinderischen Konzepts, wie es beansprucht ist, bereitzustellen.
Figurenliste
Die beigefügten Zeichnungen, welche eingeschlossen sind, um ein weiteres Verständnis der Offenbarung bereitzustellen und welche in dieser Anmeldung aufgenommen sind und einen Teil davon darstellen, veranschaulichen Ausführungsformen der Offenbarung und dienen zusammen mit der Beschreibung dazu, verschiedene Prinzipien zu erläutern. In den Zeichnungen zeigen:

1 eine Querschnittsansicht einer herkömmlichen elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung;
2A eine Querschnittsansicht einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung;
2B eine Draufsicht auf ein zweites Substrat, das von einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst ist;
3 eine Querschnittsansicht eines Substrats, das von einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst ist;
4 bis 6 Querschnittsansichten von elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtungen gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen der vorliegenden Offenbarung;
7A eine Querschnittsansicht einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß einer anderen beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung;
7B eine Draufsicht auf ein zweites Substrat, das von einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß einer anderen beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst ist;
8A eine Draufsicht auf ein zweites Substrat, das von einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß einer weiteren anderen beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst ist;
8B eine Querschnittsansicht einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung entlang der Linie 1-1 gemäß 8A;
9 bis 11 Querschnittsansichten von elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtungen gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen der vorliegenden Offenbarung; und
12 eine Querschnittsansicht einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß einer weiteren anderen beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
Es wird nun im Detail auf Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung Bezug genommen, deren Beispiele in den beigefügten Zeichnungen veranschaulicht sind. Soweit möglich werden gleiche Bezugszeichen über die Zeichnungen hinweg dazu verwendet, auf gleiche oder ähnliche Teile Bezug zu nehmen.
Vorteile und Merkmale der vorliegenden Offenbarung und Implementierungsverfahren derselben werden durch die folgenden beispielhaften Ausführungsformen klar, welche mit Bezug zu den angehängten Zeichnungen beschrieben werden. Die vorliegende Offenbarung kann jedoch in verschiedenen Formen ausgeführt werden und sollte nicht so ausgelegt werden, dass sie auf die beispielhaften Ausführungsformen, die hierin ausgeführt sind, beschränkt ist. Vielmehr werden diese Ausführungsformen bereitgestellt, damit diese Offenbarung umfassend und vollständig ist, um die Fachmänner auf diesem Gebiet zu unterstützen, den Umfang der vorliegenden Offenbarung vollkommen zu verstehen. Ferner ist die vorliegende Offenbarung lediglich durch den Umfang der Ansprüche definiert.
Formen, Größen, Verhältnisse, Winkel und Zahlen, die in den Zeichnungen zum Beschreiben der Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung offenbart sind, dienen lediglich als Beispiele. Daher ist die vorliegende Offenbarung nicht auf die veranschaulichten Details beschränkt. Sofern nicht anders beschrieben beziehen sich gleiche Bezugszeichen auf gleiche Elemente. In der folgenden Beschreibung können, wenn die detaillierte Beschreibung von relevanten bekannten Funktionen oder Konfigurationen als einen wichtigen Punkt der vorliegenden Offenbarung unnötiger Weise verschleiernd erachtet wird, werden die detaillierten Beschreibungen von derartigen bekannten Funktionen oder Konfigurationen weggelassen. In einem Fall, in dem Begriffe wie „aufweisen“, „haben“ und „einschließen“ in der vorliegenden Beschreibung verwendet werden, können andere Teile hinzugefügt werden, sofern nicht ein beschränkender Begriff, wie beispielsweise „nur“ verwendet wird. Die Begriffe in Singularform können die entsprechenden Pluralformen umfassen, sofern nichts anderes ausgesagt ist.
Beim Konstruieren eines Elements wird das Element so konstruiert, dass es einen Fehler- oder Toleranzbereich aufweist, auch wenn in der Beschreibung ein solcher Fehler- oder Toleranzbereich nicht explizit beschrieben ist.
Beim Beschreiben einer räumlichen Beziehung, wenn eine räumliche Beziehung zwischen zwei Teilen beispielsweise als „auf“, „über“, „unter“ oder „nächstes“ beschrieben wird, können einen oder mehrere andere Teile zwischen den beiden Teilen angeordnet sein, sofern nicht ein beschränkender Begriff wie beispielsweise „genau“ oder „direkt“ verwendet wird.
Beim Beschreiben einer zeitlichen Beziehung, wenn eine zeitliche Reihenfolge beispielsweise als „nach“, „nachfolgend“, „nächste“ oder „vor“ beschrieben wird, kann ein Fall, der nicht kontinuierlich ist, mit eingeschlossen sein, sofern nicht ein beschränkender Begriff wie beispielsweise „genau“, „unmittelbar“ oder „direkt“ verwendet wird.
Es ist zu verstehen, dass, obwohl Begriffe wie „erster“, „zweiter“ etc. hierin verwendet werden, um verschiedene Elemente zu beschreiben, diese Elemente nicht durch diese Begriffe beschränkt werden, da sie nicht verwendet werden, um eine besondere Reihenfolge vorzugeben. Diese Begriffe werden lediglich dazu verwendet, ein Element von einem anderen unterscheiden zu können. Beispielsweise kann ein erstes Element als zweites Element bezeichnet werden und gleichermaßen könnte ein zweites Element als erstes Element bezeichnet werden ohne von dem Umfang der vorliegenden Offenbarung abzuweichen.
Beim Beschreiben von Elementen der vorliegenden Offenbarung können Begriffe wie „erster“, „zweiter“, „A“, „B“, „(a)“ und „(b)“ verwendet werden. Diese Begriffe dienen lediglich dazu, ein Element von einem anderen zu unterscheiden und die Essenz, Abfolge Reihenfolge oder Anzahl von entsprechenden Elementen sollten nicht durch diese Begriffe beschränkt werden. Auch wenn ein Element oder eine Schicht so beschrieben wird, dass es bzw. sie mit oder an einem anderen Element oder Schicht „verbunden“, „gekoppelt“ oder „befestigt“ ist, kann das Element oder die Schicht nicht nur direkt mit dem anderen Element oder der anderen Schicht verbunden oder daran befestigt sein, sondern auch mit einem oder mehreren Elementen oder Schichten dazwischen, die zwischen den Elementen oder Schichten angeordnet sind, an oder mit dem anderen Element oder der anderen Schicht indirekt verbunden oder befestigt sein, sofern nichts anderes angegeben ist.
Der Begriff „mindestens einer“ sollte so verstanden werden, dass er irgendeine und alle Kombinationen von einem oder mehreren der entsprechend aufgelisteten Gegenstände einschließt. Beispielsweise umfasst die Bedeutung von „mindestens ein erster Gegenstand, ein zweiter Gegenstand und ein dritter Gegenstand“ die Kombination von allen Gegenständen, vorgeschlagen von zwei oder mehr des ersten Gegenstands, des zweiten Gegenstands und des dritten Gegenstands, sowie des ersten Gegenstands, des zweiten Gegenstands oder des dritten Gegenstands.
Bei der Beschreibung der Ausführungsformen, wenn eine Struktur als „auf oder über“ oder „unter oder unterhalb“ einer anderen Struktur angeordnet beschrieben wird, sollte die Beschreibung so ausgelegt werden, dass sie einen Fall einschließt, in dem die Strukturen einander berühren, sowie einen Fall, in dem eine dritte Struktur dazwischen angeordnet ist. Die Größen und Dicken der Elemente, die in den Zeichnungen gezeigt sind, sind lediglich zur vereinfachten Beschreibung angegeben und Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung sind nicht darauf beschränkt, sofern nichts anderes angegeben ist.
Merkmale der verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung können teilweise oder vollständig miteinander gekoppelt oder miteinander kombiniert werden und können miteinander auf verschiedene Arten technisch zusammenwirken und betrieben werden, wie die Fachmänner auf diesem Gebiet ausreichend verstehen werden. Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung können unabhängig voneinander ausgeführt werden oder können zusammen in einer voneinander abhängigen Beziehung ausgeführt werden.
Nachfolgend werden beispielhafte Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung im Detail mit Bezug zu den beigefügten Zeichnungen beschrieben.
2A ist eine Querschnittsansicht einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung. 2B ist eine Draufsicht auf ein zweites Substrat, das von einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst ist.
Wie in 2A gezeigt, kann eine elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung ein erstes Substrat 100, eine Schaltungselementschicht 200, eine erste Elektrode 300, einen Wall 400, eine lichtemittierende Schicht 500, eine zweite Elektrode 600, eine Verkapselungsschicht 650, ein zweites Substrat 700, eine Pufferschicht 750, eine Farbfilterschicht 800, eine Dammstruktur 900 und eine Füllschicht 950 aufweisen.
Das Substrat 100 kann aus Glas oder Plastik gebildet sein, ist jedoch nicht darauf beschränkt. Das erste Substrat 100 kann von einem transparenten Material oder von einem opaken Material gebildet sein. Die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann ein Top-Emitter sein, bei dem das emittierte Licht in Richtung der Oberseite emittiert wird, und dementsprechend kann sowohl ein opakes Material als auch ein transparentes Material als Material für das erste Substrat 100 verwendet werden.
Die Schaltungselementschicht 200 ist auf dem ersten Substrat 100 ausgebildet. Auf der Schaltungselementschicht 200 ist in jedem der Pixel P1, P2, P3 und P4 ein Schaltkreiselement bereitgestellt, das verschiedene Signalleitungen, einen Dünnfilmtransistor (oder TFT), einen Kondensator und Ähnliches aufweist. Die Signalleitungen können Gateleitungen, Datenleitungen, Energieleitungen und Referenzleitungen aufweisen und die Dünnfilmtransistoren können Schalt-TFTs, Treiber-TFTs und Abtast-TFTs aufweisen.
Der Schalt-TFT wird in Übereinstimmung mit einem Gatesignal geschaltet, das über eine Gateleitung zugeführt wird, und führt eine Datenspannung, die von der Datenleitung zugeführt wird, dem Treiber-TFT zu. Der Treiber-TFT wird in Übereinstimmung mit der Datenspannung geschaltet, die von dem Schalt-TFT zugeführt wird, um einen Datenstrom von einer Energiequelle zu erzeugen, der von der Energieleitung zugeführt wird, und um den erzeugten Datenstrom der ersten Elektrode 300 zuzuführen. Der Abtast-TFT, welcher dazu dient, eine Schwellenwertspannungsabweichung des Treiber-TFTs zu erfassen, welche eine Verschlechterung einer Bildqualität verursacht, führt den Strom des Treiber-TFTs der Referenzleitung zu in Reaktion auf ein Abtaststeuersignal, das von der Gateleitung oder einer separaten Abtastleitung zugeführt wird. Der Kondensator, der dazu dient, eine Datenspannung aufrechtzuerhalten, die dem Treiber-TFT für ein Einzelbild (englisch: frame) zugeführt wird, ist sowohl mit dem Gateanschluss als auch mit dem Sourceanschluss des Treiber-TFTs verbunden.
Die erste Elektrode 300 ist auf der Schaltungselementschicht 200 ausgebildet. Die erste Elektrode 300 kann gemäß den Pixeln P1, P2, P3, P4 strukturiert sein und dient als Anode der elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung. Die erste Elektrode 300 ist mit dem Treiber-TFT verbunden, der in der Schaltungselementschicht 200 angeordnet ist.
Die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung kann eine Top-Emitter elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung sein und dementsprechend kann die erste Elektrode 300 ein reflektierendes Material aufweisen, um Licht, das von der lichtemittierenden Schicht 500 emittiert wird, nach oben zu reflektieren. In diesem Fall kann die erste Elektrode 300 eine Struktur haben, bei der ein transparentes leitendes Material und ein reflektierendes Material übereinander gestapelt sind.
Der Wall 400 ist an den Grenzen der Mehrzahl der Pixel P1, P2, P3, P4 ausgebildet. Beispielsweise kann der Wall 400 im Ganzen gemäß einer Matrixstruktur ausgebildet sein, so dass er Emissionsbereiche in der Mehrzahl von Pixeln definiert.
Der Wall 400 ist auf der Schaltungselementschicht 200 ausgebildet und bedeckt beide Enden der ersten Elektrode 300. Dementsprechend können eine Mehrzahl von ersten Elektroden, die in jedem der Mehrzahl von Pixeln ausgebildet sind, mittels des Walls 400 voneinander isoliert sein.
Die lichtemittierende Schicht 500 ist auf der ersten Elektrode 300 ausgebildet. Die lichtemittierende Schicht 500 ist in den Emissionsbereichen der Mehrzahl von Pixeln P1, P2, P3, P4 ausgebildet. Die lichtemittierende Schicht 500 kann eine rotes Licht emittierende Schicht, eine grünes Licht emittierende Schicht und eine blaues Licht emittierende Schicht aufweisen, die in der Mehrzahl von Pixeln P1, P2, P3, P4 ausgebildet sind. Die lichtemittierende Schicht 500 kann eine weißes Licht emittierende Schicht aufweisen, die in den Pixeln P1, P2, P3, P4 ausgebildet ist.
Die lichtemittierende Schicht 500 kann den Pixeln P1, P2, P3, P4 entsprechend strukturiert werden mittels Aufdampfens unter Verwendung einer Maske oder kann ohne Maske den Pixeln P1, P2, P3, P4 entsprechend strukturiert sein mittels eines Flüssigprozesses unter Verwendung einer Tintenstrahlausrüstung (englisch: inkjet equipment) (beispielsweise eines Tintenstrahldruckers) oder Ähnlichem. Die lichtemittierende Schicht 500 kann ohne Maske mittels Aufdampfens ausgebildet werden und in diesem Fall kann die lichtemittierende Schicht 500 auch auf dem Wall 400 sowie auf der ersten Elektrode 300 ausgebildet werden. Die lichtemittierende Schicht 500 kann von einer weißes Licht emittierenden Schicht gebildet sein.
Die lichtemittierende Schicht 500 kann eine Löcher injizierende Schicht, eine Löcher transportierende Schicht, eine organische Emitterschicht, eine Elektronen transportierende Schicht und/oder eine Elektronen injizierende Schicht aufweisen.
Die zweite Elektrode 600 ist auf der lichtemittierenden Schicht 500 ausgebildet und kann als Kathode der elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung dienen.
Da die zweite Elektrode 600 nicht nur auf der lichtemittierenden Schicht 500, sondern auch auf dem Wall 400 ausgebildet sein kann, kann die zweite Elektrode 600 in der Mehrzahl von Pixeln P1, P2, P3, P4 und auf den gesamten Grenzbereichen dazwischen ausgebildet sein. Deshalb kann die zweite Elektrode 600 als gemeinsame Elektrode dazu dienen, eine gemeinsame Spannung an die Mehrzahl von Pixeln P1, P2, P3, P4 anzulegen.
Die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung kann als Top-Emitter ausgebildet sein und dementsprechend kann die zweite Elektrode von einem transparenten leitfähigen Material gebildet sein, das ermöglicht, dass Licht, das von der lichtemittierenden Schicht 500 emittiert wird, nach oben hindurch tritt und/oder kann sehr dünn ausgebildet sein, um die Durchlässigkeit zu erhöhen. In diesem Fall, um einen Widerstand des transparenten leitfähigen Materials zu verringern, kann eine Hilfselektrode, die eine hervorragende elektrische Leitfähigkeit hat, mit der zweiten Elektrode 600 verbunden sein.
Die Verkapselungsschicht 650 ist auf der zweiten Elektrode 600 ausgebildet. Die Verkapselungsschicht 650 dient dazu, zu verhindern, dass Feuchtigkeit aus der Umgebung in die lichtemittierende Schicht 500 eindringt. Die Verkapselungsschicht 650 kann sich von einer oberen Oberfläche der zweiten Elektrode 600 hin zu einer seitlichen Oberfläche der Schaltungselementschicht 200 erstrecken, um einen Eindringpfad von Feuchtigkeit abzublocken, die in die lichtemittierende Schicht 500 eindringen kann. Die Verkapselungsschicht 650 kann aus einem anorganischen Isoliermaterial gebildet sein oder kann eine Struktur haben, in welcher anorganisches Isoliermaterial und organisches Isoliermaterial abwechselnd gestapelt sind, jedoch ist die vorliegende Offenbarung nicht darauf beschränkt.
Gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung sind die Schaltungselementschicht 200, die erste Elektrode 300, der Wall 400, die lichtemittierende Schicht 500, die zweite Elektrode 600 und die Verkapselungsschicht 650 auf dem ersten Substrat 100 ausgebildet. Hierbei können die Komponenten, die auf dem ersten Substrat 100 ausgebildet sind, auf verschiedene herkömmliche Arten modifiziert werden.
Das zweite Substrat 700 ist an einer Vorderseite angeordnet, an der ein Bild angezeigt wird. Dementsprechend ist das zweite Substrat 700 aus einem transparenten Material gebildet. Das zweite Substrat 700 ist mittels der Dammstruktur 900 an dem ersten Substrat 100 befestigt.
Die Pufferschicht 750 ist auf dem zweiten Substrat 700 ausgebildet. Insbesondere ist die Pufferschicht 750 an einer inneren Oberfläche des zweiten Substrats 700, die dem ersten Substrat 100 zugewandt ist, ausgebildet. Die Pufferschicht 750 ist aus einem transparenten Material gebildet, durch das Licht hindurch tritt. Hierbei kann eine innere Oberfläche einer Komponente sich auf eine Oberfläche beziehen, die bei der elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung nach innen gerichtet ist.
Die Pufferschicht 750 dient dazu, den Anpressdruck durch Fremdmaterial f zu verringern. Dies wird nachfolgend im Detail beschrieben.
Wenn das erste Substrat 100 und das zweite Substrat 700 mit dem Fremdmaterial f auf der Verkapselungsschicht 650 des ersten Substrats 100 aneinander befestigt werden, können die Elemente, die auf dem ersten Substrat 100 ausgebildet sind, aufgrund des Fremdmaterials f beschädigt werden. Insbesondere wenn die Größe des Fremdmaterials f größer ist als ein Abstand D zwischen dem zweiten Substrat 700 und der Verkapselungsschicht 650, kann die Anpresskraft aufgrund des Fremdmaterials f gravierend auftreten, so dass die Möglichkeit einer Beschädigung eines Elements darunter zunimmt.
Um die Möglichkeit der Beschädigung eines Elements aufgrund des Fremdmaterials f zu reduzieren, können der Abstand D zwischen dem zweiten Substrat 700 und der Verkapselungsschicht 650 vergrößert werden. Deshalb, bei einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung, ist die Pufferschicht 750 auf der inneren Oberfläche des zweiten Substrats 700 ausgebildet, um den Abstand D zwischen der Verkapselungsschicht 650 und dem zweiten Substrat 700 zu vergrößern. Dadurch wird die Möglichkeit des Beschädigens eines Elements aufgrund des Fremdmaterials f reduziert.
Andererseits ist es auch möglich, die Dicke der Füllschicht 950 zu erhöhen, um den Abstand D zwischen dem zweiten Substrat 700 und der Verkapselungsschicht 650 zu vergrößern. Jedoch kann hierbei ein Abstand H zwischen der Farbfilterschicht 800 und der zweiten Elektrode 600 vergrößert werden, wodurch ein Lichtleck verursacht wird und eine Helligkeit abhängig von einem Blickwinkel abnimmt.
Daher kann bei einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung der Abstand D zwischen der Verkapselungsschicht 650 und dem zweiten Substrat 700 vergrößert werden, während der Abstand H zwischen der Farbfilterschicht 800 und der zweiten Elektrode 600 nicht vergrößert wird, da die Pufferschicht 750 zwischen dem zweiten Substrat 700 und der Farbfilterschicht 800 ausgebildet ist. Dementsprechend können das Lichtleck und die Abnahme der Helligkeit abhängig vom Betrachtungswinkel verhindert werden und die Möglichkeit des Beschädigens eines Elements aufgrund des Fremdmaterials f kann reduziert werden.
Die Pufferschicht 750 kann aus einem weichen Material gebildet sein, um den Druck aufgrund des Fremdmaterials f zu absorbieren. Aus diesem Grund kann ein Elastizitätsmodul der Pufferschicht 750 kleiner sein als ein Elastizitätsmodul der Verkapselungsschicht 650. Wenn beispielsweise ein Druck aufgrund des Fremdmaterials f auftritt, kann es für die Verkapselungsschicht 650 schwer sein, den Druck aufgrund des Fremdmaterials f zu absorbieren, weil die Verkapselungsschicht 650 aus einem Material gebildet ist, das ein relativ großes Elastizitätsmodul hat, und daher kann der Druck unverändert ein Element beeinflussen, das unter der Verkapselungsschicht 650 angeordnet ist. Im Unterschied dazu kann die Pufferschicht 750 den Druck aufgrund des Fremdmaterials f absorbieren, da die Pufferschicht 750 aus einem Material gebildet ist, das ein relativ kleines Elastizitätsmodul hat, und daher, wenn der Druck aufgrund des Fremdmaterials f auftritt, kann der Druck das Element nicht beeinflussen sondern wird von der Pufferschicht 750 absorbiert, so dass ein Defekt des Elements verhindert wird. Die Pufferschicht 750 ist aus einem transparenten organischen Material gebildet und daher kann Licht, das von der lichtemittierenden Schicht 500 emittiert wird, einfach durch die Pufferschicht 750 hindurchtreten.
Die Farbfilterschicht 800 ist auf der Pufferschicht 750 ausgebildet. Insbesondere ist die Farbfilterschicht 800 an einer inneren Oberfläche der Pufferschicht 750 ausgebildet, die dem ersten Substrat 100 zugewandt ist. Die Farbfilterschicht 800 kann einen Rot-Farbfilter R, einen Grün-Farbfilter G und einen Blau-Farbfilter B aufweisen.
Der Rot-Farbfilter R, der Grün-Farbfilter G und der Blau-Farbfilter B können voneinander beabstandet ausgebildet sein, jedoch ist die vorliegende Offenbarung nicht darauf beschränkt. Beispielsweise können in manchen Fällen der Rot-Farbfilter R, der Grün-Farbfilter G und der Blau-Farbfilter B kontinuierlich ausgebildet sein oder so, dass sie einander an ihren Enden überlappen.
Gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung können ein erstes Pixel P1, ein zweites Pixel P2, ein drittes Pixel P3 und ein viertes Pixel P4 angeordnet sein. Ein Rot-Farbfilter R kann in einem Bereich angeordnet sein, der zu dem ersten Pixel P1 korrespondiert, ein Grün-Farbfilter G kann in einem Bereich angeordnet sein, der zu dem zweiten Pixel P2 korrespondiert, ein Blau-Farbfilter B kann in einem Bereich angeordnet sein, der zu dem dritten Pixel P3 korrespondiert, und in einem Bereich, der zu dem vierten Pixel P4 korrespondiert, kann kein Farbfilter angeordnet sein. Dementsprechend ist ein Abschnitt der Pufferschicht 750, der in dem Bereich angeordnet ist, der zu dem vierten Pixel P4 korrespondiert, vollständig in Kontakt mit der Füllschicht 950.
Daher befindet sich das Fremdmaterial f in dem Bereich, der zu dem vierten Pixel P4 korrespondiert, in einem Raum zwischen der Pufferschicht 750 und der Verkapselungsschicht 650. In den Bereichen, die zu dem ersten Pixel P1, dem zweiten Pixel P2 bzw. dem dritten Pixel P3 korrespondieren, befindet sich das Fremdmaterial f in dem Raum zwischen der Farbfilterschicht 800 und der Verkapselungsschicht 650.
Hierbei ist eine Höhe d1 eines Raums, in dem sich in dem Bereich, der zu dem vierten Pixel P4 korrespondiert, das Fremdmaterial f befindet, größer als eine Höhe d2 eines Raums, in dem sich in dem Bereich, der zu dem ersten Pixel P1, dem zweiten Pixel P2 bzw. dem dritten Pixel P3 korrespondiert, das Fremdmaterial f befindet. Dadurch kann der Druck aufgrund des Fremdmaterials f in dem Bereich, der zu dem vierten Pixel P4 korrespondiert, relativ verringert werden. Jedoch, kann die vorliegende Offenbarung auch auf einen Fall angewendet werden, bei dem alle Pixel nur drei (Unter-)Pixel aufweisen, die lediglich die Farbfilter R, G und B aufweisen.
Die Dammstruktur 900 kann an Kanten des ersten Substrats 100 und des zweiten Substrats 700 ausgebildet sein, um das erste Substrat 100 und das zweite Substrat 700 aneinander zu befestigen. Zusätzlich kann die Dammstruktur 900 verhindern, dass die Füllschicht 950 nach außen herausfließt. Daher kann das Innere der elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung mittels der Dammstruktur 900 abgedichtet sein.
Die Dammstruktur 900 kann ein Material aufweisen, das verhindert, dass Feuchtigkeit hindurchdringt, um zu verhindern, dass Feuchtigkeit von außen eindringt. Um den Effekt des Verhinderns des Eindringens von Feuchtigkeit zu verbessern, kann die Dammstruktur 900 in direktem Kontakt mit dem zweiten Substrat 700 sein.
Insbesondere wenn die Pufferschicht 750 zwischen der Dammstruktur 900 und dem zweiten Substrat 700 ausgebildet ist, kann Feuchtigkeit aus der Umgebung durch die Pufferschicht 750 dringen. Daher kann die Pufferschicht 750 nicht zwischen der Dammstruktur 900 und dem zweiten Substrat 700 ausgebildet sein. Aus diesem Grund kann die Pufferschicht 750 von der Dammstruktur 900 um einen ersten Abstand W1 beabstandet sein. Beispielsweise kann die Pufferschicht 750 die Dammstruktur 900 nicht berühren. Jedoch ist die vorliegende Offenbarung nicht darauf beschränkt und die Pufferschicht 750 kann in Kontakt mit der Dammstruktur 900 sein. In diesem Fall kann ein Ende der Pufferschicht 750 in Kontakt mit der Dammstruktur 900 sein, so dass es zwischen der Dammstruktur 900 und dem zweiten Substrat 700 keine Pufferschicht 750 gibt oder diese dort nicht ausgebildet ist.
Die Füllschicht 950 füllt das Innere der Dammstruktur 900. Die Füllschicht 950 ist zwischen der Verkapselungsschicht 650 und der Farbfilterschicht 800 ausgebildet. Die Füllschicht 950 kann in Kontakt mit der Pufferschicht 750 sein und kann in Kontakt mit den Kantenbereichen des ersten Substrats 100 und des zweiten Substrats 700 sein. Die Füllschicht 950 kann aus verschiedenen herkömmlichen Materialien gebildet sein.
Wie in 2B veranschaulicht ist die Dammstruktur 900 an der Kante des zweiten Substrats 700 ausgebildet. Die Dammstruktur 900 hat eine Form, die zu einer Umfangsform des zweiten Substrats 700 korrespondiert und umgibt die Kante des zweiten Substrats 700.
Die Pufferschicht 750 ist in Form einer Platte an der Innenseite der Dammstruktur 900 ausgebildet. Die Farbfilterschicht 800, die den Rot-Farbfilter R, den Grün-Farbfilter G und den Blau-Farbfilter B aufweist, ist auf der Pufferschicht 750 ausgebildet.
Der Rot-Farbfilter R, der Grün-Farbfilter G und der Blau-Farbfilter B können jeweils eine Zeile bilden und können in Spaltenrichtung zusammenhängend ausgebildet sein, jedoch ist die vorliegende Offenbarung nicht darauf beschränkt. Beispielsweise ist die Struktur, die in 2B veranschaulicht ist, auf einen Fall anwendbar, bei dem Pixel, die die gleiche Farbe emittieren, in der gleichen Spalte angeordnet sind. Jedoch können in einem Fall, in dem die Pixel, die verschiedene Farben emittieren, in der gleichen Spalte angeordnet sind, der Rot-Farbfilter R, der Grün-Farbfilter G und der Blau-Farbfilter B in jedem Pixel ausgebildet sein, der die entsprechende Farbe emittiert.
3 ist eine Querschnittsansicht des ersten Substrats, das Teil einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ist.
Wie in 3 veranschaulicht sind die Schaltungselementschicht 200, die erste Elektrode 300, der Wall 400, die lichtemittierende Schicht 500, die zweite Elektrode 600 und die Verkapselungsschicht 650 auf dem ersten Substrat 100 ausgebildet. Nachfolgend werden nur Komponenten beschrieben, die sich von der im Vorhergehenden beschriebenen Ausführungsform unterscheiden.
Die Schaltungselementschicht 200 weist eine aktive Schicht 210, eine Gate-Isolationsschicht 220, eine Gateelektrode 230, eine Zwischenschicht-Isolationsschicht 240, eine Sourceelektrode 250a, eine Drainelektrode 250b, eine Passivierungsschicht 260 und eine Planarisierungsschicht 270 auf. Die aktive Schicht 210 ist auf dem ersten Substrat 100 ausgebildet. Die aktive Schicht 210 kann aus einem siliziumbasierten Halbleitermaterial oder einem Oxid-Halbleitermaterial gebildet sein, ist jedoch nicht darauf beschränkt. Obwohl nicht gezeigt kann eine Licht-Abblockschicht zusätzlich zwischen dem ersten Substrat 100 und der aktiven Schicht 210 angeordnet sein, um zu verhindern, dass Licht in die aktive Schicht 210 eindringt, wodurch eine Verschlechterung der aktiven Schicht 210 verhindert wird.
Die Gate-Isolationsschicht 220 ist auf der aktiven Schicht 210 ausgebildet, um die aktive Schicht 210 von der Gateelektrode 230 zu isolieren. Die Gateelektrode 230 ist auf der Gate-Isolationsschicht 22 ausgebildet. Die Zwischenschicht-Isolationsschicht 240 ist auf der zweiten Gateelektrode 230 ausgebildet, um die Gateelektrode 230 von den Source/Drainelektroden 250a und 250b zu isolieren.
Die Sourceelektrode 250a und die Drainelektrode 250b liegen auf der Zwischen-Isolationsschicht 240 einander gegenüber und sind voneinander getrennt. Die Sourceelektrode 250a und die Drainelektrode 250b sind mit einem Ende bzw. einem anderen Ende der aktiven Schicht 210 über ein Kontaktloch verbunden, das in der Zwischenschicht-Isolationsschicht 240 und der Gate-Isolationsschicht 220 ausgebildet ist.
Die Passivierungsschicht 260 ist auf der zweiten Elektrode 250a und eine Drainelektrode 250b ausgebildet und schützt den TFT. Die Planarisierungsschicht 270 ist auf der Passivierungsschicht 260 ausgebildet, um eine Fläche über dem ersten Substrat 100 zu planarisieren.
Dementsprechend weist die Schaltungselementschicht 200 einen Dünnfilmtransistor (TFT) auf, der die Gateelektrode 230, die aktive Schicht 210, die Sourceelektrode 250a und die Drainelektrode 250b aufweist. 3 veranschaulicht einen TFT, der eine Top-Gate-Struktur hat, bei der die Gateelektrode 230 auf einer aktiven Schicht 210 ausgebildet ist, ist jedoch nicht darauf beschränkt. Ein TFT, der eine Bottom-Gate-Struktur hat, bei der die Gateelektrode 230 unter der aktiven Schicht 210 ausgebildet ist, kann auch in der Schaltungselementschicht 200 ausgebildet sein.
Bei einem Fall, in dem die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung als Top-Emitter ausgebildet ist, wird eine Lichtemission nicht von dem TFT beeinflusst, obwohl der TFT unter der lichtemittierenden Schicht 500 ausgebildet ist, und daher kann der TFT unter der lichtemittierenden Schicht 500 ausgebildet sein.
Die erste Elektrode 300 ist mit der Drainelektrode 250b des TFTs über ein Kontaktloch verbunden, das in der Planarisierungsschicht 270 und der Passivierungsschicht 260 ausgebildet ist. In manchen Fällen kann die erste Elektrode 300 mit der Sourceelektrode 250a des TFTs über das Kontaktloch, das in der Planarisierungsschicht 270 und der Passivierungsschicht 260 ausgebildet ist, verbunden sein.
Der Wall 400 weist einen ersten Wall 410 und ein zweiten Wall 420 auf. Der erste Wall 410 ist auf der Schaltungselementschicht 200 ausgebildet und bedeckt ein Ende der ersten Elektrode 300. Der erste Wall 410 ist dünner ausgebildet als der zweite Wall 420 und hat eine Breite, die größer ist als die des zweiten Walls 420. Der erste Wall 410, der solch eine Struktur hat, hat die gleichen hydrophilen Eigenschaften wie die lichtemittierende Schicht 500. Der erste Wall 410, der die hydrophilen Eigenschaften hat, kann aus einem anorganischen Isoliermaterial, wie beispielsweise Siliziumoxid, gebildet sein. Deshalb, wenn die lichtemittierende Schicht mittels eines Tintenstrahlverfahrens ausgebildet wird, kann eine Lösung zum Ausbilden der lichtemittierenden Schicht 500 einfach über den ersten Wall 410 verteilt werden.
Der zweite Wall 420 ist auf dem ersten Wall 410 ausgebildet. Der zweite Wall 420 ist so ausgebildet, dass er schmäler ist als der erste Wall 410. Der zweite Wall 420 kann mittels eines photolithographischen Prozesses strukturiert werden, nachdem eine Lösung, die mit einem hydrophoben Material gemischt ist, wie beispielsweise Fluor, auf ein organisches Isoliermaterial, das hydrophile Eigenschaften aufweist, angewendet wurde. Das hydrophobe Material, wie beispielsweise Fluor, kann aufgrund von Licht, das in dem photolithographischen Prozess abgestrahlt wird, an einen oberen Abschnitt des zweiten Walls 420 bewegt werden und dementsprechend hat der obere Abschnitt des zweiten Walls 420 hydrophobe Eigenschaften, wohingegen andere Abschnitte hydrophile Eigenschaften haben. Beispielsweise kann der untere Abschnitt des zweiten Walls 420, der mit dem ersten Wall 410 und Kontakt ist, hydrophile Eigenschaften haben und der obere Abschnitt des zweiten Walls 420 kann hydrophobe Eigenschaften haben. Jedoch ist die vorliegende Offenbarung nicht darauf beschränkt und der gesamte zweite Wall 420 kann hydrophobe Eigenschaften haben.
Eine Streichbarkeit der Lösung zum Ausbilden der lichtemittierenden Schicht 500 kann mittels der unteren Abschnitte des ersten Walls 410 und des zweiten Walls 420, die hydrophile Eigenschaften haben, verbessert werden. Insbesondere ist mit der Kombination des ersten Walls 410 und des zweiten Walls 420, eine Zweistufenstruktur bereitgestellt, die hydrophile Eigenschaften hat, da der erste Wall 410 niedriger und breiter ausgebildet ist als der zweite Wall 420, und die Lösung zum Ausbilden der lichtemittierenden Schicht 500 kann einfach hin zu den linken und rechten Enden des Emissionsbereichs verteilt werden.
Außerdem wird verhindert, dass die lichtemittierenden Schichten 500 benachbarter Emissionsbereiche miteinander gemischt werden, da die Lösung zum Ausbilden der lichtemittierenden Schicht 500 mittels des oberen Abschnitts des zweiten Walls 420, der hydrophobe Eigenschaften hat, daran gehindert wird, sich auf einen anderen benachbarten Emissionsbereich auszubreiten.
Die lichtemittierende Schicht 500 ist auf der ersten Elektrode 300 ausgebildet. Die lichtemittierende Schicht 500 kann mittels eines Tintenstrahlprozesses ausgebildet werden. Wenn die lichtemittierende Schicht 500 mittels des Tintenstrahlprozesses ausgebildet wird, ist eine Höhe h1 des oberen Endes der lichtemittierenden Schicht 500 im Zentrum des Emissionsbereichs nach dem Trocknen der Lösung für die lichtemittierende Schicht 500 niedriger als eine Höhe h2 des oberen Endes der lichtemittierenden Schicht 500 an den Enden des Emissionsbereichs. Insbesondere, wie dargestellt, kann ein Profil erhalten werden, bei dem die Höhe der lichtemittierenden Schicht 500 nach und nach vom Ende des Emissionsbereichs in Richtung Zentrum des Emissionsbereichs geringer wird.
Die 4 bis 6 sind Querschnittsansichten einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. Die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung gemäß den 4 bis 6 ist die gleiche, wie die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung gemäß 2, bis auf das, dass eine Lichtabblockschicht 850 zusätzlich angeordnet ist. Daher werden nachfolgend nur die abweichenden Komponenten beschrieben.
Die Lichtabblockschicht 850 ist in einer Matrixstruktur gebildet in Bereichen, die zu den Grenzen zwischen der Mehrzahl von Pixeln P1, P2, P3, P4 korrespondieren, um das Auftreten eines Lichtlecks an den Grenzen zwischen der Mehrzahl von Pixeln P1, P2, P3, P4 zu verhindern. Die Lichtabblockschicht 850 ist in Bereichen zwischen der Mehrzahl von Farbfiltern R, G, B gebildet.
P3 ist in 4 veranschaulicht, die Lichtabblockschicht 850 kann auf einer inneren Oberfläche des zweiten Substrats 700 ausgebildet sein. Beispielsweise kann die Lichtabblockschicht 850 zwischen dem zweiten Substrat 700 und der Pufferschicht 750 ausgebildet sein. Hierbei kann sich die Lichtabblockschicht 850, ähnlich der Pufferschicht 750, nicht zwischen der Dammstruktur 900 und dem zweiten Substrat 700 erstrecken, um zu verhindern, dass Feuchtigkeit aus der Umgebung von der Grenze der Dammstruktur 900 eindringt oder durchdringt. Daher kann die Lichtabblockschicht 850 von der Dammstruktur 900 beabstandet sein und nicht mit ihr in Kontakt sein.
Wie in 5 veranschaulicht, kann die Lichtabblockschicht 850 auf einer inneren Oberfläche der Pufferschicht 750 ausgebildet sein. Beispielsweise kann die Lichtabblockschicht 850 zwischen der Pufferschicht 750 und der Farbfilterschicht 800 ausgebildet sein. Wie im Vorhergehenden beschrieben, kann sich die Lichtabblockschicht 850 nicht zwischen der Dammstruktur 900 und dem zweiten Substrat 700 erstrecken und kann von der Dammstruktur 900 beabstandet sein und kann nicht in Kontakt mit der Dammstruktur 900 sein, wie im Vorhergehenden beschrieben. Hierbei kann die Lichtabblockschicht 850 sich zu der inneren Oberfläche des zweiten Substrats 700 entlang der Kante der Pufferschicht 750 erstrecken und in diesem Fall kann ein Lichtleck an der Kante des zweiten Substrats 700 reduziert werden.
Wie in 6 veranschaulicht, kann die Lichtabblockschicht 850 auf einer inneren Oberfläche der Farbfilterschicht 800 ausgebildet sein. Wie im Vorhergehenden beschrieben erstreckt sich die Lichtabblockschicht 850 nicht zwischen der Dammstruktur 900 und dem zweiten Substrat 700 und kann von der Dammstruktur 900 beabstandet sein und nicht mit der Dammstruktur 900 in Kontakt sein. Hierbei kann sich die Lichtabblockschicht 850 zu der inneren Oberfläche des zweiten Substrats 700 entlang der Kante der Farbfilterschicht 800 und der Pufferschicht 750 erstrecken und in diesem Fall kann das Auftreten eines Lichtlecks an der Kante des zweiten Substrats 700 reduziert werden.
7A ist eine Querschnittsansicht einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß einer anderen beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung und 7B ist eine Draufsicht auf ein zweites Substrat, das von einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß einer anderen beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst ist.
Die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung gemäß 7A ist die gleiche wie die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung gemäß 2A bis auf das, dass eine Struktur der Pufferschicht 750 verändert ist. Daher werden nachfolgend nur die abweichenden Komponenten beschrieben.
Gemäß 2A ist die Pufferschicht 750 in Bereichen ausgebildet, die Bereichen der Mehrzahl der Pixel P1, P2, P3, P4 entsprechen, und in Bereichen, die zu den Grenzbereichen zwischen der Mehrzahl von Pixeln P1, P2, P3, P4 korrespondieren. Beispielsweise kann die Pufferschicht 750 auf der gesamten inneren Oberfläche des zweiten Substrats 700 ausgebildet sein.
Im Unterschied dazu ist in Übereinstimmung mit 7A die Pufferschicht 750 in Bereichen ausgebildet, die zu Bereichen der Mehrzahl der Pixel P1, P2, P3, P4 korrespondieren, ist jedoch nicht in Bereichen ausgebildet, die zu den Grenzbereichen korrespondieren. Daher weist die Pufferschicht 750 auf: eine erste Pufferschicht 750a, die in einem Bereich ausgebildet ist, der zu dem Bereich des ersten Pixels P1 korrespondiert, eine zweite Pufferschicht 750b, die in einem Bereich ausgebildet ist, der zu einem Bereich des zweiten Pixels P2 korrespondiert, und eine dritte Pufferschicht 750c, die in einem Bereich ausgebildet ist, der zu dem Bereich des dritten Pixels P3 korrespondiert.
Die erste Pufferschicht 750a kann zwischen dem zweiten Substrat 700 und dem Rot-Farbfilter R ausgebildet sein, die zweite Pufferschicht 750b kann zwischen dem zweiten Substrat 700 und dem Grün-Farbfilter G ausgebildet sein und die dritte Pufferschicht 750c kann zwischen dem zweiten Substrat 700 und dem Blau-Farbfilter B ausgebildet sein. Die erste Pufferschicht 750a kann die gleiche Struktur haben wie der Rot-Farbfilter R, die zweite Pufferschicht 750b kann die gleiche Struktur haben wie der Grün-Farbfilter G und die dritte Pufferschicht 750c kann die gleiche Struktur haben wie der Blau-Farbfilter B, ist jedoch nicht darauf beschränkt.
Bezugnehmend auf 7A, da die erste Pufferschicht 750a, die zweite Pufferschicht 750b und die dritte Pufferschicht 750c voneinander beabstandet sind, kann ein Teil des Fremdmaterials f in eine Lücke eindringen, die zwischen der Pufferschicht 750a, 750b, 750c ausgebildet ist, wodurch die Druckkraft aufgrund des Fremdmaterials f reduziert wird.
Eine Struktur des zweiten Substrats 700 gemäß 7B ist die gleiche wie die des zweiten Substrats 700 gemäß 2B, bis auf das, dass eine Struktur der Pufferschicht 750 verändert ist. Bezugnehmend auf 7B weist die Pufferschicht 750 eine erste Pufferschicht 750a, eine zweite Pufferschicht 750b und eine dritte Pufferschicht 750c auf, die voneinander beabstandet sind.
Die erste Pufferschicht 750a, die zweite Pufferschicht 750b und die dritte Pufferschicht 750c können jeweils eine Zeile bilden und können in Spaltenrichtung zusammenhängen, jedoch ist die vorliegende Offenbarung nicht darauf beschränkt. Beispielsweise kann ein Rot-Farbfilter R in Richtung der gleichen Spalte zusammenhängend auf der ersten Pufferschicht 750a ausgebildet sein, ein Grün-Farbfilter G kann in Richtung der gleichen Spalte zusammenhängend auf der zweiten Pufferschicht 750b ausgebildet sein und ein Blau-Farbfilter B kann in Richtung der gleichen Spalte zusammenhängend auf der dritten Pufferschicht 750c ausgebildet sein.
Wie dargestellt können die Flächen der ersten Pufferschicht 750a, der zweiten Pufferschicht 750b und der dritten Pufferschicht 750c größer oder gleich groß sein wie die Flächen des Rot-Farbfilters R, des Grün-Farbfilters G bzw. des Blau-Farbfilters B, oder in manchen Fällen können die Flächen das Rot-Farbfilters R, des Grün-Farbfilters G und des Blau-Farbfilters B größer sein als die Flächen der ersten Pufferschicht 750a, der zweiten Pufferschicht 750b bzw. der dritten Pufferschicht 750c.
8A ist eine Draufsicht auf ein zweites Substrat, das von der elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß einer weiteren anderen beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst ist, und 8B ist eine Querschnittsansicht der elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß 8A entlang der Linie I-I.
Die Struktur des zweiten Substrats 700 gemäß 8A ist die gleiche wie die des zweiten Substrats 700 gemäß 7B, bis auf das, dass die Struktur der Pufferschicht 750 verändert ist. Bezugnehmend auf 8A sind die erste Pufferschicht 750a, die zweite Pufferschicht 750b, und die dritte Pufferschicht 750c in Zeilenrichtung voneinander beabstandet. Zusätzlich sind die Mehrzahl der ersten Pufferschichten 750a, die Mehrzahl der zweiten Pufferschichten 750b und die Mehrzahl der dritten Pufferschichten 750c in Spaltenrichtung voneinander beabstandet. Beispielsweise können die Mehrzahl der ersten Pufferschichten 750a, die Mehrzahl der zweiten Pufferschichten 750b und die Mehrzahl der dritten Pufferschichten 750c in jedem Bereich korrespondierend zu der Mehrzahl von Pixelbereichen ausgebildet sein und im Ganzen in einer Matrixstruktur angeordnet sein.
Daher kann der Rot-Farbfilter R, der in Richtung der Spalte auf der ersten Pufferschicht 750a ausgebildet ist, weiter in dem Bereich zwischen den ersten Pufferschichten 750a, die in der gleichen Spalte zueinander benachbart sind, ausgebildet sein; der Grün-Farbfilter G, der in Richtung der Spalte zusammenhängend auf der zweiten Pufferschicht 750b ausgebildet ist, kann weiter in dem Bereich zwischen den zweiten Pufferschichten 750b, die in der gleichen Spalte zueinander benachbart sind, ausgebildet sein; und der Blau-Farbfilter B, der in Richtung der Spalte zusammenhängend auf der dritten Pufferschicht 750c ausgebildet ist, ist weiter in dem Bereich zwischen den dritten Pufferschichten 750c, die in der gleichen Spalte zueinander benachbart sind, ausgebildet.
Die Struktur der Farbfilter R, G, B kann einfacher verstanden werden mit Bezug zu 8B. Wie in 8B dargestellt ist die Mehrzahl von ersten Pufferschichten 750a auf einer inneren Oberfläche des zweiten Substrats 700 voneinander beabstandet und die Farbfilterschicht 800, die Rot-Farbfilter (nicht gezeigt) aufweist, ist auf einer inneren Oberfläche der ersten Pufferschichten 750a ausgebildet.
Hierbei sind die Rot-Farbfilter R zusätzlich in Bereichen zwischen benachbarten ersten Pufferschichten 750a ausgebildet und sind in den Bereichen in Kontakt mit der inneren Oberfläche des zweiten Substrats 700. Da die Abschnitte der Rot-Farbfilter R in Kontakt mit der inneren Oberfläche des zweiten Substrats 700 zu den Grenzbereichen zwischen der Mehrzahl von ersten Pixel P1, die die gleiche Farbe emittieren, korrespondieren, gibt es kein Problem eines Lichtlecks und kein Problem einer Verminderung der Helligkeit in Abhängigkeit des Betrachtungswinkels, obwohl die Abschnitte der Rot-Farbfilter R von der zweiten Elektrode 600 beabstandet sind.
Die 9 bis 11 sind Querschnittsansichten einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung. Die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung gemäß den 9 bis 11 ist die gleiche wie die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung gemäß 7A, die im Vorhergehenden beschrieben wurde, bis auf das, dass eine Lichtabblockschicht 850 zusätzlich angeordnet ist. Daher werden gleichen Bezugszeichen für gleiche Komponenten verwendet und nur die abweichenden Komponenten werden beschrieben.
Die Lichtabblockschicht 850 ist in einer Matrixstruktur in Bereichen ausgebildet, die zu Grenzbereichen zwischen der Mehrzahl von Pixeln P1, P2, P3, P4 korrespondieren, um das Auftreten eines Lichtlecks an den Grenzen zwischen der Mehrzahl von Pixeln P1, P2, P3, P4 zu verhindern oder zu reduzieren. Beispielsweise kann die Lichtabblockschicht 850 in Bereichen zwischen den Pufferschichten 750a, 750b, 750c, die voneinander beabstandet sind, ausgebildet sein und ist in den Bereichen zwischen der Mehrzahl von Farbfiltern R, G, B ausgebildet.
Wie in 9 veranschaulicht, kann die Lichtabblockschicht 850 zwischen dem zweiten Substrat 700 und der Pufferschicht 750 ausgebildet sein. Hierbei kann sich die Lichtabblockschicht 850 zwischen der Dammstruktur 900 und dem zweiten Substrat 700 erstrecken und kann von der Dammstruktur 900 beabstandet sein und nicht in Kontakt mit der Dammstruktur 900 sein.
Wie in 10 veranschaulicht kann die Lichtabblockschicht 850 zwischen der Pufferschicht 750 und der Farbfilterschicht 800 ausgebildet sein. Hierbei erstreckt sich die Lichtabblockschicht 850 zwischen der Dammstruktur 900 und dem zweiten Substrat 700 und kann von der Dammstruktur 900 beabstandet sein und nicht in Kontakt mit der Dammstruktur 900 sein. Auch kann sich die Lichtabblockschicht 850 zu einer inneren Oberfläche des zweiten Substrats 700 entlang der Kanten der Pufferschichten 750a, 750b, 750c erstrecken.
Wie in 11 veranschaulicht, kann die Lichtabblockschicht 850 auf einer inneren Oberfläche des Farbfilters der Farbfilterschicht 800 ausgebildet sein. Hierbei kann sich die Lichtabblockschicht 850 nicht zwischen der Dammstruktur 900 und dem zweiten Substrat 700 erstrecken und kann von der Dammstruktur 900 beabstandet sein, ohne mit der Dammstruktur 900 in Kontakt zu sein. Die Lichtabblockschicht 850 kann sich hin zu einer inneren Oberfläche des zweiten Substrats 700 entlang von Kanten der Farbfilterschicht 800 und der Pufferschicht 750 erstrecken.
Wenn die Lichtabblockschicht 850 gemäß den 9 bis 11 bei der elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß 8A verwendet wird, ist die Lichtabblockschicht 850 in einer Matrixstruktur in Bereichen zwischen einer Mehrzahl von Pufferschichten 750a, 750b, 750c ausgebildet, die in Bereichen, die zu den Pixelbereichen korrespondieren, ausgebildet sind.
12 ist eine Querschnittsansicht einer elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung gemäß einer weiteren anderen beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
Wie in 12 dargestellt weist die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung gemäß der weiteren anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung einen aktiven Bereich AA und einen Dummybereich DA auf. Der aktive Bereich AA dient als Anzeigebereich zum Anzeigen eines Bildes. Eine Mehrzahl von Pixeln P1, P2, P3, P4 sind in dem aktiven Bereich AA angeordnet.
Der Dummybereich DA ist außerhalb des aktiven Bereichs AA ausgebildet. Der Dummybereich DA weist eine Mehrzahl von Dummypixeln DP auf. Da der Dummybereich DA kein Anzeigebereich zum Anzeigen eines Bildes ist, haben die Dummypixel DP, die in dem Dummybereich DA ausgebildet sind, eine Struktur, die anders ist als die der Pixel P1, P2, P3, P4, die in dem aktiven Bereich AA ausgebildet sind. Beispielsweise können die Dummypixel DP, die in dem Dummybereich DA ausgebildet sind, keine Signalleitung, keinen Dünnfilmtransistor und/oder keine lichtemittierende Vorrichtung aufweisen oder können diese unvollständig aufweisen, wobei in den Dummypixeln DP keine Lichtemission auftritt. Wenn in dem Dummybereich DA eine Lichtemission auftritt, kann die Anzeigequalität der elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung aufgrund eines Lichtlecks, das in dem Dummybereich DA auftritt, verschlechtert sein.
Die elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung gemäß der weiteren anderen Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung weist auf das erste Substrat 100, die Schaltungselementschicht 200, die erste Elektrode 300, den Wall 400, die lichtemittierende Schicht 500, die zweite Elektrode 600, die Verkapselungsschicht 650, das zweite Substrat 700, die Pufferschicht 750, die Farbfilterschicht 800, die Dammstruktur 900 und die Füllschicht 950.
Die Schaltungselementschicht 200 ist in dem aktiven Bereich AA und dem Dummybereich DA ausgebildet. Die Schaltungselementschicht 200 kann in dem aktiven Bereich AA und dem Dummybereich DA in dem gleichen Verfahren ausgebildet werden und jeweils die gleiche Struktur haben. Jedoch ist die vorliegende Offenbarung nicht darauf beschränkt und die Schaltungselementschicht 200, die in dem Dummybereich DA ausgebildet ist, kann einige der Signalleitungen, wie beispielsweise die Gateleitung, die Datenleitung, die Energieleitung und/oder die Referenzleitung, nicht aufweisen oder kann den Schalt-TFT und den Treiber-TFT nicht aufweisen, sodass keine Lichtemission in dem Dummybereich DA auftritt. In manchen Fällen kann die Schaltungselementschicht 200, die in dem Dummybereich DA ausgebildet ist, unvollständig konfiguriert sein, sodass entweder der Schalt-TFT oder der Treiber-TFT nicht funktioniert.
Die erste Elektrode 300 ist in dem aktiven Bereich AA und dem Dummybereich DA ausgebildet. Die erste Elektrode 300 kann in dem aktiven Bereich AA und dem Dummybereich DA in dem gleichen Prozess ausgebildet werden und kann jeweils die gleiche Struktur haben. Jedoch kann die erste Elektrode 300 in dem Dummybereich DA nicht ausgebildet sein und dadurch kann keine Lichtemission in dem Dummybereich DA auftreten.
Der Wall 400 ist in dem aktiven Bereich AA und dem Dummybereich DA ausgebildet. Der Wall 400 kann in dem aktiven Bereich AA und dem Dummybereich DA in dem gleichen Prozess ausgebildet werden und kann jeweils die gleiche Struktur haben.
Die lichtemittierende Schicht 500 ist in dem aktiven Bereich AA und dem Dummybereich DA ausgebildet. Die lichtemittierende Schicht 500 kann in dem aktiven Bereich AA und dem Dummybereich DA in dem gleichen Prozess ausgebildet werden und kann jeweils die gleiche Struktur haben. Jedoch, anders als bei der lichtemittierenden Schicht 500, die in dem aktiven Bereich AA ausgebildet ist, kann die lichtemittierende Schicht 500, die in dem Dummybereich DA ausgebildet ist, einige der organischen Schichten nicht haben und daher kann keine Lichtemission in dem Dummybereich DA auftreten.
Die zweite Elektrode 600 ist in dem aktiven Bereich AA und dem Dummybereich DA ausgebildet. Die zweite Elektrode 600 kann in dem aktiven Bereich AA und dem Dummybereich DA in dem gleichen Prozess ausgebildet werden und kann jeweils die gleiche Struktur haben. Jedoch kann die zweite Elektrode 600 nicht in dem Dummybereich DA ausgebildet sein und dadurch kann keine Lichtemission in dem Dummybereich DA auftreten.
Die Verkapselungsschicht 650 ist in dem aktiven Bereich AA und dem Dummybereich DA ausgebildet. Beispielsweise kann sich die Verkapselungsschicht von dem aktiven Bereich AA zu dem Dummybereich DA erstrecken.
Die Pufferschicht 750 ist in dem aktiven Bereich AA und dem Dummybereich DA ausgebildet. Beispielsweise kann sich die Pufferschicht 750 von dem aktiven Bereich AA zu dem Dummybereich DA erstrecken. Jedoch ist die vorliegende Offenbarung nicht darauf beschränkt und die Pufferschicht 750 kann lediglich in dem aktiven Bereich AA und nicht in dem Dummybereich DA ausgebildet sein. Dies liegt daran, dass, obwohl ein Element in dem Dummybereich DA aufgrund des Pressens von Fremdmaterial f beschädigt sein kann, dies die Bildqualität nicht beeinflusst.
Jedoch kann die Pufferschicht 750 in dem aktiven Bereich AA und dem Dummybereich DA ausgebildet sein, um eine gleichmäßige Zellenlücke zu erhalten. In einem Fall, bei dem ein Riss oder ähnliches aufgrund des Pressens von Fremdmaterial f in dem Dummybereich DA auftritt, kann sich der Riss zu dem aktiven Bereich AA ausbreiten und daher kann die Pufferschicht 750 auch in dem Dummybereich DA ausgebildet sein.
Die Struktur der Pufferschicht 750 kann gemäß den verschiedenen Ausführungsformen, die im Vorhergehenden beschrieben wurden, verändert werden.
Die Farbfilterschicht 800 ist in dem aktiven Bereich AA jedoch nicht in dem Dummybereich DA ausgebildet. In diesem Fall kann eine Höhe eines Raums, in dem das Fremdmaterial f angesammelt ist, in dem Dummybereich DA vergrößert sein, wodurch ein defektes Element aufgrund des Pressens von Fremdmaterial f verhindert werden kann. Jedoch ist die vorliegende Offenbarung nicht darauf beschränkt und der Farbfilter 800 kann auch in dem Dummybereich DA ausgebildet sein.
Die Dammstruktur 900 ist an einem äußeren Abschnitt des Dummybereichs DA ausgebildet. Die Füllschicht 950 ist in dem aktiven Bereich AA und dem Dummybereich DA ausgebildet.
Obwohl nicht gezeigt, kann die Lichtabblockschicht 850, die die verschiedenen Strukturen, die im Vorhergehenden beschrieben wurden, hat, zusätzlich auf dem zweiten Substrat 700 ausgebildet sein.
Gemäß einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung, da die Pufferschicht auf der inneren Oberfläche des zweiten Substrats ausgebildet ist, kann der Abstand zwischen der Verkapselungsschicht und dem zweiten Substrat vergrößert werden, wodurch ein Schaden an Elementen aufgrund von Fremdmaterial reduziert wird.
Gemäß einer weiteren beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, da die Pufferschicht zwischen dem zweiten Substrat und der Farbfilterschicht ausgebildet ist, ist der Abstand zwischen der Verkapselungsschicht und dem zweiten Substrat vergrößert, ohne dass der Abstand zwischen der Farbfilterschicht und dem ersten Substrat vergrößert ist, wodurch ein Lichtleck und eine Abnahme der Helligkeit abhängig vom Betrachtungswinkel verhindert werden können und eine Beschädigung eines Elements aufgrund von Fremdmaterial reduziert werden kann.
Es ist für die Fachmänner auf diesem Gebiet offensichtlich, dass verschiedene Modifikationen und Variationen der elektrolumineszierenden Anzeigevorrichtung mit der vorliegenden Offenbarung vorgenommen werden können, ohne vom Umfang der Offenbarung abzuweichen. Daher ist es beabsichtigt, dass die vorliegende Offenbarung die Modifikationen und Variationen dieser Offenbarung abdeckt, sofern sie innerhalb des Umfangs der angehängten Ansprüche liegen.

Claims

Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung, aufweisend: ein erstes Substrat (100); ein zweites Substrat (700), das dem ersten Substrat (100) zugewandt ist; eine lichtemittierende Schicht (500) auf dem ersten Substrat (100) zwischen dem ersten und zweiten Substrat (100, 700); eine Verkapselungsschicht (650) auf der lichtemittierenden Schicht (500); ein Pufferschicht (750) auf einer Oberfläche des zweiten Substrats (700), die dem ersten Substrat (100) zugewandt ist; und eine Farbfilterschicht (8), die einen ersten Farbfilter und einen zweiten Farbfilter auf der Pufferschicht (750) aufweist.
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung nach Anspruch 1, wobei ein Elastizitätsmodul der Pufferschicht (750) kleiner ist als ein Elastizitätsmodul der Verkapselungsschicht (650).
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, ferner aufweisend, eine Dammstruktur (900), die das erste Substrat (100) und das zweite Substrat (700) an Kanten des ersten Substrats (100) und des zweiten Substrats (700) miteinander verbindet, wobei die Dammstruktur (900) von der Pufferschicht (750) beabstandet ist.
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung nach Anspruch 3, ferner aufweisend eine Lichtabblockschicht (850) auf der Oberfläche des zweiten Substrats (700) zwischen dem ersten Farbfilter und dem zweiten Farbfilter, wobei die Lichtabblockschicht (850) von der Struktur (900) beabstandet ist.
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung nach Anspruch 4, wobei sich die Abblockschicht (850) entlang der Kante der Pufferschicht (750) erstreckt und in Kontakt mit der Oberfläche des zweiten Substrats (700) ist.
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, ferner aufweisend: eine Füllschicht (950) zwischen der Verkapselungsschicht (650) und der Farbfilterschicht (800), wobei die Füllschicht (950) in Kontakt mit der Pufferschicht (750) ist.
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die Pufferschicht (750) eine erste Pufferschicht (750a) und eine zweite Pufferschicht (750b) aufweist, die voneinander beabstandet sind.
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung nach Anspruch 7, wobei die erste Pufferschicht (750a) zwischen dem zweiten Substrat (700) und dem ersten Farbfilter ist und die zweite Pufferschicht (750b) zwischen dem zweiten Substrat (700) und dem zweiten Farbfilter ist.
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, wobei die Pufferschicht (750) eine Mehrzahl von ersten Pufferschichten (750a) aufweist, die in einer ersten Richtung voneinander beabstandet sind, und wobei der erste Farbfilter zwischen der Mehrzahl der ersten Pufferschichten (750a), die benachbart zueinander sind, in Kontakt mit dem zweiten Substrat (700) ist.
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung, aufweisend: ein erstes Substrat (100), ein zweites Substrat (700), das dem ersten Substrat (100) zugewandt ist; eine lichtemittierende Schicht (500) auf dem ersten Substrat (100) zwischen dem ersten Substrat und dem zweiten Substrat (100, 200); eine Verkapselungsschicht (650) auf der lichtemittierenden Schicht (500); und eine Pufferschicht (750) auf einer inneren Oberfläche des zweiten Substrats (700) die dem ersten Substrat (100) zugewandt ist, wobei ein Elastizitätsmodul der Pufferschicht (750) kleiner ist als ein Elastizitätsmodul der Verkapselungsschicht (650).
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung nach Anspruch 10, ferner aufweisend eine Farbfilterschicht (800) auf der Pufferschicht (750).
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung nach Anspruch 11, wobei die Farbfilterschicht (800) einen ersten Farbfilter und einen zweiten Farbfilter aufweist, wobei die Pufferschicht (750) eine erste Pufferschicht (750a) zwischen dem zweiten Substrat (700) und dem ersten Farbfilter und eine zweite Pufferschicht (750b) zwischen dem zweiten Substrat (700) und dem zweiten Farbfilter aufweist, und wobei die erste Pufferschicht (750a) und die zweite Pufferschicht (750b) voneinander beabstandet sind.
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 12, ferner aufweisend eine Dammstruktur (900), die das erste Substrat (100) und das zweite Substrat (700) an Kanten des ersten Substrats (100) und des zweiten Substrats (700) miteinander verbindet, wobei die Dammstruktur (900) von der Pufferschicht (750) beabstandet ist.
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung, bei der ein aktiver Bereich (AA) und ein Dummybereich (DA) vorgegeben ist, aufweisend: ein erstes Substrat (100); ein zweites Substrat (700), das dem ersten Substrat (100) zugewandt ist; eine lichtemittierende Schicht (500) auf dem ersten Substrat (100) in dem aktiven Bereich (AA) und dem Dummybereich (DA); und eine Pufferschicht (750) auf einer inneren Oberfläche des zweiten Substrats (700), das dem ersten Substrat (100) zugewandt ist, in dem aktiven Bereich (AA) und dem Dummybereich (DA), wobei ein Elastizitätsmodul der Pufferschicht (750) kleiner ist als ein Elastizitätsmodul der Verkapselungsschicht (650).
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung nach Anspruch 14, ferner aufweisend eine Farbfilterschicht (800) auf der Pufferschicht (750) in dem aktiven Bereich (AA).
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung nach Anspruch 15, wobei die Farbfilterschicht (800) einen ersten Farbfilter und einen zweiten Farbfilter aufweist, wobei die Pufferschicht (750) eine erste Pufferschicht (750a) zwischen dem zweiten Substrat (700) und dem ersten Farbfilter und eine zweite Pufferschicht (750b) zwischen dem zweiten Substrat (700) und dem zweiten Farbfilter aufweist, und wobei die erste Pufferschicht (750a) und die zweite Pufferschicht (750b) voneinander beabstandet sind.
Elektrolumineszierende Anzeigevorrichtung nach einem der Ansprüche 14 bis 16, ferner aufweisend eine Dammstruktur (900), die das erste Substrat (100) und das zweite Substrat (700) an Kanten des ersten Substrats (100) und des zweiten Substrats (700) miteinander verbindet, wobei die Dammstruktur (900) von der Pufferschicht (750) beabstandet ist.