DE102014113629A1

DE102014113629A1 - Verfahren zur Erzeugung eines modifizierten Layouts für Parameterextraktion

Info

Publication number: DE102014113629A1
Application number: DE102014113629.2A
Authority: DE
Inventors: Chia-Ming Ho; Ke-Ying Su; Hsien-Hsin Sean LEE
Original assignee: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Current assignee: Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Priority date: 2014-08-05
Filing date: 2014-09-22
Publication date: 2016-02-11
Also published as: US10019548B2; TWI587162B; KR20160016509A; CN105320798A; CN105320798B; TW201606548A; US9710588B2; KR101663388B1; US20170316142A1; US20160042108A1

Abstract

Ein Verfahren umfasst das Ermitteln einer ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten einer i-ten Menge von Layout-Strukturen eines ursprünglichen Layouts gemäß einer Breitenschwankung ersten Typs. Das ursprüngliche Layout weist N Mengen von Layout-Strukturen auf, die zu N Masken gehören, wobei die i-te Menge von Layout-Strukturen eine i-te Maskenzuordnung aufweist, die zu einer i-ten Maske der N Masken gehört. Der Index i ist eine ganze Zahl von 1 bis N und N ist eine ganze Zahl und größer als 1. Eine zweite Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen des ursprünglichen Layouts wird gemäß einer Breitenschwankung zweiten Typs ermittelt. Das modifizierte Layout wird erzeugt, gestützt auf die erste und die zweite Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen.

Description

VERWANDTE ANMELDUNGEN
Die vorliegende Anmeldung ist mit der U.S.-Patentanmeldung mit dem Titel „RC Extraction for Multiple Patterning Layout Design” verwandt, eingereicht am 18. September 2013 mit der U.S.-Anmeldungs-Nr. 14/030 672. Der gesamte Inhalt der oben genannten Anmeldung ist durch Bezugnahme hier aufgenommen.
HINTERGRUND
Bei Halbleiter-Herstellungsverfahren wird eine einzelne Schicht von Einrichtungen manchmal ausgebildet, indem Mehrfachbelichtungs- oder Mehrfachstrukturierungs-Technologie verwendet wird, um die räumliche Auflösung der bestimmten Schicht zu verbessern. Wenn eine Schicht von Einrichtungen beispielsweise mittels N Belichtungs- oder Strukturierverfahren (d. h. N-Belichtung oder N-Strukturierung) hergestellt werden soll, wobei N eine positive ganze Zahl größer 1 ist, werden Layout-Strukturen, die zu einem Layout-Design für die Schicht von Einrichtungen gehören, N unterschiedlichen Masken für entsprechende Belichtungs- oder Strukturierverfahren zugeordnet. Tatsächliche Einrichtungen, die gestützt auf die N Masken mittels Mehrfachstrukturierungs-Technologie hergestellt werden, und die Layout-Strukturen unterscheiden sich in ihren physikalischen Charakteristika der Komponenten wie Größe, Form, Position oder elektrische Eigenschaften. Wenn N beispielsweise auf Zwei (2) festgelegt wird, wird eine erste Maske verwendet, um eine erste Menge von Metallkomponenten auszubilden, und eine zweite Maske wird verwendet, um eine zweite Menge von Metallkomponenten auszubilden. Nach dem Ausbilden der ersten Menge von Metallkomponenten gemäß der ersten Maske wird eine Abstandhalter-Struktur ausgebildet, um die erste Menge von Metallkomponenten zu umgeben. Die zweite Maske und die Abstandhalter-Struktur werden nachfolgend verwendet, um die zweite Menge von Metallkomponenten zu definieren. Jede Abweichung während dem Ausbilden der ersten Menge von Metallkomponenten und der Abstandhalter-Struktur würde seinerseits die physikalischen Charakteristika der zweiten Menge von Metallkomponenten beeinflussen.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
Aspekte der vorliegenden Offenbarung werden am besten aus der folgenden detaillierten Beschreibung verstanden, wenn sie mit den beigefügten Figuren gelesen wird. Man beachte, dass in Übereinstimmung mit dem üblichen Vorgehen in der Branche verschiedene Einrichtungen nicht maßstabsgetreu gezeichnet sind. Tatsächlich können die Abmessungen der verschiedenen Einrichtungen zur Klarheit der Beschreibung beliebig vergrößert oder verkleinert sein.
1A ist eine Draufsicht eines Abschnitts eines Layouts, das eine Beispielanwendung von Tabellen in 1B zeigt, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
1B ist ein Diagramm von N Tabellen eines ersten Typs, die zu einer ersten Menge von Layout-Strukturen des Layouts in 1A gehören, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
1C ist eine Draufsicht eines Abschnitts eines weiteren Layouts, das eine weitere Beispielanwendung von Tabellen in 1B zeigt, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
1D ist eine Draufsicht eines Abschnitts von noch einem weiteren Layout, das eine weitere Beispielanwendung von Tabellen in 1B zeigt, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
2A ist eine Draufsicht eines Abschnitts eines Layouts, das eine Beispielanwendung von Tabellen in 2B zeigt, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
2B ist ein Diagramm von einer oder mehreren Tabellen eines zweiten Typs, die zu einer ersten Menge von Layout-Strukturen des Layouts in 2A gehören, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
3 ist ein Flussdiagramm eines Verfahrens zum Modifizieren eines Layouts, etwa der Layouts in 1A, 1C, 1D und 2A gemäß den Tabellen in 1B und 2B, und zum Ausführen einer Widerstands-Kapazitäts-Extraktion, gestützt auf das modifizierte Layout, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
4 ist ein Flussdiagramm eines Verfahrens zum Ermitteln von Breitenabweichungs-Werten, gestützt auf die Tabellen ersten Typs, das verwendet werden kann, um einen Vorgangsblock des Flussdiagramms von 3 zu beschreiben, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
5 ist ein Flussdiagramm eines Verfahrens zum Ermitteln von Breitenabweichungs-Werten, gestützt auf die Tabellen zweiten Typs, das verwendet werden kann, um einen Vorgangsblock des Flussdiagramms von 3 zu beschreiben, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
6A ist eine Draufsicht eines Abschnitts eines Layouts, bevor die Vorgänge in 3–5 ausgeführt wurden, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
6B ist eine Draufsicht eines Abschnitts von tatsächlichen Komponenten, die gemäß dem Layout in 6A hergestellt wurden, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
6C ist eine Draufsicht eines Abschnitts eines ersten modifizierten Layouts, das zu LAYOUT[1] in 3 gehört, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
6D ist eine Draufsicht eines Abschnitts eines zweiten modifizierten Layouts, das zu LAYOUT[2] in 3 gehört, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
6E ist eine Draufsicht eines Abschnitts eines abschließenden modifizierten Layouts, das zu LAYOUT[3] in 3 gehört, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
7 ist ein Blockdiagramm eines Widerstands-Kapazitäts-Extraktionssystems, das verwendet werden kann, um ein Verfahren auszuführen, wie es im Zusammenhang mit 3–5 gezeigt ist, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
Die folgende Offenbarung sieht viele verschiedene Ausführungsformen oder Beispiele vor, um verschiedene Einrichtungen der Erfindung zu implementieren. Spezielle Beispiele von Komponenten und Anordnungen sind unten beschrieben, um die vorliegende Offenbarung zu vereinfachen. Diese sind natürlich nur Beispiele und sollen nicht einschränkend wirken. Das Ausbilden einer ersten Einrichtung über oder auf einer zweiten Einrichtung in der folgenden Beschreibung kann beispielsweise Ausführungsformen umfassen, in denen die erste und die zweite Einrichtung in direktem Kontakt ausgebildet sind, und kann auch Ausführungsformen umfassen, in denen zusätzliche Einrichtungen zwischen der ersten und der zweiten Einrichtung ausgebildet sein können, so dass die erste und die zweite Einrichtung nicht in direktem Kontakt sein müssen. Zusätzlich kann die vorliegende Offenbarung Bezugszeichen und/oder Buchstaben in den verschiedenen Beispielen wiederholen. Diese Wiederholung dient der Einfachheit und Klarheit und erzwingt als solche keine Beziehung zwischen den verschiedenen beschriebenen Ausführungsformen und/oder Konfigurationen.
Weiter können räumlich relative Begriffe, wie „unten”, „unter”, „unterer”, „über”, „oberer” und ähnliche, hier zur Einfachheit der Beschreibung verwendet werden, um die Beziehung eines Elements oder einer Einrichtung mit einem oder mehreren anderen Elementen oder Einrichtungen zu beschreiben, wie sie in den Figuren gezeigt sind. Die räumlich relativen Begriffe sollen verschiedene Orientierungen der Vorrichtung, die verwendet oder betrieben wird, zusätzlich zu der in den Figuren gezeigten Orientierung umfassen. Die Vorrichtung kann anders orientiert sein (um 90 Grad gedreht oder in einer anderen Orientierung), und die räumlich relativen Begriffe, die hier verwendet werden, können ebenfalls demgemäß interpretiert werden.
In einigen Ausführungsformen können die Verfahren, die im Zusammenhang mit 3–5 offenbart sind, verwendet werden, um ein modifiziertes Layout zu erzeugen, das die Breitenschwankungen modelliert, die hervorgerufen werden, wenn ein Mehrfachstrukturierungs-Verfahren ausgeführt wird. Als solche wird eine nachfolgende Widerstands-Kapazitäts-Extraktion ausgeführt, gestützt auf das modifizierte Layout anstatt des ursprünglichen Layouts, das die physikalischen Charakteristika von tatsächlichen Komponenten modelliert, die mittels des Mehrfachstrukturierungs-Verfahrens hergestellt werden.
In einigen Anwendungen ändert sich eine Größe von tatsächlichen Komponenten, die gemäß einer Layout-Struktur hergestellt werden, wenn sie von anderen Layout-Strukturen gestört werden. Ein Unterschied zwischen der Größe der tatsächlichen Komponenten und der zugehörigen Layout-Struktur wird in Form von einem oder mehreren Breitenabweichungs-Werten „width bias values” aufgezeichnet. In den folgenden Beispielen wird mit einer Opferkomponente eine ausgewählte Layout-Struktur bezeichnet, die verarbeitet werden soll, um einen zugehörigen Breitenabweichungs-Wert zu ermitteln, und eine Aggressorkomponente bezeichnet ein Layout, das dazu führt, dass die Opfer-Layout-Struktur den Breitenabweichungs-Wert aufweist. In einigen Ausführungsformen führen die Aggressorkomponente, andere Komponenten und Verfahrensschwankungen gemeinsam dazu, dass die Opferkomponente die Breitenschwankungen aufweist, und die Aggressorkomponente kann als Repräsentant dienen, um den Breitenabweichungs-Wert zu ermitteln, der verwendet werden kann, um die Breitenschwankungen zu modellieren.
1A ist eine Draufsicht eines Abschnitts eines Layouts 100A, das verwendet werden kann, um eine Beispielanwendung der Tabellen in 1B zu beschreiben, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen. Das Layout 100A umfasst Layout-Strukturen 102, 104, 112 und 122, die sich entlang einer ersten Richtung X erstrecken. In dieser Ausführungsform werden Layout-Strukturen drei unterschiedlichen Masken zugeordnet, wobei die Layout-Strukturen 102 und 14 eine erste Maskenzuordnung haben, die Layout-Struktur 112 eine zweite Maskenzuordnung hat und die Layout-Struktur 122 eine dritte Maskenzuordnung hat. In einigen Ausführungsformen gibt es mehr oder weniger als drei Maskenzuordnungen. In einigen Ausführungsformen entsprechen die erste, zweite und dritte Maskenzuordnung einer ersten, zweiten und dritten Maske, die nacheinander so angewendet werden, wie sie während eines Herstellungsverfahrens angeordnet wurden.
Eine erste Art von Breitenschwankung dient zum Modellieren eines Abweichungseffekts der nächstliegenden Komponente. In einigen Ausführungsformen führt der Abweichungseffekt der nächstliegenden Komponente zu Abweichungen der physikalischen Charakteristika von tatsächlichen Einrichtungen, nachdem alle Komponenten, die zu allen Masken gehören, hergestellt wurden. In einigen Ausführungsformen kann der Abweichungseffekt der nächstliegenden Komponente auf Schwankungen zurückgeführt werden, die von einem lokalen Ätzeffekt oder einem Planarisierungsverfahren hervorgerufen werden, etwa einem chemisch-mechanischen Planarisierungs-(CMP)-Verfahren. Die erste Art von Breitenschwankung einer Opferkomponente ist eine Funktion einer nächstliegenden Komponente als Aggressorkomponente entlang einer zweiten Richtung Y rechtwinklig zu der Richtung X, einer Breite der Opferkomponente und eines Abstands zwischen der Opferkomponente und der Aggressorkomponente entlang der zweiten Richtung Y. Als Opferkomponente wird eine ausgewählte Layout-Struktur bezeichnet, die in Übereinstimmung mit der vorliegenden Offenbarung verarbeitet werden soll, etwa die Layout-Struktur 104. Als Aggressorkomponente wird eine Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen bezeichnet, die die Ursachen der Breitenschwankung der Opferkomponente repräsentieren. In dieser Ausführungsform wird die Layout-Struktur 122 als Aggressorkomponente identifiziert, da sie die erste Art von Breitenschwankung der Layout-Struktur 104 hervorruft, die in diesem Beispiel die Opferkomponente ist. 1A kann verwendet werden, um die Breitenschwankung ersten Typs zu erklären, die von der Layout-Struktur 112 auf einer linken Seite (entsprechend der positiven Y-Richtung) der Layout-Struktur 104 hervorgerufen wird. Das gleiche Grundprinzip ist anwendbar, um die Breitenschwankung ersten Typs zu ermitteln, die durch Layout-Strukturen auf einer rechten Seite (entsprechend der negativen Y-Richtung) der Layout-Struktur 104 hervorgerufen werden, oder die Breitenschwankungen ersten Typs auf einer oberen Seite (entsprechend der positiven X-Richtung) oder einer unteren Seite (entsprechend der negativen X-Richtung) der Layout-Struktur 104.
1B ist ein Diagramm von N Tabellen ersten Typs 130[1], 130[2] und 130[N], die zu einer ersten Menge von Layout-Strukturen des Layouts 100A gehören, etwa den Layout-Strukturen, die die ersten Maskenzuordnungen aufweisen, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen. Verschiedene Breitenabweichungs-Werte B11–B55, die zu einer Layout-Struktur gehören, die die erste Maskenzuordnung aufweist, sind in Tabelle 130[1] angeordnet und gemäß dem Abstand S1, S2, S3, S4 und S5 zwischen der Opferkomponente und der Aggressorkomponente und der Breite W1, W2, W3, W4 und W5 der Opferkomponente indiziert. In einigen Ausführungsformen gibt es mehr oder weniger als fünf verschiedene Abstände in der Tabelle 130[1] und mehr oder weniger als fünf Breiten der Opferkomponente in der Tabelle 130[1]. In einigen Ausführungsformen registriert die Tabelle 130[1] Breitenabweichungs-Werte B11–B55, die zu Breitenschwankungen gehören, die von der Aggressorkomponenten hervorgerufen werden, die links von der Opferkomponente angeordnet sind. In einigen Ausführungsformen sind die Breitenabweichungs-Werte B11–B55 in der Tabelle 130[1] auch auf Breitenschwankungen anwendbar, die von Aggressorkomponenten hervorgerufen werden, die rechts von der Opferkomponente angeordnet sind. In einigen Ausführungsform sind die Breitenabweichungs-Werte B11–B55 in der Tabelle 130[1] auch auf Breitenschwankungen anwendbar, die von Aggressorkomponenten hervorgerufen werden, die über oder unter der Opferkomponente angeordnet sind. In einigen Ausführungsformen sind die Breitenschwankungen, die von Aggressorkomponenten hervorgerufen werden, die über oder unter der Opferkomponente angeordnet sind, in einer anderen Tabelle registriert, anstatt dass die Tabelle 130[1] verwendet wird.
In einigen Ausführungsformen haben die Tabelle 130[2] bis Tabelle 130[N] ähnliche Formate wie die Tabelle 130[1]. Die Tabelle 130[1] ist anwendbar, wenn die Aggressorkomponente die erste Maskenzuordnung aufweist, die Tabelle 130[2] ist anwendbar, wenn die Aggressorkomponente die zweite Maskenzuordnung aufweist und die Tabelle 130[N] ist anwendbar, wenn die Aggressorkomponente die N-te Maskenzuordnung aufweist etc.
In einigen Ausführungsformen werden die Tabellen 130[1] bis 130[N] gemäß einem oder mehreren Test-Halbleiterwafern gemäß einem vorbestimmten Mehrfach-Strukturierverfahren kompiliert. Als Test-Halbleiterwafer werden Wafer bezeichnet, die hergestellt werden, um verschiedene physikalische und elektrische Charakteristika und Leistungsdaten zu erhalten, die zu einem bestimmten Herstellungsverfahrens-Knoten gehören. In einigen Ausführungsformen werden die Tabellen 130[1] bis 130[N] kompiliert, gestützt auf eine Messung von vorher hergestellten Halbleiterwafern gemäß dem vorbestimmten Mehrfach-Strukturierverfahren.
Beispielsweise wird die Layout-Struktur 104 in 1A als die Opferkomponente ausgewählt, und die Tabellen 130[1] bis 130[N] in 1B sind anwendbar, um einen geeigneten Breitenabweichungs-Wert zu identifizieren, der durch eine Opferkomponente links oder rechts von der Layout-Struktur 104 erzeugt wird. Wie in 1A gezeigt ist, ist die Layout-Struktur 122 eine nächstliegende Layout-Struktur auf der linken Seite der Layout-Struktur 104. Hier wird, da die Layout-Struktur eine dritte Maskenzuordnung aufweist, ein Breitenabweichungs-Wert, etwa der Breitenabweichungs-Wert 132, gemäß der Tabelle 130[3] ermittelt (z. B. 130[N] und N = 3), gestützt auf eine zugehörige Breite W₁₀₄ der Layout-Struktur 104 und einen Abstand S₁₂₂ zwischen der Layout-Struktur 122 und der Layout-Struktur 104. Der erhaltene Breitenabweichungs-Wert 132 zeigt an, dass eine Seite 104a der Layout-Struktur 104 nach links um den Breitenabweichungs-Wert 132 verschoben wird, um zu der Seite 104a' zu werden. Die Layout-Struktur 104 wird somit modifiziert (und auch als 104' bezeichnet), so dass sie eine Breite W_104' hat gemäß einer ersten Art von Schwankungen, gestützt auf eine Menge von ersten Breitenabweichungs-Tabellen.
In einigen Ausführungsformen umfassen die Tabellen 130[1]–130[N] Kombinationen von möglichen Breiten und Abständen, und daher kann ein Abweichungswert erhalten werden, indem das zugehörige Element in den Tabellen 130[1]–130[N] identifiziert wird. In einigen Ausführungsformen kann ein Abweichungswert erhalten werden, indem interpoliert oder extrapoliert wird, gestützt auf zugehörige Elemente in den Tabellen 130[1]–130[N]. In einigen Ausführungsformen werden die Tabellen 130[1] bis 130[N] durch andere Mittel ersetzt, einschließlich beispielsweise einer oder mehrerer mathematischer Gleichungen oder Kurven, die die zugehörigen Breitenabweichungs-Werte repräsentieren, gestützt auf einen Abstand S1, S2, S3, S4 oder S5 und eine Breite W1, W2, W3, W4 oder W5, die oben definiert wurden.
1C ist eine Draufsicht eines Abschnitts eines weiteren Layouts 100C, das verwendet werden kann, um eine weitere Beispielanwendung der Tabellen in 1B zu beschreiben, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen. Komponenten in 1C, die denen in 1A ähneln oder gleichen, erhalten die gleichen Bezugszeichen. Das Layout 100C umfasst Layout-Strukturen 102, 104, 114 und 124. In dieser Ausführungsform werden die Layout-Strukturen drei unterschiedlichen Masken zugeordnet, wobei die Layout-Strukturen 102 und 104 eine erste Maskenzuordnung haben, die Layout-Struktur 114 eine zweite Maskenzuordnung hat und die Layout-Struktur 124 eine dritte Maskenzuordnung hat.
Eine Seite 104a (1A) der Layout-Struktur 104 ist in drei Segmente unterteilt: Segment 104b, Segment 104c und Segment 104d. Die linke Seite 104a der Layout-Struktur 104 wird auf einer Segment-für-Segment-Basis geprüft und modifiziert. Die Layout-Struktur 124 ist eine nächstliegende Layout-Struktur zu dem Segment 104b der linken Seite der Layout-Struktur 104, gesehen entlang der Richtung Y, und hat eine dritte Maskenzuordnung; ein Breitenabweichungs-Wert 134 wird gemäß der Tabelle 130[3] ermittelt, die zu der dritten Maske gehört. Die Layout-Struktur 114 ist eine nächstliegende Layout-Struktur zu dem Segment 104c der linken Seite der Layout-Struktur 104, gesehen entlang der Richtung Y, und hat eine zweite Maskenzuordnung; ein Breitenabweichungs-Wert 136 wird gemäß der Tabelle 130[2] ermittelt, die zu der zweiten Maske gehört. Keine Layout-Struktur bildet eine nächstliegende Layout-Struktur für den Segment 104d der linken Seite der Layout-Struktur 104. In einigen Ausführungsformen umfassen die Tabellen 130[1]–130[N] eine Zeile von indizierten Abweichungswerten, etwa die Zeile von Werten B₅₁–B₅₅, die zu dem Abstand S5 in Tabelle 130[1] gehören, der für einen Abstand anwendbar ist, der größer oder gleich einem Schwellenwert-Abstand S5 ist, und ein Breitenabweichungs-Wert 138 wird gemäß der Zeile ermittelt, die durch den Schwellenwert-Abstand S5 indiziert wird. Der Breitenabweichungs-Wert 138 gehört zu einer Breitenschwankung als Ergebnis davon, dass keine Aggressorkomponente in einem Abstand des vorbestimmten Schwellenwertes liegt.
1C kann verwendet werden, um die Breitenschwankung zu erklären, die durch Layout-Strukturen auf einer linken Seite (d. h. einer positiven Y-Richtung) der Layout-Struktur 104 hervorgerufen wird, und dient zur Beschreibung. Das gleiche Grundprinzip ist anwendbar, um die Breitenschwankung zu ermitteln, die durch Layout-Strukturen auf einer rechten Seite (d. h. einer negativen Y-Richtung) der Layout-Struktur 104 hervorgerufen wird.
1D ist eine Draufsicht eines Abschnitts von noch einem weiteren Layout 100D, das verwendet werden kann, um eine weitere Beispielanwendung der Tabellen in 1B zu beschreiben, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen. Das Layout 100D weist eine erste Layout-Struktur 142 und eine zweite Layout-Struktur 144 auf. Die Layout-Struktur 142 hat eine zweite Maskenzuordnung und die Layout-Struktur 144 hat eine L-Form und hat eine erste Maskenzuordnung. Die Layout-Struktur 142 hat einen Schenkel, der zu Seitensegmenten 144a und 144b gehört und sich entlang der X-Richtung erstreckt, und einen Schenkel, der zu Seitensegmenten 144c, 144d und 144e gehört und sich entlang der Y-Richtung erstreckt. Die Layout-Struktur 144 erstreckt sich entlang der Y-Richtung. In dieser Ausführungsform werden verschiedene Breitenabweichungs-Werte, die zu den Segmenten 144a und 144b gehören, gemäß nächstliegenden Komponenten ermittelt, die sich entlang der Y-Richtung befinden, und verschiedene Breitenabweichungs-Werte, die zu den Segmenten 144c, 144d und 144e gehören, werden gemäß der nächstliegenden Komponenten ermittelt, die sich entlang der X-Richtung befinden, gemäß dem Grundprinzip, das in Zusammenhang mit 1A–1C beschrieben ist.
1D kann verwendet werden, um die Breitenschwankung zu erklären, die durch Layout-Strukturen auf einer linken Seite und einer oberen Seite der Layout-Struktur 104 erzeugt wird, und dient zur Beschreibung. Das gleiche Grundprinzip ist anwendbar, um die Breitenschwankung zu ermitteln, die durch Layout-Strukturen auf einer rechten Seite und einer unteren Seite der Layout-Struktur 104 erzeugt wird.
2A ist eine Draufsicht eines Abschnitts eines Layouts 200, das verwendet werden kann, um eine Beispielanwendung von Tabellen in 2B zu beschreiben, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen. Komponenten in 2A, die denen in 1A gleichen oder ähneln, erhalten die gleichen Bezugszeichen.
Eine Breitenschwankung zweiten Typs dient zum Modellieren eines Abweichungseffekts zweiter Ordnung von Komponenten. In einigen Ausführungsformen wird der Abweichungseffekt zweiter Ordnung von Komponenten durch Komponenten erzeugt, die vor oder zugleich mit einer Opfer-Layout-Struktur hergestellt werden. Für eine k-te Menge von Layout-Strukturen mit k-ter Maskenzuordnung kann der Abweichungseffekt zweiter Ordnung von Komponenten beispielsweise auf Abweichungen zurückgeführt werden, die von einem lithographischen Verfahren und einem Abstandhalterverfahren hervorgerufen werden, die zu Layout-Strukturen gehören, die die erste bis (k – 1)-te Maskenzuordnungen aufweisen. Die Breitenschwankung zweiten Typs ist eine Funktion einer nächstliegenden Komponente von jeder Menge von Layout-Strukturen, die zu jeder der ersten (k – 1) Maskenzuordnungen gehören (auch als Aggressorkomponente bezeichnet), einer Breite der Opferkomponente und einem Abstand zwischen der Opferkomponente und der Aggressorkomponente. Als Opferkomponente wird eine ausgewählte Layout-Struktur bezeichnet, die in Übereinstimmung mit der vorliegenden Offenbarung verarbeitet werden soll, etwa die Layout-Struktur 104. Als Aggressorkomponente wird eine Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen bezeichnet, die die gleiche (d. h. die k-te Maskenzuordnung) oder die ersten (k – 1) Maskenzuordnungen aufweisen, etwa die Layout-Strukturen, die die erste, zweite, ..., k-te Maskenzuordnung aufweisen.
Die Layout-Strukturen 102 und 104 haben beispielsweise eine erste Maskenzuordnung, die Layout-Struktur 112 hat eine zweite Maskenzuordnung und die Layout-Struktur 122 hat eine dritte Maskenzuordnung. Die Breitenschwankung zweiten Typs der Layout-Strukturen 102 oder 104 kann auf Layout-Strukturen zurückgeführt werden, die die erste Maskenzuordnung aufweisen. Die Breitenschwankung zweiten Typs der Layout-Struktur 112 kann auf Layout-Strukturen zurückgeführt werden, die die erste Maskenzuordnung aufweisen, und Layout-Strukturen, die die zweite Maskenzuordnung aufweisen. Zudem kann die Breitenschwankung zweiten Typs der Layout-Struktur 122 auf Layout-Strukturen zurückgeführt werden, die die erste Maskenzuordnung aufweisen, Layout-Strukturen, die die zweite Maskenzuordnung aufweisen, und Layout-Strukturen, die die dritte Maskenzuordnung aufweisen. Für jede Kombination von Opferkomponente und Aggressorkomponente wird der zugehörige Breitenabweichungs-Wert, der auf eine solche Kombination zurückgeführt werden kann, in einer ähnlichen Weise ermittelt wie diejenigen, die in Zusammenhang mit 1A–1D beschrieben sind, und werden unten in Zusammenhang mit 2A–2B weiter beschrieben.
2A kann verwendet werden, um die Breitenschwankung zweiten Typs zu erklären, die durch die Layout-Struktur 102 auf einer linken Seite der Layout-Struktur 104 hervorgerufen wird. Das gleiche Grundprinzip ist anwendbar, um die Breitenschwankung zweiten Typs zu ermitteln, die durch Layout-Strukturen auf einer rechten Seite der Layout-Struktur 104 entlang einer entgegengesetzten Richtung zu der zweiten Richtung Y hervorgerufen wird.
2B ist ein Diagramm von einer oder mehreren Tabellen 230[1] und 230[k] zweiten Typs, die zu einer k-ten Menge von Layout-Strukturen des Layouts in 2A gehören, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen. Verschiedene Breitenabweichungs-Werte B11–B55, die zu einer Layout-Struktur gehören, die die erste Maskenzuordnung zu einer Opferkomponente aufweist, die zu einer Layout-Struktur gehört, die die k-te Maskenzuordnung aufweist, sind in Tabelle 230[1] angeordnet und gemäß dem Abstand S1, S2, S3, S4 und S5 zwischen der Opferkomponente und der Aggressorkomponente und der Breite W1, W2, W3, W4 und W5 der Opferkomponente indiziert. In einigen Ausführungsformen gibt es mehr oder weniger als fünf unterschiedliche Abstände in Tabelle 230[1] und mehr oder weniger als fünf Breiten der Opferkomponente in Tabelle 230[1]. In einigen Ausführungsformen hat die Tabelle 230[k] das gleiche Format wie Tabelle 230[1]. Die Tabelle 230[1] ist anwendbar, wenn die Aggressorkomponente die erste Maskenzuordnung aufweist, und Tabelle 230[k] ist anwendbar, wenn die Aggressorkomponente die gleiche (k-te) Maskenzuordnung aufweist wie die Opfer-Layout-Struktur.
In einigen Ausführungsformen werden die Tabellen 230[1] bis 230[k] gemäß einem oder mehreren Test-Halbleiterwafern gemäß einem vorbestimmten Mehrfachstrukturierungs-Verfahren kompiliert. In einigen Ausführungsformen werden die Tabellen 230[1] bis 230[k] kompiliert, gestützt auf eine Messung des vorher hergestellten Halbleiterwafers gemäß dem vorbestimmten Mehrfachstrukturierungs-Verfahren. In einigen Ausführungsformen werden die Tabellen 230[1] bis 230[N] durch andere Mittel ersetzt, einschließlich beispielsweise einer oder mehrerer mathematischer Formeln oder Kurven, die die zugehörigen Breitenabweichungs-Werte wiedergeben, gestützt auf einen Abstand S1, S2, S3, S4 oder S5 und eine Breite W1, W2, W3, W4 oder W5, die oben definiert sind.
Die Layout-Struktur 104 in 2A wird beispielsweise als die Opferkomponente ausgewählt, die verarbeitet werden soll, um die zugehörigen Breitenabweichungs-Werte zu ermitteln. Die linke Seite 104a der Layout-Struktur 104 kann als eine Kombination von zwei Segmenten 204a und 204b identifiziert werden und wird auf einer Segment-auf-Segment-Basis geprüft und modifiziert. In 2A ist die Layout-Struktur 102 die nächstliegende Layout-Struktur zu einem Segment 204a der linken Seite der Layout-Struktur 104 in Projektion entlang der Y-Richtung, die auch die erste Maskenzuordnung aufweist. Ein Breitenabweichungs-Wert 232 wird gemäß Tabelle 230[1] ermittelt, gestützt auf die zugehörige Breite der Layout-Struktur 104 und einen Abstand zwischen der Layout-Struktur 102 und der Layout-Struktur 104. Keine Layout-Struktur bildet eine nächstliegende Layout-Struktur zu einem Segment 204b der linken Seite der Layout-Struktur 104, die die erste Maskenzuordnung aufweist. Ein Breitenabweichungs-Wert 234 gehört zu einer Breitenschwankung als Ergebnis davon, dass es keine Aggressorkomponente in einem Abstand von einem vorbestimmten Schwellenwert gibt. In einigen Ausführungsformen wird der Breitenabweichungs-Wert 234 gemäß Tabelle 230[1] ermittelt, der zu einem Abstand gehört, der größer oder gleich dem vorbestimmten Schwellenwert ist. Daher wird die linke Seite 104a der Layout-Struktur 104 auf einer Segment-auf-Segment-Basis modifiziert, gemäß den Breitenabweichungs-Werten 232 und 234.
2A kann verwendet werden, um die Breitenschwankung zu erklären, die von Layout-Strukturen auf einer linken Seite (d. h. der positiven Y-Richtung) der Layout-Struktur 104 hervorgerufen wird. Das gleiche Grundprinzip ist anwendbar, um die Breitenschwankung zu ermitteln, die durch Layout-Strukturen auf einer rechten Seite (d. h. der negativen Y-Richtung) der Layout-Struktur 104 hervorgerufen wird.
3 ist ein Flussdiagramm eines Verfahrens 300 zum Modifizieren eines Layouts, etwa der Layouts in 1A, 1C, 1D und 2A gemäß den Tabellen in 1B und 2B, und zum Ausführen einer Widerstands-Kapazitäts-Extraktion, gestützt auf das modifizierte Layout, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen. Es versteht sich, dass zusätzliche Vorgänge vor, während und/oder nach dem Verfahren 300, das in 3 gezeigt ist, ausgeführt werden können und dass manche anderen Verfahren hier nur kurz beschrieben werden.
Das Verfahren 300 beginnt mit Vorgang 310, bei dem ein ursprüngliches Layout (mit LAYOUT[0] bezeichnet) empfangen wird. Ein Index i wird auf 1 gesetzt. Der Index i wird verwendet, um den Fluss der verschiedenen Vorgänge zu beschreiben. In einigen Ausführungsformen wurde die Abfolge von verschiedenen Vorgängen des Verfahrens 300 in einem Programm eingeschrieben oder festgelegt, und das Ausführen des Verfahrens 300 erfordert es daher nicht, dass eine Variable in einem Computersystem tatsächlich erzeugt und/oder festgelegt wird, die zu dem Index i gehört. In dieser Ausführungsform weist das ursprüngliche Layout N Mengen von Layout-Strukturen auf die jeweils zu N Masken gehören, wobei die i-te Menge von Layout-Strukturen eine i-te Maskenzuordnung aufweist, die zu einer i-ten Maske der N Masken gehört. Der Index i ist eine ganze Zahl von 1 bis N und N ist eine ganze Zahl und größer als 1.
Die erste Maskenzuordnung beispielsweise, die mit den Layout-Strukturen 102 und 104 in 1A oder 2A verknüpft ist, gehört zu dem Index i = 1; die zweite Maskenzuordnung, die mit der Layout-Struktur 112 verknüpft ist, gehört zu dem Index i = 2; und die dritten Maskenzuordnung, die mit der Layout-Struktur 122 verknüpft ist, gehört zu dem Index i = 3.
Das Verfahren fährt dann mit Vorgang 320 fort, bei dem eine erste Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen gemäß N Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs ermittelt wird, etwa den Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs, die in Zusammenhang mit 1A–1D beschrieben sind. Detaillierte Vorgänge des Vorgangs 320 werden weiter in Zusammenhang mit 4 beschrieben.
Das Verfahren fährt dann mit Vorgang 330 fort, bei dem eine zweite Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen gemäß i Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs ermittelt wird, etwa den Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs, die in Zusammenhang mit 2A–2B gezeigt sind. Detaillierte Vorgänge des Vorgangs 330 werden weiter in Zusammenhang mit 5 beschrieben.
Das Verfahren fährt dann mit Vorgang 340 fort, bei dem ein Layout LAYOUT[i] erzeugt wird, indem die i-te Menge von Layout-Strukturen in dem Layout LAYOUT[i – 1] mit der modifizierten Menge von Layout-Strukturen ersetzt wird, gestützt auf die Breitenabweichungs-Werte, die während der Vorgänge 320 und 330 ermittelt wurden. In einigen Ausführungsformen umfasst das Erzeugen des Layouts LAYOUT[i] das Anpassen der linken Seite einer ausgewählten Layout-Struktur der i-ten Menge von Layout-Strukturen gemäß den Breitenabweichungs-Werten, die in den Vorgängen 320 und 330 ermittelt wurden; und das Anpassen der rechten Seite einer ausgewählten Layout-Struktur der i-ten Menge von Layout-Strukturen gemäß den Breitenabweichungs-Werten, die in den Vorgängen 320 und 330 ermittelt wurden. In einigen Ausführungsformen umfasst das Erzeugen des Layouts LAYOUT[i] das Anpassen der oberen Seite und/oder der unteren Seite einer ausgewählten Layout-Struktur gemäß den Breitenabweichungs-Werten, die in den Vorgängen 320 und 330 ermittelt wurden.
Das Verfahren 300 fährt dann mit Vorgang 350 fort, um zu ermitteln, ob der Index i gleich der Anzahl von Masken N ist. Wenn der Index i nicht gleich der Anzahl von Masken N ist, fährt das Verfahren mit Vorgang 360 fort, wobei der Index i um 1 erhöht wird. Wenn der Index i gleich der Anzahl der Masken N ist, fährt das Verfahren 300 mit Vorgang 370 fort, wobei das Layout LAYOUT[N] als das modifizierte Layout verwendet wird, und eine Widerstands-Kapazitäts-Extraktion wird ausgeführt, gestützt auf das modifizierte Layout. In einigen Ausführungsformen wird festgelegt, dass verschiedene Vorgänge, die mit der hier definierten Abfolge im Einklang sind, beispielsweise durch eine festverdrahtete Steuerung oder eine Zustandsmaschine ausgeführt werden, ohne dass Variablen verwendet werden, die zu dem Index i und der Zahl N gehören.
In einigen Ausführungsformen kann auf das ursprüngliche Layout und das modifizierte Layout über ein Graphic-Database-System-(GDS)-Dateiformat zugegriffen werden.
4 ist ein Flussdiagramm eines Verfahrens 400 zum Ermitteln von Breitenabweichungs-Werten, gestützt auf die Tabellen ersten Typs, das verwendet werden kann, um den Vorgang 320 des Flussdiagramms von 3 zu beschreiben, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen. In einigen Ausführungsformen können die Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs, die in Zusammenhang mit 1A–1D beschrieben sind, als Tabellen ersten Typs hier verwendet werden. Es versteht sich, dass zusätzliche Vorgänge vor, während und/oder nach dem Verfahren 400, das in 4 gezeigt ist, ausgeführt werden können und dass einige andere Verfahren hier nur kurz beschrieben werden können.
Das Verfahren 400 beginnt mit Vorgang 410, bei dem eine unverarbeitete Layout-Struktur der i-ten Menge von Layout-Strukturen ausgewählt wird, die die i-te Maskenzuordnung aufweisen. Es wird beispielsweise die Layout-Struktur 104 in 1A ausgewählt, die die erste Maskenzuordnung aufweist. Dann werden in Vorgang 420 eine Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen zu der ausgewählten Layout-Struktur und ihre zugehörigen Maskenzuordnungen identifiziert. Es werden beispielsweise die Layout-Struktur 122 in 1A oder die Layout-Strukturen 114 und 124 in 1C als nächstliegende Layout-Struktur(en) der Layout-Struktur 104 identifiziert. Das Verfahren 400 fährt dann mit Vorgang 430 fort, in dem zugehörige Breitenabweichungs-Werte ermittelt werden, gestützt auf die N Tabellen ersten Typs, etwa die Tabellen 130[1] bis 130[N] in 1B, und die Abmessungen der verschiedenen Layout-Strukturen in dem Layout LAYOUT[i – 1].
Das Layout LAYOUT[i – 1] umfasst die modifizierten ersten (i – 1) Mengen von Layout-Strukturen und die ursprünglichen (N – i + 1) Mengen von Layout-Strukturen. Nach dem Ermitteln der Breitenabweichungs-Werte für die Layout-Strukturen, die eine erste Maskenzuordnung aufweisen, werden die Layout-Strukturen, die die erste Maskenzuordnung aufweisen, beispielsweise entsprechend modifiziert. Zu diesem Zeitpunkt wurden die Layout-Strukturen, die die zweite oder dritte Maskenzuordnung aufweisen, jedoch noch nicht modifiziert und sind ursprüngliche Layout-Strukturen.
In einigen Ausführungsformen wird der Vorgang 420 mit Bezug auf die linke Seite der Opferkomponenten ausgeführt. Der Vorgang 420 umfasst beispielsweise das Identifizieren einer ersten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen unter den ersten (i – 1) Mengen von modifizierten Layout-Strukturen oder des ursprünglichen Layouts, wenn der Index i gleich 1 ist, und der letzten (N – i + 1) Mengen von Layout-Strukturen auf einer linken Seite der ausgewählten Layout-Struktur der i-ten Menge von Layout-Strukturen. Demnach umfasst der Vorgang 430 das Ermitteln einer ersten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die linke Seite der ausgewählten Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die N Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs der i-ten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen. In einigen Ausführungsformen wird der Vorgang 420 weiter mit Bezug auf die rechte Seite der Opferkomponenten ausgeführt. Der Vorgang 420 umfasst beispielsweise das Identifizieren einer zweiten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen in den ersten (i – 1) modifizierten Layout-Strukturen oder des Ursprünglichen Layouts, wenn der Index i gleich 1 ist, und der letzten (N – i + 1) Mengen von Layout-Strukturen auf einer rechten Seite der ausgewählten Layout-Struktur, die der linken Seite gegenüberliegt. Demnach umfasst der Vorgang 430 weiter das Ermitteln einer zweiten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die rechte Seite der ausgewählten Layout-Struktur angewendet werden können, gestützt auf die N Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs der i-ten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen.
In einigen Ausführungsformen umfasst der Vorgang 420 weiter das Identifizieren einer dritten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen in den ersten (i – 1) modifizierten Layout-Strukturen oder des ursprünglichen Layouts, wenn der Index i gleich 1 ist, der letzten (N – i + 1) Mengen von Layout-Strukturen auf einer oberen und/oder unteren Seite der ausgewählten Layout-Struktur, und der Vorgang 430 umfasst weiter das Ermitteln einer dritten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf eine dritte Seite der ausgewählten Layout-Struktur angewendet werden können, gestützt auf die N Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs der i-ten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen.
Das Verfahren fährt mit Vorgang 440 fort, in dem ermittelt wird, ob es irgendwelche unverarbeiteten Layout-Strukturen der i-ten Menge von Layout-Strukturen gibt. Wenn es eine oder mehrere unverarbeitete Layout-Strukturen der i-ten Menge von Layout-Strukturen gibt, fährt das Verfahren mit Vorgang 410 fort. Sonst endet das Verfahren bei Vorgang 450, nachdem alle Layout-Strukturen der i-ten Menge von Layout-Strukturen verarbeitet wurden, gestützt auf die N Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs.
5 ist ein Flussdiagramm eines Verfahrens 500 zum Ermitteln von Breitenabweichungs-Werten, gestützt auf die Tabellen zweiten Typs, das verwendet werden kann, um den Vorgang 330 des Flussdiagramms von 3 zu beschreiben, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen. In einigen Ausführungsformen können die Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs, die in Zusammenhang mit 2A–2B beschrieben sind, als Tabellen zweiten Typs verwendet werden. Es versteht sich, dass zusätzliche Vorgänge vor, während und/oder nach dem Verfahren 500, das in 5 gezeigt ist, ausgeführt werden können und dass einige andere Verfahren hier nur kurz beschrieben werden können.
Das Verfahren 500 beginnt mit Vorgang 510, in dem eine unverarbeitete Layout-Struktur der i-ten Menge von Layout-Strukturen ausgewählt wird, die die i-te Maskenzuordnung aufweisen. Es wird beispielsweise die Layout-Struktur 104 in 2A ausgewählt, die die erste Maskenzuordnung aufweist. Dann wird in Vorgang 520 ein weiterer Index j auf 1 gesetzt. Der Index j ist eine ganze Zahl von 1 bis i. Für die Layout-Struktur 104, die die erste Maskenzuordnung aufweist, wird der Index j beispielsweise auf 1 gesetzt, was das Analysieren der Breitenschwankungen zweiten Typs repräsentiert, gestützt auf eine Aggressorkomponente, die die erste Maskenzuordnung aufweist, gegen die Opferkomponente, die die erste Maskenzuordnung aufweist. Später wird, wenn j auf 2 gesetzt wird, eine Aggressorkomponente analysiert, die die zweite Maskenzuordnung aufweist.
Dann wird in Vorgang 530 eine Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen zu der ausgewählten Layout-Struktur identifiziert, die die j-te Maskenzuordnung aufweisen. Es werden beispielsweise die Layout-Struktur 102 in 2A und eine „Leerstelle”, die zu dem Segment 204b gehört, als die nächstliegende(n) Layout-Struktur(en) identifiziert, um Breitenschwankungen zweiten Typs der Opferkomponente 104 zu ermitteln. Das Verfahren 500 fährt mit Vorgang 540 fort, in dem zugehörige Breitenabweichungs-Werte ermittelt werden, gestützt auf die j-te Tabelle zweiten Typs, etwa die Tabelle 230[1] in 2B für die Aggressorkomponente, die die ersten Maskenzuordnung aufweist, und die Abmessungen von verschiedenen Layout-Strukturen in dem Layout LAYOUT[i – 1].
Das Verfahren fährt mit Vorgang 550 fort, um zu ermitteln, ob der Index gleich dem Index i ist. Wenn der Index j nicht gleich dem Index i ist, wird der Index in Vorgang 560 um 1 erhöht und das Verfahren fährt mit Vorgang 530 fort.
In einigen Ausführungsformen umfasst die Kombination von Vorgängen 530 und 550 das Identifizieren einer ersten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen in jeder der ersten (i – 1) Mengen von modifizierten Layout-Strukturen, wenn der Index i größer als 1 ist, und der i-ten Menge von Layout-Strukturen auf der linken Seite der ausgewählten Layout-Struktur, und die Kombination von Vorgängen 540 und 550 umfasst das Ermitteln einer ersten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die linke Seite der ausgewählten Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die i Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs der i-ten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen. In einigen Ausführungsformen umfasst die Kombination von Vorgängen 530 und 550 weiter das Identifizieren einer zweiten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen in jeder der ersten (i – 1) Mengen von modifizierten Layout-Strukturen, wenn der Index i größer als 1 ist, und der i-ten Menge von Layout-Strukturen auf der rechten Seite der ausgewählten Layout-Struktur, und die Kombination von Vorgängen 540 und 550 umfasst das Ermitteln einer zweiten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die rechte Seite der ausgewählten Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die i Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs der i-ten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen.
In einigen Ausführungsformen umfasst die Kombination von Vorgängen 530 und 550 das Identifizieren einer dritten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen in jeder der ersten (i – 1) Mengen von modifizierten Layout-Strukturen, wenn der Index i größer als 1 ist, und der i-ten Menge von Layout-Strukturen auf einer oberen oder unteren Seite der ausgewählten Layout-Struktur, und die Kombination von Vorgängen 540 und 550 umfasst das Ermitteln einer dritten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die untere oder obere Seite der ausgewählten Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die i Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs der i-ten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen.
In Vorgang 550 wurden, wenn der Index j gleich dem Index i ist, alle Maskenstrukturen, die den gleichen oder einen kleineren Index aufweisen, berücksichtigt, und das Verfahren fährt mit Vorgang 570 fort. Für eine Opferkomponente beispielsweise, die die zweite Maskenzuordnung aufweist, zeigt der Index j = 1 an, dass die Aggressorkomponenten, die die erste Maskenzuordung aufweisen, berücksichtigt wurden; und der Index j = 2 zeigt an, dass die Aggressorkomponenten, die die zweite Maskenzuordnung aufweisen, berücksichtigt wurden.
In Vorgang 570 wird ermittelt, ob es irgendwelche unverarbeitete Layout-Strukturen der i-ten Menge von Layout-Strukturen gibt. Wenn es eine oder mehrere unverarbeitete Layout-Strukturen der i-ten Menge von Layout-Strukturen gibt, fährt das Verfahren mit Vorgang 510 fort. Sonst endet, nachdem alle Layout-Strukturen der i-ten Menge von Layout-Strukturen verarbeitet wurden, gestützt auf die i Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs, das Verfahren bei Vorgang 580.
Der Index j wird verwendet, um den Fluss von verschiedenen Vorgängen zu beschreiben. In einigen Ausführungsformen sind verschiedene Vorgänge so eingerichtet, dass sie in Übereinstimmung mit der Abfolge ausgeführt werden, die hier definiert ist, beispielsweise mittels einer festverdrahteten Steuerung oder einer Zustandsmaschine, ohne dass eine Variable verwendet wird, die dem Index j entspricht.
6A ist eine Draufsicht eines Abschnitts eines Layouts 600A, bevor die Vorgänge in 3–5 ausgeführt wurden, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen. Das Layout 600A umfasst die Layout-Strukturen 612 und 614, die eine erste Maskenzuordnung aufweisen (d. h. Maske A), die Layout-Strukturen 622 und 624, die eine zweite Maskenzuordnung aufweisen (d. h. Maske B), und die Layout-Strukturen 632, 634 und 636, die eine dritten Maskenzuordnung aufweisen (d. h. Maske C). Mit anderen Worten wird, als Beispiel, N auf Drei (3) gesetzt. In einigen Ausführungsformen entspricht das Layout 600A dem ursprünglichen Layout LAYOUT[0] in 3.
6B ist eine Draufsicht eines Abschnitts von Komponenten 600B, die gemäß einem Layout hergestellt sind, etwa dem Layout 600A, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen. Die Komponenten 600B umfassen Komponenten 612', 614', 622', 624', 632', 634' und 636', die den Layout-Strukturen 612, 614, 622, 624, 632, 634 und 636 entsprechen. Aufgrund der Schwankungen, die durch entweder die Schwankungen ersten Typs, die in Zusammenhang mit 1A–1D beschrieben wurden, oder die Schwankungen zweiten Typs, die in Zusammenhang mit 2A und 2B beschrieben wurden, hervorgerufen wurden, unterscheiden sich die Größe und Form der Komponenten 612', 614', 622', 624', 632', 634' und 636' von der Größe und Form ihrer entsprechenden Layout-Strukturen 612, 614, 622, 624, 632, 634 und 636 in dem ursprünglichen Layout 600A. Als solche unterscheiden sich die elektrischen Charakteristika, etwa der parasitäre Widerstand und die parasitäre Kapazität der Komponenten 612', 614', 622', 624', 632', 634' und 636' auch von den entsprechenden elektrischen Charakteristika, die gestützt auf die Größe und Form der Layout-Strukturen 612, 614, 622, 624, 632, 634 und 636 in dem ursprünglichen Layout 600A erschlossen oder abgeleitet wurden.
6C ist eine Draufsicht eines Abschnitts eines ersten modifizierten Layouts 600C, das zu LAYOUT[1] in 3 gehört, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen. In einigen Ausführungsformen werden die Vorgänge 320 und 330 zum Ermitteln von Breitenabweichungs-Werten ersten Typs und Breitenabweichungs-Werten zweiten Typs für die erste Menge von Layout-Strukturen (Index i = 1) des ursprünglichen Layouts 600A, die die erste Maskenzuordnung aufweisen (d. h. Maske A), wiederholt ausgeführt. Die erste Menge von Layout-Strukturen 612 und 614 sind beispielsweise Opferkomponenten und werden verarbeitet, um zu einer modifizierten ersten Menge von Layout-Strukturen 612'' und 614'' zu werden. Die nächstliegende Layout-Struktur 632 rechts von der Layout-Struktur 612 ist die Aggressorkomponente der Layout-Struktur 612 mit Bezug auf die Breitenschwankungen ersten Typs. Die nächstliegenden Layout-Strukturen 634 und 636 der Layout-Struktur 614 sind die Aggressorkomponenten der Layout-Struktur 614 mit Bezug auf die Breitenschwankungen ersten Typs. Zudem ist die Layout-Struktur 612 die Aggressorkomponente der Layout-Struktur 614 mit Bezug auf die Breitenschwankungen zweiten Typs, die der Maske A zugeordnet werden können (d. h. Index j = 1), und die Layout-Struktur 614 ist die Aggressorkomponente der Layout-Struktur 612 mit Bezug auf die Breitenschwankungen zweiten Typs, die der Maske A zugeordnet werden können. Das erste modifizierte Layout 600C wird erzeugt, indem die erste Menge von Layout-Strukturen 612 und 614 gemäß dem ursprünglichen Layout, drei Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs der ersten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen und einer Tabelle von Breitenabweichungen zweiten Typs der ersten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen modifiziert werden.
6D ist eine Draufsicht eines Abschnitts eines zweiten modifizierten Layouts 600D, das zu LAYOUT[2] in 3 gehört, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen. Die zweite Menge (Index i = 2) von Layout-Strukturen 622 und 624 wird verarbeitet, um eine modifizierte zweite Menge von Layout-Strukturen 622'' und 624'' zu werden. Die nächstliegenden Layout-Strukturen 632 und 634 zu der Layout-Struktur 622 sind die Aggressorkomponenten der Layout-Struktur 622 mit Bezug auf die Breitenschwankungen ersten Typs. Die nächstliegenden Layout-Strukturen 636 und 638 zu der Layout-Struktur 624 sind die Aggressorkomponenten der Layout-Struktur 624 mit Bezug auf die Breitenschwankungen ersten Typs. Die Layout-Strukturen 612'' und 614'', die die erste Maskenzuordnung aufweisen, sind die Aggressorkomponenten der Layout-Struktur 622 mit Bezug auf die Breitenschwankungen zweiten Typs, die der Maske A zugeordnet werden können (d. h. Index j = 1). Die Layout-Struktur 614'' ist die Aggressorkomponente der Layout-Struktur 624 mit Bezug auf die Breitenschwankungen zweiten Typs, die der Maske A zugeordnet werden können. Zudem ist die Layout-Struktur 622 die Aggressorkomponente der Layout-Struktur 624 mit Bezug auf die Breitenschwankungen zweiten Typs, die der Maske B zugeordnet werden können (d. h. Index j = 2), und die Layout-Struktur 624 ist die Aggressorkomponente der Layout-Struktur 622 mit Bezug auf die Breitenschwankungen zweiten Typs, die der Maske B zugeordnet werden können. Das zweite modifizierte Layout 600D wird erzeugt, indem die zweite Menge von Layout-Strukturen 622 und 624 gemäß dem ersten modifizierten Layout 600C, drei Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen und zwei Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen modifiziert werden.
6E ist eine Draufsicht eines Abschnitts eines abschließenden modifizierten Layouts 600E, das LAYOUT[3] in 3 entspricht, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen. Die dritte Menge (Index i = 3) von Layout-Strukturen 632, 634 und 636 werden verarbeitet, um eine modifizierte zweite Menge von Layout-Strukturen 632'', 623'' und 636'' zu werden. Die nächstliegenden Layout-Strukturen 612'' und 622'' der Layout-Struktur 632 sind die Aggressorkomponenten der Layout-Struktur 632 mit Bezug auf die Breitenschwankungen ersten Typs. Die nächstliegenden Layout-Strukturen 622'' und 614'' zu der Layout-Struktur 634 sind die Aggressorkomponenten der Layout-Struktur 634 mit Bezug auf die Breitenschwankungen ersten Typs. Die nächstliegenden Layout-Strukturen 614'' und 624'' der Layout-Struktur 636 sind die Aggressorkomponenten der Layout-Struktur 636 mit Bezug auf die Breitenschwankungen ersten Typs. Die nächstliegende Layout-Struktur 624'' der Layout-Struktur 638 ist die Aggressorkomponente der Layout-Struktur 638 mit Bezug auf die Breitenschwankungen ersten Typs.
Die Layout-Strukturen 612'' und 614'' sind die Aggressorkomponenten der Layout-Strukturen 632 und 634 mit Bezug auf die Breitenschwankungen zweiten Typs, die der Maske A (d. h. Index j = 1) zugeordnet werden können. Die Layout-Struktur 614'' ist die Aggressorkomponente der Layout-Strukturen 636 und 638 mit Bezug auf die Breitenschwankungen zweiten Typs, die der Maske A zugeordnet werden können. Die Layout-Struktur 622'' ist die Aggressorkomponente der Layout-Strukturen 632 mit Bezug auf die Breitenschwankungen zweiten Typs, die der Maske B (d. h. Index j = 2) zugeordnet werden können. Die Layout-Strukturen 622'' und 624'' sind die Aggressorkomponenten der Layout-Strukturen 634 und 636 mit Bezug auf die Breitenschwankungen zweiten Typs, die der Maske B zugeordnet werden können. Die Layout-Struktur 624'' ist die Aggressorkomponente der Layout-Strukturen 638 mit Bezug auf die Breitenschwankungen zweiten Typs, die der Maske B zugeordnet werden können. Zudem ist die Layout-Struktur 634 die Aggressorkomponente der Layout-Struktur 632 mit Bezug auf die Breitenschwankungen zweiten Typs, die der Maske C (d. h. Index j = 3) zugeordnet werden können. Die Layout-Strukturen 632 und 636 sind die Aggressorkomponenten der Layout-Struktur 634 mit Bezug auf die Breitenschwankungen zweiten Typs, die der Maske C zugeordnet werden können. Die Layout-Strukturen 634 und 638 sind die Aggressorkomponenten der Layout-Struktur 636 mit Bezug auf die Breitenschwankungen zweiten Typs, die der Maske C zugeordnet werden können. Die Layout-Struktur 636 ist die Aggressorkomponente der Layout-Struktur 638 mit Bezug auf die Breitenschwankungen zweiten Typs, die der Maske C zugeordnet werden können.
Das dritte modifizierte Layout 600E wird erzeugt, indem die dritte Menge von Layout-Strukturen 632, 634 und 636 gemäß dem zweiten modifizierten Layout 600D, drei Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs der dritten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen und drei Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs der dritten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen modifiziert werden. In einigen Ausführungsformen wird das dritte modifizierte Layout 600E als das abschließende modifizierte Layout in einem nachfolgenden Widerstands-Kapazitäts-Extraktionsverfahren verwendet.
7 ist ein Blockdiagramm eines Widerstands-Kapazitäts-Extraktionssystems 700, in Übereinstimmung mit einigen Ausführungsformen. Das Widerstands-Kapazitäts-Extraktionssystem 700 umfasst ein erstes Computersystem 710, ein zweites Computersystem 720, eine vernetzte Speichervorrichtung 730 und ein Netzwerk 740, das das erste Computersystem 710, das zweite Computersystem 720 und die vernetzte Speichervorrichtung 730 verbindet. In einigen Ausführungsformen fehlen eines oder mehrere des zweiten Computersystems 720, der Speichervorrichtung 730 und des Netzwerks 740.
Das erste Computersystem 710 umfasst einen Hardwareprozessor 712, der mit einem nichtflüchtigen, computerlesbaren Speichermedium 714 verbunden ist, das mit einer Menge von Befehlen 714a, einer ursprünglichen Layout-Datei 714b, einer abschließenden modifizierten Layout-Datei 714c oder irgendwelchen Zwischendaten 714d (z. B. den modifizierten Zwischen-Layouts 600C, 600D oder 600E) codiert ist, d. h. sie speichert, um die Menge von Befehlen 714a auszuführen. Die Verarbeitungseinheit 712 ist mit dem computerlesbaren Speichermedium 714 elektrisch und für die Datenübertragung verbunden. Die Verarbeitungseinheit 712 ist so konfiguriert, dass sie die Menge von Befehlen 714a ausführt, die in dem computerlesbaren Speichermedium 714 codiert sind, um zu veranlassen, dass der Computer 710 als Widerstands-Kapazitäts-Extraktionswerkzeug verwendet werden kann, um ein Verfahren auszuführen, wie es in Zusammenhang mit 3–5 beschrieben ist.
In einigen Ausführungsformen werden die Menge von Befehlen 714a, die ursprüngliche Layout-Datei 714b, die abschließende modifizierte Layout-Datei 714c oder die Zwischendaten 714d in einem nichtflüchtigen Speichermedium gespeichert, das sich von dem Speichermedium 714 unterscheidet. In einigen Ausführungsformen werden einige oder alle der Menge von Befehlen 714a, der ursprünglichen Layout-Datei 714b, der abschließenden modifizierten Layout-Datei 714c oder der Zwischendaten 714d in einem nichtflüchtigen Speichermedium in einer vernetzten Speichervorrichtung 730 oder dem zweiten Computersystem 720 gespeichert. In diesem Fall kann auf einige oder alle der Menge von Befehlen 714a, der ursprünglichen Layout-Datei 714b, der abschließenden modifizierten Layout-Datei 714c oder der Zwischendaten 714d, die außerhalb des Computers 710 gespeichert sind, durch die Verarbeitungseinheit 712 über das Netzwerk 740 zugegriffen werden.
In einigen Ausführungsformen ist der Prozessor 712 eine zentrale Verarbeitungseinheit (CPU), ein Multiprozessor, ein verteiltes Verarbeitungssystem, eine anwendungsspezifische integrierte Schaltung (ASIC) und/oder eine geeignete Verarbeitungseinheit.
In einigen Ausführungsformen ist das computerlesbare Speichermedium 714 ein elektronisches, magnetisches, optisches, elektromagnetisches, Infrarot- und/oder Halbleitersystem (oder Gerät oder Vorrichtung). Das computerlesbare Speichermedium 714 umfasst beispielsweise einen Halbleiter- oder Festkörperspeicher, ein Magnetband, eine entfernbare Computerdiskette, einen Arbeitsspeicher (RAM), einen Festspeicher (ROM), eine feste Magnetplatte und/oder eine optische Platte. In einigen Ausführungsformen, in der optische Platten verwendet werden, umfasst das computerlesbare Speichermedium 714 eine CD-ROM, eine CD-R/W und/oder eine DVD.
Das Computersystem 710 umfasst in zumindest einigen Ausführungsformen eine Eingangs-/Ausgangs-Schnittstelle 716 und eine Anzeigeeinheit 717. Die Eingangs-/Ausgangs-Schnittstelle 716 ist mit dem Prozessor 712 verbunden und ermöglicht es dem Schaltungsdesigner, das erste Computersystem 710 zu bedienen. In zumindest einigen Ausführungsformen zeigt die Anzeigeeinheit 717 den Status der Ausführung der Menge von Befehlen 714a an und sieht in zumindest einigen Ausführungsformen eine graphische Benutzeroberfläche (GUI) vor. In zumindest einigen Ausführungsformen zeigt die Anzeigeeinheit 717 den Status der Ausführung der Menge von Befehlen 714a in Echtzeit an. In zumindest einigen Ausführungsformen ermöglichen die Eingangs-/Ausgangs-Schnittstelle 716 und die Anzeige 717 es einem Bediener, das Computersystem 710 in einer interaktiven Weise zu bedienen.
In zumindest einigen Ausführungsformen umfasst das Computersystem 700 auch eine Netzwerkschnittstelle 718, die mit dem Prozessor 712 verbunden ist. Die Netzwerkschnittstelle 718 ermöglicht es dem Computersystem 710 mit dem Netzwerk 740 zu kommunizieren, mit dem ein oder mehrere andere Computersysteme verbunden sind. Die Netzwerkschnittstelle umfasst drahtlose Netzwerkschnittstellen wie Bluetooth, WiFi, WiMax, GPRS oder WCDMA; oder kabelgebundene Netzwerkschnittstellen wie Ethernet, USB oder IEEE-1394.
In Übereinstimmung mit einer Ausführungsform umfasst ein Verfahren zum Erzeugen eines modifizierten Layouts, gestützt auf ein ursprüngliches Layout, das Ermitteln einer ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten einer i-ten Menge von Layout-Strukturen gemäß einer Breitenschwankung ersten Typs. Das ursprüngliche Layout hat N Mengen von Layout-Strukturen, die zu N Masken gehören, wobei die i-te Menge von Layout-Strukturen eine i-te Maskenzuordnung aufweist, die zu einer i-ten Maske der N Masken gehört. Der Index i ist eine ganze Zahl von 1 bis N und N ist eine ganze Zahl und größer als 1. Eine zweite Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen des ursprünglichen Layouts wird gemäß einer Breitenschwankung zweiten Typs ermittelt. Das modifizierte Layout wird erzeugt, gestützt auf die erste und die zweite Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen. Der Index i der i-ten Maske entspricht einer Reihenfolge der i-ten Maske, die während eines Herstellungsverfahrens angewendet wird.
In Übereinstimmung mit einer anderen Ausführungsform umfasst ein Widerstands-Kapazitäts-Extraktionssystem ein nichtflüchtiges Speichermedium, das mit einer Menge von Befehlen codiert ist, und einen Hardwareprozessor, der mit dem nichtflüchtigen Speichermedium verbunden ist. Der Hardwareprozessor ist so konfiguriert, dass er die Menge von Befehlen ausführt, um Folgendes auszuführen: Ermitteln einer ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten einer i-ten Menge von Layout-Strukturen gemäß einer Breitenschwankung ersten Typs; Ermitteln einer zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen des ursprünglichen Layouts gemäß einer Breitenschwankung zweiten Typs; Erzeugen des modifizierten Layouts, gestützt auf die erste und die zweite Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen; und Ausführen eines parasitären Widerstands-Kapazitäts-Extraktionsverfahrens, gestützt auf das modifizierte Layout. Das ursprüngliche Layout weist N Mengen von Layout-Strukturen auf, die zu N Masken gehören, wobei die i-te Menge von Layout-Strukturen eine i-te Maskenzuordnung aufweist, die zu einer i-ten Maske der N Masken gehört. Der Index i ist eine ganze Zahl von 1 bis N und N ist eine ganze Zahl und größer als 1.
In Übereinstimmung mit einer weiteren Ausführungsform ist ein nichtflüchtiges Speichermedium vorgesehen, das mit einer Menge von Befehlen codiert ist, und die Menge von Befehlen ist so konfiguriert, dass sie veranlasst, dass ein Hardwareprozessor ein Verfahren ausführt, das Folgendes umfasst: Ermitteln einer ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen gemäß Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs; Ermitteln einer zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen des ursprünglichen Layouts, gestützt auf i Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs; und Erzeugen des modifizierten Layouts, gestützt auf die erste und die zweite Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen. Das ursprüngliche Layout weist N Mengen von Layout-Strukturen auf, die zu N Masken gehören, wobei die i-te Menge von Layout-Strukturen eine i-te Maskenzuordnung aufweist, die zu einer i-ten Maske der N Masken gehört. Der Index i ist eine ganze Zahl von 1 bis N und N ist eine ganze Zahl und größer als 1. Der Index i der i-ten Maske entspricht einer Reihenfolge der i-ten Maske, die während eines Herstellungsverfahrens angewendet wird.
Das Vorangegangene beschreibt Merkmale von mehreren Ausführungsformen, so dass der Fachmann die Aspekte der vorliegenden Offenbarung besser verstehen kann. Der Fachmann sollte anerkennen, dass er die vorliegende Offenbarung leicht als Basis verwenden kann, um andere Verfahren und Strukturen zu entwerfen oder modifizieren, um die gleichen Ziele zu erreichen und/oder die gleichen Vorteile der hier eingeführten Ausführungsformen zu realisieren. Der Fachmann sollte auch erkennen, dass solche äquivalenten Konstruktionen nicht von dem Geist und Schutzumfang der vorliegenden Offenbarung abweichen und dass er verschiedene Änderungen, Ersetzungen und Modifikationen hier vornehmen kann, ohne von dem Geist und Schutzumfang der vorliegenden Offenbarung abzuweichen.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Nicht-Patentliteratur

IEEE-1394 [0079]

Claims

Verfahren zum Erzeugen eines modifizierten Layouts, gestützt auf ein ursprüngliches Layout, wobei das Verfahren Folgendes umfasst: Ermitteln einer ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten einer i-ten Menge von Layout-Strukturen gemäß einer Breitenschwankung ersten Typs, wobei das ursprüngliche Layout N Mengen von Layout-Strukturen aufweist, die zu N Masken gehören, wobei die i-te Menge von Layout-Strukturen eine i-te Maskenzuordnung aufweist, die zu einer i-ten Maske der N Masken gehört, wobei der Index i eine ganze Zahl von 1 bis N ist und N eine ganze Zahl und größer als 1 ist; Ermitteln einer zweite Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen des ursprünglichen Layouts gemäß einer Breitenschwankung zweiten Typs; und Erzeugen des modifizierten Layouts, gestützt auf die erste und die zweite Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen, wobei der Index i der i-ten Maske einer Reihenfolge der i-ten Maske entspricht, die während eines Herstellungsverfahrens angewendet wird, wobei die eine oder mehreren obigen Vorgänge durch einen Hardwareprozessor ausgeführt werden.
Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Ermitteln der ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten das Ermitteln einer ersten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten und einer zweiten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten der ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten umfasst, gestützt auf eine Menge von Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs, wobei die erste Untermenge von Breitenabweichungs-Werten zu einer ersten Seite einer ausgewählten Layout-Struktur der i-ten Menge von Layout-Strukturen gehört, wobei die zweite Untermenge von Breitenabweichungs-Werten zu einer zweiten Seite der ausgewählten Layout-Struktur der i-ten Menge von Layout-Strukturen gehört, wobei die zweite Seite der ersten Seite gegenüberliegt und wobei die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs Information bezüglich der Breitenschwankung ersten Typs umfasst; das Ermitteln der ersten Untermenge der Breitenabweichungs-Werte Folgendes umfasst: Identifizieren einer ersten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen zu der ersten Seite der ausgewählten Layout-Struktur von den ersten (i – 1) Mengen von modifizierten Layout-Strukturen oder des ursprünglichen Layouts, wenn der Index i gleich 1 ist, und der letzten (N – i + 1) Mengen von Layout-Strukturen; Ermitteln der ersten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die erste Seite der ausgewählten Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die erste Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen und die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs; und das Ermitteln der zweiten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten Folgendes umfasst: Identifizieren einer zweiten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen zu der zweiten Seite der ausgewählten Layout-Struktur von den ersten (i – 1) modifizierten Layout-Strukturen oder des ursprünglichen Layouts, wenn der Index i gleich 1 ist, und der letzten (N – i + 1) Mengen von Layout-Strukturen; und Ermitteln der zweiten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die zweite Seite der ausgewählten Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die zweite Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen und die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs.
Verfahren nach Anspruch 2, wobei das Ermitteln der ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten weiter das Ermitteln einer dritten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten der ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten umfasst, gestützt auf die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs, wobei die dritte Untermenge von Breitenabweichungs-Werten zu einer dritten Seite der ausgewählten Layout-Struktur der i-ten Menge von Layout-Strukturen gehört; und das Ermitteln der dritten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten Folgendes umfasst: Identifizieren einer dritten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen zu der dritten Seite der ausgewählten Layout-Struktur von den ersten (i – 1) modifizierten Layout-Strukturen oder des ursprünglichen Layouts, wenn der Index i gleich 1 ist, und der letzten (N – i + 1) Mengen von Layout-Strukturen; und Ermitteln der dritten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die dritte Seite der ausgewählten Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die dritte Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen und die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs.
Verfahren nach Anspruch 2, wobei das Ermitteln der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten das Ermitteln einer dritten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten und einer vierten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten umfasst, gestützt auf eine Menge von Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs, wobei die dritte Untermenge von Breitenabweichungs-Werten zu der ersten Seite der ausgewählten Layout-Struktur gehört, die vierte Untermenge von Breitenabweichungs-Werten zu der zweiten Seite der ausgewählten Layout-Struktur gehört und die Menge der Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs Information über die Breitenabweichungs-Werte zweiten Typs umfasst; das Ermitteln der dritten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten Folgendes umfasst: Identifizieren einer dritten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen zu der ersten Seite der ausgewählten Layout-Struktur von jeder der ersten (i – 1) Mengen von modifizierten Layout-Strukturen, wenn der Index i größer als 1 ist, und der i-ten Menge von Layout-Strukturen; Ermitteln der dritten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die erste Seite der ausgewählten Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die dritte Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen und die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs; und das Ermitteln der dritten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten Folgendes umfasst: Identifizieren einer vierten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen zu der zweiten Seite der ausgewählten Layout-Struktur von jeder der ersten (i – 1) Mengen von modifizierten Layout-Strukturen, wenn der Index i größer als 1 ist, und der i-ten Menge von Layout-Strukturen; und Ermitteln der vierten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die zweite Seite der ausgewählten Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die vierte Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen und die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs.
Verfahren nach Anspruch 4, wobei das Ermitteln der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten weiter das Ermitteln einer fünften Untermenge von Breitenabweichungs-Werten der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten umfasst, gestützt auf die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs, wobei die fünfte Untermenge von Breitenabweichungs-Werten zu einer dritten Seite der ausgewählten Layout-Struktur der i-ten Menge von Layout-Strukturen gehört; und das Ermitteln der fünften Untermenge von Breitenabweichungs-Werten Folgendes umfasst: Identifizieren einer fünften Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen zu der dritten Seite der ausgewählten Layout-Struktur von jeder der ersten (i – 1) Mengen von modifizierten Layout-Strukturen, wenn der Index i größer als 1 ist, und der i-ten Menge von Layout-Strukturen; und Ermitteln der fünften Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die dritte Seite der ausgewählten Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die fünfte Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen und die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs.
Verfahren nach Anspruch 4, wobei das Erzeugen des modifizierten Layouts Folgendes umfasst: Anpassen der ersten Seite der ausgewählten Layout-Struktur gemäß der ersten und der dritten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten; und Anpassen der zweiten Seite der ausgewählten Layout-Struktur gemäß der zweiten und der vierten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten.
Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei die N Mengen von Layout-Strukturen des ursprünglichen Layouts parallel entlang einer ersten Richtung geroutet sind.
Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei die N Mengen von Layout-Strukturen des Ursprünglichen Layouts zu der Herstellung einer Verbindungsschicht eines integrierten Halbleiterchips gehören.
Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei N Drei (3) ist; und das Ermitteln der ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten und das Ermitteln der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen des ursprünglichen Layouts in Übereinstimmung mit einer Abfolge von Vorgängen wiederholt ausgeführt wird, die Folgendes umfassen: Erzeugen eines ersten Layouts durch Modifizieren der ersten Menge von Layout-Strukturen gemäß dem ursprünglichen Layout, drei Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs einer ersten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen und einer Tabelle von Breitenabweichungen zweiten Typs der ersten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen; Erzeugen eines zweiten Layouts durch Modifizieren der zweiten Menge von Layout-Strukturen in dem ersten Layout gemäß dem ersten Layout, drei Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs einer zweiten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen und zwei Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen; und Erzeugen eines dritten Layouts durch Modifizieren der dritten Menge von Layout-Strukturen in dem zweiten Layout gemäß dem zweiten Layout, drei Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs einer dritten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen und drei Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs der dritten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen; und wobei das Erzeugen des modifizierten Layouts das Verwenden des dritten Layouts als das modifizierte Layout umfasst.
Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei die Breitenschwankung ersten Typs zu Modellierungsabweichungen gehört, die mit einem lokalisierten Ätzen oder einem Planarisierungsverfahren korreliert sind; und die Breitenschwankung zweiten Typs zu Modellierungsabweichugen gehört, die mit einem Lithographieverfahren oder eine Abstandhalterverfahren eines Mehrfach-Strukturierverfahrens korreliert sind.
Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, wobei das modifizierte Layout in einem parasitären Widerstands-Kapazitäts-Extraktionsverfahren verwendbar ist.
Widerstands-Kapazitäts-Extraktionssystem, das Folgendes umfasst: ein nichtflüchtiges Speichermedium, das mit einer Menge von Befehlen codiert ist; und einen Hardwareprozessor, der mit dem nichtflüchtigen Speichermedium zum Datenaustausch verbunden ist und so konfiguriert ist, dass er die Menge von Befehlen ausführt, um Folgendes auszuführen: Ermitteln einer ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten einer i-ten Menge von Layout-Strukturen gemäß einer Breitenschwankung ersten Typs, wobei das ursprüngliche Layout N Mengen von Layout-Strukturen aufweist, die zu N Masken gehören, wobei die i-te Menge von Layout-Strukturen eine i-te Maskenzuordnung aufweist, die zu einer i-ten Maske der N Masken gehört, wobei der Index eine ganze Zahl von 1 bis N ist und N eine ganze Zahl größer als 1 ist; Ermitteln einer zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen des ursprünglichen Layouts gemäß einer Breitenschwankung zweiten Typs; Erzeugen des modifizierten Layouts, gestützt auf die erste und die zweite Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen; und Ausführen eines parasitären Widerstands-Kapazitäts-Extraktionsverfahrens, gestützt auf das modifizierte Layout.
Widerstands-Kapazitäts-Extraktionssystem nach Anspruch 12, wobei auf das ursprüngliche Layout und das modifizierte Layout in einem Graphic-Database-System-(GDS)-Dateiformat zugegriffen werden kann.
Widerstands-Kapazitäts-Extraktionssystem nach einem der Ansprüche 12 oder 13, wobei der Hardwareprozessor, wenn er die Menge von Befehlen ausführt, um das Ermitteln der ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten auszuführen, weiter so konfiguriert ist, dass er eine erste Untermenge von Breitenabweichungs-Werten und eine zweite Untermenge von Breitenabweichungs-Werten der ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten ermittelt, gestützt auf eine Menge von Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs, wobei die erste Untermenge von Breitenabweichungs-Werten zu einer ersten Seite einer ausgewählten Layout-Struktur der i-ten Menge von Layout-Strukturen gehört, wobei die zweite Untermenge von Breitenabweichungs-Werten zu einer zweiten Seite der ausgewählten Layout-Struktur der i-ten Menge von Layout-Strukturen gehört, wobei die zweite Seite der ersten Seite gegenüberliegt, und wobei die Menge von Breitenabweichungs-Werten ersten Typs Information bezüglich der Breitenschwankung ersten Typs umfasst; das Ermitteln der ersten Untermenge der Breitenabweichungs-Werte Folgendes umfasst: Identifizieren einer ersten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen zu der ersten Seite der ausgewählten Layout-Struktur von den ersten (i – 1) Mengen von modifizierten Layout-Strukturen, oder des ursprünglichen Layouts, wenn der Index i gleich 1 ist, und der letzten (N – i + 1) Mengen von Layout-Strukturen; und Ermitteln der ersten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die erste Seite der ausgewählten Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die erste Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen und die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs; und das Ermitteln der zweiten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten Folgendes umfasst: Identifizieren einer zweiten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen zu der zweiten Seite der ausgewählten Layout-Struktur von den ersten (i – 1) modifizierten Layout-Strukturen, oder des ursprünglichen Layouts, wenn der Index i gleich 1 ist, und der letzten (N – i + 1) Mengen von Layout-Strukturen; und Ermitteln der zweiten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die zweite Seite der ausgewählten Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die zweite Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen und die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs.
Widerstands-Kapazitäts-Extraktionssystem nach Anspruch 14, wobei der Hardwareprozessor, wenn er die Menge von Befehlen ausführt, um das Ermitteln der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten auszuführen, weiter so konfiguriert ist, dass er eine dritte Untermenge von Breitenabweichungs-Werten und eine vierte Untermenge von Breitenabweichungs-Werten der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten ermittelt, gestützt auf die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs, wobei die dritte Untermenge von Breitenabweichungs-Werten zu der ersten Seite der ausgewählten Layout-Struktur gehört, die vierte Untermenge von Breitenabweichungs-Werten zu der zweiten Seite der ausgewählten Layout-Struktur gehört und die Menge der Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs Information über die Breitenschwankungen zweiten Typs umfasst; das Ermitteln der dritten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten Folgendes umfasst: Identifizieren einer dritten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen zu der ersten Seite der ausgewählten Layout-Struktur von jeder der ersten (i – 1) Mengen von modifizierten Layout-Strukturen, wenn der Index i größer als 1 ist, und der i-ten Menge von Layout-Strukturen; und Ermitteln der dritten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die erste Seite der ausgewählten Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die dritte Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen und die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs; und das Ermitteln der vierten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten Folgendes umfasst: Identifizieren einer vierten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen zu der zweiten Seite der ausgewählten Layout-Struktur von jeder der ersten (i – 1) Mengen von modifizierten Layout-Strukturen, wenn der Index i größer als 1 ist, und der i-ten Menge von Layout-Strukturen; und Ermitteln der vierten Untermenge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die zweite Seite der ausgewählten Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die vierte Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen und die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs.
Widerstands-Kapazitäts-Extraktionssystem nach einem der Ansprüche 12 bis 15, wobei N Drei (3) ist; und der Hardwareprozessor, wenn er die Menge von Befehlen ausführt, weiter so konfiguriert ist, dass er das Ermitteln der ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten und das Ermitteln der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten in Übereinstimmung mit einer Abfolge von Vorgängen wiederholt ausführt, die Folgendes umfassen: Erzeugen eines ersten Layouts durch Modifizieren der ersten Menge von Layout-Strukturen gemäß dem ursprünglichen Layout, drei Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs einer ersten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen und einer Breitenabweichungs-Tabelle zweiten Typs der ersten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen; Erzeugen eines zweiten Layouts durch Modifizieren der zweiten Menge von Layout-Strukturen in dem ersten Layout gemäß dem ersten Layout, drei Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs einer zweiten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen und zwei Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen; und Erzeugen des modifizierten Layouts durch Modifizieren der dritten Menge von Layout-Strukturen in dem zweiten Layout gemäß dem zweiten Layout, drei Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs einer dritten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen und drei Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs der dritten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen.
Nichtflüchtiges Speichermedium, das mit einer Menge von Befehlen codiert ist, wobei die Menge von Befehlen so konfiguriert ist, dass sie veranlasst, dass ein Hardwareprozessor ein Verfahren ausführt, das Folgendes umfasst: Ermitteln einer ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen gemäß Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs, wobei das ursprüngliche Layout N Mengen von Layout-Strukturen aufweist, die zu N Masken gehören, wobei die i-te Menge von Layout-Strukturen eine i-te Maskenzuordnung aufweist, die zu einer i-ten Maske der N Masken gehört, wobei der Index eine ganze Zahl von 1 bis N ist und N eine ganze Zahl größer als 1 ist; Ermitteln einer zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen des ursprünglichen Layouts, gestützt auf i Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs; und Erzeugen des modifizierten Layouts, gestützt auf die erste und die zweite Menge von Breitenabweichungs-Werten der i-ten Menge von Layout-Strukturen, wobei der Index i der i-ten Maske einer Reihenfolge der i-ten Maske entspricht, die während eines Herstellungsverfahrens angewendet wird.
Nichtflüchtiges Speichermedium nach Anspruch 17, wobei die Menge von Befehlen so konfiguriert ist, dass sie veranlasst, dass der Hardwareprozessor weiter ein parasitäres Widerstands-Kapazitäts-Extraktionsverfahren ausführt, gestützt auf das modifizierte Layout.
Nichtflüchtiges Speichermedium nach Anspruch 17 oder 18, wobei Die Menge von Befehlen so konfiguriert ist, dass sie veranlasst, dass der Hardwareprozessor das Ermitteln der ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten ausführt, gestützt auf eine Menge von Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs, die Information bezüglich einer Breitenschwankung ersten Typs aufweist, wobei das Ermitteln der ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten Folgendes umfasst: Identifizieren einer ersten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen zu einer ausgewählten Layout-Struktur der i-ten Menge von Layout-Strukturen von den ersten (i – 1) Mengen von modifizierten Layout-Strukturen, oder des ursprünglichen Layouts, wenn der Index i gleich 1 ist, und der letzten (N – i + 1) Mengen von Layout-Strukturen; und Ermitteln der ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die ausgewählte Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die erste Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen und die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs; und die Menge von Befehlen so konfiguriert ist, dass sie veranlasst, dass der Hardwareprozessor das Ermitteln der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten ausführt, gestützt auf eine Menge von Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs, die Information bezüglich einer Breitenschwankung zweiten Typs aufweist, wobei das Ermitteln der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten Folgendes umfasst: Identifizieren einer zweiten Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen zu der ausgewählten Layout-Struktur von jeder der (i – 1) Mengen von modifizierten Layout-Strukturen, wenn der Index i größer 1 ist, und der i-ten Menge von Layout-Strukturen; und Ermitteln der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten, die auf die ausgewählte Layout-Struktur anwendbar sind, gestützt auf die zweite Menge von nächstliegenden Layout-Strukturen und die Menge von Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs.
Nichtflüchtiges Speichermedium nach einem der Ansprüche 17 bis 19, wobei N gleich Drei (3) ist; und die Menge von Befehlen so konfiguriert ist, dass sie veranlasst, dass der Hardwareprozessor wiederholt das Ermitteln der ersten Menge von Breitenabweichungs-Werten und das Ermitteln der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Werten in Übereinstimmung mit einer Abfolge von Vorgängen ausführt, die Folgendes umfasst: Erzeugen eines ersten Layouts durch Modifizieren der ersten Menge von Layout-Strukturen gemäß dem ursprünglichen Layout, drei Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs der ersten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen und einer Tabelle von Breitenabweichungen zweiten Typs der ersten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen; Erzeugen eines zweiten Layouts durch Modifizieren der zweiten Menge von Layout-Strukturen in dem ersten Layout gemäß dem ersten Layout, drei Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen und zwei Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs der zweiten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen; und Erzeugen des modifizierten Layouts durch Modifizieren der dritten Menge von Layout-Strukturen in dem zweiten Layout gemäß dem zweiten Layout, drei Tabellen von Breitenabweichungen ersten Typs der dritten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen und drei Tabellen von Breitenabweichungen zweiten Typs der dritten Menge von Breitenabweichungs-Tabellen.