DE102013108240B4

DE102013108240B4 - Dünnschichtverarbeitungssystem und –verfahren bei der chemischen Badabscheidung auf Solarzellensubstraten

Info

Publication number: DE102013108240B4
Application number: DE102013108240.8A
Authority: DE
Inventors: Chuan-Yi Chen; Po-Ching Yu; Bettina Fuchs; Daniel Thomas Leitz
Original assignee: Nice Solar Energy GmbH
Current assignee: Nice Solar Energy GmbH
Priority date: 2012-08-22
Filing date: 2013-07-31
Publication date: 2023-06-22
Anticipated expiration: 2033-08-01
Also published as: TWI539617B; TW201409736A; DE102013108240A1

Abstract

Dünnschichtverarbeitungssystem für eine chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten zur Behandlung von Substraten (100), wobei das Substrat (100) eine Nichtgebrauch - Zone (110a) und eine Verarbeitungszone (110b) umfasst, wobei die Nichtgebrauch - Zone (110a) eine Randfläche des Substrats (100) ist, auf die der chemische Abscheidungsprozess keinen Einfluss hat, und wobei es sich bei der Verarbeitungszone (11 0b) um eine Fläche des Substrats (100) handelt, die nicht von der Nichtgebrauch - Zone (110a) abgedeckt ist, und wobei das Substrat (100) während der chemischen Badabscheidung einen hermetischen Kontakt mit einer Lösungsabdeckung (200) aufweist und eine einen Verschlussraum (310) aufweisende Verschlussstruktur zusammen mit der Lösungsabdeckung (200) ausbildet, wobei sich während der Abscheidung in dem Verschlussraum (310) eine Lösung (4) sowie eine Dünnschicht befindet, wobei das Dünnschichtverarbeitungssystem umfasst:eine Lösungsbereitstellungseinheit (3), welche dazu dient, eine Lösung (4) in eine antransportierte Verschlussstruktur einzuleiten, sodass die Verarbeitungszone (110b) des Substrats (100) flächendeckend von der Lösung (4) abgedeckt ist;eine Einheit zur chemischen Badabscheidung (5), welche hinter der Lösungsbereitstellungseinheit (3) angeordnet ist und die von der Lösungsbereitstellungseinheit (3) antransportierte Verschlussstruktur entgegennimmt und während der Weiterbeförderung der Verschlussstruktur die chemische Badabscheidung stattfinden lässt und nach der Entstehung der Dünnschicht dann die Verschlussstruktur weiter transportiert; sowieeine Lösungsabflusseinheit (6), welche hinter der Einheit zur chemischen Badabscheidung (5) angeordnet ist und die Verschlussstruktur von der Einheit zur chemischen Badabscheidung (5) entgegennimmt und die in der Verschlussstruktur befindliche Lösung (4) dann abgießt, undeine Lösungsabdeckung - Transporteinheit (2), welche vor der Lösungsbereitstellungseinheit (3) und hinter der Lösungsabflusseinheit (6) angeordnet ist und die Lösungsabdeckung (200), bevor das Substrat (100) an der Lösungsbereitstellungseinheit (3) ankommt, auf die Nichtgebrauch - Zone (110a) des Substrats (100) aufsetzt, sodass zwischen der Lösungsabdeckung (200) unddem Substrat (100) eine hermetische Verschlussstruktur, welche noch den Verschlussraum (310) in sich hat, entsteht, wohingegen nachdem das Substrat (100) die Lösungsabflusseinheit (6) verlassen hat, die Verschlussstruktur dann in Substrat (100) und Lösungsabdeckung (200) aufgelöst wird und die Lösungsabdeckung (200) dann vor die Lösungsbereitstellungseinheit (3) transportiert wird, um weiterhin Verschlussstrukturen mit Substraten (100) zu bilden,wobei die Lösungsabdeckung - Transporteinheit (2) eine Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung (21), Schienen (23), einen Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt (2a) und einen Lösungsabdeckungsablöseabschnitt (2b) umfasst, wobei die Schienen (23) an den beiden Enden jeweils mit dem Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt (2a) und dem Lösungsabdeckungsablöseabschnitt (2b) verbunden sind, und wobei der Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt (2a) und der Lösungsabdeckungsablöseabschnitt (2b) jeweils mit der Lösungsbereitstellungseinheit (3) und der Lösungsabflusseinheit (6) verbunden sind, und wobei die Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung (21) zwischen den beiden Enden der Schienen (23) angeordnet ist und sich zwischen den beiden Enden hin und her bewegt, und wobei, wenn das Substrat (100) sich auf dem Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt (2a) aufhält, die Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung (21) dann die Lösungsabdeckung (200) auf die Nichtgebrauch - Zone (110a) des Substrats (100) aufsetzt, sodass sich zwischen der Lösungsabdeckung (200) und dem Substrat (100) eine hermetische Verschlussstruktur ausbildet; und wobei, wenn das Substrat (100) sich hingegen auf dem Lösungsabdeckungsablöseabschnitt (2b) aufhält, die Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung (21) die Verschlussstruktur dann in Substrat (100) und Lösungsabdeckung (200) auflöst und die Lösungsabdeckung (200) vom Lösungsabdeckungsablöseabschnitt (2b) auf den Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt (2a) transportiert, wobei der Lösungsabdeckungsablöseabschnitt (2b) und der Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt (2a) jeweils die antransportierten Substrate (100) entgegennehmen.

Description

TECHNISCHES GEBIET
Betroffen ist hier ein Verarbeitungssystem und -verfahren zur Verarbeitung von Substraten, insbesondere ein Verarbeitungssystem und -verfahren, mit denen der Lösungsverbrauch deutlich reduziert wird und sich die Homogenität der Dünnschicht bei der Abscheidung steigern lässt.
STAND DER TECHNIK
Heutzutage hat sich die Elektronikindustrie bereits sehr weit entwickelt, und zur Herstellung vieler elektronischer Produkte werden physische bzw. chemische Abscheidungsverfahren eingesetzt. Außerdem stehen der Menschheit noch viele Probleme, hervorgerufen durch Erdölmangel, hohen Kostenaufwand sowie Umweltschutz bevor. Dies hat dazu geführt, dass der Solarenergie und der Wasserstoffbrennstoffzelle immer mehr Bedeutung zukommt. Bei dem Herstellungsprozess der Solarzellen müssen auf dem Substrat mehrere Dünnschichten abgeschieden werden, sodass die Solarzellen später auch richtig funktionieren können. Es ist somit nicht schwer zu erkennen, dass das Abscheidungsverfahren eine der Schlüsseltechnologien für die Elektronikindustrie ist.
Bekannterweise ist die chemische Badabscheidung (Chemical Bath Deposition CBD) zuzüglich ihrer Verarbeitungsverfahren und Geräte eines der wichtigsten Abscheidungsverfahren. Dabei wird das zu verarbeitende Substrat (rostfreier Stahl usw.) für eine bestimmte Zeit in eine chemische Lösung eingetaucht, sodass auf der Oberfläche des Substrats eine halbleitende Dünnschicht sich ausbildet. Bei den üblichen CBD - Anlagen werden die Substrate vollständig ins Bad der chemischen Lösung eingetaucht. Dies hat zur Folge, dass sich auf beiden Seiten der Substrate Dünnschichten ausbilden, wohingegen nur eine der beiden Schichten tatsächlich zum Einsatz kommt. Das führt zu einer Ressourcenverschwendung und erhöht zugleich die Herstellungskosten.
Deshalb liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine Anlage zur chemischen Badabscheidung zu schaffen, mit der auf einem flexiblen Substrat nur einseitig die chemische Abscheidung erfolgt, und mit der auch jederzeit ein Aufwärmverfahren möglich ist.
Die Patentanmeldungsveröffentlichung DE 10 2005 025 123 A1 offenbart ein Verfahren und eine Einrichtung zur nasschemischen Behandlung von großflächigen Substraten, insbesondere zur Herstellung von Solarzellen, wobei ein Substrat von einer Prozesszelle zur nasschemischen Behandlung aufgenommen wird und die Prozesszelle mittels einer verfahrbaren Hubeinrichtung von einer Station zur nächsten gefahren wird.
In der Gebrauchsmusterschrift CN 2 02 359 199 U ist eine Transportvorrichtung für einen Lösungsbehälter beschrieben, in den ein Substrat zur chemische Badabscheidung aufgenommen ist. Die Transportvorrichtung umfasst ein vertikal auslenkbares Rollenlager für den Lösungsbehälter, mit welchem der Lösungsbehälter in eine Flüssigkeit zur Einstellung der Temperatur für die chemische Badabscheidung innerhalb des Lösungsbehälters abgesenkt werden kann.
GEGENSTAND DER ERFINDUNG
Die wesentliche Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, ein Verarbeitungssystem zur Abscheidung von Dünnschichten für Solarzellensubstrate zur Verfügung zu stellen.
Die Aufgabe wird gelöst durch ein Dünnschichtverarbeitungssystem mit den Merkmalen des Anspruches 1 sowie ein Dünnschichtverarbeitungsverfahren mit den Merkmalen des Anspruches 14. Weitere Ausgestaltungen des Dünnschichtverarbeitungssystems und des Dünnschichtverarbeitungsverfahrens sind Gegenstand der abhängigen Ansprüche.
Dabei soll mit Hilfe einer Lösungsabdeckung sowie eines Substratverschlusses ein räumlich eingegrenzter hermetischer Lösungsbehälter bereitgestellt werden, so dass nur die Lösungsmenge eingeleitet werden muss, die gerade gleichmäßig verteilt die Substratoberfläche abdeckt. Anschließend wird der Lösungsmittelbehälter einer Wärmebehandlung unterzogen, sodass die Lösung sich mit guter Homogenität auf der Substratoberfläche abscheidet, was auch eine große Einsparung an chemischer Lösung bedeutet. Ferner besteht zwischen der Lösung im Lösungsbehälter und der Substratoberfläche immer ein guter Kontakt, sodass die auf der Substratoberfläche abgeschiedene Dünnschicht eine örtlich bessere Homogenität aufweist.
Das Verarbeitungssystem zur Abscheidung von Dünnschichten für Solarzellensubstrate ist in der Lage, die am Ausgang des Substratverarbeitungssystems ausgegebene Lösungsabdeckung wieder zum Eingang des Substratverarbeitungssystems zurückzubefördern, damit die Lösungsabdeckung so zyklisch verwendet wird, was auch zu einer drastischen Reduzierung der verbrauchten Lösung und einer verbesserten Verarbeitungseffizienz führt.
Bei dem Verarbeitungsverfahren zur Abscheidung von Dünnschichten auf einer Substratoberfläche kann vorgesehen sein, dass die Substrate auch gewaschen und abgetrocknet werden. Dabei wird eine Lösungsabdeckung auf eine Nichtgebrauch - Zone des Substrats aufgesetzt, sodass eine hermetische Verschlussstruktur mit begrenztem Innenraum ausgebildet wird, woraufhin die Lösung eingelassen und auf die Verarbeitungszone gleichmäßig verteilt wird, anschließend wird der befüllte Lösungsbehälter einer Wärmebehandlung unterzogen, sodass sich eine Dünnschicht auf der Substratoberfläche abscheidet. Nach der Abscheidung wird die übrig gebliebene Lösung abgegossen und die befestigende Verbindung zwischen der Lösungsabdeckung und dem Substrat gelöst und die Lösungsabdeckung im Anschluss vom Substrat abgenommen und dem nächsten zu verarbeitenden Substrat zur Verfügung gestellt. Außerdem wird das verarbeitete Substrat, dessen Verbindung mit der Lösungsabdeckung bereits gelöst worden ist, gewaschen und abgetrocknet.
Dabei lässt sich mit Hilfe von Salzsäure die auf der Lösungsabdeckung anhaftende Lösung abwaschen und durch sauberes Wasser abspülen, sodass diese Lösungsabdeckung an das nächste Substrat weitergegeben werden kann.
Figurenliste

Die 1 zeigt schematisch die Verbindung zwischen den verschiedenen Systemeinheiten des Dünnschichtverarbeitungssystems für die chemische Badabscheidung bei Solarzellensubstraten gemäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel.
Die 2A zeigt eine schematische Draufsicht auf das Substrat von dem Dünnschichtverarbeitungssystem bei der chemischen Badabscheidung auf ein Solarzellensubstrat gemäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel.
Die 2B zeigt eine schematische Seitenansicht des Dünnschichtverarbeitungssystems bei der chemischen Badabscheidung auf ein Solarzellensubstrat.
Die 3 zeigt eine schematische Draufsicht auf das Dünnschichtverarbeitungssystem bei der chemischen Badabscheidung auf Solarzellensubstrate gemäß dem Ausführungsbeispiel.
Die 4 zeigt eine Querschnittansicht der Gesamtheit, gebildet durch das Zusammenstecken von Lösungsabdeckung und Substrat gemäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel.
Die 5 zeigt die schematische Ansicht der Lösungsbereitstellungseinheit des Dünnschichtverarbeitungssystems bei der chemischen Badabscheidung auf Solarzellensubstraten gemäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel.
Die 6 zeigt die schematische Ansicht der Einheit zur chemischen Badabscheidung des Dünnschichtverarbeitungssystems bei der chemischen Badabscheidung auf Solarzellensubstraten gemäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel.
Die 7 zeigt das Zustandsschema des in der Einheit zur chemischen Badabscheidung befindlichen Lösungsbehälters gemäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel.
Die 8 zeigt die schematische Ansicht der Lösungsabflusseinheit des Dünnschichtverarbeitungssystems bei der chemischen Badabscheidung auf Solarzellensubstraten gemäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel.
Die 9 zeigt die schematische Ansicht der Lösungsabflusseinheit im geneigten Zustand.
Die 10 zeigt das Ansichtsschema eines vorzugsweise verwendeten Ausführungsbeispiels eines Dünnschichtverarbeitungssystems bei der chemischen Badabscheidung auf Solarzellensubstraten.
Die 11 zeigt den Ablaufplan des Dünnschichtverarbeitungsverfahrens bei der chemischen Badabscheidung auf Solarzellensubstraten.

Im Folgenden wird anhand der Figuren detailliert auf das erfindungsgemäße Ausführungsbeispiel eingegangen, sodass die sich damit gut auskennenden Fachleute nach dem Studium der vorliegenden Patentschrift auch in der Lage sind, diese umzusetzen.
Es sei zunächst auf die erste Figur des erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiels verwiesen, die das Verbindungsschema der einzelnen Einheiten des Verarbeitungssystems gemäß dem Abscheidungsverfahren zur Erzeugung von Dünnschichten auf Solarzellensubstraten zeigt. Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verarbeitungssystem zur Erzeugung von Dünnschichten auf Solarzellensubstraten nach einem Abscheidungsverfahren, welches eine kontinuierliche Abscheidung zur Erzeugung von Dünnschichten auf Solarzellensubstraten und insbesondere auch eine drastische Reduzierung von Lösungsverbrauch ermöglicht. Gleichzeitig lässt sich auch für eine gute Homogenität bei dem Abscheidungsverfahren sorgen.
Das erfindungsmäßige Solarzellensubstratverarbeitungssystem umfasst eine Substratvorwascheinheit 1, eine Lösungsabdeckung - Transporteinheit 2, eine Lösungsbereitstellungseinheit 3, eine chemische Badabscheidungseinheit 5, eine Lösungsabflusseinheit 6 sowie eine Substratendwascheinheit. In anderen erfindungsgemäßen Ausgestaltungsformen kann das Solarzellensubstratverarbeitungssystem auch nur eine Einheit davon oder andere Kombinationen sowie andere Einheiten, die vorhin nicht genannt wurden, aufweisen.
Aus der 2A ist eine der erfindungsgemäßen Ausgestaltungsformen ersichtlich. Dabei handelt es sich schematisch um das Dünnschichtverarbeitungssystem bei der chemischen Abscheidung auf Solarzellensubstraten. Es sei noch auf die 2B hingewiesen, welche der Seitenansicht der 2A entspricht.
Die Substratvorwascheinheit fertigt die zu verarbeitenden Substrate 100, die später den chemischen Badabscheidungsprozess durchlaufen werden, ab und transportiert die vorgewaschenen und abgetrockneten Substrate 100 weiter. Das Substrat 100 weist eine Nichtgebrauch - Zone 110a und eine Verarbeitungszone 110b auf. Die Nichtgebrauch - Zone ist die Randfläche des Substrats 100, die von der chemischen Badabscheidung unbeeinflusst bleibt. Die Verarbeitungszone ist die restliche Fläche des Substrats 100, die nicht von der Nichtgebrauch - Zone abgedeckt ist.
Aus der 3 geht ein Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung hervor. Dabei handelt es sich um die gesamte Übersicht des Dünnschichtverarbeitungssystems für eine chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten. Zum Vergleich sollte weiterhin die 1 herangezogen werden. Dabei weist die Substratvorwascheinheit 1 mindestens eine Reinigungsvorrichtung 1a sowie mindestens eine Trocknungsvorrichtung 1b auf. Bei der mindestens einen Reinigungsvorrichtung 1a mag es sich um einen Luftschleier (air curtain), eine Luftansaugeinheit, eine Rollenbürste mit Zerstäuber, eine Spritzdüse zum Aufspritzen von destilliertem Wasser, ein Luftmesser oder andere geeigneten Reinigungsvorrichtungen handeln. Die Trocknungsvorrichtung 1b dient der Abtrocknung der vorgewaschenen Substrate 100. Bei der mindestens einen Trocknungsvorrichtung kann es sich um ein Luftmesser oder andere geeigneten Trocknungsvorrichtungen handeln.
Es sei weiterhin auf die 4, die das Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung darstellt, hingewiesen. Aus der 4 geht eine seitliche Querschnittsansicht der Kombination aus Lösungsabdeckung und Substrat nach dem Zusammenstecken hervor. Es sollen zum Vergleich 1 sowie 3 herangezogen werden. In dem vorliegenden Ausführungsbeispiel weist die Lösungsabdeckung - Transporteinheit 2 eine Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung 21 und zwei Schienen 23 auf, wobei die zwei Schienen 23 parallel angeordnet sind und an den beiden Enden der Schienen 23 jeweils ein Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt 2a und ein Lösungsabdeckungsablöseabschnitt 2b vorgesehen sind. Die Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung 21 befindet sich sodann zwischen den zwei Schienen 23 und bewegt sich hin und her auf den Schienen 23 um die Lösungsabdeckung 200 zu transportieren. Dabei kann es sich bei der Lösungsabdeckung - Transporteinheit 2 um einen Roboter handeln und der Roboter kann auch ein Vakuum - Roboter sein.
Wenn das Substrat 100 sich auf dem Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt 2a aufhält, transportiert die Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung 21 die Lösungsabdeckung 200 auf die Nichtgebrauch - Zone 110a des Substrats 100, sodass ein hermetischer Verschluss zwischen der Lösungsabdeckung 200 und dem Substrat 100 hergestellt wird. Wenn das Substrat 100 sich hingegen auf dem Lösungsabdeckungsablöseabschnitt 2b befindet, hebt die Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung 21 den Verschluss zwischen der Lösungsabdeckung 200 und dem Substrat 100 auf und bringt die Lösungsabdeckung 200 vom Lösungsabdeckungsablöseabschnitt 2b auf den Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt 2a.
Dabei nimmt der Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt 2a das von der Substratvorwascheinheit 1 her transportierte Substrat 100 entgegen und transportiert die Lösungsabdeckung 200 und das Substrat 100, welches mit der Lösungsabdeckung 200 hermetisch verbunden ist, weiter. Die Verbindung zwischen der Lösungsabdeckung 200 und dem Substrat 100 lässt sich durch eine auf der Lösungsabdeckung angeordnete Kupplungsvorrichtung erreichen. Dabei lässt sich die Kupplungsvorrichtung direkt oder indirekt durch die Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung 21 ansteuern, sodass das Aufsetzen der Lösungsabdeckung 200 auf das Substrat 100 bzw. die Ablösung der Lösungsabdeckung 200 vom Substrat 100 möglich sind. Der Übersichtlichkeit halber wird hier in der Offenlegungsschrift nicht weiter darauf eingegangen.
Die Lösungsabdeckung 200 weist mindestens einen Lösungszufluss 210 sowie mindestens einen Lösungsabfluss 220 auf. Die Lösungsabdeckung 200 hat ausschließlich nur eine Ankontaktierung an die Nichtgebrauch - Zone 110a des Substrats 100. Die Lösungsabdeckung 200 und das Substrat umschließen gemeinsam einen Verschlussraum 310. Während des chemischen Abscheidungsprozesses enthält der Verschlussraum 310 die Lösung zur Badabscheidung. Dabei wird die Kombistruktur zwischen der Lösungsabdeckung 200 und dem Substrat 100, durch welche der hermetisch umschlossene Verschlussraum 310 zustande kommt, als Lösungsbehälter 300 definiert.
Aus der 5 geht das erfindungsgemäße Ausführungsbeispiel hervor. Dabei handelt es sich schematisch um die Lösungsbereitstellungseinheit 3 des Solarzellendünnschichtverarbeitungssystems während der Abscheidung. Die Lösungsbereitstellungseinheit 3 nimmt vom Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt 2a her transportierte Lösungsbehälter 300 entgegen und leitet die Lösung 4 in den Lösungsbehälter 300 ein, sodass die Verarbeitungszone 110b des Substrats 100 vollkommen von der Lösung 4 überdeckt wird, wobei die Lösungsbereitstellungseinheit 3 eine Lösungsbereitstellungsvorrichtung 31, welche durch den Lösungszufluss 210 die Lösung 4 in den Lösungsbehälter 300 einleitet, aufweist. Es ist noch zu beachten, dass im Vergleich zu den aus dem Stand der Technik bekannten chemischen Badabscheidungsverfahren das in der vorliegenden Erfindung offenbarte Verfahren nicht eine Unmenge von Lösung verbraucht. Es muss nur auf dem Substrat 100 eine gewisse Dosis zur Verfügung gestellt werden. Das ist darauf zurückzuführen, dass unter Zuhilfenahme des von der vorliegenden Erfindung offenbarten Verfahrens die Lösung sich nur auf der Verarbeitungszone 110b des Substrats 100, auf der später der chemische Badabscheidungsprozess stattfinden soll, aufhält.
Es sei weiterhin auf die 6 der vorliegenden Erfindung hingewiesen. Dabei ist schematisch eine Einheit zur chemischen Badabscheidung des erwähnten Dünnschichtverarbeitungssystems für Solarzellensubstrate ersichtlich. Es sollte zum Vergleich die 7 des erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiels, wo schematisch die Zustandsansicht des in der chemischen Badabscheidungseinheit befindlichen Lösungsbehälters 300 abgebildet ist, herangezogen werden. Die Einheit zur chemischen Badabscheidung dient zur Aufnahme sowie Weiterbeförderung des Lösungsbehälters 300, in den bereits Lösung 4 eingeleitet worden ist. Während der Beförderung der hermetischen Verschlussstruktur wird der Lösungsbehälter 300 einem Aufwärmprozess unterzogen, um den Lösungsbehälter 300 aufzuwärmen. Somit findet in der Lösung 4 die chemische Abscheidung auf der Verarbeitungszone 110b des Substrats 100 statt und die chemische Lösung 4 scheidet die Dünnschicht auf der Verarbeitungszone 110b des Substrats 100 ab. Nach dem Entstehen der Dünnschicht transportiert die chemische Badabscheidungseinheit 5 den Lösungsbehälter 300 weiter.
Dabei setzt sich die chemische Badabscheidungseinheit aus einer Fördervorrichtung 51 und einem Warmwasserbecken 53 zusammen, wobei die Fördervorrichtung 51 in dem Warmwasserbecken 53 angeordnet ist, um den von der Lösungsbereitstellungseinheit 3 her transportierten Lösungsbehälter 300 aufzunehmen. Vorteilhafterweise ist das Warmwasserbecken 53 als eine in sich verschlossene Badstruktur ausgeführt. In dem Warmwasserbecken 53 befindet sich ein Warmwasserbad 531, welches u.a. eine Füllstandsoberfläche 5311 umfasst. Die Temperatur des Warmwasserbades 531 wird durch einen Erhitzer (nicht in den Figuren abgebildet) geregelt. Der Aufwärmprozess läuft so ab, dass der Lösungsbehälter 300 während der Beförderung auf der Fördervorrichtung 51 durch das Warmwasserbad 531 aufgewärmt wird.
Dabei darf die Füllstandsoberfläche 5311 bezüglich des Füllstandspegels sowohl den mindestens einen Lösungszufluss 210 als auch den mindestens einen Lösungsabfluss 220 nicht überschreiten, sodass verhindert wird, dass das Warmwasser in den Lösungsbehälter 300 eindringt. Wie aus der 7 ersichtlich ist, bleibt der untere Teil des Lösungsbehälters 300 in dem Warmwasserbad 531 eingetaucht und die oberhalb des Substrats 100 befindliche Lösung 4 wird direkt durch das unterhalb des Substrats 100 ansässige Warmwasserbad 531 aufgewärmt, sodass die chemische Reaktion der chemischen Lösung 4 stabilisiert wird und die Dünnschichtabscheidung so verbreiteter stattfindet und die Dicke der Dünnschicht auch homogener wird. Dabei kann das Warmwasserbecken in geschlungener Form beispielsweise in Form eines auf den Kopf gestellten Buchstabens „U“ ausgeführt sein. An den rechtwinkligen Ecken der Fördervorrichtung sind Drehvorrichtungen (nicht in den Figuren abgebildet) angeordnet, sodass der Lösungsbehälter 300 sich mit Kurvenfahrt auf den Lösungsabdeckungsablöseabschnitt 2b zu bewegt.
Aus der 8 des erfindungsmäßigen Ausführungsbeispiels ist die Lösungsabflusseinheit des Dünnschichtverarbeitungssystems für die chemische Badabscheidung bei Solarzellensubstraten ersichtlich. Zum Vergleich soll die 9 des erfindungsmäßigen Ausführungsbeispiels herangezogen werden, in welchem die Lösungsabflusseinheit im geneigten Zustand schematisch dargestellt wird. Nachdem die Lösungsabflusseinheit 6 von der Einheit zur chemischen Badabscheidung 5 den Lösungsbehälter 300 entgegengenommen hat, hält sich der Lösungsbehälter 300 auf der Lösungsabflusseinheit 6 auf und die in dem Lösungsbehälter 300 befindliche chemische Lösung 4 wird durch den Lösungsabfluss 220 ausgegossen, wobei die Lösungsabflusseinheit eine Transportplattform 61, eine Befestigungsdrehachse 63 sowie eine Hubvorrichtung 65 aufweist. Unterhalb der Transportplattform 61 ist die Befestigungsdrehachse 63 in der Mitte angeordnet, wo ebenfalls Befestigungsstangen 631 vorgesehen sind, mit denen man die feste Drehachse 63 befestigt, unterhalb der Transportplattform 61 ist unten seitlich an dem Lösungsabfluss 220 die Hubvorrichtung 65 angeordnet.
Wenn der Lösungsbehälter 300 auf der Transportplattform 61 ankommt und dort stillsteht, wird durch die Hubvorrichtung 65 die Transportplattform 61 auf der Seite des Lösungsabflusses 220 soweit herabgesetzt, bis die Lösung durch den Lösungsabfluss 220 abfließt (wie der Pfeil in der 9 andeutet). Um die Lösung 4 leichter abfließen zu lassen, wird die Seitenwand seitens des Lösungsabflusses 220 des Lösungsbehälters als eine gekrümmte Fläche ausgeführt (siehe 9). Des Weiteren lässt sich in unmittelbarer Nähe der Lösungsabflusseinheit 6 ein Recyclingbehälter 67 vorsehen. Dabei muss der Recyclingbehälter 67 genau dort angeordnet sein, wo die chemische Lösung durch den Lösungsabfluss 220 abfließt, sodass die Lösung 4 zur Wiederverwertung recycelt wird.
Es ist noch zu beachten, dass in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel die Lösungsabdeckung - Transporteinheit 2 sich in dem in geschlungener Form ausgeführten Substratverarbeitungssystem drinnen befindet und kein zusätzlicher Raumbedarf besteht. Außerdem bewegt sich die Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung 21 translatorisch hin und her und die Wiederverwendbarkeit der Lösungsabdeckung 200 erhöht sich. Daraus ergibt sich eben eine gesteigerte Effizienz. Die Substratendwaschvorrichtung 9 dient zur Säuberung und Trocknung des vom Lösungsabdeckungsablöseabschnitt 2b her transportierten Substrats 100.
Es sei noch auf die 10 des erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiels hingewiesen, wo ein vorzugsweise verwendetes Ausführungsbeispiel des Dünnschichtverarbeitungssystems bei der chemischen Badabscheidung des Solarzellensubstrats schematisch veranschaulicht wird. Das erfindungsmäßige Ausführungsbeispiel des Dünnschichtverarbeitungssystems bei der chemischen Badabscheidung auf Solarzellensubstraten kann weiterhin noch eine Substratabspülvorrichtung 7 umfassen. Die Substratabspülvorrichtung 7 ist auf dem Lösungsabdeckungsablöseabschnitt angeordnet und dient dazu, dass nachdem die Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung 21 die Lösungsabdeckung 200 von dem Substrat 100 abgelöst hat, das Substrat 100 auch abgespült wird, sodass die übrig gebliebene Lösung 4 auch von dem Substrat 100 entfernt wird.
Außerdem kann das eine gute Kontinuität aufweisende Dünnschichtverarbeitungssystem für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten ein Lösungsabdeckungsabwaschbecken 10 sowie ein Lösungsabdeckungsreinigungsbecken 20 aufweisen, wobei sich in dem Lösungsabdeckungsabwaschbecken 10 ein Salzsäurebad befindet und wobei es sich bei dem Lösungsabdeckungsreinigungsbecken 20 um ein Klarwasserbad handelt. Das Lösungsabdeckungsabwaschbecken 10 und das Lösungsabdeckungsreinigungsbecken 20 sind zwischen dem Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt 2a und dem Lösungsabdeckungsablöseabschnitt 2b angeordnet. Somit durchläuft die Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung 21 der Reihe nach erst das Lösungsabdeckungsabwaschbecken 10 und anschließend das Lösungsabdeckungsreinigungsbecken 20, wobei mit dem Salzsäurebad die an der Lösungsabdeckung 200 anhaftende Lösung 4 erst entfernt wird und anschließend durch das Klarwasserbad die Lösungsabdeckung 200 auch abgespült wird.
Es sei noch auf die 11 des erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiels hingewiesen, wobei dort der Ablaufplan des Dünnschichtverarbeitungssystems für die chemische Badabscheidung bei Solarzellensubstraten vorgestellt wird. Anhand des eine gute Kontinuität aufweisenden Dünnschichtverarbeitungssystems für die chemische Badabscheidung bei Solarzellensubstraten wird auch in dem vorliegenden Ausführungsbeispiel ein geeignetes Dünnschichtverarbeitungsverfahren bei der chemischen Badabscheidung des Solarzellensubstrats offenbart. Wie aus dem Schritt S10 der 11 hervorgeht, wird das Substrat 100 zuerst gereinigt und abgetrocknet. Das Substrat 100 umfasst eine Nichtgebrauch - Zone 110a und eine Verarbeitungszone 110b, wobei die Nichtgebrauch - Zone 110a diejenige Fläche des Substrats 100 ist, auf die der chemische Abscheidungsprozess keinen Einfluss hat, und wobei die Fläche, die nicht von der Nichtgebrauch - Zone 110a abgedeckt ist, die Verarbeitungszone genannt wird (siehe 2A sowie 2B).
Wie anschließend aus dem Schritt S20 der 11 ersichtlich ist, wird eine Lösungsabdeckung 200 auf die Nichtgebrauch - Zone 110a des Substrats aufgesetzt und ein hermetischer Kontakt zwischen der Lösungsabdeckung 200 und dem Substrat 100 hergestellt. Infolgedessen bildet sich eine mit einem Verschlussraum 310 ausgestattete Verschlussstruktur heraus, wobei die Lösungsabdeckung 200 mindestens einen Lösungszufluss 210 sowie mindestens einen Lösungsabfluss 220 aufweist. Die Kombistruktur der Lösungsabdeckung 200 und des Substrats 100, durch die ein hermetischer Verschlussraum umgeben wird, wird als der Lösungsbehälter 300 definiert. Für das Ergebnis soll hier auf die 4 hingewiesen werden.
Wie weiterhin aus dem Schritt S30 der 11 hervorgeht, wird die Lösung erst in den Lösungsbehälter 300 eingeleitet, bis die Verarbeitungszone 110b des Substrats 100 flächendeckend von der Lösung 4 abgedeckt wird. Als Ergebnis soll die 5 betrachtet werden. Danach wird der Lösungsbehälter 300, in den bereits Lösung 4 eingeleitet worden ist, wie man im Schritt S40 der 11 feststellt, einer Aufwärmbehandlung unterzogen, um zu bewirken, dass eine Dünnschicht auf der Verarbeitungszone 110b des Substrats 100 abgeschieden wird.
Nachfolgend wird der Schritt S50 der 11 betrachtet. Nach der Abscheidung der Dünnschicht muss die Lösung 4 aus dem Lösungsbehälter 300 abgegossen werden. In Anschluss daran erfolgt der Schritt S60 der 11, wo der Kontakt zwischen der Lösungsabdeckung 200 und dem Substrat 100 dann aufgelöst wird. Danach vollzieht sich der Schritt S70 der 11, bei dem die Lösungsabdeckung 200 von dem Substrat 100 abgelöst wird und dem nächsten zu verarbeitenden Substrat 100 zur Verfügung gestellt wird. Abschließend erfolgt der letzte Schritt S 80 der 11, wo das bereits von der Lösungsabdeckung 200 abgetrennte Substrat 100 dann gereinigt sowie abgetrocknet wird.
Dabei wird das heraus genommene Substrat 100 zuerst in das Lösungsabdeckungsabwaschbecken 10 zum Entfernen der an dem Substrat 100 anhaftenden Lösung 4 eingetaucht und abgespült und anschließend dann in das Lösungsabdeckungsreinigungsbecken 20 eingelegt, um die Lösungsabdeckung 200 gründlich abzuspülen, sodass die Lösungsabdeckung 200 auch einsatzbereit für das nächste zu verarbeitende Substrat 100 sein wird, wobei das Lösungsabdeckungsabwaschbecken 10 ein Salzsäurebad in sich hat und es sich beim Lösungsabdeckungsreinigungsbecken 20 um ein Klarwasserbad handelt.
Bezugszeichenliste

1: Substratvorwascheinheit
1a: Reinigungsvorrichtung
1b: Trocknungsvorrichtung
2: Lösungsabdeckung - Transporteinheit
21: Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung
23: Schienen
2a: Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt
2b: Lösungsabdeckungsablöseabschnitt
7: Substratabspülvorrichtung
3: Lösungsbereitstellungseinheit
31: Lösungsbereitstellungsvorrichtung
4: Lösung
5: Einheit zur chemischen Abscheidung
51: Fördervorrichtung
53: Warmwasserbecken
531: Warmwasserbad
5311: Füllstandsoberfläche
6: Lösungsabflusseinheit
61: Transportplattform
63: Befestigungsdrehachse
631: Befestigungsstange
65: Hubvorrichtung
67: Lösungsrecyclingbehälter
9: Substratendwascheinheit
10: Lösungsabdeckungsabwaschbecken
20: Lösungsabdeckungsreinigungsbecken
100: Substrat
110a: Nichtgebrauch - Zone
110b: Verarbeitungszone
200: Lösungsabdeckung
210: Lösungszufluss
220: Lösungsabfluss
300: Lösungsbehälter
310: Verschlussraum

Claims

Dünnschichtverarbeitungssystem für eine chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten zur Behandlung von Substraten (100), wobei das Substrat (100) eine Nichtgebrauch - Zone (110a) und eine Verarbeitungszone (110b) umfasst, wobei die Nichtgebrauch - Zone (110a) eine Randfläche des Substrats (100) ist, auf die der chemische Abscheidungsprozess keinen Einfluss hat, und wobei es sich bei der Verarbeitungszone (11 0b) um eine Fläche des Substrats (100) handelt, die nicht von der Nichtgebrauch - Zone (110a) abgedeckt ist, und wobei das Substrat (100) während der chemischen Badabscheidung einen hermetischen Kontakt mit einer Lösungsabdeckung (200) aufweist und eine einen Verschlussraum (310) aufweisende Verschlussstruktur zusammen mit der Lösungsabdeckung (200) ausbildet, wobei sich während der Abscheidung in dem Verschlussraum (310) eine Lösung (4) sowie eine Dünnschicht befindet, wobei das Dünnschichtverarbeitungssystem umfasst: eine Lösungsbereitstellungseinheit (3), welche dazu dient, eine Lösung (4) in eine antransportierte Verschlussstruktur einzuleiten, sodass die Verarbeitungszone (110b) des Substrats (100) flächendeckend von der Lösung (4) abgedeckt ist; eine Einheit zur chemischen Badabscheidung (5), welche hinter der Lösungsbereitstellungseinheit (3) angeordnet ist und die von der Lösungsbereitstellungseinheit (3) antransportierte Verschlussstruktur entgegennimmt und während der Weiterbeförderung der Verschlussstruktur die chemische Badabscheidung stattfinden lässt und nach der Entstehung der Dünnschicht dann die Verschlussstruktur weiter transportiert; sowie eine Lösungsabflusseinheit (6), welche hinter der Einheit zur chemischen Badabscheidung (5) angeordnet ist und die Verschlussstruktur von der Einheit zur chemischen Badabscheidung (5) entgegennimmt und die in der Verschlussstruktur befindliche Lösung (4) dann abgießt, und eine Lösungsabdeckung - Transporteinheit (2), welche vor der Lösungsbereitstellungseinheit (3) und hinter der Lösungsabflusseinheit (6) angeordnet ist und die Lösungsabdeckung (200), bevor das Substrat (100) an der Lösungsbereitstellungseinheit (3) ankommt, auf die Nichtgebrauch - Zone (110a) des Substrats (100) aufsetzt, sodass zwischen der Lösungsabdeckung (200) und dem Substrat (100) eine hermetische Verschlussstruktur, welche noch den Verschlussraum (310) in sich hat, entsteht, wohingegen nachdem das Substrat (100) die Lösungsabflusseinheit (6) verlassen hat, die Verschlussstruktur dann in Substrat (100) und Lösungsabdeckung (200) aufgelöst wird und die Lösungsabdeckung (200) dann vor die Lösungsbereitstellungseinheit (3) transportiert wird, um weiterhin Verschlussstrukturen mit Substraten (100) zu bilden, wobei die Lösungsabdeckung - Transporteinheit (2) eine Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung (21), Schienen (23), einen Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt (2a) und einen Lösungsabdeckungsablöseabschnitt (2b) umfasst, wobei die Schienen (23) an den beiden Enden jeweils mit dem Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt (2a) und dem Lösungsabdeckungsablöseabschnitt (2b) verbunden sind, und wobei der Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt (2a) und der Lösungsabdeckungsablöseabschnitt (2b) jeweils mit der Lösungsbereitstellungseinheit (3) und der Lösungsabflusseinheit (6) verbunden sind, und wobei die Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung (21) zwischen den beiden Enden der Schienen (23) angeordnet ist und sich zwischen den beiden Enden hin und her bewegt, und wobei, wenn das Substrat (100) sich auf dem Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt (2a) aufhält, die Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung (21) dann die Lösungsabdeckung (200) auf die Nichtgebrauch - Zone (110a) des Substrats (100) aufsetzt, sodass sich zwischen der Lösungsabdeckung (200) und dem Substrat (100) eine hermetische Verschlussstruktur ausbildet; und wobei, wenn das Substrat (100) sich hingegen auf dem Lösungsabdeckungsablöseabschnitt (2b) aufhält, die Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung (21) die Verschlussstruktur dann in Substrat (100) und Lösungsabdeckung (200) auflöst und die Lösungsabdeckung (200) vom Lösungsabdeckungsablöseabschnitt (2b) auf den Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt (2a) transportiert, wobei der Lösungsabdeckungsablöseabschnitt (2b) und der Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt (2a) jeweils die antransportierten Substrate (100) entgegennehmen.
Dünnschichtverarbeitungssystem für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten nach Anspruch 1, wobei zwischen dem Lösungsabdeckungsablöseabschnitt (2b) und dem Lösungsabdeckungsbefestigungsabschnitt (2a) weiterhin ein Lösungsabdeckungsabwaschbecken (10) und ein Lösungsabdeckungsreinigungsbecken (20) angeordnet sind, wobei das Lösungsabdeckungsabwaschbecken (10) ein Salzsäurebad in sich aufweisen und es sich beim Lösungsabdeckungsreinigungsbecken (20) um ein Klarwasserbad handelt, wobei die Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung (21) die Lösungsabdeckung (200) der Reihe nach erst in das Lösungsabdeckungsabwaschbecken (10) und dann in das Lösungsabdeckungsreinigungsbecken (20) eintaucht, sodass die Lösungsabdeckung (200) erst durch Salzsäure von der anhaftenden Lösung (4) abgetrennt und dann im Klarwasserbad gründlich abgespült wird.
Dünnschichtverarbeitungssystem für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten nach Anspruch 1, wobei es sich bei der Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung (21) sowohl um einen Roboter als auch um einen Vakuum - Roboter handeln kann.
Dünnschichtverarbeitungssystem für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten nach Anspruch 1, wobei die Lösungsabdeckung - Transporteinheit (2) darüber hinaus noch eine Substratabspülvorrichtung (7), welche an dem Lösungsabdeckungsablöseabschnitt (2b) angeordnet ist, aufweist, wobei die Substratabspülvorrichtung (7) nachdem die Lösungsabdeckung - Transportvorrichtung (21) die Lösungsabdeckung (200) von dem Substrat (100) abgenommen hat, das Substrat (100) gründlich abspült, um die übrig gebliebene Lösung (4) vom Substrat (100) zu entfernen.
Dünnschichtverarbeitungssystem für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten nach Anspruch 1, wobei die zwei Schienen (23) der Lösungsabdeckung - Transporteinheit (2) parallel angeordnet sind und sich darauf die Lösungsabdeckung-Transportvorrichtung (21) befindet.
Dünnschichtverarbeitungssystem für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten nach Anspruch 1, welches noch umfasst: eine Substratvorwascheinheit (1), welche vor der Lösungsbereitstellungseinheit (3) sitzt, um das Substrat (100) vorzuwaschen und abzutrocknen; sowie eine Substratendwascheinheit (9), welche hinter der Lösungsabflusseinheit (6) sitzt, um das Substrat (100) zu reinigen und abzutrocknen.
Dünnschichtverarbeitungssystem für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten nach Anspruch 6, wobei die Substratvorwascheinheit (1) noch umfasst: mindestens eine Reinigungsvorrichtung (1a), bei der es sich mindestens um eine Form von folgenden Reinigungsvorrichtungen (1a) handelt: Luftschleier, Luftansaugeinheit, Rollenbürste mit Zerstäuber, Spritzdüse zum Aufspritzen von destilliertem Wasser, Luftmesser oder andere geeigneten Reinigungsvorrichtungen (1a).
Dünnschichtverarbeitungssystem für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten nach Anspruch 1, wobei die Einheit zur chemischen Badabscheidung (5) darüber hinaus noch eine Fördervorrichtung (51) und ein Warmwasserbecken (53) umfasst, wobei die Fördervorrichtung (51) in dem Warmwasserbecken (53) angeordnet ist und das Warmwasserbecken (53) in sich ein Warmwasserbad (531) aufweist, sodass während der Beförderung der Verschlussstruktur die Verschlussstruktur auch aufgewärmt wird.
Dünnschichtverarbeitungssystem für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten nach Anspruch 8, wobei das Warmwasserbecken (53) in einer geschlungenen Form ausgeführt ist.
Dünnschichtverarbeitungssystem für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten nach Anspruch 1, wobei die Lösungsabdeckung (200) mindestens einen Lösungszufluss (210) sowie mindestens einen Lösungsabfluss (220) aufweist, sodass, wenn die Verschlussstruktur sich auf der Lösungsabflusseinheit (6) aufhält, die Lösung (4) dann durch den Lösungsabfluss (220) abgegossen wird.
Dünnschichtverarbeitungssystem für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten nach Anspruch 10, wobei die seitlich an dem Lösungsabfluss (220) sowie einem Lösungsbehälter (300) befindliche Seitenwand als eine gekrümmte Form ausgeführt ist.
Dünnschichtverarbeitungssystem für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten nach Anspruch 11, wobei die Lösungsabflusseinheit (6) eine Rollentransportplattform (61), eine Befestigungsdrehachse (63) sowie eine Hubvorrichtung (65) aufweist, wobei unterhalb der Transportplattform (61) die feste Drehachse in der Mitte angeordnet ist, wobei dort ebenfalls Befestigungsstangen (631) vorgesehen sind, mit denen man die Befestigungsdrehachse (63) befestigt, wobei unterhalb der Transportplattform (61) unten seitlich an dem Lösungsabfluss (220) die Hubvorrichtung (65) angeordnet ist.
Dünnschichtverarbeitungssystem für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten nach Anspruch 11, wobei in unmittelbarer Nähe der Lösungsabflusseinheit (6) ein Recyclingbehälter (67) vorgesehen ist, wobei der Recyclingbehälter (67) genau dort angeordnet ist, wo die chemische Lösung (4) durch den Lösungsabfluss (220) abfließt.
Dünnschichtverarbeitungsverfahren für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten, welches umfasst: Bereitstellen eines Dünnschichtverarbeitungssystems nach Anspruch 1 zur Durchführung des Dünnschichtverarbeitungsverfahrens, Aufsetzen einer Lösungsabdeckung (200) auf eine Nichtgebrauch - Zone (110a) eines Substrats (100) mithilfe einer Lösungsabdeckung - Transporteinheit (2), wobei die Lösungsabdeckung (200) mit dem Substrat (100) in Kontakt steht, um eine hermetische Verschlussstruktur zu schaffen, welche einen Verschlussraum (310) in sich hat, Einleiten einer Lösung (4) in die Verschlussstruktur, sodass eine Verarbeitungszone (110b) des Substrats (100) flächendeckend von der Lösung (4) abgedeckt ist, Durchführen eines Abscheidungsprozesses in der Verschlussstruktur, um eine Dünnschicht auf der Verarbeitungszone (110b) des Substrats (100) abzuscheiden, sowie Abgießen der Lösung (4) aus der Verschlussstruktur nach einem Badabscheidungsprozess, Auflösen des Kontakts zwischen der Lösungsabdeckung (200) und dem Substrat (100) durch die Lösungsabdeckung - Transporteinheit (2), Weitertransportieren der Lösungsabdeckung (200), sodass die Lösungsabdeckung (200) dann dem als nächstes zu verarbeitenden Substrat (100) zur Bildung einer hermetischen Verschlussstruktur zur Verfügung steht.
Dünnschichtverarbeitungsverfahren für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten nach Anspruch 14, welches weiterhin umfasst: Reinigen sowie Abtrocknen von Substraten (100), Aufwärmen der in die Verschlussstruktur eingeleiteten Lösung, sodass eine Dünnschicht abgeschieden wird, sowie Abspülen und Abtrocknen des bereits von der Lösungsabdeckung (200) abgetrennten Substrats (100).
Dünnschichtverarbeitungsverfahren für die chemische Badabscheidung auf Solarzellensubstraten nach Anspruch 15, wobei die bereits abtransportierten Lösungsabdeckungen (200) der Reihe nach erst in ein Lösungsabdeckungsabwaschbecken (10) eingetaucht werden, sodass die an der Lösungsabdeckung (200) anhaftende Lösung (4) entfernt wird und dann in einem Lösungsabdeckungsreinigungsbecken (20) abgespült wird, sodass die Lösungsabdeckung (200) dann einem noch zu verarbeitenden Substrat (100) zur Verfügung gestellt wird und wobei das Lösungsabdeckungsabwaschbecken (10) in sich Salzsäure aufweist, während sich in dem Lösungsabdeckungsreinigungsbecken (20) Klarwasser befindet.