DE102011000861A1

DE102011000861A1 - Verfahren zum Behandeln eines Objekts, insbesondere eines Solarzellensubstrats, und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens

Info

Publication number: DE102011000861A1
Application number: DE201110000861
Authority: DE
Inventors: Werner Saule
Original assignee: Rena GmbH
Current assignee: Rena GmbH
Priority date: 2011-02-22
Filing date: 2011-02-22
Publication date: 2012-08-23
Also published as: TW201236172A; WO2012113364A1

Abstract

Verfahren zum Behandeln eines Objekts (20; 40), bei welchem das Objekt (20; 40) zumindest abschnittsweise in eine in einem Behälter (10) angeordnete Behandlungsflüssigkeit (12) eingebracht wird, in die in dem Behälter (10) angeordnete Behandlungsflüssigkeit (12) unter Ausbildung von Gasblasen (22a; 22b) ein die Behandlung förderndes Gas (22a; 22b) eingeleitet wird und die Gasblasen (22a; 22b) an zu behandelnde Bereiche (26a; 26b; 36a, 36b; 46a, 46b, 46c) des Objekts (20) herangeführt werden sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Behandeln eines Objekts gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 sowie eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 12.
Nasschemische Prozesse, beispielsweise das oberflächliche Ätzen von Objekten, können teilweise beschleunigt werden, indem einer verwendeten Behandlungslösung, Gase physikalisch gelöst werden. Beispielsweise ist aus DE 10 2007 026 082 A1 bekannt, Ozongas physikalisch in der Behandlungsflüssigkeit zu lösen. In dem genannten Dokument wird dies teilweise kurz als Beimischen bezeichnet. Die Behandlungsdauer lässt sich auf diese Weise jedoch nicht beliebig verkürzen, da die Löslichkeit des verwendeten Gases, beispielsweise des genannten Ozons, in der Behandlungsflüssigkeit limitiert ist.
Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Verfügung zu stellen, mit welchem das Behandeln eines Objekts mittels einer Behandlungsflüssigkeit beschleunigt werden kann.
Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1.
Weiterhin liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens zur Verfügung zu stellen.
Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 12.
Vorteilhafte Weiterbildungen sind jeweils Gegenstand abhängiger Unteransprüche.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zum Behandeln eines Objekts wird das Objekt zumindest abschnittsweise in eine in einem Behälter angeordnete Behandlungsflüssigkeit eingebracht. In die in dem Behälter angeordnete Behandlungsflüssigkeit wird unter Ausbildung von Gasblasen ein die Behandlung förderndes Gas eingeleitet und die Gasblasen werden an zu behandelnde Bereiche des Objekts herangeführt.
Unter dem Begriff Gas werden vorliegend auch Gasgemische verstanden. Ein die Behandlung förderndes Gas im Sinne der Erfindung ist ein Gas, welches die Behandlung beschleunigt oder sie überhaupt erst in Folge eines Zusammenwirkens des Gases mit Bestandteilen der Behandlungsflüssigkeit ermöglicht.
Dadurch, dass das Gas unter Ausbildung von Gasblasen in die Behandlungsflüssigkeit eingeleitet wird und die Gasblasen an zu behandelnde Bereiche herangeführt werden, ist das Gas nicht physikalisch in der Behandlungsflüssigkeit gelöst. Stattdessen liegt ein Zweiphasengemisch aus Gas, dieses in Form der Gasblasen, und der flüssigen Behandlungsflüssigkeit vor. Ein Gasaustausch zwischen den Gasblasen und der Behandlungsflüssigkeit erfolgt nur in vergleichsweise geringem Umfang, sodass das Gas kaum in der Behandlungsflüssigkeit physikalisch gelöst wird.
Es hat sich gezeigt, dass auf diese Weise das Behandeln in den zu behandelnden Bereichen beschleunigt werden kann. Dies ist darauf zurückzuführen, dass das Gas in den Gasblasen in hoher Konzentration vorliegt, sodass in deren Umgebung eine beschleunigte Behandlung erfolgen kann. Zudem kann Behandlungsflüssigkeit aus der flüssigen Phase in den Gasblasen in eine Gasphase übertreten, sodass die Behandlung des Objekts innerhalb der Gasblase aus der Gasphase heraus erfolgen kann.
Vorzugsweise wird das Objekt vollständig in die Behandlungsflüssigkeit eingetaucht.
Bei bevorzugten Ausführungsvarianten wird als Objekt ein Halbleitersubstrat, vorzugsweise ein Solarzellensubstrat und besonders bevorzugt ein Siliziumsolarzellensubstrat, vorgesehen und behandelt. Der Begriff des Solarzellensubstrats schließt dabei auf dem Solarzellensubstrat ausgebildete Schichten, beispielsweise eine Siliziumoxidschicht auf einem Siliziumsolarzellensubstrat, ein. Das erfindungsgemäße Verfahren hat sich in diesem Zusammenhang besonders bewährt.
Das Behandeln besteht bei einer bevorzugten Ausführungsvariante des Verfahrens in einem Ätzen der zu behandelnden Bereiche des Objekts.
Bei einer Ausgestaltungsvariante des Verfahrens werden die Gasblasen von oben an wenigstens einen zu behandelnden Oberflächenabschnitts des Objekts herangeführt, dessen Normalenvektor im Wesentlichen nach oben weist. Die Gasblasen werden zu diesem Zweck mit einer hinreichenden Geschwindigkeit in die Behandlungsflüssigkeit eingeleitet, sodass sie trotz etwaiger Auftriebskräfte, welche sie in der Behandlungsflüssigkeit möglicherweise erfahren, an den wenigstens einen zu behandelnden Oberflächenabschnitt gelangen können.
Alternativ oder zusätzlich können Gasblasen von unten an mindestens einem zu behandelnden Oberflächenabschnitt des Objekts herangeführt werden, dessen Normalenvektor im Wesentlichen nach unten weist. Die Geschwindigkeit, mit der diese Gasblasen in die Behandlungsflüssigkeit eingeleitet werden, ist wiederum derart zu wählen, dass die Gasblasen auch dann an den mindestens einen zu behandelnden Oberflächenabschnitt gelangen können, wenn sie keine oder nur geringe Auftriebskräfte erfahren.
Vorzugsweise wird als Behandlungsflüssigkeit eine Flusssäure aufweisende Ätzlösung verwendet und besonders bevorzugt eine aus Flusssäure und deionisiertem Wasser bestehende Ätzlösung. Diese Ätzlösungen haben sich insbesondere beim Behandeln von Silizium oder siliziumhaltigen Objekten, beispielsweise Siliziumsubstraten, bewährt.
Als Gas kann Ozongas oder ein ozonhaltiges Gasgemisch in die Behandlungsflüssigkeit eingeleitet werden. Die Einleitung von Ozongas hat sich insbesondere im Zusammenhang mit der Verwendung einer Flusssäure aufweisenden Ätzlösung als Behandlungsflüssigkeit bewährt, kann jedoch auch in Verbindung mit anderen Behandlungsflüssigkeiten erfolgen.
Im Zuge der Verfahrensführung kann es dazu kommen, dass sich Gasblasen über längere Zeit an den zu behandelnden Bereichen anlagern. Vorteilhafterweise werden solche an zu behandelnden Bereichen angelagerte Gasblasen abgelöst. Auf diese Weise wird eine Erschöpfung des Gasreservoirs und somit eine Verzögerung der Behandlung vermieden. Werden beispielsweise zum Behandeln von Silizium eine Flusssäure aufweisende Ätzlösung als Behandlungsflüssigkeit und Ozongas als Gas verwendet, so dient das Ablösen angelagerter Blasen zudem dazu, in den angelagerten Gasblasen gebildetes Siliziumoxid möglichst oft und gleichmäßig mittels der vorwiegend in flüssiger Phase in der Ätzlösung vorliegenden Flusssäure abzuätzen.
Vorzugsweise werden angelagerte Gasblasen durch ein Abstreifen der Gasblasen mittels wenigstens einer Rolle abgelöst. Besonders bevorzugt erfolgt dieses Abstreifen mittels wenigstens einer Transportrolle. Auf diese Weise kann in Fertigungslinien, in welchen Transportrollen ohnehin zum Zwecke des Transports des Objekts durch die Behandlungsflüssigkeit vorgesehen sind, das Abstreifen komfortabel und aufwandsgünstig realisiert werden. Alternativ oder ergänzend können eine oder mehrere Abstreifrollen vorgesehen sein, welche nicht dem Transport des Objekts dienen.
Es hat sich als vorteilhaft erwiesen, während des Behandelns zumindest zeitweise in der Behandlungsflüssigkeit eine Strömung aus Behandlungsflüssigkeit auszubilden, mittels welcher an zu behandelnden Bereichen angelagerte Gasblasen abgelöst werden. Eine derartige Strömung kann alternativ oder ergänzend zu dem Abstreifen der Gasblasen mittels wenigstens einer Rolle vorgesehen sein. Vorzugsweise wird eine im Wesentlichen horizontal verlaufende Strömung ausgebildet. Grundsätzlich sind auch andere Strömungsverläufe möglich. Diese sind in der Regel auf die Transportrichtung und die Orientierung der zu behandelnden Objekte abzustimmen.
Bei einer bevorzugten Ausgestaltungsvariante des Verfahrens besteht das Behandeln in einem Ätzen und das Objekt wird in den zu behandelnden Bereichen stärker geätzt als in anderen in die Behandlungsflüssigkeit eingebrachten Bereichen des Objekts. Dies ist möglich, indem eine Behandlungsflüssigkeit gewählt wird, welche bereits ohne beigemengtes Gas eine Ätzwirkung aufweist. Auf diese Weise können zeitgleich und somit aufwandsgünstig unterschiedliche Bereiche verschieden stark geätzt werden. Es kann jedoch auch eine Behandlungsflüssigkeit gewählt werden, welche in Abwesenheit des Gases keine Ätzwirkung aufweist. Dies ermöglicht ein starkes selektives Ätzen in den zu behandelnden Bereichen, während in übrigen Bereichen des Objekts kein Ätzen erfolgt.
Die beschriebene Selektivität des Ätzvorgangs lässt sich insbesondere vorteilhaft bei der Fertigung von Halbleiterbauelementen, insbesondere von Solarzellen einsetzen. Eine bevorzugte Ausführungsvariante sieht daher vor, dass mittels des stärkeren Ätzens in den zu behandelnden Bereichen ein dotierter Bereich eines als Objekt vorgesehenen Halbleitersubstrats, vorzugsweise eines als Objekt vorgesehenen Solarzellensubstrats und besonders bevorzugt eine Emitterdotierung eines als Objekt vorgesehenen Solarzellensubstrats lokal, zurückgeätzt wird. Unter einem lokalen Zurückätzen ist dabei zu verstehen, dass in den zu behandelnden Bereichen zurückgeätzt wird, in übrigen Bereichen hingegen nur in wesentlich geringerem Umfang oder überhaupt nicht. Bei einer Emitterdotierung im Sinne der Erfindung handelt es sich um eine zum Zwecke des Ausbildens eines Emitters einer Solarzelle vorgenommene Dotierung. Die Emitterdotierung wird zurückgeätzt, indem Bereiche des Solarzellensubstrats, in welche die Emitterdotierung eingebracht wurde, geätzt werden. Das lokale Zurückätzen des Emitters dient in der Regel dem Zweck, den Schichtwiderstand der Emitterdotierung lokal zu erhöhen.
In einer Ausführungsvariante kann das lokale Rückätzen der Emitterdotierung darin bestehen, dass eine auf einer großflächigen Seite des Solarzellensubstrats flächig aufgebrachte Emitterdotierung vollflächig zurückgeätzt wird. Alternativ besteht die Möglichkeit, solch eine flächig aufgebrachte Emitterdotierung nur lokal zurückzuätzen und auf diese Weise einen sogenannten selektiven Emitter auszubilden.
Vorteilhafterweise wird ein Solarzellensubstrat als Objekt vorgesehen und mittels des stärkeren Ätzens in den zu behandelnden Bereichen eine Emitterdotierung des Solarzellensubstrats lokal entfernt. Auf diese Weise kann beispielsweise die Emitterdotierung von einer gesamten großflächigen Seite des Solarzellensubstrats, in der Regel einer Rückseite der fertigen Solarzelle, entfernt und somit ein Kurzschluss zwischen den Kontakten der fertigen Solarzelle verhindert werden. Die Verhinderung solch eines Kurzschlusses wird üblicherweise als Kantenisolation bezeichnet.
Bei einer anderen Ausführungsvariante kann die Kantenisolation dadurch erfolgen, dass die Emitterdotierung wiederum lokal entfernt wird, dieses Mal jedoch nur in den Kantenbereichen des Solarzellensubstrats. Dies hat sich insbesondere bei Solarzellentypen bewährt, bei welchen auf Vorder- und Rückseite Dotierungen bestehen, die nicht beschädigt werden dürfen, beispielsweise bei sogenannten Metal-Wrap-Through-Solarzellen, welche häufig kurz als MWT-Solarzellen bezeichnet werden.
Bei einer vorteilhaften Verfahrensvariante wird ein Solarzellensubstrat als Objekt vorgesehen, mittels des stärkeren Ätzens in den zu behandelnden Bereichen eine Emitterdotierung des Solarzellensubstrats lokal entfernt und zeitgleich mit dem stärkeren Ätzen in den zu behandelnden Bereichen die Emitterdotierung in anderen Bereichen des Solarzellensubstrats mittels der Behandlungsflüssigkeit zurückgeätzt. Bei der eingesetzten Behandlungsflüssigkeit handelt es sich um eine Ätzlösung, welche bereits in Abwesenheit des Gases eine Ätzwirkung aufweist. Diese ist aufgrund oben beschriebener Effekte geringer als in Verbindung mit den Gasblasen. Dies ermöglicht es, in einem einheitlichen Ätzschritt gleichzeitig eine Kantenisolation vorzunehmen und die Emitterdotierung zurückzuätzen. Die beiden Verfahrensschritte, die moderne Solarzellenherstellungsverfahren zum Teil erfordern, können somit aufwandsgünstig durchgeführt werden.
Vorzugsweise werden die Gasblasen an die zu behandelnden Bereiche des Objekts über eine Strecke von weniger als 2 cm, vorzugsweise von weniger als 1 cm und besonders bevorzugt von weniger als 5 mm, herangeführt. Auf diese können die Gasblasen besonders kontrolliert an das zu behandelnde Objekt herangeführt werden. Zudem kann auf diese Weise die Menge an Gas, welche in der Behandlungsflüssigkeit physikalisch gelöst wird, verringert werden.
Eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens weist ein Behandlungsbecken, eine in dem Behandlungsbecken angeordnete Behandlungsflüssigkeit, eine Aufnahmevorrichtung zur Aufnahme zu behandelnder Objekte in dem Behandlungsbecken sowie wenigstens einen Gasblasengenerator auf, mittels welchem in der Behandlungsflüssigkeit Gasblasen ausbildbar sind. Der Gasblasengenerator ist demnach dazu geeignet, Gasblasen in der Behandlungsflüssigkeit zu erzeugen.
In der Praxis hat es sich bewährt, den Gasblasengenerator zumindest abschnittsweise in dem Behandlungsbecken anzuordnen.
Die Aufnahmevorrichtung ist vorteilhafterweise als Transportvorrichtung ausgeführt, sodass zu behandelnde Objekte durch das Behandlungsbecken transportiert werden können.
Vorzugsweise ist als Gasblasengenerator ein poröser Keramikkörper oder ein poröser Polytetrafluorethylenkörper vorgesehen, welcher von einem Gas durchdringbar ist. Ist mehr als ein Gasblasengenerator vorgesehen, so können alle Glasblasengeneratoren als poröse Keramikkörper oder alle Glasblasengeneratoren als poröse Polytetrafluorethylenkörper ausgeführt sein, doch ist auch eine Kombination beider poröser Körperarten möglich.
Daneben oder alternativ können weitere Arten von Gasblasengeneratoren vorgesehen sein, beispielsweise eine für ein Gas durchlässige Membran oder ein für ein Gas durchlässiger Filter.
Bevorzugt sind als Aufnahmevorrichtung Transportrollen in dem Behandlungsbecken angeordnet, mittels welchen zu behandelnde Objekte durch das Behandlungsbecken transportierbar sind und mittels welchen an zu behandelnden Objekten angelagerte Gasblasen während des Transports abstreifbar sind. Dies ermöglicht es, in der oben näher erläuterten, komfortablen Weise an zu behandelnden Objekten angelagerte Gasblasen abzustreifen.
Eine Weiterbildung sieht einen Strömungsgenerator vor, mittels welchem in der Behandlungsflüssigkeit eine Strömung aus Behandlungsflüssigkeit ausbildbar ist. Dies ermöglicht, wie oben näher erläutert, ein Ablösen angelagerter Gasblasen von zu behandelnden Bereichen beziehungsweise zu behandelnden Objekten. Vorzugsweise ist der Strömungsgenerator derart angeordnet und ausgerichtet, dass eine im Wesentlichen horizontal verlaufende Strömung ausbildbar ist.
Eine Ausführungsvariante sieht vor, dass zumindest ein Gasblasengenerator oberhalb der Aufnahmevorrichtung angeordnet ist. Dies bedingt jedoch nicht, dass dieser zumindest eine Gasblasengenerator in vertikaler Richtung über der Aufnahmevorrichtung angeordnet ist. Er kann an einer beliebigen Stelle in einer oberhalb der Aufnahmevorrichtung verlaufenden Ebene angeordnet sein.
In einer anderen Ausführungsvariante ist alternativ oder ergänzend zumindest ein Gasblasengenerator unterhalb der Aufnahmevorrichtung angeordnet, vorzugsweise am Boden des Behandlungsbeckens. Wiederum ist es nicht erforderlich, dass dieser Gasblasengenerator in vertikaler Richtung unterhalb der Aufnahmevorrichtung angeordnet ist. Grundsätzlich kann er frei in einer unterhalb der Aufnahmevorrichtung verlaufenden Ebene angeordnet werden.
Eine weitere Ausgestaltungsvariante der Vorrichtung sieht vor, dass zumindest ein Gasblasengenerator oberhalb und zumindest ein Gasblasengenerator unterhalb der Aufnahmevorrichtung angeordnet sind. Dies ermöglicht eine doppelseitige Behandlung der Objekte, beispielsweise ein schnelles doppelseitiges Ätzen.
Bei einer anderen Ausgestaltungsvariante der Vorrichtung sind wenigstens zwei längliche, parallel verlaufende Gasblasengeneratoren vorgesehen. Dies ermöglicht ein Behandeln der Objekte in linienförmigen zu behandelnden Bereichen. Vorzugsweise sind die wenigstens zwei länglichen, parallel verlaufenden Gasblasengeneratoren unterhalb der Aufnahmevorrichtung angeordnet. Alternativ oder ergänzend können auch oberhalb der Aufnahmevorrichtung angeordnete längliche, parallel verlaufende Gasblasengeneratoren vorgesehen sein.
Vorzugsweise sind die wenigstens zwei länglichen, parallel verlaufenden Gasblasengeneratoren durch parallel verlaufende, mit Öffnungen versehene Schläuche gebildet. Grundsätzlich können die wenigstens zwei länglichen, parallel verlaufenden Gasblasengeneratoren auf verschiedenste Arten ausgebildet werden, beispielsweise kann ein einheitlicher, breiter Hohlkörper vorgesehen werden, welcher zwei beabstandet parallel verlaufende Lochreihen aufweist. Diese Konstruktion wäre ebenfalls als zwei längliche, parallel verlaufende Gasblasengeneratoren anzusehen.
Bei einer bevorzugten Ausführungsvariante der Vorrichtung ist die Aufnahmevorrichtung als Transportvorrichtung zum Transport zu behandelnder Objekte durch das Behandlungsbecken ausgeführt und die wenigstens zwei länglichen, parallel verlaufenden Gasblasengeneratoren erstrecken sich in einer Transportrichtung der Transportvorrichtung. Auf diese Weise können linienförmige zu behandelnde Bereiche der Objekte behandelt werden, während diese durch das Behandlungsbecken transportiert werden.
Vorteilhafterweise ist der wenigstens eine Gasblasengenerator weniger als 2 cm beabstandet von einer Aufnahmeseite der Aufnahmevorrichtung angeordnet. Unter Aufnahmeseite ist dabei diejenige Seite der Aufnahmevorrichtung zu verstehen, auf welcher im Betrieb der Vorrichtung die Objekte zu liegen kommen. Werden als Aufnahmevorrichtung beispielsweise Transportrollen vorgesehen, so wird die Aufnahmeseite gebildet durch eine durch die Transportrollen vorgegebene Transportebene. Auf diese können die Gasblasen aus dem wenigstens einen Gasblasengenerator besonders kontrolliert an das zu behandelnde Objekt herangeführt werden. Zudem kann auf diese Weise die Menge an Gas, welche in der Behandlungsflüssigkeit physikalisch gelöst wird, verringert werden. Vorzugsweise beträgt der Abstand zwischen der Aufnahmeseite der Aufnahmevorrichtung und dem wenigstens einen Gasblasengenerator weniger als 1 cm und besonders bevorzugt weniger als 5 mm.
Im Weiteren wird die Erfindung anhand von Figuren näher erläutert. Soweit zweckdienlich, sind hierin gleichwirkende Elemente mit gleichen Bezugszeichen versehen. Die Erfindung ist nicht auf die in den Figuren dargestellten Ausführungsbeispiele beschränkt – auch nicht in Bezug auf funktionale Merkmale. Die bisherige Beschreibung wie auch die nachfolgende Figurenbeschreibung enthalten zahlreiche Merkmale, die in den abhängigen Unteransprüchen teilweise zu mehreren zusammengefasst wiedergegeben sind. Diese Merkmale wie auch alle übrigen oben oder in der nachfolgenden Figurenbeschreibung offenbarten Merkmale wird der Fachmann jedoch auch einzeln betrachten und zu sinnvollen weiteren Kombinationen zusammenfügen. Insbesondere sind diese Merkmale jeweils einzeln und in beliebiger geeigneter Kombination mit dem Verfahren und/oder der Vorrichtung der unabhängigen Ansprüche kombinierbar.
Es zeigen:
1 Ein erstes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Vorrichtung und des erfindungsgemäßen Verfahrens in schematischer Darstellung
2 Ein zweites Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Vorrichtung und des erfindungsgemäßen Verfahrens in schematischer Darstellung
3 Ein drittes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Vorrichtung und des erfindungsgemäßen Verfahrens in schematischer Darstellung
4 Ein viertes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Vorrichtung und des erfindungsgemäßen Verfahrens in schematischer Darstellung
5 Ein fünftes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Vorrichtung und des erfindungsgemäßen Verfahrens in schematischer Darstellung
1 illustriert in schematischer Darstellung ein erstes Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens wie auch ein erstes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Vorrichtung. 1 zeigt in einer schematischen Seitenansicht ein Behandlungsbecken 10, welches als Behälter dient und in welchem eine Ätzlösung 12 als Behandlungsflüssigkeit angeordnet ist. Als Aufnahmevorrichtung ist eine Transportvorrichtung vorgesehen, welche aus mehreren Transportrollen 14 besteht. Diese Transportrollen 14 dienen der Aufnahme und dem Transport von Siliziumsolarzellensubstraten 20, welche in allen dargestellten Ausführungsbeispielen beispielhaft als zu behandelnde Objekte vorgesehen sind.
Am Boden des Behandlungsbeckens 10 ist ein Gasblasengenerator 24a angeordnet, welcher vorliegend durch einen porösen Keramikkörper gebildet ist. In diesem wie auch in den Ausführungsbeispielen der 1 bis 3 können die Gasblasengeneratoren auch durch poröse Polytetrafluorethylenkörper gebildet sein. Daneben oder alternativ können Gasblasengeneratoren aus Membranen oder Filtern mit Öffnungen vorgesehen sein.
Weiterhin ist ein Strömungsgenerator 16 vorgesehen, mittels welchem in der Ätzlösung 12 eine horizontal verlaufende Strömung 18 ausgebildet werden kann. Diese Strömung 18 ist der besseren Übersichtlichkeit halber in den Figuren jeweils nur ansatzweise am rechten Rand des Behandlungsbeckens 10 angedeutet, erstreckt sich jedoch weiter in das Behandlungsbecken 10 hinein.
Wie in 1 erkennbar ist, wird bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel das Objekt, das heißt das Siliziumsolarzellensubstrat 20 vollständig in die in dem Behandlungsbecken 10 angeordnete Ätzlösung 12 eingebracht. Als Ätzlösung 12 ist in allen dargestellten Ausführungsbeispielen eine flusssäurehaltige Ätzlösung 12 vorgesehen, vorzugsweise eine aus Flusssäure und deionisiertem Wasser bestehende Ätzlösung.
In diese Ätzlösung 12 wird mittels des Gasblasengenerators 24a ein das Ätzen förderndes Gas eingeleitet. In den dargestellten Ausführungsbeispielen handelt es sich dabei stets um ein ozonhaltiges Gas, vorzugsweise um gasförmiges Ozon. Bei dem durch die von dem Gasblasengenerator 24a ausgehenden Pfeile angedeuteten Einleiten des ozonhaltigen Gases werden Gasblasen 22a ausgebildet. Das Einleiten des ozonhaltigen Gases erfolgt somit unter Ausbildung von Gasblasen 22a. Diese Gasblasen 22a werden an eine Unterseite 26a des Siliziumsolarzellensubstrats 20 herangeführt. Ein Normalenvektor 28a der Unterseite 26a weist nach unten.
Wie der Darstellung der 1 zu entnehmen ist, reichern sich die Gasblasen 22a an der Unterseite 26a des Siliziumsolarzellensubstrats 20 an und bewirken dort zusammen mit der Ätzlösung 12 ein schnelleres Ätzen der Unterseite 26a des Siliziumsolarzellensubstrats 20. Nicht an die Unterseite 26a des Siliziumsolarzellensubstrats 20 gelangende Gasblasen 22a gelangen an dem Siliziumsolarzellensubstrat 20 vorbei an die Oberfläche der Ätzlösung 12, nicht jedoch an eine Oberseite 26b des Siliziumsolarzellensubstrats 20, sodass diese kaum oder zumindest wesentlich schwächer geätzt wird als die Unterseite 26a.
An der Unterseite 26a des Siliziumsolarzellensubstrats 20 kommt es zu einem Anlagern von Gasblasen 22a an das Siliziumsolarzellensubstrat 20. Wie oben näher erläutert wurde, kann dies zu einer Verzögerung des Ätzvorgangs führen, wenn das Ozon in den angelagerten Gasblasen erschöpft ist oder in den Gasblasen gebildetes Oxid weniger häufig mittels vorwiegend in flüssiger Phase in der Ätzlösung 12 vorliegender Flusssäure abgeätzt werden kann. Um dies zu verhindern, werden angelagerte Gasblasen während eines Transports des Siliziumsolarzellensubstrats 20 durch das Behandlungsbecken 10 angelagerte Gasblasen mittels der Transportrollen 14 abgestreift. Der Unterstützung des Ablöseprozesses der angelagerten Gasblasen dient die ausgebildete Strömung 18. Diese bewirkt ergänzend ein Ablösen der angelagerten Gasblasen von dem Siliziumsolarzellensubstrat 20. Die Wirkung der Strömung zeigt sich in 1 zudem in einem Versatz der aufsteigenden Gasblasen 22a nach links.
Mittels des in 1 dargestellten Verfahrens kann beispielsweise eine Emitterdotierung eines Siliziumsolarzellensubstrats lokal auf der Unterseite 26a des Siliziumsolarzellensubstrats 20 entfernt oder zurückgeätzt werden. Wird die Emitterdotierung beispielsweise auf der Unterseite 26a entfernt, so kann auf diese Weise eine Kantenisolation erfolgen.
In besonders vorteilhafter Weise kann mit der in 1 dargestellten Vorrichtung, beziehungsweise der in 1 illustrierten Ausführungsvariante des erfindungsgemäßen Verfahrens, an der Unterseite 26a des Siliziumsolarzellensubstrats 20 mittels der dort vorherrschenden stärkeren Ätzwirkung eine Emitterdotierung lokal von der gesamten Unterseite 26a entfernt werden und zeitgleich die Emitterdotierung auf der Oberseite 26b mittels der Ätzlösung 12 zurückgeätzt werden. Auf diese Weise können zwei unterschiedliche Ätzschritte gleichzeitig und damit aufwandsgünstig durchgeführt werden. In welchem Umfang die Emitterdotierung auf der Oberseite 26b des Siliziumsolarzellensubstrats 20 zurückgeätzt wird, bestimmt sich dabei durch die Verweildauer des Siliziumsolarzellensubstrats 20 in der Ätzlösung 12, die konkrete Zusammensetzung der Ätzlösung 12, insbesondere deren Flusssäuregehalt, und die Temperatur der Ätzlösung 12. Diese Parameter haben zwar ebenfalls Einfluss auf die Ätzgeschwindigkeit an der Unterseite 26a des Siliziumsolarzellensubstrats 20, doch wird der Ätzvorgang dort durch das vorhandene Ozon in der beschriebenen Weise erheblich beschleunigt.
2 illustriert in schematischer Darstellung ein zweites Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens wie auch der erfindungsgemäßen Vorrichtung. Die dargestellte Vorrichtung unterscheidet sich von der aus 1 dadurch, dass anstelle des am Boden des Behandlungsbeckens 10 und damit unterhalb der durch die Transportrollen 14 gebildeten Transportvorrichtung angeordneten Gasblasengenerators 24a nun ein Gasblasengenerator 24b vorgesehen ist, welcher oberhalb der Transportrollen 14, welche als Aufnahmevorrichtung dienen, angeordnet ist. Gasblasen 22b werden, wie durch von dem Gasblasengenerator 24b ausgehende Pfeile angedeutet, von oben an die Oberseite 26b des Siliziumsolarzellensubstrats 20 herangeführt, deren Normalenvektor 28b nach oben weist. Im Unterschied zum Ausführungsbeispiel der 1 werden Gasblasen 22b im Ausführungsbeispiel der 2 daher an der Oberseite 26b des Siliziumsolarzellensubstrats 20 angereichert, sodass es dort zu einem starken Ätzen kommt. Die Unterseite 26a des Siliziumsolarzellensubstrats 20 wird im Ausführungsbeispiel der 2 hingegen nur aufgrund der der Ätzlösung 12 bereits ohne ozonhaltige Gasblasen innewohnenden Ätzwirkung geätzt, sodass der Ätzabtrag dort wesentlich geringer ausfällt.
Da die Gasblasen 22b von oben entgegen einer auf sie einwirkenden Auftriebskraft an die Oberseite 26a des Siliziumsolarzellensubstrats 20 herangeführt werden, kehrt sich die Bewegungsrichtung der Gasblasen 22b ab einem gewissen Zeitpunkt um und sie steigen wieder an die Oberfläche der Ätzlösung 12. Dieser Sachverhalt ist in 2 am linken Rand des Behandlungsbeckens 10 schematisch dargestellt. Bei Verwendung anderer Ätzlösungen oder Gase kann es aufgrund abweichender Auftriebskräfte zu anderen Effekten kommen.
Trotz der auf die Gasblasen 22b einwirkender Auftriebskräfte kann es an der Oberseite 26b zu einer Anlagerung der Gasblasen 22b an das Siliziumsolarzellensubstrat 20 kommen. An der Oberseite 26b angelagerte Gasblasen können im Ausführungsbeispiel der 2 nicht mittels der Transportrollen 14 abgestreift werden, während das Siliziumsolarzellensubstrat 20 mittels der Transportrollen 14 in einer Transportrichtung 15 durch das Behandlungsbecken 10 transportiert wird. Das Ablösen angelagerter Gasblasen erfolgt in diesem Ausführungsbeispiel mittels der Strömung 18.
Ebenso wie mit dem in 1 dargestellten Ausführungsbeispiel kann mit dem Ausführungsbeispiel der 2 eine Emitterdotierung lokal in vorteilhafter Weise entfernt werden, hier allerdings von der Oberseite 26b des Siliziumsolarzellensubstrats 20. Ferner kann in besonders vorteilhafter Weise mittels stärkeren Ätzens auf der Oberseite 26b des Siliziumsolarzellensubstrats 20 eine Emitterdotierung des Siliziumsolarzellensubstrats 20 auf der gesamten Oberseite 26b lokal entfernt werden, während zeitgleich die Emitterdotierung auf der Unterseite 26a des Siliziumsolarzellensubstrats 20 zurückgeätzt wird. Wie im Fall des Ausführungsbeispiels der 1 hat dies gegenüber anderen Verfahren, bei welchen beispielsweise das Siliziumsolarzellensubstrat entlang der Oberfläche einer Ätzlösung bewegt wird, die Vorteile, dass die Kantenisolation und das Emitterrückätzen gleichzeitig erfolgen können, es sich um vergleichsweise einfach handhabbare Prozesse handelt und keine Probleme dadurch entstehen können, dass Ätzlösung aufgrund von Kapillareffekten auf außerhalb der Ätzlösung angeordnete Teile des Siliziumsolarzellensubstrats kriecht. Derartige Kapillareffekte bereiten insbesondere bei texturierten Siliziumsolarzellensubstraten Probleme.
3 illustriert ein drittes Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Verfahrens sowie einer erfindungsgemäßen Vorrichtung. Die dargestellte Vorrichtung unterscheidet sich von derjenigen aus 1 dadurch, dass zusätzlich zu dem am Boden des Behandlungsbeckens 10 angeordneten Gasblasengenerator 24a auch der bereits aus dem Ausführungsbeispiel der 2 bekannte, oberhalb der Transportrollen 14 angeordnete Gasblasengenerator 24b vorgesehen ist. Auf diese Weise können, wie es in 3 dargestellt ist, Gasblasen 22a von unten und Gasblasen 22b von oben an das Siliziumsolarzellensubstrat 20 herangeführt werden, sodass sowohl die Unterseite 26a wie auch die Oberseite 26b schnell geätzt werden können.
Offensichtlich ist es bei dem Ausführungsbeispiel der 3 nicht zwingend erforderlich, die Gasblasengeneratoren 24a und 24b gleichzeitig zu betreiben. Wird nur ein Gasblasengenerator betrieben, so können mit der in 3 dargestellten Vorrichtung die Verhältnisse des Ausführungsbeispiels der 1 oder die Verhältnisse des Ausführungsbeispiels der 2 realisiert werden.
4 illustriert ein viertes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Vorrichtung wie auch des erfindungsgemäßen Verfahrens. Während die 1 bis 3 eine schematische Seitenansicht zeigen, gibt die 4 eine schematische Vorderansicht wieder. In den 1 bis 3 entspräche dies einem von dem Strömungsgenerator 16 ausgehenden Blick auf das Siliziumsolarzellensubstrat 20. Dementsprechend wird in der Darstellung der 4 das Siliziumsolarzellensubstrat 20 in der aus der Zeichenebene herausragenden Transportrichtung 15 transportiert.
Als Gasblasengeneratoren sind in dem Ausführungsbeispiel der 4 zwei parallel verlaufende, mit Öffnungen versehene Schläuche 30a, 30b vorgesehen. Über die Öffnungen in diesen Schläuchen 30a, 30b wird ozonhaltiges Gas in die Ätzlösung eingeleitet und an zu behandelnde, genauer gesagt zu ätzende, Randbereiche 36a, 36b an der Unterseite 26a des Siliziumsolarzellensubstrats 20 herangeführt. Das Siliziumsolarzellensubstrat 20 wird daher in diesen Randbereichen 36a, 36b stark geätzt, während in übrigen Bereichen lediglich ein schwaches Ätzen allein aufgrund der Ätzwirkung der Ätzlösung 12 erfolgt.
In vorteilhafter Weise kann daher mit dem Ausführungsbeispiel der 4 in den Randbereichen 36a, 36b eine Emitterdotierung des Siliziumsolarzellensubstrats 20 lokal entfernt und auf diese Weise eine Kantenisolation in den Kantenbereichen vorgenommen werden. Wie oben dargelegt wurde, ist dies insbesondere für besondere Solarzellenformen wie MWT-Solarzellen von Vorteil. Sofern die Emitterdotierung nicht nur in den beiden Randbereichen 36a, 36b lokal entfernt werden soll, sondern auch in den beiden senkrecht zu den Randbereichen 36a, 36b verlaufenden Randbereichen, so kann das Siliziumsolarzellensubstrat 20 während seines Transports durch das Behandlungsbecken 10 in seiner Transportebene um 90° Grad um seine senkrecht zur Transportebene verlaufende Achse gedreht werden. Auf diese Weise können im weiteren Verfahrenslauf die beiden bislang unbehandelten Randbereiche behandelt, das heißt geätzt und die Emitterdotierung dort lokal entfernt werden.
5 zeigt ein fünftes Ausführungsbeispiel der erfindungsgemäßen Vorrichtung wie auch des erfindungsgemäßen Verfahrens. Dieses Ausführungsbeispiel unterscheidet sich von demjenigen der 4 dadurch, dass ein weiterer mit Öffnungen versehener länglicher Schlauch 30c vorgesehen ist, welcher parallel zu den beiden anderen Schläuchen 30a, 30b verläuft. Infolgedessen werden bei dem Ausführungsbeispiel der 5 Gasblasen 22a aus den mit Öffnungen versehenen Schläuchen 30a, 30b, 30c an parallel verlaufende, rückzuätzende Streifenbereiche 46a, 46b, 46c an einer Unterseite eines Siliziumsolarzellensubstrats 40 herangeführt. Dies ermöglicht es, lokal und kontrolliert in den zu ätzenden Streifenbereichen zu ätzen. Auf diese Weise kann beispielsweise eine auf der Unterseite des Siliziumsolarzellensubstrats 40 befindliche Emitterdotierung in den zu ätzenden Streifenbereichen 46a, 46b, 46c lokal kontrolliert und aufwandsgünstig zurückgeätzt werden. Da ohne weiteres ein viel größere Anzahl an länglichen, parallel verlaufenden Gasblasengeneratoren vorgesehen werden kann als die in 5 schematisch wiedergegebenen drei länglichen, mit Öffnungen versehenen Schläuche 30a, 30b, 30c, können auf diese Weise aufwandsgünstig selektive Emitterstrukturen ausgebildet werden, welche stärker und schwächer dotierte Bereiche aufweisen. Die schwächer dotierten Bereiche werden dabei durch zurückgeätzte Streifenbereiche gebildet.
In den Ausführungsbeispielen der 4 und 5 sind die Gasblasengeneratoren, das heißt die mit Öffnungen versehenen Schläuche 30a, 30b, 30c, unterhalb der Transportrollen 14 und somit unterhalb der Aufnahme für das Siliziumsolarzellensubstrat angeordnet. Die entsprechenden Glasblasengeneratoren können jedoch grundsätzlich, in Analogie zu dem Gasblasengenerator 24b aus 2, auch oberhalb der Transportrollen 14 angeordnet werden. In diesem Fall würden die Gasblasen von oben an zu ätzende Randbereiche beziehungsweise zu ätzende Streifenbereiche herangeführt werden, welche sodann auf der Oberseite des Siliziumsolarzellensubstrats lägen.
Anstelle der mit Öffnungen versehenen Schläuche 30a, 30b, 30c können in den Ausführungsbeispielen der 4 und 5 offensichtlich andersartige Gasblasengeneratoren eingesetzt werden, beispielsweise längliche poröse Keramik- oder Polytetrafluorethylenkörper, insbesondere Keramik- oder Polytetrafluorethylenleisten. Diese sind zwar weniger aufwandsgünstig herstellbar, bringen jedoch andere Vorteile mit sich, die den Mehraufwand im einzelnen Anwendungsfall rechtfertigen können; beispielsweise eine leichtere Ausrichtbarkeit oder längere Standzeiten.
In den Ausführungsbeispielen der 1 bis 5 scheinen die Gasblasengeneratoren 24a, 24b, 30a, 30b, 30c in vergleichsweise großen Abständen zu dem Siliziumsolarzellensubstrat 20, 40 angeordnet zu sein. Die gewählte, nicht maßstabsgetreue Darstellungsart dient jedoch lediglich der leichteren Erfassbarkeit des Sachverhalts. In der Praxis sind die Gasblasengeneratoren 24a, 24b, 30a, 30b, 30c nur wenige Millimeter beabstandet von den im jeweiligen Fall zu behandelnden Bereichen 26a, 26b, 36a, 36b, 36c, 46a, 46b, 46c des Siliziumsolarzellensubstrats 20, 40 angeordnet. Die Gasblasengeneratoren 24a, 24b, 30a, 30b, 30c sind demzufolge nur wenige Millimeter beabstandet von einer durch die Transportrollen 14 vorgegebenen Transportebene, das heißt von einer Aufnahmeseite der Transportrollen 14, angeordnet.
Bezugszeichenliste

10: Behandlungsbecken
12: Ätzlösung
14: Transportrolle
15: Transportrichtung
16: Strömungsgenerator
18: Strömung
20: Siliziumsolarzellensubstrat
22a: Gasblasen
22b: Gasblasen
24a: Gasblasengenerator
24b: Gasblasengenerator
26a: Unterseite
26b: Oberseite
28a: Normalenvektor Unterseite
28b: Normalenvektor Oberseite
30a: Schlauch mit Öffnungen
30b: Schlauch mit Öffnungen
30c: Schlauch mit Öffnungen
36a: Randbereich
36b: Randbereich
40: Siliziumsolarzellensubstrat
46a: zu ätzende Streifenbereiche
46b: zu ätzende Streifenbereiche
46c: zu ätzende Streifenbereiche

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

DE 102007026082 A1 [0002]

Claims

Verfahren zum Behandeln eines Objekts (20; 40), bei welchem das Objekt (20; 40) zumindest abschnittsweise in eine in einem Behälter (10) angeordnete Behandlungsflüssigkeit (12) eingebracht wird, dadurch gekennzeichnet, dass – in die in dem Behälter (10) angeordnete Behandlungsflüssigkeit (12) unter Ausbildung von Gasblasen (22a; 22b) ein die Behandlung förderndes Gas (22a; 22b) eingeleitet wird und – die Gasblasen (22a; 22b) an zu behandelnde Bereiche (26a; 26b; 36a, 36b; 46a, 46b, 46c) des Objekts (20) herangeführt werden.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass als Objekt (20; 40) ein Halbleitersubstrat (20; 40), vorzugsweise ein Solarzellensubstrat (20; 40) und besonders bevorzugt ein Siliziumsolarzellensubstrat (20; 40), vorgesehen und behandelt wird und das Behandeln in einem Ätzen der zu behandelnden Bereiche (26a; 26b; 36a, 36b; 46a, 46b, 46c) des Objekts (20; 40) besteht.
Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Gasblasen (22b) von oben an wenigstens einen zu behandelnden Oberflächenabschnitt (26b) des Objekts (20) herangeführt werden, dessen Normalenvektor (28b) im Wesentlichen nach oben weist.
Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Gasblasen (22a) von unten an wenigstens einen zu behandelnden Oberflächenabschnitt (26a) des Objekts (20) herangeführt werden, dessen Normalenvektor (28a) im Wesentlichen nach unten weist.
Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass als Behandlungsflüssigkeit (12) eine Flusssäure aufweisende Ätzlösung (12) verwendet wird, vorzugsweise eine aus Flusssäure und deionisiertem Wasser bestehende Ätzlösung (12), und als Gas Ozongas (22a; 22b) in die Behandlungsflüssigkeit (12) eingeleitet wird.
Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass an zu behandelnden Bereichen (26a; 26b; 36a, 36b; 46a, 46b, 46c) angelagerte Gasblasen abgelöst werden, vorzugsweise durch Abstreifen der Gasblasen (22a; 22b) mittels wenigstens einer Rolle (14), besonders bevorzugt mittels wenigstens einer Transportrolle (14).
Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass während des Behandelns zumindest zeitweise in der Behandlungsflüssigkeit (12) eine Strömung (18) aus Behandlungsflüssigkeit (12) ausgebildet wird, mittels welcher an zu behandelnden Bereichen (26a; 26b; 36a, 36b; 46a, 46b, 46c) angelagerte Gasblasen (22a; 22b) abgelöst werden, wobei vorzugsweise eine im Wesentlichen horizontal verlaufende Strömung (18) ausgebildet wird.
Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Behandeln in einem Ätzen besteht und das Objekt (20; 40) in den zu behandelnden Bereichen (26a; 26b; 36a, 36b; 46a, 46b, 46c) stärker geätzt wird als in anderen in die Behandlungsflüssigkeit (12) eingebrachten Bereichen des Objekts (20; 40).
Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass mittels des stärkeren Ätzens in den zu behandelnden Bereichen (26a; 26b; 46a, 46b, 46c) ein dotierter Bereich eines als Objekt (20; 40) vorgesehenen Halbleitersubstrats (20), vorzugsweise eines als Objekt (20; 40) vorgesehenen Solarzellensubstrats (20; 40) und besonders bevorzugt eine Emitterdotierung eines als Objekt (20; 40) vorgesehenen Solarzellensubstrats (20), lokal zurückgeätzt wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass ein Solarzellensubstrat (20) als Objekt (20) vorgesehen wird und mittels des stärkeren Ätzens in den zu behandelnden Bereichen (26a; 26b; 36a, 36b) eine Emitterdotierung des Solarzellensubstrats (20) lokal entfernt wird.
Verfahren nach einem der Ansprüche 8 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass – ein Solarzellensubstrat (20) als Objekt (20) vorgesehen wird, – mittels des stärkeren Ätzens in den zu behandelnden Bereichen (26a; 26b; 36a, 36b) eine Emitterdotierung des Solarzellensubstrats (20) lokal entfernt wird und – zeitgleich mit dem stärkeren Ätzen in den zu behandelnden Bereichen (26a; 26b; 36a, 36b) die Emitterdotierung in anderen Bereichen des Solarzellensubstrats (20) mittels der Behandlungsflüssigkeit (12) zurückgeätzt wird.
Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 11 aufweisend – ein Behandlungsbecken (10), – eine in dem Behandlungsbecken (10) angeordnete Behandlungsflüssigkeit (12), – eine Aufnahmevorrichtung (14) zur Aufnahme zu behandelnder Objekte (20; 40) in dem Behandlungsbecken (10), gekennzeichnet durch wenigstens einen Gasblasengenerator (24a; 24b; 30a, 30b, 30c), mittels welchem in der Behandlungsflüssigkeit (12) Gasblasen (22a; 22b) ausbildbar sind.
Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass als Gasblasengenerator (24a; 24b) ein poröser Keramikkörper (24a; 24b) oder ein poröser Polytetrafluorethylenkörper (24a; 24b) vorgesehen ist, welcher von einem Gas durchdringbar ist.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 13, dadurch gekennzeichnet, dass als Aufnahmevorrichtung (14) Transportrollen (14) in dem Behandlungsbecken (10) angeordnet sind, mittels welchen zu behandelnde Objekte (20; 40) durch das Behandlungsbecken (10) transportierbar sind und mittels welchen an zu behandelnden Objekten (20; 40) angelagerte Gasblasen (22a) während des Transports abstreifbar sind.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 14, gekennzeichnet durch einen Strömungsgenerator (16), mittels welchem in der Behandlungsflüssigkeit (12) eine Strömung (18) aus Behandlungsflüssigkeit (12) ausbildbar ist und welcher vorzugsweise derart angeordnet und ausgerichtet ist, dass eine im Wesentlichen horizontal verlaufende Strömung (18) ausbildbar ist.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Gasblasengenerator (24a) unterhalb der Aufnahmevorrichtung (14) angeordnet ist, vorzugsweise am Boden des Behandlungsbeckens (10).
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 12 bis 16, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens zwei längliche, parallel verlaufende Gasblasengeneratoren (30a, 30b, 30c) vorgesehen sind, welche vorzugsweise unterhalb der Aufnahmevorrichtung (14) angeordnet sind.
Vorrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass die wenigstens zwei länglichen, parallel verlaufenden Gasblasengeneratoren (30a, 30b, 30c) durch parallel verlaufende, mit Öffnungen versehene Schläuche (30a, 30b, 30c) gebildet sind.
Vorrichtung nach einem der Ansprüche 17 bis 18, dadurch gekennzeichnet, dass die Aufnahmevorrichtung (14) als Transportvorrichtung (14) zum Transport zu behandelnder Objekte (20; 40) durch das Behandlungsbecken (10) ausgeführt ist und die wenigstens zwei länglichen, parallel verlaufenden Gasblasengeneratoren (30a, 30b, 30c) sich in einer Transportrichtung (15) der Transportvorrichtung (14) erstrecken.