CN112534556A - 处理物体的方法和实施该方法的设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种处理物体(2)的方法，其中通过输送设备(5)将待处理的物体(2)输送通过池(3)，通过至少一个设有朝上的出口(13)的进料装置(9)将处理溶液(4)引入到池(3)中，且具有处理溶液流(24)的形式的处理溶液(4)通过朝上的出口(13)被向上喷出，物体(2)在朝上的出口(13)的上方被输送通过池(3)，且在物体(2)通过池(3)的输送期间，物体(2)的朝下的表面(23)被置于与处理溶液射流(24)接触的状态。本发明还涉及用于实施这样的方法的处理设备(1)。

Description

处理物体的方法和实施该方法的设备
本发明涉及一种用于处理物体的方法以及一种用于实施这种方法的处理设备。
在不同的技术领域中使用了通过处理溶液对物体表面进行的处理。因此，例如，湿化学蚀刻法尤其被用于太阳能电池工业中的晶片表面的处理。
物体表面的处理可以例如以浸入处理的形式实现，将一定数量的物体浸入装有处理溶液的池中，并在其中保持预定的持续时间。这就是所谓的批处理方法。
另一种可能性是通过所谓的在线方法对物体进行处理。在此，物体在运输设备上被运输通过池，通过处理溶液对物体的处理发生在物体通过池的运输期间。与其中通常对物体进行双面处理的批处理方法不同，在在线方法中可以通过各种方式实现对物体的单面处理。
在批处理方法和在线方法中，处理结果的质量尤其取决于待处理物体区域中处理溶液的温度和/或化学成分。例如，如果在物体处发生热量积聚和/或反应产物过饱和，会对处理结果的质量产生负面影响。在蚀刻方法的情况下，例如，在这种类型的情况下会发生蚀刻速率的降低。
本发明的一个目的，是在处理物体的情况下，尤其是在物体的单面处理的情况下，提高处理结果的质量。
根据本发明，所述目的通过权利要求1所述的方法和权利要求6所述的处理设备来实现的。
在根据本发明的用于处理物体的方法中：
-通过运输设备将待处理物体运输通过一个池；
-通过至少一个设置有朝上的出口的进料装置，将处理溶液引入到池中，并且在此借助于带有处理溶液喷嘴的构造的朝上的出口，将处理溶液向上喷出；
-物体在朝上的出口的上方被输送通过池；以及
-在物体通过池的运输过程中，物体的朝向下方的表面与处理溶液射流接触。
根据本发明的处理设备包括：
-其中可以放置处理液的池；
-运输设备，借助于该运输设备可以将待处理的物体沿一个运输方向被输送通过池；
-至少一个进料装置，该进料装置被布置在池中，通过该进料装置可以将处理溶液引入池中；
-所述至少一个进料装置具有朝上的出口，用于向上喷出处理溶液。
通过借助具有处理溶液喷嘴构造的至少一个送料装置将处理溶液向上喷，可以实现在物体处可获得用于处理物体的新鲜或未使用过的处理溶液，而象在单面处理方法中通常的那样将待处理的物体在至少一个送料装置的上方被输送。以这种方式，可以避免在待处理的物体的区域中热量的积聚和/或反应产物的过饱和，特别是因为经由至少一个进料装置引入到池中的处理溶液可以带走热量和/或排走反应产物。
相比之下，通过想着池的底部喷出处理溶液的朝下的出口，不能充分有效地避免在待处理物体的区域中热量的积聚和/或反应产物的过饱和。
物体通过池运输的说法，既不意味着物体的表面必须完全位于放置在池中的处理液的液面以下，也不意味着物体的表面必须完全位于池的一个边缘以下。因此，物体上表面的一部分或整个物体表面可以位于或被输送于池的池边缘上方或处理溶液的液位上方。
此外，“将处理溶液向上喷出”不一定意味着将处理液射流沿垂直方向喷出。向上喷出的处理溶液射流可以沿着相对于垂直方向有一个偏差的方向向上喷出。偏差优选为至多40°，特别优选为至多35°。
“朝上的出口”应理解为是指这样布置的出口，即，诸如处理溶液之类的流体可以通过所述出口向上流出，可相对于垂直方向具有上述范围内的偏差。
待处理的物体可以是例如基底，特别是用于太阳能电池和/或半导体工业的晶片。
待处理的物体优选具有预定的宽度。特别优选的是所有待处理的物体具有相同的宽度。这使得在复杂性方面有利的物体处理成为可能。
物体的宽度应是指其在运输平面中与运输方向垂直的范围。术语“运输平面”应理解为是指物体借助运输设备在其中运输的平面。
有利的是，物体借助运输设备沿水平运输方向被运输。
在将物体运输通过池的情况下，池优选地填充有处理溶液，直到物体的朝下的表面或超出该表面。
物体的处理尤其可以是单面处理，在这种情况下，用处理溶液处理物体的朝下的表面。换句话说，用于处理物体的方法可以是用于对物体的朝下的表面进行单面处理的方法。在这种处理的情况下，物体的朝下的表面优选不与处理溶液接触，或者至少不以特定的方式接触。
在处理是单面处理的情况下，优选的是，运输设备被这样布置和构造，且池中这样地充有处理溶液，即使得在运输的情况下仅物体的朝下的表面与处理溶液接触。
此外，物体的处理可以是例如蚀刻处理。在这种情况下，处理溶液有利地是蚀刻溶液。处理尤其可以以如下方式进行：在该处理的情况下，在各个物体上实现至少3μm、优选至少5μm、特别优选至少6μm的蚀刻。
在本发明的一种优选的实施方式中，物体的处理是通过在物体的朝下的表面上的处理溶液的弯月面构造来进行的。
在物体通过池的运输过程中，物体的朝下的表面的每个点有利地与处理溶液流以这样的方式进行接触，即使得在穿过池之后，物体的朝下的表面的每个点都被处理溶液流处理了同样长的时间和可能的同样次数。结果，可在物体的朝下的表面上获得均匀的处理结果。
优选地，处理溶液流被配置在已经盛放在池中的处理溶液中。在此，处理溶液流有利地引起已经盛在池中的处理溶液的循环。
在通过已经盛在池中的处理溶液的过程中，处理溶液流可以呈锥形扩张。在这种情况下，“处理溶液借助于具有处理流构造的朝上的出口向上喷出处理溶液”可以被理解为各个被喷出的处理溶液流的锥轴相对于竖直方向的偏离角度优选至多40°，特别优选至多35°。
在一种有利的变型设计方案中，至少一个进料装置被构造为管中管系统，其具有外管和布置在外管中的内管。在所述变型设计中，处理溶液有利地通过内管的朝下的出口被引入外管。此外，处理溶液流有利地从外管向上喷到池中。
内管的朝下的出口使得富含气泡的处理溶液可以聚集在内管的上部。从那里，可以例如通过连接到内管的排出管线从内管中排出富含气泡的处理溶液或以预定的方式仅排除收集的气体。以这种方式，可以实现从内管引入到外管中的处理溶液中气泡少或没有气泡的情况。特别地，在物体的单面处理的情况下，其优点在于，这样的优点在于可以避免例如由于破裂的气泡而使处理溶液污染物体的朝上的表面。
通过在内管的情况下朝下的出口和在外管的情况下朝上的出口的组合，可以实现“迷宫效应”，其能够改善处理溶液从至少一个进料装置的流出行为。特别地，可以通过经由内管的朝下的出口把处理溶液引入外管和处理溶液流从外管的喷出，能够使处理溶液从至少一个进料装置的外流更均匀。
特别优选的是，内管只具有朝下的出口，用于将处理溶液引入外管。
所述至少一个进料装置有利地布置在运输设备下方。该至少一个进料装置优选地水平取向。
在本发明的一种有利的改进方案中，至少一个进料装置在池中至少部分地且优选完全地相对于输送方向非平行地延伸。换句话说，有利的是，至少一个进料装置的至少一部分不平行于输送方向地延伸。
此外，至少一个输送装置至少局部地具有笔直的延伸范围，该笔直的延伸范围相对于输送方向是斜向的。换言之，至少一个进料装置的至少一部分区段可以具有笔直、相对于输送方向斜向的延伸范围。优选地，所述笔直范围的延伸包括了至少一个进料装置的整个长度范围。
锥形地扩张的处理溶液流可以有利地通过至少一个进料装置的朝上的出口来构造。
在所述笔直的延伸范围包含了至少一个进料装置的整个长度的情况下，有利的是，笔直的范围范围相对于输送方向以角度α取向，该角度α至少近似等于α＝arcsin((B–2R)/L)，其中L是该至少一个进料装置的长度，B是所要处理的物体的宽度，且R是处理溶液流在输设备的运输平面高度处的半径。特别地，至少一个进料装置相对于输送方向的这种定向可以达到这样的情况，即：在提供池之后，物体的朝下的表面的每一点都已经被处理溶液流处理了同样长的时间。
在此，“至少近似”是指α可以正好等于arcsin((B-2R)/L)或者可以与该值稍有不同，例如相差至多10％，优选至多5％。
作为一种替代方案，至少一个进料装置具有一个周期或具有平行于输送平面并且垂直于输送方向的跳跃。例如，至少一个进料装置可以具有锯齿形的道。进料装置的“中断”实施例也是可能的，在该实施例中，进料装置包括多个零件，这些零件具体地彼此间隔开并且相对于输送方向斜向地布置。
在本发明的一种有利的实施方式中，至少一个进料装置具有多个朝上的出口，这些出口沿着至少一个进料装置的纵向延伸方向彼此间隔地布置。
如上所述，该至少一个进料装置可以被配置为管中管系统。在这种情况下，外管有利地具有朝上的出口，用于向上喷出处理溶液。在这种情况下，内管可具有朝下的出口，通过该出口可将处理溶液引入外管。
所述处理设备有利地包括至少一个间隔元件，其布置在内管和外管之间。这种类型的间隔元件优选地用于使两个管彼此保持预定的间隔。此外，有利的是，借助于一个或多个密封元件密封内管和外管之间的间隙。
在当前情况下，管不必理解为是指具有圆形横截面形状的空心体。相应的管可以具有例如多边形的尤其是三角形或矩形的横截面形状，或圆的(尤其是正圆形)、椭圆形或卵形的横截面形状。此外，内管和外管不必必须具有相同的横截面形状。例如，内管可具有圆形横截面形状，而外管可具有矩形横截面形状。
特别地，在具有矩形横截面形状的外管的实施例中，外管可以与待处理的物体一样宽，并且其取向可以平行于输送方向。在此，外管的朝上的出口可以这样分布，即使得在设备运行期间或在实施本方法时，物体的向下的表面被处理溶液流均匀地施加处理溶液。
除了朝上的出口之外，该至少一个进料装置可以朝下的和/或侧向的出口，用于向下和/或侧向喷出处理溶液。这使得处理液在池中能够更均匀地循环。特别地，在至少一个进料装置具有管中管系统的形式的一种改进方案中，外管可具有所述朝下的和/或侧向的出口。
“朝下的出口”应理解为这样布置的出口，即使得例如处理液的流体可以通过所述出口向下流出，可相对于竖直方向有一个偏差。该偏差优选为至多40°，特别优选为至多35°。
“侧向的出口”应理解为是指这样布置的出口，即使得例如处理液的流体可以通过所述出口侧向地流出，可相对于水平方向有一个偏差。在此，该偏差优选为至多40°，特别优选为至多35°。
在一种有利的实施方式中，至少一个进料装置具有多个朝上的出口，这些出口彼此相邻并相对于输送方向倾斜或垂直地布置，以向上喷出处理溶液。以这种方式，处理溶液在空间上更加扩展地被喷到池中，且因此可以实现处理溶液在池中更均匀的循环。特别地，在至少一个进料装置具有管中管系统的形式的一种改进方案中，外管可以具有彼此相邻且相对于输送方向倾斜或垂直地布置的所述出口。
在一种优选的方式中，输送装置具有多个输送辊，所述多个输送辊沿着输送方向依次地布置。此外，优选的是，至少一个进料装置被布置在输送装置的输送辊的下方。
有利的是，至少一个进料装置的朝上的出口相对于输送方向被有利地布置在输送辊的位置处。也就是说，从上方看，至少一个进料装置的出口被输送辊所遮蔽。由此可以达到这样的情况，其中输送辊至少部分地被处理溶液流所流过，由此可以实现处理溶液在输送辊区域中的更好的循环。
输送装置的输送辊尤其可以这样布置，即使得它们的最高点分别被布置在池边缘的高度上。
所述处理设备有利地具有用于将处理溶液引入所述至少一个进料装置的供给装置。该供给装置尤其可以包括连接到该至少一个进料装置的供给管线。特别地，在该至少一个进料装置具有管中管系统的形式的一种改进方案中，内管可以连接到供给管线。
在本发明的一种优选的改进方案中，处理设备具有除气装置，用于从至少一个进料装置中去除气泡和/或富含气泡的处理溶液。除气设备尤其可以具有连接到该至少一个进料装置的排放管线。特别是在该至少一个进料装置具有管中管系统的形式的一种改进方案中，内管可以与排放管线连接。
在实施该方法时，可以通过除气装置将富含气泡的处理溶液或有针对性地仅将收集的气体从至少一个进料装置排出。如果从至少一个进料装置中排出富含气泡的处理溶液，则在从富含气泡的处理溶液中除去气泡之后，可以将处理溶液再次引入该至少一个进料装置中。
有利地，处理设备被设置成沿着传送方向在彼此相邻的多个道上传送待处理的物体。结果，通过该处理设备可以实现高产量。该处理设备例如可以这样配置，即使得其可以实现每道每小时至少500个物体的产量，优选每道每小时至少700个物体，特别优选每道每小时至少900个物体。例如，处理设备可以被设置成沿着传送方向在彼此相邻的五个道上传送待处理的物体，并实现每道每小时1000个物体的产量。
所述至少一个进料装置可以是多个尤其是结构相同的进料装置之一。此外，处理设备可以是每个道具有专用的进料装置。
每个进料装置有利地连接至除气装置的上述排放管线。此外，有利的是，每个进料装置都连接到供给设备的上述供给管线上。
在下文中，将根据附图更详细地描述本发明。在此，在适当的情况下，相同或作用相同的元件具有相同的标号。本发明不限于附图中所示的实施例，甚至不与功能特征有关地限于所示的实施例。之前的描述和以下对附图的描述包含许多特征，这些特征在从属权利要求中被部分地进行了多种组合。然而，本领域技术人员也将单独考虑所述特征，并将它们组合以形成进一步的适当组合。特别地，所述特征可以分别与根据本发明的方法和/或根据本发明的处理设备单独地并且以任何期望的适当组合进行组合。
在附图中：
图1以平面图示出了用于实施根据本发明的方法的根据本发明的处理设备的一个示例性实施方式，
图2示出了沿着图1中的处理设备的A-A截面，
图3示出了处理设备的进料装置的平面图，
图4示出了图3的进料装置的侧视图，
图5示出了图4的进料装置的B-B截面(纵截面)，
图6示出了图4的进料装置的C-C截面(横截面)，且
图7示出了图5的截面图的放大细节(详细的纵截面)。
图1以俯视图示出了根据本发明的用于对物体2进行单面处理的处理设备1的一个示例性实施例。
待处理的物体2(参见图2)例如可以是基板，特别是用于太阳能电池和/或半导体工业的晶片，为了清楚起见，在图1中未示出物体2。
处理设备1包括用于容纳例如蚀刻溶液的处理溶液4的池3(参见图2)。此外，处理设备1包括输送设备5，借助于该输送设备5待处理的物体2可以沿着水平输送方向6被输送通过池3。
此外，处理设备1被设置成借助于输送设备5沿输送方向6在彼此相邻的多个道7上输送待处理的物体2。在图1中，虚线表示各道7的横向边缘。
从图1中可见，输送设备5包括多个输送辊8，这些运输辊沿着输送方向6彼此依次地设置，输送物体2。输送辊8的取向垂直于输送方向6，并且优选地彼此等距地设置。
此外，处理设备1包括多个进料装置9，通过该进料装置9处理溶液4可被引入到池3中。进料装置9被布置在输送辊8的下方。此外，进料装置9优选地被设置在同一高度上，彼此平行，且彼此等距。处理设备1的每个道7均具有用于该道7的专用进料装置9。由于在本示例性实施例中处理设备1被设置为借助于输送设备5来在彼此相邻的五个道7中输送待处理的物体2，所以处理设备1相应地具有五个进料装置9。
各进料装置9都具有直的延伸范围10，该延伸范围在相应的进料装置9的整个长度L上延伸(参见图3至5)，并且与输送方向6相交地取向。另外，各进料装置9被构造为管内管系统的形式，具有外管11和布置在外管11中的内管12(参见图5至7)。
各进料装置9的外管11具有多个朝上的出口13，用于向上喷出处理溶液4(尤其参见图3、4、6和7)。出口13沿输送方向6分别被布置在输送辊8的位置处，各外管11在每个输送辊8具有多个彼此相邻设置的朝上的出口13。由于输送辊8被布置在进料装置9的上方，所以各外管11的出口13在图1中被输送辊8所遮掩并且因此不可见。各进料装置9的内管12具有多个朝下的出口14，用于将处理溶液4引入相关的外管11中(参见图7)。
此外，处理设备1包括用于将处理溶液4引入各进料装置9的内管12中的供给装置15。供给装置15包括供给管线16，各进料装置9(更确切地说是各进料装置9的内管12)通过连接器单元17与供给管线16连接(参见图2)。
此外，处理设备1包括除气装置18，用于从进料装置9去除气泡和/或富含气泡的处理溶液。除气装置18具有排放管线19，各进料设备9(更确切地说是各进料装置9的内管12)通过连接器单元20与排放管线19连接(参见图2)。
图2示出了图1的处理设备1的截面A-A。
从图2可以看出，输送装置5的输送辊8被布置在相同的高度。在本示例性实施例中，输送辊8被布置成使得它们的最高点都处于池3的池边缘21的高度处。也就是说，其中物体2借助于输送设备5被输送的输送平面22位于池边缘21的高度处。这实现了这样的情况，即，在输送辊8上被输送的物体2仅在其朝下的表面23上与填充在池3中直至池边缘21的处理溶液4相接触。
借助于处理溶液4对物体2的处理发生在物体2被输送通过池3的过程中。在该处理的情况下，物体2在其朝下的表面23上与处理溶液4接触。
处理溶液4通过供给设备15的供给管线16被引入到进料装置9的内管12中。处理溶液4从相应的进料装置9的内管12通过其向下的出口14被引入。处理溶液4又通过其向上指向的出口13从相应的进料装置9的外管11向上喷出，其具有处理溶液射流24的构造，其中一些在图2中示意性地示出。
处理溶液射流24形成在已经包含在池3中的处理溶液4中，并与待处理的物体2接触。在通过已经包含在池3中的处理溶液4的过程中，处理溶液射流24呈圆锥形变宽。
如上所述，各进料装置9与输送方向6斜向地取向。对于各进料装置9与输送方向6所成的角度α，其至少约为α＝arcsin((B–2R)/L)，其中L是相应进料装置9的长度，B是待处理物体2的宽度，且R是在输送平面高度处的处理溶液流24的半径。特别地，进料装置9相对于输送方向6的这种取向可以实现这样的情况，即，在物体2通过池3的输送期间，物体2的朝下的表面23的每一点都与处理溶液流24进行接触，而使得在通过池3之后物体2的朝下的表面23的每一点都已经被处理溶液流24处理了同样长的时间。
送进到进料装置9的内管12中的处理溶液4中所含的气泡聚集在各内管12的上部。富含气泡的处理溶液或者仅收集的气体可以经由除气装置18的排放管线19而被排放，该排放管线19连接至进料装置9的内管12。只有少气泡或没有气泡的处理溶液4通过各内管12的向下的出口被排到相连的外管11中，结果是从所述外管11向上喷出的只是少气泡或无气泡的处理溶液4。以此方式，避免或至少减少了进入位于池3中的处理溶液4中的气泡。
图3以示例的方式示出了处理设备1的进料装置9之一的平面图。由于处理设备1的进料装置9在结构上彼此相同，因此以下说明也同样适用于处理设备1的其他进料装置9。
在图3中，可见进料装置9且更确切地说是其外管11的朝上的出口13(参见图5)。从图3中可见，进料装置9的朝上的出口13沿着进料装置9的纵向延伸方向25分布在进料装置9的大体整个长度L上。
此外，图3示出了两个连接器单元17、20，通过它们处理设备1中的进料装置9分别连接到除气装置18的排放管线19和供给设备15的供给管线16。在图3中，将进料装置9连接至除气装置18的排放管线19的连接器单元20被布置在进料装置9的右端，而把进料装置9连接至供给设备15的供给管线16的进料装置9的连接器单元17被布置在进料装置9的左端。
图4示出了图3的进料装置9的侧视图。此外，图4还示出了两个所述连接器单元17、20。
此外，在图4中示出了与图5至图7的截面图有关的两个截面(截面B-B和C-C)。
图5示出了穿过图3的进料装置9和穿过布置在所述进料装置9上的所述连接器单元17、20的截面B-B。
在图5中，除了进料装置9的外管11(在图3和图4中已经显示)之外，其内管12也是可见的。
图6示出了通过图3的进料装置9的截面C-C。
图6以横截面图示出了进料装置9的外管11和内管12。在1点钟位置可以看到外管11的朝上的出口13之一。此外，在图6中可见间隔元件26，该间隔元件被布置在内管12与外管11之间并且将进料装置9的这两个管11、12彼此保持预定的间隔。
图7显示了图5的截面图的放大了的细节。
图7示出了进料装置9的内管12的一部分和外管11的一部分，其中可见内管12的多个朝下的出口14和外管的一些朝上的出口13。
通过内管12的朝下的出口14，处理溶液4被引入外管11中，更确切说是被引入内管12和外管11之间的间隙中，而气泡被分离。气泡聚集在内管11的上部。因此，少气泡或无气泡的处理溶液4流向朝上的出口13。
已上基于所示的实施例详细描述了本发明。然而，本发明不限于所公开的示例。本领域技术人员可以从所述示例性实施例得出其他变型，而不偏离构成本发明基础的构思。
附图标记清单：
1 处理设备
2 物体
3 池
4 处理溶液
5 输送设备
6 输送方向
7 道
8 输送辊
9 进料装置
10 直的延伸范围
11 外管
12 内管
13 朝上的出口
14 朝下的出口
15 供给设备
16 供给管线
17 连接器单元
18 除气装置
19 排放管线
20 连接器单元
21 池边缘
22 输送平面
23 朝下的表面
24 处理溶液流
25 纵向延伸方向
26 间隔元件
L 长度

Claims (15)

1.处理物体(2)的方法，其中：
-通过输送设备(5)将待处理的物体(2)输送通过池(3)；
-通过设有朝上的出口(13)的至少一个进料装置(9)将处理溶液(4)引入到池(3)中，且具有处理溶液流(24)的形式的处理溶液(4)通过朝上的出口(13)被向上喷出；
-物体(2)在朝上的出口(13)的上方被输送通过池(3)，且
-在物体(2)通过池(3)的输送期间，使物体(2)的朝下的表面(23)与处理溶液射流(24)接触。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：
所述处理是单面处理，其中物体(2)的朝下的表面(23)被处理溶液(4)所处理。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于：
在物体(2)通过池(3)的输送期间，使物体(2)的朝下的表面(23)的每个点都以这样的方式与处理溶液流(24)相接触，即：在通过池(3)之后物体(2)的朝下的表面(23)的每个点都已经被处理溶液流(24)处理了同样长的时间。
4.如前述权利要求之一所述的方法，其特征在于：
处理溶液流(24)是在已经盛在池(3)中的处理溶液(4)中构造的。
5.如前述权利要求之一所述的方法，其特征在于：
所述至少一个进料装置(9)被构造为管中管系统，该管中管系统具有外管(11)和布置在外管(11)中的内管(12)，处理溶液(4)通过内管(12)的朝下的出口(14)被引入外管(11)，处理溶液流(24)从外管(11)向上喷到池中(3)。
6.一种用于执行根据前述权利要求中任一项所述的方法的处理设备(1)，包括
-池(3)，用于盛放处理溶液(4)；
-输送设备(5)，用于把待处理的物体(2)沿输送方向(6)输送通过池(3)；
-至少一个进料装置(9)，其被设置在池(3)中，通过该进料装置处理溶液(4)被引入池(3)中；
-该至少一个进料装置(9)具有用于向上喷出处理溶液(4)的朝上的出口(13)。
7.根据权利要求6所述的处理设备(1)，其特征在于：
至少一个进料装置(9)至少部分地且优选完全地以与输送方向(6)非平行的方式在池(3)中延伸。
8.根据权利要求6或7所述的处理设备(1)，其特征在于：
该至少一个进料装置(9)至少部分地具有笔直的延伸部分(10)，该笔直的延伸部分(10)相对于运输方向(6)是斜向的。
9.根据权利要求8所述的处理设备(1)，其特征在于：
所述笔直的延伸部分(10)在至少一个进料装置(9)的整个长度(L)上延伸，且借助于至少一个进料装置(9)的朝上的出口(13)来构造以圆锥形变宽的处理溶液流(24)，至少一个进料装置(9)的所述笔直的延伸部分(10)相对于输送方向(6)成一个角度α，该角度α至少近似等于α＝arcsin((B–2R)/L)，其中L是至少一个进料装置(9)的长度，B是所要处理的物体(2)的宽度，R是处理溶液流(24)在输送设备(5)的输送平面(22)高度处的半径。
10.根据权利要求6至9之一所述的处理设备(1)，其特征在于：
至少一个进料装置(9)具有多个朝上的出口(13)，这些朝上的出口(13)沿着该至少一个进料装置(9)的纵向延伸方向(25)彼此间隔地设置。
11.根据权利要求6至10之一所述的处理设备(1)，其特征在于：
至少一个进料装置(9)被构造为管中管系统，该管中管系统具有外管(11)和布置在外管(11)中的内管(12)，外管(11)具有用于向上喷出处理溶液(4)的朝上的出口(13)，且内管(12)具有朝下的出口(14)，通过该朝下的出口(14)处理溶液(4)被引入外管(12)。
12.根据权利要求6至11中的一项所述的处理设备(1)，其特征在于：
至少一个进料装置具有多个朝上的出口(13)，这些出口彼此相邻地并与输送方向(6)倾斜或垂直地布置，用于向上喷出处理溶液(4)。
13.根据权利要求6至12之一所述的处理设备(1)，其特征在于：
输送装置(5)具沿着输送方向(6)依次设置的多个输送辊(8)，至少一个进料装置(9)被设置在输送辊(8)的下方，至少一个进料装置(9)的朝上的出口(13)在输送方向(6)上被设置在输送辊(8)的位置处。
14.根据权利要求6至13之一所述的处理设备(1)，其特征在于：
除气设备(18)，用于从至少一个进料装置(9)中去除气泡和/或富含气泡沫的处理溶液(4)，该除气设备(18)具有连接到所述至少一个进料装置(9)的排放管线(19)。
15.根据权利要求6至14中的一项所述的处理设备(1)，其特征在于：
处理设备(1)被设置成沿输送方向(6)在彼此相邻的多个道(7)上输送待处理的物体(2)，且所述至少一个进料装置(9)是多个(特别是在结构上相同的)进料装置(9)之一，处理设备(1)的每个道(7)的都有一个专用的进料装置(9)。
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