JPS5919990B2 - 化成処理方法及びその装置 - Google Patents
化成処理方法及びその装置Info
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- JPS5919990B2 JPS5919990B2 JP56012031A JP1203181A JPS5919990B2 JP S5919990 B2 JPS5919990 B2 JP S5919990B2 JP 56012031 A JP56012031 A JP 56012031A JP 1203181 A JP1203181 A JP 1203181A JP S5919990 B2 JPS5919990 B2 JP S5919990B2
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- JP
- Japan
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- chemical conversion
- conversion treatment
- tank
- flow
- sludge
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- Expired
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
- B65C—LABELLING OR TAGGING MACHINES, APPARATUS, OR PROCESSES
- B65C3/00—Labelling other than flat surfaces
- B65C3/06—Affixing labels to short rigid containers
- B65C3/08—Affixing labels to short rigid containers to container bodies
- B65C3/10—Affixing labels to short rigid containers to container bodies the container being positioned for labelling with its centre-line horizontal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は化成処理方法及びその装置に係り、特に化成処
理槽の底部に沈積するスラッジの巻き上げを抑制する一
方、該スラッジを容易に除去することの出来る化成処理
方法及びその装置に関するものである。
理槽の底部に沈積するスラッジの巻き上げを抑制する一
方、該スラッジを容易に除去することの出来る化成処理
方法及びその装置に関するものである。
従来より、化学反応乃至は電気化学反応にて何らかの耐
食性皮膜を鋼板または形鋼などの表面に形成させる化成
処理法、例えば燐酸亜鉛などを用いる燐酸塩処理法が採
用され、特に自動車、橋梁、家電用器具などの鋼材塗装
の下地処理法として広く実用され、その装置も各種のも
のが提供されてきている。
食性皮膜を鋼板または形鋼などの表面に形成させる化成
処理法、例えば燐酸亜鉛などを用いる燐酸塩処理法が採
用され、特に自動車、橋梁、家電用器具などの鋼材塗装
の下地処理法として広く実用され、その装置も各種のも
のが提供されてきている。
ところで、かかる化成処理においては、被処理物たる鋼
板と燐酸塩からなる処理液とが化学反応を惹起して該鋼
板上に目的とする燐酸塩の結晶皮膜を形成せしめること
となるが、その反応過程にＪ おいてはスラッジと呼ば
れる副反応物も生成するようになる。
板と燐酸塩からなる処理液とが化学反応を惹起して該鋼
板上に目的とする燐酸塩の結晶皮膜を形成せしめること
となるが、その反応過程にＪ おいてはスラッジと呼ば
れる副反応物も生成するようになる。
この副反応として生成する化成スラッジは、従来の燐酸
塩皮膜を第１図に示す如きスプレー法で形成せしめてい
た時期では、被処理物Ｗの表面にスプレーＳの強制的圧
力がかかつてい； るところから、該皮膜表面に付着し
て問題を惹起するようなこともなかつたのであるが、近
年において処理法がフルディップ化され、被処理物を処
理液中に全没浸漬せしめて処理を行なうフルデイツプ法
が採用されるに至つて品質低下の大きな要因となつて来
たのである。
塩皮膜を第１図に示す如きスプレー法で形成せしめてい
た時期では、被処理物Ｗの表面にスプレーＳの強制的圧
力がかかつてい； るところから、該皮膜表面に付着し
て問題を惹起するようなこともなかつたのであるが、近
年において処理法がフルディップ化され、被処理物を処
理液中に全没浸漬せしめて処理を行なうフルデイツプ法
が採用されるに至つて品質低下の大きな要因となつて来
たのである。
すなわち、フルデイツプ法では、かかる化成スラツジが
、処理液を収容する処理槽内に浮遊したりするようにな
り、また槽底部に沈積したものが被処理物の移動により
再び槽内に巻き上げられて、結晶皮膜に付着したり、該
皮膜中に取り込まれたりすると、該皮膜の耐食性を劣化
し、また次の電着工程（塗装工程）にも悪影響を及ぼし
たりする等の問題を惹起することとなり、それ故そのよ
うなスラツジは槽外へ除去せしめることが望ましい。こ
のため、従来では、第２図に示す設備によつて、処理液
を循環させて系外に導き、スラツジを除去する方法が試
みられた。
、処理液を収容する処理槽内に浮遊したりするようにな
り、また槽底部に沈積したものが被処理物の移動により
再び槽内に巻き上げられて、結晶皮膜に付着したり、該
皮膜中に取り込まれたりすると、該皮膜の耐食性を劣化
し、また次の電着工程（塗装工程）にも悪影響を及ぼし
たりする等の問題を惹起することとなり、それ故そのよ
うなスラツジは槽外へ除去せしめることが望ましい。こ
のため、従来では、第２図に示す設備によつて、処理液
を循環させて系外に導き、スラツジを除去する方法が試
みられた。
この設備の概略を説明すれば、先ず、処理槽２の底部に
設けられているホツパ一４に集められた高濃度スラツジ
の処理液はポンプＰ１と配管６によりスラツジ除去設備
８に導かれる。スラツジ除去設備８の内部には、スリツ
ト１０が設けられていて、これにより処理液は固液の分
離が行なわれ、そしてスラツジが除去された処理液は、
ポンプＰ２及び配管１２により処理槽２のオーバフロー
槽１４にもどされ、更に該オーバーフロー槽１４に処理
槽２からオーバーフローする処理液と共に、ポンプＰ３
と配管１６により処理槽２内に再び導かれ、処理槽２内
を循環せしめられることとなる。なお、１８は処理液面
を示す。しかるに、系外に設けられるスラツジ除去設備
８は比較的広い場所をとり、設備コスト及び設備条件の
面で適当ではなく、またそれに付帯する配管系も複雑化
する等の欠点があり、更に処理液の循環量も必然的に多
くなり、且つ槽底に沈積するスラツジの巻き上げを充分
に阻止し得ない問題も内在している。
設けられているホツパ一４に集められた高濃度スラツジ
の処理液はポンプＰ１と配管６によりスラツジ除去設備
８に導かれる。スラツジ除去設備８の内部には、スリツ
ト１０が設けられていて、これにより処理液は固液の分
離が行なわれ、そしてスラツジが除去された処理液は、
ポンプＰ２及び配管１２により処理槽２のオーバフロー
槽１４にもどされ、更に該オーバーフロー槽１４に処理
槽２からオーバーフローする処理液と共に、ポンプＰ３
と配管１６により処理槽２内に再び導かれ、処理槽２内
を循環せしめられることとなる。なお、１８は処理液面
を示す。しかるに、系外に設けられるスラツジ除去設備
８は比較的広い場所をとり、設備コスト及び設備条件の
面で適当ではなく、またそれに付帯する配管系も複雑化
する等の欠点があり、更に処理液の循環量も必然的に多
くなり、且つ槽底に沈積するスラツジの巻き上げを充分
に阻止し得ない問題も内在している。
ここにおいて、・本発明は、かかる事情に鑑みて為され
たものであつて、化成処理槽内において沈積するスラツ
ジの巻き上げを効果的に阻止し、且つその除去を容易に
行なうことの出来る方法とその装置を提供することを目
的とし、その要旨とするところは、被処理物を、その搬
送方法とは逆方向に流動せしめられている燐酸塩からな
る化成処理液中に、浸漬せしめて、所定の化成処理を施
すにあたり、かかる化成処理液を収容する処理槽のノ底
部上方に、該化成処理液の流れに対して、その流れの向
きと鈍角をなす角度で、同一方向に傾斜する複数枚の傾
斜板を設け、該化成処理液中に浮遊する化成スラツジが
該傾斜板の間隙を通じて該処理槽の底部に沈積するよう
にし、且つ化成処理液の流れ、被処理物の搬送により、
槽内に舞い上がるのを防止するようにしたことにあり、
またこの方法を好適に実施する装置として、該処理槽の
底部を漏斗状に形成してなる少なくとも一つのホツパ一
部と、前記化成処理液の流れに対して、その流れの向き
と鈍角をなす角度で、該ホツパ一部内に設けられた、同
一方向に傾斜する複数枚の傾斜板とを有するものを用い
るようにしたのである。
たものであつて、化成処理槽内において沈積するスラツ
ジの巻き上げを効果的に阻止し、且つその除去を容易に
行なうことの出来る方法とその装置を提供することを目
的とし、その要旨とするところは、被処理物を、その搬
送方法とは逆方向に流動せしめられている燐酸塩からな
る化成処理液中に、浸漬せしめて、所定の化成処理を施
すにあたり、かかる化成処理液を収容する処理槽のノ底
部上方に、該化成処理液の流れに対して、その流れの向
きと鈍角をなす角度で、同一方向に傾斜する複数枚の傾
斜板を設け、該化成処理液中に浮遊する化成スラツジが
該傾斜板の間隙を通じて該処理槽の底部に沈積するよう
にし、且つ化成処理液の流れ、被処理物の搬送により、
槽内に舞い上がるのを防止するようにしたことにあり、
またこの方法を好適に実施する装置として、該処理槽の
底部を漏斗状に形成してなる少なくとも一つのホツパ一
部と、前記化成処理液の流れに対して、その流れの向き
と鈍角をなす角度で、該ホツパ一部内に設けられた、同
一方向に傾斜する複数枚の傾斜板とを有するものを用い
るようにしたのである。
そして、これによつて、処理槽内にて発生するスラツジ
は処理液の流れや被処理物の移動作用に殆んど影響なく
傾斜板が防御壁となり、その下方の処理槽底部に沈積す
るのであり、それ故沈積したスラツジが巻き（舞い）Ｅ
げられるようなこともなく、またかかる沈積スラツジは
効果的に集められて、一段と容易に槽外へ排出、除去さ
れるようになつたのである。以下、本発明の方法を実施
するに好適な装置の一実施例を示す図面に基づいて更に
詳細に説明することとする。
は処理液の流れや被処理物の移動作用に殆んど影響なく
傾斜板が防御壁となり、その下方の処理槽底部に沈積す
るのであり、それ故沈積したスラツジが巻き（舞い）Ｅ
げられるようなこともなく、またかかる沈積スラツジは
効果的に集められて、一段と容易に槽外へ排出、除去さ
れるようになつたのである。以下、本発明の方法を実施
するに好適な装置の一実施例を示す図面に基づいて更に
詳細に説明することとする。
第３図において、２０は、化成処理液として公知の燐酸
亜鉛溶液を収容する処理槽であるが、第２図の如き槽構
造とは異なり、その底部には被処理物Ｗの搬送方向Ｂに
沿つて水平方向且つ直列に４個（一般には複数個）の漏
斗状に形成されたホツパ一２２が設けられている。
亜鉛溶液を収容する処理槽であるが、第２図の如き槽構
造とは異なり、その底部には被処理物Ｗの搬送方向Ｂに
沿つて水平方向且つ直列に４個（一般には複数個）の漏
斗状に形成されたホツパ一２２が設けられている。
またホツパ一２２の内部には被処理物Ｗの搬送方向に対
して４５２以上、９０被未満の角度α、換言すれば循環
せしめられる処理液の流れに対して、その流れの向きと
鈍角をなす角度をもつた多数の傾斜板２４が互いに平行
に且つホツパ一２２の壁面２３とは所定の間隔を保つて
配設されている。そして傾斜板２４が防御壁となつて処
理液の流動によつても沈下したスラツジが乱されないよ
うになつている。なお、ホツパ一２２の下端にはそれぞ
れ開閉弁２６が取り付けられている。また、処理槽２０
には、被処理物Ｗが傾斜したコンベヤ２７に沿つて入槽
する過程で該被処理物Ｗに対して処理液を吹き付け得る
傾斜噴出管２８と水平噴出管３０とが設けられ、更に入
槽側の処理槽２０底部の平担部（ホツパ一２２のない部
分）３２にホツパ一２２側に向けた吹き寄せノズル３４
が傾斜噴出管２８に連結して設けられている。
して４５２以上、９０被未満の角度α、換言すれば循環
せしめられる処理液の流れに対して、その流れの向きと
鈍角をなす角度をもつた多数の傾斜板２４が互いに平行
に且つホツパ一２２の壁面２３とは所定の間隔を保つて
配設されている。そして傾斜板２４が防御壁となつて処
理液の流動によつても沈下したスラツジが乱されないよ
うになつている。なお、ホツパ一２２の下端にはそれぞ
れ開閉弁２６が取り付けられている。また、処理槽２０
には、被処理物Ｗが傾斜したコンベヤ２７に沿つて入槽
する過程で該被処理物Ｗに対して処理液を吹き付け得る
傾斜噴出管２８と水平噴出管３０とが設けられ、更に入
槽側の処理槽２０底部の平担部（ホツパ一２２のない部
分）３２にホツパ一２２側に向けた吹き寄せノズル３４
が傾斜噴出管２８に連結して設けられている。
また処理槽２０の右端（図において）にはオーバーフロ
ー槽３６が設けられている。従つて、かかる構成におい
て、コンベヤ２７によつて吊り下げられて矢印Ｂ方向に
搬送せしめられる被処理物Ｗが処理槽２０の処理液中に
入槽せしめられる一方、オーバフロー槽３６内の処理液
の一部がポンプＰ４によつて配管３８，４０経由、１傾
斜噴出管２８へ、また配管３８，４２経由、水平噴出管
３０へ導かれ、かかる入槽される被処理物Ｗに対して吹
きかけられる。
ー槽３６が設けられている。従つて、かかる構成におい
て、コンベヤ２７によつて吊り下げられて矢印Ｂ方向に
搬送せしめられる被処理物Ｗが処理槽２０の処理液中に
入槽せしめられる一方、オーバフロー槽３６内の処理液
の一部がポンプＰ４によつて配管３８，４０経由、１傾
斜噴出管２８へ、また配管３８，４２経由、水平噴出管
３０へ導かれ、かかる入槽される被処理物Ｗに対して吹
きかけられる。
また、オーバフローした処理液の残りはポンプＰ５，Ｐ
６によつて配管３８，４４経由、処理槽２０へ導かれ、
処理１槽２０内を矢印Ａ方向に流動して、オーバフロー
槽３６へ流入させられる。また、被処理物Ｗが処理液中
に浸漬を始め、次いで全没して左方（第３図）へ移動す
る初期において被処理物Ｗと処理液との間で盛んに反応
が進２行し、生成した多量のスラツジはその自重によつ
て処理槽底部の各ホツパ一２２及び底部の平担部３２に
沈積するが、この平桓部３２に沈積したスラツジは、前
記配管４０に設けられた吹寄せノズル３４からの処理液
の噴射によつてホツパ一２２２内へ集められる。
６によつて配管３８，４４経由、処理槽２０へ導かれ、
処理１槽２０内を矢印Ａ方向に流動して、オーバフロー
槽３６へ流入させられる。また、被処理物Ｗが処理液中
に浸漬を始め、次いで全没して左方（第３図）へ移動す
る初期において被処理物Ｗと処理液との間で盛んに反応
が進２行し、生成した多量のスラツジはその自重によつ
て処理槽底部の各ホツパ一２２及び底部の平担部３２に
沈積するが、この平桓部３２に沈積したスラツジは、前
記配管４０に設けられた吹寄せノズル３４からの処理液
の噴射によつてホツパ一２２２内へ集められる。
一方、ホツパ一２２上に落下するスラツジは、それぞれ
の平行な傾斜板２４の表面に沿つてそれらの間を通り、
ホツパ一２２の壁面まで落下し、そして更にホツパ一壁
面に沿つて下端部４６に集められる。このホツパ一２２
の下ｊ端部４６に集められたスラツジは開閉弁２６、配
管４８を経てポンプＰ７によりフイルタ部５０に間欠的
に送られ、この段階で系外へ排出される。なお、フイル
タ部５０により最終的に分離された処理液は再びオーバ
フロー槽３６へ戻される。 ３このように、処理槽２
０の底部附近において水平方向に傾斜板２４が配列され
、特にここではホツパ一２２内に設けられた傾斜板２４
の向きが処理液の流動方向（矢印Ａ方向）とは逆向き（
被処理物Ｗの入槽方向と同様な方向）である、すなわク
ち流れ方向（Ａ方向）に対して鈍角とされているため、
処理液の流れが傾斜板２４間に流入して前記下端部４６
に集められたスラツジを掻きまわすようなことはなく、
また被処理物Ｗの搬送操作や傾斜噴出管２８、水平噴出
管３０からの処理液の噴射によつても傾斜板２４が防御
壁となつて沈下したスラツジが乱され、巻き上げられる
ようなこともないのである。従つて、スラツジが処理液
中に浮遊し、或は巻き上げられることによつて被処理物
Ｗにスラツジが付着する等してその品質を低下せしめる
ことが効果的に防止され得るのである。また、処理槽底
部の平担部３２に沈積するスラツジは吹寄せノズル３４
からの処理液の噴出によつて効果的にホツパ一２２に吹
き寄せられてホツパ一２２から槽外に取り出されること
となるので、処理槽２２の底部に多量のスラツジが溜ま
るようなこともなくなつたのである。そして、これによ
つて槽内スラツジ量の低減が効果的に為され、また槽内
に浮遊するスラツジ量も有効に低減され得ることにより
、被処理物Ｗの処理品質（耐食性皮膜品質）の向上を図
り得ることとなつたのである。なお、上記実施例におい
ては直列に並んだ４個のホツパ一２２をすべて同様の大
きさとして説明したが、化成スラツジの発生傾向が被処
理物Ｗと処理液との初期反応段階で最も大きいことから
、被処理物Ｗの入槽側のホツパ一容量を一番大きくし、
出槽側に（図において左側に）近づくにつれてその容量
を小さくした構造も、好適に採用される。次に、本発明
にかかる別の方法及び装置について説明する。
の平行な傾斜板２４の表面に沿つてそれらの間を通り、
ホツパ一２２の壁面まで落下し、そして更にホツパ一壁
面に沿つて下端部４６に集められる。このホツパ一２２
の下ｊ端部４６に集められたスラツジは開閉弁２６、配
管４８を経てポンプＰ７によりフイルタ部５０に間欠的
に送られ、この段階で系外へ排出される。なお、フイル
タ部５０により最終的に分離された処理液は再びオーバ
フロー槽３６へ戻される。 ３このように、処理槽２
０の底部附近において水平方向に傾斜板２４が配列され
、特にここではホツパ一２２内に設けられた傾斜板２４
の向きが処理液の流動方向（矢印Ａ方向）とは逆向き（
被処理物Ｗの入槽方向と同様な方向）である、すなわク
ち流れ方向（Ａ方向）に対して鈍角とされているため、
処理液の流れが傾斜板２４間に流入して前記下端部４６
に集められたスラツジを掻きまわすようなことはなく、
また被処理物Ｗの搬送操作や傾斜噴出管２８、水平噴出
管３０からの処理液の噴射によつても傾斜板２４が防御
壁となつて沈下したスラツジが乱され、巻き上げられる
ようなこともないのである。従つて、スラツジが処理液
中に浮遊し、或は巻き上げられることによつて被処理物
Ｗにスラツジが付着する等してその品質を低下せしめる
ことが効果的に防止され得るのである。また、処理槽底
部の平担部３２に沈積するスラツジは吹寄せノズル３４
からの処理液の噴出によつて効果的にホツパ一２２に吹
き寄せられてホツパ一２２から槽外に取り出されること
となるので、処理槽２２の底部に多量のスラツジが溜ま
るようなこともなくなつたのである。そして、これによ
つて槽内スラツジ量の低減が効果的に為され、また槽内
に浮遊するスラツジ量も有効に低減され得ることにより
、被処理物Ｗの処理品質（耐食性皮膜品質）の向上を図
り得ることとなつたのである。なお、上記実施例におい
ては直列に並んだ４個のホツパ一２２をすべて同様の大
きさとして説明したが、化成スラツジの発生傾向が被処
理物Ｗと処理液との初期反応段階で最も大きいことから
、被処理物Ｗの入槽側のホツパ一容量を一番大きくし、
出槽側に（図において左側に）近づくにつれてその容量
を小さくした構造も、好適に採用される。次に、本発明
にかかる別の方法及び装置について説明する。
第４図において、燐酸亜鉛溶液を収容する処理槽６０内
をコンベヤ６２に吊された被処理物Ｗが浸漬、ついで全
没後、槽内を移動して所定の化成処理を施されるような
構成であることは前実施例と同様であるが、処理槽６０
の底部構造が前例とは異なつている。
をコンベヤ６２に吊された被処理物Ｗが浸漬、ついで全
没後、槽内を移動して所定の化成処理を施されるような
構成であることは前実施例と同様であるが、処理槽６０
の底部構造が前例とは異なつている。
即ち、処理槽６０の底部左側には、漏斗伏に形成された
１個のホツパ一６４が設けられており、その他の底部は
右端に至るまで平担部６６とされている。そして、この
平担部６６の上方に所定間隔をおいて被処理物Ｗの搬送
方向Ｂに対して４５隔以上、９０処未満の角度β、換言
すれば処理液の流れに対して、その流れの向きと鈍角を
なす角度をもつた多数の傾斜板６８が互いに平行に且つ
該搬送方向Ｂに沿つて水平に配設されている。また、ホ
ツパ一６４内にも傾斜板７０が前実施例と同様に、処理
液の流れの向きに対して鈍角をなす角度で、互いに平行
に且つホツパ一６４の壁面７２とは所定の間隔を保つて
配設゜されている。また、底部の平担部６６には、適数
個の吹寄せノズル７４が平担部６６に平行に且つホツパ
一６４に向けて処理液を噴出して沈積するスラツジを吹
き寄せ得るように設けられている。
１個のホツパ一６４が設けられており、その他の底部は
右端に至るまで平担部６６とされている。そして、この
平担部６６の上方に所定間隔をおいて被処理物Ｗの搬送
方向Ｂに対して４５隔以上、９０処未満の角度β、換言
すれば処理液の流れに対して、その流れの向きと鈍角を
なす角度をもつた多数の傾斜板６８が互いに平行に且つ
該搬送方向Ｂに沿つて水平に配設されている。また、ホ
ツパ一６４内にも傾斜板７０が前実施例と同様に、処理
液の流れの向きに対して鈍角をなす角度で、互いに平行
に且つホツパ一６４の壁面７２とは所定の間隔を保つて
配設゜されている。また、底部の平担部６６には、適数
個の吹寄せノズル７４が平担部６６に平行に且つホツパ
一６４に向けて処理液を噴出して沈積するスラツジを吹
き寄せ得るように設けられている。
なお、この吹寄せノズル７４からの噴流の向きは、図示
の如く傾斜板６８に対して鋭角βを為すようにされ、こ
れによつて傾斜板６８の隙間を通つて平坦部６６上に沈
積するスラツジが上方に舞い上げられることなく効果的
にホツパ一６４側に吹き寄せられるようになつている。
このような構成において、コンベヤ６２に吊り下げられ
た被処理物Ｗが矢印Ｂ方向に搬送され、処理液中に浸漬
されて化成処理によりスラツジの生成が始まると、スラ
ツジは傾斜板６８に沿つてそれらの間隙を通つて沈下し
、処理槽６０の平担部６６に沈積し、また傾斜板７０に
沿つてそれらの間隙を通つてホツパ一６４の底部に沈積
する。
の如く傾斜板６８に対して鋭角βを為すようにされ、こ
れによつて傾斜板６８の隙間を通つて平坦部６６上に沈
積するスラツジが上方に舞い上げられることなく効果的
にホツパ一６４側に吹き寄せられるようになつている。
このような構成において、コンベヤ６２に吊り下げられ
た被処理物Ｗが矢印Ｂ方向に搬送され、処理液中に浸漬
されて化成処理によりスラツジの生成が始まると、スラ
ツジは傾斜板６８に沿つてそれらの間隙を通つて沈下し
、処理槽６０の平担部６６に沈積し、また傾斜板７０に
沿つてそれらの間隙を通つてホツパ一６４の底部に沈積
する。
同時にオーバフロー槽７６内の処理液はポンプＰ８によ
つて配管７８，８０経由、前記それぞれの吹き寄せノズ
ル７４から噴射され、平担部６６上のスラツジは傾斜板
６８と平担部６６との間に形成された間隙に沿つて移動
し、ホツパ一６４に集められる。このホツパ一６４内の
スラツジは、間欠的にポンプＰ，によつて開閉弁８２、
配管８４経由、フイルタ部８６に導かれ、そして系外に
排出される。なお、フイルタ部８６により分離された処
理液はオーバフロー槽７６へ戻される。またオーバフロ
ー槽７６内の処理液の残量はポンプＰｌＯ，Ｐｌｌによ
り、配管７８，８８を経由して処理槽６０に導かれ、処
理槽６０内を矢印Ａ方向に流動させられて被処理物Ｗの
化成処理に供されるのである。このように、本実施例に
おいても、前実施例と同様に傾斜板６８，７０が処理液
の流動方向（矢印Ａ方向）とは逆向きの傾斜を持つてい
るために、換言すれば処理液の流れ方向（Ａ方向）に対
して鈍角を為して設けられているために、処理液の流れ
が各傾斜板６８，７０間に流入することなく、被処理物
Ｗの移動によつてもこれが防御壁となつて沈下スラツジ
が巻き上げられるようなことが阻止されるのである。
つて配管７８，８０経由、前記それぞれの吹き寄せノズ
ル７４から噴射され、平担部６６上のスラツジは傾斜板
６８と平担部６６との間に形成された間隙に沿つて移動
し、ホツパ一６４に集められる。このホツパ一６４内の
スラツジは、間欠的にポンプＰ，によつて開閉弁８２、
配管８４経由、フイルタ部８６に導かれ、そして系外に
排出される。なお、フイルタ部８６により分離された処
理液はオーバフロー槽７６へ戻される。またオーバフロ
ー槽７６内の処理液の残量はポンプＰｌＯ，Ｐｌｌによ
り、配管７８，８８を経由して処理槽６０に導かれ、処
理槽６０内を矢印Ａ方向に流動させられて被処理物Ｗの
化成処理に供されるのである。このように、本実施例に
おいても、前実施例と同様に傾斜板６８，７０が処理液
の流動方向（矢印Ａ方向）とは逆向きの傾斜を持つてい
るために、換言すれば処理液の流れ方向（Ａ方向）に対
して鈍角を為して設けられているために、処理液の流れ
が各傾斜板６８，７０間に流入することなく、被処理物
Ｗの移動によつてもこれが防御壁となつて沈下スラツジ
が巻き上げられるようなことが阻止されるのである。
特に、本実施例においては、処理槽の底部構造が簡単で
多数のホツパ一の設備が不要となり、且つまた傾斜板６
８の形状も均一で小形となる特有の効果を有する。
多数のホツパ一の設備が不要となり、且つまた傾斜板６
８の形状も均一で小形となる特有の効果を有する。
また、上述の実施例においては、いずれも傾斜板２４，
６８，７０が被処理物Ｗの搬送方向（矢印Ｂ方向）に対
して４５処以上、９００未満の角度α，βをなし、換言
すれば処理液の流れの向きに対して所定の鈍角をなし、
処理液の流動方向（矢印Ａ方向）とは逆向き（被処理物
Ｗの入槽方向と同様な方向）として、最も効果的な防御
壁効果を持たせたのである。
６８，７０が被処理物Ｗの搬送方向（矢印Ｂ方向）に対
して４５処以上、９００未満の角度α，βをなし、換言
すれば処理液の流れの向きに対して所定の鈍角をなし、
処理液の流動方向（矢印Ａ方向）とは逆向き（被処理物
Ｗの入槽方向と同様な方向）として、最も効果的な防御
壁効果を持たせたのである。
要するに、好ましくは前記傾斜板２４，６８，７０の各
角度α，βが４５以上、９０４未満となるように、処理
液の流れの向きに対して、それら傾斜板が鈍角を為すよ
うに配置せしめる必要があるのである。けだし、４５′
。以上の場合には、傾斜板上にスラツジが滞留、沈積す
るようなことがなく、容易にすべり落下するため、連続
的に除去できるからであり、一方それらの角度が４５除
よりも小さくなると、各傾斜板の上にスラツジが滞留し
て落下し難くなり、その場合には傾斜板の長さを波（処
理液）の乱流の程度により短くする必要があるからであ
る。以上詳述したように、本発明は、化成処理装置にお
ける処理槽の底部構造を改良するとともに、傾斜板を防
御壁として底部に沈積するスラツジを乱すことなく集め
て容易に除去せしめ得るようにしたものであつて、これ
によりかかる化成処理槽底部に沈積するスラツジの処理
液中への巻き上げを防止して、得られる製品の品質を効
果的に向上せしめたところに、大きな工業的意義を有す
るものである。
角度α，βが４５以上、９０４未満となるように、処理
液の流れの向きに対して、それら傾斜板が鈍角を為すよ
うに配置せしめる必要があるのである。けだし、４５′
。以上の場合には、傾斜板上にスラツジが滞留、沈積す
るようなことがなく、容易にすべり落下するため、連続
的に除去できるからであり、一方それらの角度が４５除
よりも小さくなると、各傾斜板の上にスラツジが滞留し
て落下し難くなり、その場合には傾斜板の長さを波（処
理液）の乱流の程度により短くする必要があるからであ
る。以上詳述したように、本発明は、化成処理装置にお
ける処理槽の底部構造を改良するとともに、傾斜板を防
御壁として底部に沈積するスラツジを乱すことなく集め
て容易に除去せしめ得るようにしたものであつて、これ
によりかかる化成処理槽底部に沈積するスラツジの処理
液中への巻き上げを防止して、得られる製品の品質を効
果的に向上せしめたところに、大きな工業的意義を有す
るものである。
第１図は従来のスプレー方式による化成処理装置の断面
略図、第２図は従来のフルデイツプ式化成処理装置の断
面略図、第３図は本発明方法を実施するに好適な装置の
一実施例に係る断面略図、第４図は同じくその別の実施
例に係る断面略図である。 ２０，６０：処理槽、２２，．２４：ホツパ一、２４，
６８，７０：傾斜板、３２，６６：平担部、３４，７４
：吹き寄せノズル。
略図、第２図は従来のフルデイツプ式化成処理装置の断
面略図、第３図は本発明方法を実施するに好適な装置の
一実施例に係る断面略図、第４図は同じくその別の実施
例に係る断面略図である。 ２０，６０：処理槽、２２，．２４：ホツパ一、２４，
６８，７０：傾斜板、３２，６６：平担部、３４，７４
：吹き寄せノズル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被処理物を、その搬送方向とは逆方向に流動せしめ
られている燐酸塩からなる化成処理液中に、浸漬せしめ
て、所定の化成処理を施すにあたり、かかる化成処理液
を収容する処理槽の底部上方に、該化成処理液の流れに
対して、その流れの向きと鈍角をなす角度で、同一方向
に傾斜する複数枚の傾斜板を設け、該化成処理液中に浮
遊する化成スラッジが該傾斜板の間隙を通じて該処理槽
の底部に沈積するようにし、且つ化成処理液の流れ、被
処理物の搬送により、槽内に舞い上がるのを防止するよ
うにしたことを特徴とする化成処理方法。 ２ 処理槽内に収容され流動せしめられている、燐酸塩
からなる化成処理液中に、その流れとは逆方向に搬送さ
れる被処理物を浸漬せしめて所定の化成処理を施すよう
にした化成処理装置にして、該処理槽の底部に設けられ
た、該底部を漏斗状に形成してなる少なくとも一つのホ
ッパー部と、前記化成処理液の流れの向きと鈍角をなす
角度で、該ホッパー部内に設けられた、同一方向に傾斜
する複数枚の傾斜板とを、含むことを特徴とする化成処
理装置。 ３ 該処理槽底部の前記ホッパー部の設けられていない
平坦な部分の上方に、前記化成処理液の流れに対して、
その流れの向きと鈍角をなす角度で、同一方向に傾斜す
る複数枚の傾斜板を水平方向に設けると共に、該平坦な
底部部分に沈積する化成スラッジを化成処理液の噴出に
よつて該ホッパー部側に吹き寄せる吹き寄せノズルを、
それからの噴流の向きが前記傾斜板に対して鋭角を為す
ように、設けた特許請求の範囲第２項記載の装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56012031A JPS5919990B2 (ja) | 1981-01-29 | 1981-01-29 | 化成処理方法及びその装置 |
| DE8181103487T DE3162243D1 (en) | 1980-05-12 | 1981-05-07 | Apparatus for the surface treatment of an object |
| EP19810103487 EP0040369B1 (en) | 1980-05-12 | 1981-05-07 | Apparatus for the surface treatment of an object |
| US06/318,418 US4399768A (en) | 1981-01-29 | 1981-11-05 | Apparatus for the surface treatment of an object |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56012031A JPS5919990B2 (ja) | 1981-01-29 | 1981-01-29 | 化成処理方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57126976A JPS57126976A (en) | 1982-08-06 |
| JPS5919990B2 true JPS5919990B2 (ja) | 1984-05-10 |
Family
ID=11794230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56012031A Expired JPS5919990B2 (ja) | 1980-05-12 | 1981-01-29 | 化成処理方法及びその装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4399768A (ja) |
| JP (1) | JPS5919990B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4745012A (en) * | 1986-02-28 | 1988-05-17 | William C. Richards Co. | Process for workpiece coating with a conductive primer |
| US4962139A (en) * | 1986-02-28 | 1990-10-09 | W. C. Richards Company | Conductive primer compositions with primary resin binder |
| DE3824063A1 (de) * | 1988-07-15 | 1990-01-18 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren zur verminderung der verkrustung von phosphatieranlagen |
| ES2068723T3 (es) * | 1992-05-21 | 1995-04-16 | Joergens Klaus | Procedimiento para el recubrimiento de cuerpos huecos y dispositivos para la realizacion del mismo. |
| US5657714A (en) * | 1995-10-06 | 1997-08-19 | Hsia; Chih-Yu | Methods and means of transporting fresh water across oceans |
| IL153187A0 (en) | 2000-05-30 | 2003-06-24 | Inbar Water Distrib Company Lt | Flexible vessel |
| US6689217B2 (en) * | 2001-12-12 | 2004-02-10 | Dürr Industries, Inc. | Apparatus for chemically treating a metal part |
| FR2847795B1 (fr) * | 2002-11-29 | 2005-09-16 | Ela Medical Sa | Dispositif de mesure non invasive de la pression arterielle, notamment pour le suivi ambulatoire en continu de la pression arterielle |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3992300A (en) * | 1972-09-27 | 1976-11-16 | Trw Inc. | Apparatus for controlling iron content of a zinc phosphating bath |
| US4196023A (en) * | 1974-03-25 | 1980-04-01 | Carrier Drysys Limited | Treating automobile bodies |
| IT1107730B (it) * | 1977-05-12 | 1985-11-25 | Cie Continentale S C E A R Srl | Impianto per il trattamento di fosfatazione organica di strutture metalliche,inglobante delle apparecchiature ad ultrasuoni |
| JPS5576076A (en) * | 1978-12-05 | 1980-06-07 | Nippon Paint Co Ltd | Immersion type phosphate-treating method and apparatus thereof |
| US4287004A (en) * | 1979-12-05 | 1981-09-01 | Nippon Paint Co., Ltd. | Dip phosphating process |
-
1981
- 1981-01-29 JP JP56012031A patent/JPS5919990B2/ja not_active Expired
- 1981-11-05 US US06/318,418 patent/US4399768A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4399768A (en) | 1983-08-23 |
| JPS57126976A (en) | 1982-08-06 |
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