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Stand der Technik
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Die Erzeugung von UV-Licht und VUV-Licht durch Anregung von Gasen oder Gasgemischen mit hochfrequenten elektrischen Wellen, insbesondere mit Mikrowellen, ist bspw. aus der
DE 41 36 297 A1 bekannt. Bei diesem UV-Strahler ist, ebenso wie bei vielen anderen aus dem Stand der Technik bekannten UV-Strahlern, die Energiedichte der Mikrowellen und des durch die Mikrowellen erzeugten Plasmas stark ortsabhängig.
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Aus der
DE 199 55 671 A1 ist eine Vorrichtung zum Erzeugen von Plasma bekannt, bei dem der Versuch unternommen wird, Plasma mit einer sehr homogenen Energiedichte innerhalb einer Behandlungskammer bereitzustellen.
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Aus der
DE 41 09 895 C2 ist eine Vorrichtung zur Erzeugung von UV-Licht mit einer Kammer bekannt. In der Kammer befindet sich ein gasgefüllter Plasmakolben. Außerhalb dieser Kammer ist ein Magnetron vorhanden, das eine Mikrowellenstrahlung erzeugt, die über einen Wellenleiter und Öffnungen in der Kammer in die Kammer geleitet wird. Dort regen die Mikrowellen das in dem Plasmakolben befindliche Gas oder Gasgemisch an, so dass es UV-Strahlen emittiert.
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Nachteilig an dieser Vorrichtung ist deren komplizierter Aufbau. Bei dieser Vorrichtung werden zwei Magnetrons benötigt, um das in einem Plasmakolben mit einer Länge von etwa 15 cm Länge befindliche Gas zur Emission von UV-Licht anzuregen. Des Weiteren wird für jedes Magnetron ein Wellenleiter benötigt.
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Aus der
DE 10 2006 022 970 B3 ist eine Vorrichtung zur Erzeugung von UV-Licht bekannt, die eine flächige Abstrahlung von UV-Licht erlaubt. Dies wird dadurch erreicht, dass eine Vielzahl länglicher Plasmakolben nebeneinander angeordnet wird.
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Aus der
US 5 923 116 A ist eine Leuchte bekannt mit einem Leuchtmittel ohne Elektrode, das eine gasgefüllte Kammer und mindestens eine Reflektor-Elektrode umfasst, die in unmittelbarer Nähe, aber nicht innerhalb des Leuchtmittels angeordnet ist. Diese Reflektor-Elektrode dient zur Übertragung elektromagnetischer Energie auf das Gas, welches sich in dem Leuchtmittel befindet. Dadurch wird das Gas angeregt, sodass es Licht aussendet. Die Reflektor-Elektrode dient außerdem dazu, das Licht, welches von dem in dem Leuchtmittel befindlichen Gas emittiert wird, zu reflektieren.
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Aus der
US 2007/0228300 A1 ist eine Leuchte bekannt, die eine Kammer und Zündquelle umfasst, wobei die Zündquelle das Gas innerhalb der Kammer ionisiert. Die Leuchte umfasst auch mindestens einen Laser, der Energie in das ionisierte Gas innerhalb des Leuchtmittels zuführt, um sehr helles Licht zu erzeugen.
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Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zur Erzeugung von UV-Licht und/oder Vakuum-UV-Licht (VUV-Licht), bereitzustellen, die einfach und kostengünstig herstellbar ist und viele Freiheiten hinsichtlich Größe der Lichtaustrittsfläche und der Ausrichtung des emittierten UV-Lichts bietet.
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Diese Aufgabe wird bei einer Vorrichtung zur Erzeugung von UV-Licht nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 dadurch gelöst, dass die Plasmakammer mindestens zweiteilig ist, dass ein erstes Teil den für UV-Licht und/oder VUV-Licht durchlässigen ersten Bereich bildet und dass ein zweites Teil den für UV-Licht und/oder VUV-Licht undurchlässigen zweiten Bereich bildet.
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Durch Trennung der Plasmakammer in zwei Teile, von denen einer transmissiv für UV- oder VUV-Licht ist und der zweite Teil UV-Licht und/oder VUV-Licht reflektiert, kann die Werkstoffwahl für diese beiden unterschiedlichen Bereiche jeweils für sich optimiert werden. Dadurch können Herstellungskosten reduziert werden. Gleichzeitig ergeben sich verbesserte Gestaltungsmöglichkeiten bezüglich der Austrittsfläche für das UV-Licht beziehungsweise das VUV-Licht und die Ausrichtung der aus dem ersten Bereich austretenden UV-Strahlen. Somit kann das mit der erfindungsgemäßen Plasmakammer erzeugte UV-Licht sehr gut an die Anforderungen des Einsatzfalls angepasst werden.
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So ist es beispielsweise möglich, den zweiten Bereich als angenähert parabelförmigen Reflektor auszubilden und den ersten Bereich, an dem das UV-Licht austritt, als mehr oder weniger plane Scheibe auszubilden, so dass die erfindungsgemäße Plasmakammer die optischen Eigenschaften eines Scheinwerfers hat.
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Gleichzeitig ist die plane Scheibe fertigungstechnisch sehr gut beherrschbar. Entsprechendes gilt auch für den zweiten Bereich, der vorzugsweise aus Oxidkeramik besteht. Oxidkeramik ist nicht transmissiv für das UV-Licht, sondern reflektiert dieses und wird durch Sintern hergestellt. Beim Sintern wird zunächst ein sogenannter Grünling gepresst, der in erster Näherung die Form des späteren zweiten Teils aufweist. Dabei sind der Formgebung nur wenig Grenzen gesetzt. Es ist beispielsweise möglich, Stützen, Rippen oder Dichtflächen auszubilden, die zusammen mit der Quarzglasscheibe eine gute Abdichtung und eine Druckbeständigkeit der Plasmakammer ergeben.
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Nachdem dieser Grünling getrocknet wurde, wird er anschließend in einem Sinterprozess bei etwa 1000°C gesintert und erhält dadurch seine Festigkeit. Durch eine geeignete Formgebung ist es möglich, dass der zweite Teil nach dem Sintern nur wenig oder sogar gar nicht mehr mechanisch nachgearbeitet werden muss, was die Fertigungskosten weiter reduziert.
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Um eine dichtende Verbindung zwischen dem ersten Teil und dem zweiten Teil zu erreichen, wird die Quarzglasscheibe stoffschlüssig mit dem zweiten Teil aus Oxidkeramik, vorzugsweise im Bereich einer Dichtfläche, verbunden. Diese stoffschlüssige Verbindung kann beispielsweise durch Löten und/oder Kleben erreicht werden. Besonders bevorzugt wird dabei das erste Teil mit dem zweiten Teil in einer besonderen Atmosphäre gefügt, wobei die Atmosphäre genau die Gaszusammensetzung hat und den Druck, welcher im Innern der Plasmakammer nach dem Fügevorgang herrschen soll. Dies bedeutet, dass, wenn das erste Teil und das zweite Teil in dieser Atmosphäre miteinander dichtend gefügt werden, automatisch im Inneren der dann hermetisch abgeschlossenen Plasmakammer die gewünschte Gaszusammensetzung und der gewünschte Druck herrschen, so dass auch hier eine sehr rationelle und einfache Fertigungstechnik eingesetzt werden kann.
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Es hat sich in vielen Anwendungsfällen als vorteilhaft erwiesen, wenn der erste Teil im Wesentlichen als Ebene ausgebildet ist. Selbstverständlich ist es auch möglich, dieses erste Teil als Sammellinse auszubilden, wobei dann die der Plasmakammer zugewandte Oberfläche mindestens im Bereich der Dichtfläche bevorzugt eben ausgeführt ist, damit eine einfache und sicher abdichtende Fügeverbindung zwischen der Quarzscheibe und dem zweiten Teil aus Oxidkeramik hergestellt werden kann.
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Der zweite Teil der Plasmakammer weist bevorzugt eine konkave Oberflächenkontur auf, welche im Wesentlichen das Volumen der Plasmakammer bildet. Gleichzeitig ist diese konkave Oberflächenkontur so gestaltet, dass sie als Reflektor für die UV- und/oder VUV-Strahlung ausgebildet ist. Dadurch ist es möglich, das in der Plasmakammer erzeugte UV- oder VUV-Licht so auszurichten, dass das aus dem ersten Teil austretende UV-Licht entweder parallel gerichtete U-Strahlen emittiert oder die UV-Strahlen auf einen Brennpunkt fokussiert sind, so dass dort eine besonders hohe Leistungsdichte erzielbar ist.
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Es kann vorteilhaft sein, sowohl die konkave Oberflächenkontur des zweiten Teils als auch das der Plasmakammer zugewandte erste Teil mit geeigneten Beschichtungen zu versehen. Dadurch können beispielsweise die optischen Eigenschaften des zweiten Teils gezielt beeinflusst werden.
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Das Fügen von erstem Teil und zweitem Teil ist dann am Einfachsten, wenn im zweiten Teil eine im wesentlichen ebene und geschlossene Dichtfläche ausgebildet ist.
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Wenn die Plasmakammer sehr groß ist und im Inneren der Plasmakammer ein großer Unterdruck herrscht, kann es hilfreich sein, wenn das zweite Teil Rippen und/oder Stützen aufweist, welche die auf die Quarzglasscheibe wirkenden Druckkräfte teilweise aufnehmen, so dass die Durchbiegung der Quarzglasscheibe verringert wird.
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In weiterer vorteilhafter Ausgestaltung der Erfindung ist vorgesehen, dass das zweite Teil und/oder das erste Teil durchlässig für Mikrowellen sind.
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Dadurch, dass die erfindungsgemäße Vorrichtung gerichtetes und sogar fokussiertes UV-Licht emittiert, können verschiedenste fotochemische und fotophysikalische Prozesse so angeregt werden, dass diese Prozesse gleichmäßig und mit hoher Reaktionsgeschwindigkeit ablaufen. Beispielsweise kann die Desinfektion von Trink- und Abwässern, Abgasen und von festen Stoffen, wie bspw. Lebensmitteln, Nassoxidationsprozesse, Synthesen, insbesondere von Vitaminen, UV-Polymerisationsreaktionen, Aushärteprozesse und/oder biochemische Prozesse mit dem von dem erfindungsgemäßen Unterdruckbehälter emittierten UV-Licht oder VUV-Licht initiiert werden.
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Die erfindungsgemäße Vorrichtung kann prinzipiell UVA, UVB, UVC und Vakuum-UV-Licht in einem Wellenlängenbereich von 200 bis 400 nm (UV-Licht) sowie von 100 nm bis 200 nm (VUV-Licht) emittieren.
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Die von dem Unterdruckbehälter emittierten Wellenlängen des UV-Lichts hängen u. a. davon ab, mit welchem Gas oder Gasgemisch die Plasmakolben gefüllt sind, welcher Druck in den Plasmakolben herrscht und wie das in den Plasmakolben befindliche Gas, bzw. Plasma angeregt wird. Die Anregung des Gases im Unterdruckbehälter kann bspw. durch Mikrowellenenergie erfolgen.
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Zur Füllung der Plasmakolben können Edelgase, Halogenide, Inertgase, Kohlenwasserstoffe, Sauerstoff, Stickstoff oder Mischungen bzw. chemische Verbindungen dieser Gase verwendet werden. Vorzugsweise herrscht in der Plasmakammer ein Druck zwischen 10–9 mbar und 1 bar.
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Durch die Auswahl des Gases oder des Gasgemisches, welches in die Plasmakolben gefüllt wird, sowie des Drucks in den Plasmakolben oder durch die Verwendung von Plasmakolben, die mit verschiedenen Gasen oder Gasgemischen gefüllt sind, in einer Vorrichtung, kann das Emissionsverhalten des Unterdruckbehälters in weiten Bereichen variiert und gesteuert werden, so dass das emittierte UV-Licht optimal an den photochemischen oder -physikalischen Prozess, der mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung initiiert werden soll, angepasst werden kann.
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Die erfindungsgemäße Vorrichtung kann für die verschiedensten Einsatzzwecke verwendet werden. Insbesondere ist diese erfindungsgemäße Vorrichtung für jegliche fotochemischen oder fotophysikalischen Prozesse, die vorzugsweise in gasförmiger, flüssiger oder fester Phase (auch Gele) initiiert werden können, geeignet. Die möglichen Anwendungen der erfindungsgemäßen Vorrichtung umfasst beispielsweise die UV-Desinfektion von Trink- und Abwässern, Abgasen und von festen Werkstoffen (beispielsweise von Kunststofffolien, die für Verpackungszwecke in der Lebensmittelindustrie desinfiziert werden müssen), Oxidationsprozesse, Synthesen, beispielsweise von Vitamin D u. a., UV-Polymerisationsreaktionen, Aushärteprozesse sowie biochemische Prozesse, die mit UV-Licht initiiert werden können.
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Weitere Vorteile und vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind den in der nachfolgenden Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispielen, deren Beschreibung und den Patentansprüchen entnehmbar.
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Zeichnung
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Es zeigen:
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1 bis 8: Verschiedene Ausführungsbeispiele erfindungsgemäßer Plasmakammern.
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In den 1a bis 1c sind drei Ausführungsbeispiele erfindungsgemäßer Plasmakammern 1 im Schnitt dargestellt. Die Plasmakammer 1 wird von einem ersten Teil 3 und einem zweiten Teil 5 begrenzt und schließt ein Gas oder ein Gasgemisch ein, welches bei geeigneter Anregung zum Beispiel durch Mikrowellen UV-Licht und/oder VUV-Licht emittiert. Der Druck in der Plasmakammer 1 kann deutlich geringer als der Umgebungsdruck sein und beispielsweise zwischen 10–4 mbar und 1 bar betragen. Das erste Teil 3 besteht aus einem Werkstoff, der transmissiv für UV-Licht und/oder VUV-Licht ist. Dies ist in 1 durch Pfeile angedeutet. Als geeignete Werkstoffe für das erste Teil 3 haben sich natürliches und/oder synthetisches Quarzglas sowie Saphirglas herausgestellt.
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Ein geeignetes Material für das zweite Teil ist beispielsweise Oxidkeramik, die durch Sintern in eine Vielzahl auch komplizierter geometrischer Formen gebracht werden kann.
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Weil es leichter ist, dem zweiten Teil 5 eine der gewünschten Anwendung der als UV-Licht dienenden Plasmakammer 1 entsprechende Form zu geben, ist erfindungsgemäß vorgesehen, das zweite Teil 5 im Wesentlichen konkav auszuführen und das erste Teil 3 im Wesentlichen als ebene (Glas-)Scheibe auszubilden.
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Die Dichtfläche zwischen dem ersten Teil 3 und dem zweiten Teil 5 ist in der 1a mit dem Bezugszeichen 7 gekennzeichnet. Diese Dichtfläche ist eben und kann daher sehr einfach und sehr präzise hergestellt werden, so dass sich ein sehr geringer Dichtspalt zwischen dem ersten Teil 3 und dem zweiten Teil 5 ergibt. Dadurch ist es relativ einfach, eine gasdichte Verbindung zwischen dem ersten Teil 3 und dem zweiten Teil 5 auch in der Serienfertigung und vollautomatisiert herzustellen.
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Diese Verbindung kann bevorzugt durch ein stoffschlüssiges Fügeverfahren, wie zum Beispiel Laser-Löten oder mit Hilfe einer Klebeverbindung, hergestellt werden. Wenn das erste Teil 3 und das zweite Teil 5 in einer Atmosphäre gefügt werden, die der gewünschten Füllung in der Plasmakammer 1 entspricht, dann ist es nicht nötig, noch gesonderte Füllöffnungen vorzusehen, durch die anschließend die Gasfüllung in die Plasmakammer 1 eingefüllt wird. Selbstverständlich ist dies nur dann möglich, wenn in der Schutzgasatmosphäre auch der gewünschte Druck in der Plasmakammer herrscht. Weil übliche Drücke für die Plasmakammer 1 im Bereich eines Grobvakuums liegen, ist dies auch beim Fügevorgang zwischen erstem Teil 3 und zweitem Teil 5 ohne größere technische Probleme möglich.
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Durch die erfindungsgemäße zweiteilige Bauweise ist es möglich, eine sehr kostengünstige Fertigung der Plasmakammer 1 vorzunehmen, die trotzdem über einen sehr hohen Wirkungsgrad und Leistungsdichte verfügt. Dies beruht unter anderem auch darauf, dass das zweite Teil 5 die in der Plasmakammer 1 entstehende UV-Lichtstrahlung reflektiert, so dass diese nach einem oder mehreren Reflexionen an dem zweiten Teil 5 ebenfalls durch die Quarzglasscheibe hindurchtritt und somit die effektive Lichtleistung der erfindungsgemäßen Plasmakammer erhöht. Da die Plasmakammer 1 letztendlich von mehreren ebenen Wänden begrenzt wird und das Plasma in der Plasmakammer 1 über das gesamte Volumen und in alle Richtungen UV-Licht emittiert, gelangt ein Großteil des emittierten UV-Lichts zunächst an die reflektierenden Wände des zweiten Teils 5, wird dort ein- oder mehrfach reflektiert, bevor es dann durch die Quarzglasscheibe 3 nach außen tritt und dort als effektive nutzbare Lichtleistung zur Verfügung steht.
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Damit das Plasma in der Plasmakammer 1 UV-Licht oder VUV-Licht emittiert, muss es angeregt werden. Dies kann durch ein Magnetron (nicht dargestellt) erfolgen, das Mikrowellen aussendet, die ins Innere der Plasmakammer 1 gelangen. Die Oxidkeramik des zweiten Teils 5 ist durchlässig für Mikrowellen, so dass beispielsweise diese Mikrowellen über das zweite Teil 5 in die Plasmakammer 1 eingekoppelt werden können. Alternativ oder zusätzlich ist es auch möglich, Mikrowellen über die Quarzglasscheibe 3 in die Plasmakammer 1 einzukoppeln.
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In der 1a ist der Lötzusatz an der Dichtfläche 7 nicht dargestellt. Dennoch ist es beim Laser-Löten erforderlich, ein Lot zuzugeben. Das Lot kann aus gemahlenem Glas sowie Additiven bestehen. Das für das Lot verwandte Glas sollte einen möglichst niedrigen Schmelzpunkt von zum Beispiel 450°C haben.
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In der 1b ist ein zweites Ausführungsbeispiel dargestellt, bei dem sowohl das erste Teil 3 als auch das zweite Teil 5 konkav ausgebildet sind, so dass sich die Dichtflächen 7 gewissermaßen in der Symmetrieebene des in 1b dargestellten Längsschnitts befinden.
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Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 1c ist das erste Teil 3 konkav ausgeführt und das zweite Teil 5 als ebene Fläche ausgebildet. Infolgedessen wird der Abstrahlwinkel, unter dem UV-Licht aus der Plasmakammer 1 in die Umgebung gelangt, zunehmend größer, beginnend bei dem ersten Ausführungsbeispiel gemäß 1a bis zu dem Ausführungsbeispiel gemäß 1c. Auch dies ist andeutungsweise mit Hilfe der Pfeile dargestellt.
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Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 2 ist das zweite Teil 5 beispielsweise als umlaufender kreisförmiger Ring ausgebildet, während es zwei erste Teile 3 gibt, die als kreisförmige ebene Platten aus Quarzglas hergestellt sind. Demzufolge gibt es zwei Dichtflächen 7, um die beiden ersten Teile 3 dichtend und gasdicht mit dem zweiten Teil 5 verbinden zu können.
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In 3 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Plasmakammer 1 dargestellt. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist eine Rippe 9 beziehungsweise eine Stütze an dem zweiten Teil 5 ausgebildet. Diese Stütze oder Rippe 9 dient dazu, die auf die Quarzglasscheibe 3 wirkenden Druckkräfte aufzunehmen. Dadurch ist es möglich, auch sehr große Plasmakammern 1 mit Quarzglasscheibe beziehungsweise Saphirglasscheibe 3 mit sehr geringer Dicke herzustellen. Dort, wo die Quarzglasscheibe 3 auf der Rippe 9 aufliegt, müssen diese nicht miteinander stoffschlüssig verbunden werden, weil der Umgebungsdruck die Quarzglasscheibe 3 ohnehin gegen die Rippe 9 drückt.
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In der 4 wird ein erstes Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Plasmakammer 1 dargestellt, bei der das zweite Teil 5 einen in erster Näherung parabelförmigen Querschnitt hat, so dass die aus der Quarzglasscheibe 3 austretende UV-Strahlung mehr oder weniger gleich gerichtete parallele Strahlen umfasst.
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Weil auch bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 4 das Plasma in der gesamten Plasmakammer 1 bei entsprechender Anregung durch Mikrowellen oder andere geeignete elektromagnetische Wellen UV-Licht emittiert, ist es nicht möglich, eine vollständige Ausrichtung aller aus der Quarzglasscheibe 3 austretenden Lichtstrahlen zu erreichen, wie dies bei einer Punktlichtquelle, die im Brennpunkt eines paraboloiden Reflektors positioniert ist, der Fall ist. Dennoch ist es durch die erfindungsgemäße Bauweise möglich, die aus der Quarzglasscheibe 3 austretende UV- oder VUV-Strahlung mehr oder weniger relativ gut zu bündeln, parallel auszurichten oder sogar auf einen Brennpunkt beziehungsweise einen Brennbereich zu fokussieren.
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Dabei kommen zwei wichtige Eigenschaften des zweiten Teils 5 zum Tragen: Zum einen ist das zweite Teil reflektierend für die in der Plasmakammer 1 entstehende UV- beziehungsweise VUV-Strahlung und zum anderen sind der Formgebung des zweiten Teils 5 wegen des sehr gut formbaren Werkstoffs Oxidkeramik nur wenig Grenzen gesetzt.
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In 5 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Plasmakammer dargestellt, bei der das erste Teil 3 als Kreis ebenso wie das zweite Teil 5 als Kreissegment oder Kugelsegment im Querschnitt ausgebildet sind, so dass sich damit zylindrische oder kugelförmige Plasmakammern herstellen lassen, die auf der einen Seite UV-Licht emittieren und auf der anderen Seite das UV-Licht nicht durchlassen.
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Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 6a ist das für UV-Licht transmissive erste Teil 3 als kreisringförmiger Rohrabschnitt ausgebildet, während im Inneren dieses Rohrabschnitts 3 ein Rohrabschnitt aus einem für UV-Licht beziehungsweise VUV-Licht nicht transmissiven Material angeordnet ist. Die Plasmakammer 1 ist in diesem Fall als zylindrischer Ringraum ausgebildet. Diese Plasmakammer 1 kann im gesamten Umfang von 360° UV-Licht emittieren. Im Inneren des zweiten Teils 5 kann ein Magnetron vorgesehen sein, dessen Mikrowellen in die Plasmakammer 1 eindringen und das in der Plasmakammer 1 befindliche Gas zum Leuchten anregen.
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Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 6b ist das für UV-Licht transmissive erste Teil 3 innerhalb des für UV-Licht beziehungsweise VUV-Licht nicht transmissiven zweiten Teils 5 angeordnet. In diesem Fall emittiert die Plasmakammer 1 UV-Licht in den von dem ersten Teil 3 begrenzten Kanal 12. In diesem Kanal 12 kann zum Beispiel Abwasser strömen, das durch UV-Licht oder VUV-Licht desinfiziert werden soll.
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In der 7 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen Plasmakammer 1 dargestellt. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist in dem zweiten Teil 5 ein Falz ausgespart, in den das erste Teil 3 eingesetzt wird.
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Durch den Unterdruck, der in der Plasmakammer 1 herrscht, wird die Quarzglasplatte 3 beziehungsweise Saphirglasplatte 3 gegen einen Absatz 11 des zweiten Teils 5 gepresst. Die Dichtfläche 7 befindet sich in diesem Fall am Außenumfang der Quarzglasplatte 5, wie durch eine Lötnaht 13 angedeutet ist. Dadurch kann der zum Löten erforderliche Laserstrahl (nicht dargestellt) durch eine einfache Zwei-Achsen-Bahnsteuerung parallel zu der Scheibe 3 entlang der Lötnaht geführt werden und somit das erste Teil 3 und das zweite Teil 5 miteinander verbunden werden. Bei diesem Ausführungsbeispiel ist es auch denkbar, die Abdichtung durch einen Klebstoff zu erreichen, der entweder im Bereich der Dichtfläche 7 oder im Bereich des Absatzes 11 zwischen der Glasscheibe 3 und dem zweiten Teil 5 aus Oxidkeramik aufgetragen wird.
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Zur Veranschaulichung und beispielhaft ist rechts von der Plasmakammer eine Magnetron 15 dargestellt, das Mikrowellen erzeugt und aussendet. Diese Mikrowellen dringen über das zweite Teil 5 und/oder das erste Teil (3) in die Plasmakammer 1 ein und regen das in der Plasmakammer befindliche Gas zur Emission von UV-Licht oder VUV-Licht an. Anstelle des dargestellten Magnetrons 15 können auch andere Mittel zur Erzeugung elektromagnetischer Wellen eingesetzt werden, um das in der Plasmakammer befindliche Gas zur Emission von UV-Licht oder VUV-Licht anzuregen.
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In 8 ist isometrisch und teilweise geschnitten ein zweites Teil 5 dargestellt. Bei diesem zweiten Teil 5 sind die Dichtfläche 7 sowie der Absatz 11 gut zu erkennen. Des Weiteren sind Stützen 15 zu erkennen, deren Stirnflächen 17 auf der gleichen Höhe wie der Absatz 11 liegen. Dadurch kann die Scheibe 3 an vielen Punkten unterstützt werden, so dass die Gefahr eines Versagens der Glasscheibe aufgrund der Druckbelastung eliminiert wird. Die zugehörige Scheibe 3 ist in 8 nicht dargestellt.
