DE102009035343A1 - Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Substraten an einem Träger - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Substraten an einem Träger Download PDF

Info

Publication number
DE102009035343A1
DE102009035343A1 DE102009035343A DE102009035343A DE102009035343A1 DE 102009035343 A1 DE102009035343 A1 DE 102009035343A1 DE 102009035343 A DE102009035343 A DE 102009035343A DE 102009035343 A DE102009035343 A DE 102009035343A DE 102009035343 A1 DE102009035343 A1 DE 102009035343A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
carrier
tubes
pipes
longitudinal channels
substrates
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102009035343A
Other languages
English (en)
Inventor
Sven Worm
Reinhard Huber
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Gebrueder Schmid GmbH and Co
Original Assignee
Gebrueder Schmid GmbH and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Gebrueder Schmid GmbH and Co filed Critical Gebrueder Schmid GmbH and Co
Priority to DE102009035343A priority Critical patent/DE102009035343A1/de
Priority to EP10739325A priority patent/EP2457263A2/de
Priority to CN201080034667.3A priority patent/CN102612759B/zh
Priority to JP2012521040A priority patent/JP2012533898A/ja
Priority to PCT/EP2010/060644 priority patent/WO2011009917A2/de
Priority to MYPI2012000240A priority patent/MY154124A/en
Priority to KR1020127001541A priority patent/KR20120036348A/ko
Priority to TW099124188A priority patent/TWI493607B/zh
Publication of DE102009035343A1 publication Critical patent/DE102009035343A1/de
Priority to US13/355,223 priority patent/US8524008B2/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/04Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/18Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • B28D5/0076Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for removing dust, e.g. by spraying liquids; for lubricating, cooling or cleaning tool or work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • B28D5/0082Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for supporting, holding, feeding, conveying or discharging work
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing
    • H01L21/67051Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing using mainly spraying means, e.g. nozzles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/67313Horizontal boat type carrier whereby the substrates are vertically supported, e.g. comprising rod-shaped elements
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Photovoltaic Devices (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

Bei einer Vorrichtung und einem Verfahren zur Reinigung von Substraten an einem Träger, an dessen Unterseite die Substrate parallel zueinander mit geringem Abstand zueinander befestigt sind, weist der Träger in seinem Inneren mehrere parallel zueinander verlaufende Längskanäle auf. Durch das Zersägen der Wafer gehen sie mit Öffnungen in Zwischenräume zwischen den Substraten über. Durch eine Relativbewegung wird ein längliches Rohr in mindestens einen der Längskanäle eingebracht, wobei aus dem Rohr Reinigungsflüssigkeit ausgebracht wird, wobei die Relativbewegung im Wesentlichen durch Bewegen des Trägers erreicht wird.

Description

  • Anwendungsgebiet und Stand der Technik
  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reinigung von Substraten an einem Träger, insbesondere einem Träger entsprechend der deutschen Patentanmeldung DE 10 2009 023 121.8 mit Anmeldetag vom 22. Mai 2009 derselben Anmelderin, sowie eine entsprechende Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens.
  • Aus der vorgenannten DE 10 2009 023 121.8 ist es bekannt, dass mehrere flache Substrate wie beispielsweise Siliziumwafer für die Solarzellenherstellung an einem flachen länglichen Träger angeordnet sind und dabei festgeklebt sind. Der Träger weist in seinem Inneren mehrere Längskanäle auf, die parallel zueinander verlaufen und die an der Unterseite des Träger über Öffnungen in Zwischenräume zwischen den Substraten übergehen bzw. flüssigkeitsleitend damit verbunden sind. Um Reinigungsflüssigkeit in die Längskanäle einzubringen, so dass diese in die Zwischenräume austritt und damit die Zwischenräume spült und reinigt, können Flüssigkeitsanschlüsse direkt an die Öffnungen der Längskanäle angesetzt werden zum Einleiten von Reinigungsflüssigkeiten. Dies ergibt aber noch keine gute Reinigungswirkung.
  • Aufgabe und Lösung
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein eingangs genanntes Verfahren sowie eine entsprechende Vorrichtung zu schaffen, mit denen Probleme des Standes der Technik vermieden werden können und insbesondere die Reinigungswirkung möglichst groß ist.
  • Gelöst wird diese Aufgabe durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Anspruchs 1 sowie eine Vorrichtung mit den Merkmalen des Anspruchs 8. Vorteilhafte sowie bevorzugte Ausgestaltungen des Erfindungsgegenstandes gehen auch aus den weiteren Ansprüchen hervor und werden im Folgenden näher erläutert. Dabei werden manche der Merkmale nur für das Verfahren oder nur für die Vorrichtung beschrieben. Sie sollen jedoch unabhängig davon sowohl für das Verfahren als auch für die Vorrichtung gelten können. Der Wortlaut der Ansprüche wird durch ausdrückliche Bezugnahme zum Inhalt der Beschreibung gemacht.
  • Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass durch eine Relativbewegung ein längliches Rohr in mindestens einen der Längskanäle eingebracht wird, vorteilhaft in jeden der Längskanäle des Trägers ein Rohr. Die Relativbewegung findet dabei zwischen dem Träger und dem Rohr statt, es kann also ein Teil bewegt werden und das andere unbewegt bleiben. Aus dem Rohr wird dann Reinigungsflüssigkeit oder ein sonstiges Fluid ausgebracht, insbesondere aus seinem Endbereich, der in den Längskanal hineinreicht, in den Längskanal hinein. Vorteilhaft wird die Relativbewegung im Wesentlichen bzw. zumindest auch durch Bewegen des Trägers erreicht. Dies bedeutet also, dass sich im Endeffekt das Rohr im Längskanal des Trägers bewegt und somit auch der Ort, an dem die Reinigungsflüssigkeit aus dem Rohr austritt und sich somit quasi die Austrittsstelle von Reinigungsflüssigkeit innerhalb des Längskanals bewegt. Somit kann ein gezieltes Einbringen von Reinigungsflüssigkeit in den Längskanal und somit in die in der Nähe befindlichen Zwischenräume erfolgen, was zu einem gezielteren und somit besseren Reinigen der Zwischenräume führt. Der Vorteil des Bewegens zumindest des Trägers bei der Relativbewegung liegt darin, dass dieser ohnehin in einem Durchlaufverfahren durch eine entsprechende Anlage bewegt wird, insbesondere von Bearbeitungsstation zu Bearbeitungsstation. So können die hierfür verwendeten Bewegungsmittel, Transportbänder oder Rollenbahnen odgl. auch gleich für die Relativbewegung verwendet werden.
  • Es kann vorgesehen sein, dass zu Beginn des Reinigungsvorgangs nach dem Einbringen der vorderen Rohre in die Längskanäle Reinigungsflüssigkeit durch die Rohre in die Längskanäle eingebracht wird, und zwar dann, wenn die Rohre erst ein kleines Stück in die Längskanäle hineinragen. Dies erfolgt vorteilhaft für einen Zeitraum von einigen Sekunden. Anschließend wird weiterhin Reinigungsflüssigkeit durch die Rohre in die Längskanäle eingebracht, während die Rohre mit einer Relativbewegung in den Längskanälen auf die andere Endöffnung zu fahren.
  • Vorteilhaft reicht ein Rohr bis mindestens in einen Mittelbereich des Längskanals des Trägers. Dies bedeutet also, dass entweder ein Rohr während des Ablaufs der Relativbewegung die gesamte Länge des Längskanals durchfährt und somit ein Rohr für dessen Reinigung ausreicht. Alternativ und bevorzugt werden jedoch zwei Gruppen von Rohren vorgesehen, nämlich ein vorderes Rohr und ein hinteres Rohr, die an den zwei gegenüberliegenden Enden des Längskanals in diesen hineingreifen und dann jeweils nur während der Relativbewegung etwas über den Mittelbereich hinaus reichen. Der Vorteil einer solchen Anordnung liegt darin, dass bei Verwendung von nur einem einzigen Rohr die andere Endöffnung des Längskanals eigentlich verschlossen werden müsste, damit dort nicht zuviel Reinigungsflüssigkeit wirkungslos austritt. Des weiteren ergibt es sozusagen eine verdoppelte Reinigungswirkung, da eben zwei Rohre die Reinigungsflüssigkeit in den Längskanal und somit in die Zwischenräume einbringen.
  • Das Einbringen der Rohre in die Längskanäle kann so abfolgen, dass jeweils eine Gruppe von nebeneinander liegenden Rohren, insbesondere so viele Rohre wie Längskanäle, an einer Rohrhalterung odgl. befestigt sind und in die Bewegungsbahn des Trägers hinein bewegt bzw. eingeschwenkt werden können, so dass diese unter Umständen auch nach Entfernen der Rohre durchgehend weiterbewegt werden kann. Das Einschwenken der Rohre in die Bewegungsbahn des Trägers erfolgt vorteilhaft derart, dass die Längsmittelachsen der Rohre mit den Längsmittelachsen der Längskanäle fluchten und so in den Träger einfahren können. Ist die vorbeschriebene Aufteilung in vordere Rohre und hintere Rohre vorgesehen, so wird der Träger zuerst maximal weit auf die vorderen Rohre aufgefahren. Dann werden die hinteren Rohre an ihrer Rohrhalterung in die Bewegungsbahn geschwenkt, sodass sie ebenfalls mit den Längskanälen fluchten. Dann kann der Träger wieder zurückbewegt werden und dabei fahren die hinteren Rohre ebenfalls in die Längskanäle ein. Der Abstand der vorderen Rohre zu den hinteren Rohren sollte nicht allzu groß sein, beispielsweise einige Zentimeter bzw. etwa 10% bis 30% der Länge der Rohre. Wenn dann sämtliche Rohre in die Längskanäle des Trägers eingeführt werden, wird der Träger langsam hin- und herbewegt, während Reinigungsflüssigkeit aus den Rohren austritt zum Reinigen der Zwischenräume.
  • Bezüglich der Rohrhalterungen ist zu sagen, dass sämtliche daran angebrachten Rohre, also beispielsweise die Gruppe der vorderen Rohre und die Gruppe der hinteren Rohre, mit einem einzigen Flüssigkeitsanschluss verbunden sind. Dies vereinfacht deren Anschluss und Ansteuerung.
  • Falls gewünscht wird, dass beispielsweise an den mittleren Rohren mehr oder weniger Reinigungsflüssigkeit ausgebracht werden soll, so kann deren spezifischer Durchlassquerschnitt verändert werden. Dies kann entweder am Anschluss des Rohres sein, in seinem Verlauf oder an den Öffnungen des Rohres zum Austritt der Reinigungsflüssigkeit.
  • Für die Rohrhalterung der hinteren Rohre bzw. derjenigen Rohre, die zuletzt in die Längskanäle eingebracht werden, kann neben einer reinen Schwenkmöglichkeit in einer Ebene senkrecht zur Bewegungsrichtung des Trägers eine gewisse Bewegbarkeit entlang dieser Richtung vorgesehen sein. Dann braucht der Träger nicht soweit auf die vorderen Rohre aufgefahren zu werden, bzw. diese müssen nicht so lang sein, dass sie bis kurz vor die anderen Endöffnungen reichen.
  • Die Öffnungen der Rohre sind vorteilhaft in deren Endbereichen gelegen und gehen nach unten bzw. sind nach unten ausgerichtet. In einer einfachen Ausgestaltung reicht es, wenn in die Rohre, die vorteilhaft einen runden Querschnitt aufweisen, Ausnehmungen eingebracht werden. Diese Ausnehmungen können entweder längliche Schlitze oder längliche Öffnungen sein, beispielsweise mit einer Länge von 1 cm bis 7 cm. Alternativ können mehrere Öffnungen vorgesehen sein, vorteilhaft wiederum als einfache Löcher. Jede dieser Öffnungen kann eine Größe von wenigen Millimetern aufweisen. Aufwendige Düsenformen odgl. werden für die Rohre nicht unbedingt benötigt, wenngleich sie vorstellbar sind, da die Reinigungsflüssigkeit im Wesentlichen einfach nur austreten muss, um dann die Zwischenräume zwischen den Substraten an den Trägern zu spülen bzw. zu reinigen.
  • Einerseits ist es möglich, dass auch an den Stirnseiten der Rohre Reinigungsflüssigkeit austritt, insbesondere um eine Reinigungswirkung in dem Bereich zwischen den vorderen und hinteren Rohren zu erreichen.
  • Andererseits ist es vorteilhaft, wenn die stirnseitigen Enden der Rohre verschlossen sind, so dass die ausgebrachte Reinigungsflüssigkeit gezielt bereits nach unten in Richtung auf die Zwischenräume zu ausgebracht wird. Dies verringert den Gesamtverbrauch an Reinigungsflüssigkeit bzw. erhöht die gezielte Reinigungswirkung.
  • Diese und weitere Merkmale gehen außer aus den Ansprüchen auch aus der Beschreibung und den Zeichnungen hervor, wobei die einzelnen Merkmale jeweils für sich allein oder zu mehreren in Form von Unterkombination bei einer Ausführungsform der Erfindung und auf anderen Gebieten verwirklicht sein und vorteilhafte sowie für sich schutzfähige Ausführungen darstellen können, für die hier Schutz beansprucht wird. Die Unterteilung der Anmeldung in einzelne Abschnitte sowie Zwischen-Überschriften beschränken die unter diesen gemachten Aussagen nicht in ihrer Allgemeingültigkeit.
  • Kurzbeschreibung der Zeichnungen
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Zeichnungen schematisch dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert. In den Zeichnungen zeigen:
  • 1 eine seitliche Schnittdarstellung eines Trägers mit Substraten an seiner Unterseite und Längskanälen, in die von beiden Seiten Rohre eingeführt sind,
  • 2 eine Draufsicht auf die Darstellung aus 1 mit Rohren an einer Halterung an der rechten Seite des Trägers und
  • 3 eine Vergrößerung durch ein längliches Rohr an einem Träger mit mehreren Auslässen an seinem Ende.
  • Detaillierte Beschreibung der Ausführungsbeispiele
  • In 1 ist im seitlichen Schnitt dargestellt, wie an einem grundsätzlich bekannten Träger 11 an dessen Unterseite 12 eine Vielzahl von Substraten 14 hängen. Diese sind durch das Zersägen von Siliziumblöcken entstanden. Dies ist dem Fachmann allgemein bekannt und braucht deswegen nicht näher erläutert zu werden. Der Träger 11 samt Substraten 14 wird auf nicht näher dargestellte Art und Weise entlang der durch den Doppelpfeil veranschaulichten Bewegungsrichtung B transportiert, beispielsweise von links nach rechts. Dazu kann er beispielsweise in einer Trägervorrichtung eingespannt sein, wie sie aus der DE 10 2008 053 596 A1 bekannt ist. Dieser Träger wiederum wird auf einer Rollenbahn odgl. liegend transportiert. Wie aus der genannten DE 10 2009 023 121 bekannt ist, sind Längskanäle 16 im Träger 11 vorhanden, die beim Zersägen der Silizium-Blöcke in die Substrate 14 von der Unterseite 12 her angesägt werden und so durch die Öffnungen eine Verbindung zwischen Längskanälen 16 und Zwischenräumen zwischen den Substraten 14 entsteht. Zur Reinigung der Substrate 14 bzw. vor allem zum Herausspülen von Sägerückständen aus deren Zwischenräumen kann nun Flüssigkeit, insbesondere Wasser oder Reinigungsflüssigkeit, in die Längskanäle 16 eingebracht werden, vorteilhaft von den Enden her. Diese Flüssigkeit strömt dann aus den Längskanälen 16 durch die angesägten Öffnungen zwischen die Substrate 14 für die genannte gewünschte Reinigungswirkung.
  • Für eine gezieltere Reinigungswirkung, insbesondere damit die Flüssigkeit aus den Längskanälen 16 nicht über deren gesamte Länge unkontrollierbar nach unten in die Substrate 14 austritt, sind erfindungsgemäß die länglichen Rohre 18a und 18b vorgesehen. Diese sind etwas kleiner als der Querschnitt der Längskanäle 16 und weisen nahe einem Endbereich nach unten gerichtete Öffnungen 19a und 19b auf. Diese Öffnungen 19 sind in 1 als längliche Schlitze ausgebildet, und somit als relativ große Öffnungen. Sie bewirken, dass Flüssigkeit aus den Rohren 18 über die Länge der Öffnungen 19 nach unten austritt und somit in diesem Bereich erheblich mehr Flüssigkeit zum Reinigen der Substrate 14 verwendet werden kann als über die gesamte Länge der Längskanäle. Es kann also ein konzentriertes bzw. zielgerichtetes Ausbringen von Reinigungsflüssigkeit erfolgen und somit ein zielgerichteteres und konzentrierteres Reinigen der Zwischenräume bzw. der Substrate 14.
  • Aus der Abwandlung gemäß 3 wird deutlich, dass bei dem Rohr 18' nahe seinem Endbereich mehrere Öffnungen 19' vorgesehen sind. Dadurch kann ein noch zielgerichteteres Ausbringen von Flüssigkeit erfolgen, insbesondere mit höherem Druck. So dringt die Flüssigkeit nicht nur durch ihre Gewichtskraft in 1 in die Zwischenräume zwischen den Substraten 14 zur Reinigung ein, sondern mit hoher Geschwindigkeit für ein noch besseres Reinigungsverhalten.
  • Für den Fachmann ist klar, dass hier eine Vielzahl an Möglichkeiten zur Abwandlung der Ausgestaltung der Öffnungen 19 besteht, beispielsweise auch eine Mischung aus eher kleinen Löchern, beispielsweise quadratisch oder rund, sowie Längs- oder Querschlitzen. Es wird als günstig angesehen, wenn sämtliche Öffnungen im Wesentlichen nach unten zu ausgerichtet sind, also direkt auf die Substrate 14 zu bzw. die Öffnungen, die durch das Einsägen der Unterseite 12 des Trägers 11 entstanden sind. Schließlich ist es auch noch möglich, in der Stirnseite des Endbereichs des Rohrs 18 eine Austrittsöffnung vorzusehen.
  • Aus der Draufsicht in 2 ist zu ersehen, dass die rechten Rohre 18b an einer Rohrhalterung 21b befestigt sind. Die Rohrhalterung 21b ist nach Art eines Armes ausgebildet, und zwar schwenkbar um eine Drehachse 22b. Ein Antrieb ist hier nicht dargestellt, ist jedoch leicht zu realisieren. Die Drehachse 22b verläuft parallel zur Bewegungsrichtung B des Trägers 11.
  • Eine Zuführung von Flüssigkeit zu den Rohren 18b erfolgt über einen Flüssigkeitsanschluss 24b an der Rohrhalterung 21b mit einer Flüssigkeitsleitung 26. Dabei kann vorgesehen sein, dass die Drehachse 22 durch den Flüssigkeitsanschluss 24b verläuft und somit, wenn der Flüssigkeitsanschluss 24b drehbar ausgebildet ist, eine ausreichende Beweglichkeit bzw. Drehbarkeit der Rohrhalterung 21b ohne großen Aufwand gegeben ist.
  • Die linken Rohre 18a gemäß 1 sind vorteilhaft an einer ähnlich oder spiegelbildlich dazu ausgebildeten Rohrhalterung 21a vorgesehen. Aus der Draufsicht aus 2 ist auch zu erkennen, dass der Träger 11 fünf Längskanäle 16 aufweist und links und rechts jeweils gleich viele und somit fünf Rohre 18a und 18b vorgesehen sind. Dann kann durch jeden der Längskanäle 16 gleichzeitig Flüssigkeit zum Reinigen eingebracht werden.
  • Um den Reinigungsvorgang zu beginnen kann vorgesehen sein, dass die linke Rohrhalterung 21a mit den Rohren 18a so hochgeklappt ist bzw. aus der Bewegungsrichtung B des Trägers 11 samt Substraten 14 und der möglichen Trägervorrichtung geschwenkt ist, dass sie dessen Bewegung nicht behindern. Die rechte Rohrhalterung 21b mit den Rohren 18b kann bereits in die in 1 dargestellte Stellung geschwenkt werden, so dass sozusagen der Träger 11 mit seinen Längskanälen 16 auf die Rohre 18b auffahren kann. Dann kann die linke Rohrhalterung 21a so an den Träger 11 heranbewegt werden, dass ihre Rohre 18a von links in die Längskanäle 16 eingreifen, wie dargestellt ist. Dies ist beispielsweise gemäß 1 keine reine Schwenkbewegung um eine Schwenkachse parallel zur Bewegungsrichtung B, sondern eine Schwenk- und Verschiebebewegung. Der Vorteil liegt dann dabei darin, dass letztlich durch diese etwas kompliziertere Bewegung die Endbereiche der Rohre 18a und 18b relativ nahe beieinander sind. So wird erreicht, dass bei einem anschließenden Hin- und Herbewegen des Träger 11 samt Substraten 14 entsprechend der Bewegungsrichtung B sämtliche Längsbereiche der Längskanäle 16 mit Reinigungsflüssigkeit aus den Rohren 18 beaufschlagt werden.
  • Alternativ müssten, sollten die linken Rohre 18a durch eine reine Schwenkbewegung wie auch die rechten Rohre 18b, an den Träger 11 herangeführt werden können, die Rohre erheblich länger sein, so dass ein Rohr 18 nahezu so lang ist wie ein Längskanal, damit bei voll aufgefahrenem Träger 11 bzw. bis an die Rohrhalterung herangefahrenen Träger 11 die anderen Rohre herangeschwenkt werden können und keinen allzu großen Abstand von den bereits eingeführten Rohren haben.
  • Angesichts der Darstellung in den Figuren wird klar, dass es zwar besonders vorteilhaft ist, wenn von beiden Seiten des Trägers 11 Rohre 18a und 18b in die Längskanäle 16 eingreifen. Dadurch wird sozusagen die Reinigungswirkung verdoppelt. Es wird jedoch auch als ausreichend angesehen, beispielsweise nur die rechten Rohre 18b vorzusehen, die dann natürlich entsprechend länger sein müssen, so dass sie mit ihren Öffnungen 19b die gesamten Längskanäle 16 abfahren können.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • - DE 102009023121 [0001, 0002, 0020]
    • - DE 102008053596 A1 [0020]

Claims (15)

  1. Verfahren zur Reinigung von Substraten an einem Träger, wobei die Substrate parallel zueinander mit geringem Abstand zueinander mit Stirnseiten an der Unterseite eines flachen länglichen Trägers befestigt sind durch Festkleben, wobei der Träger in seinem Inneren mehrere parallel zueinander verlaufende Längskanäle aufweist, die an der Unterseite des Trägers in die Zwischenräume zwischen den Substraten übergehen, wobei durch eine Relativbewegung ein längliches Rohr in mindestens einen der Längskanäle eingebracht wird, wobei aus dem Rohr Reinigungsflüssigkeit oder ein sonstiges Fluid ausgebracht wird, wobei die Relativbewegung im Wesentlichen durch Bewegen des Trägers erreicht wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das längliche Rohr bis mindestens in einen Mittelbereich des Trägers in den Längskanal eingebracht wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass mehrere Rohre in entsprechender Ausrichtung in eine Durchlaufbahn des Trägers durch eine Durchlauf-Behandlungsanlage eingebracht werden und durch Bewegen des Trägers in ihn einfahren, wobei vorzugsweise zu Beginn des Reinigungsverfahrens der Träger maximal weit auf die Rohre auffährt und dann an der anderen Seite entsprechende weitere Rohre heranbewegt werden und so positioniert werden, dass sie den erstgenannten Rohren gegenüberliegen und bis kurz vor dem Träger reichen, und anschließend der Träger relativ zu den Rohren hin- und herbewegt wird, die dann feststehen, während gleichzeitig Reinigungsflüssigkeit ausgebracht wird.
  4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Einbringen der vorderen Rohre in die Längskanäle Reinigungsflüssigkeit durch die Rohre in die Längskanäle eingebracht wird, vorzugsweise für einen Zeitraum von einigen Sekunden, und anschließend weiterhin Reinigungsflüssigkeit durch die Rohre eingebracht wird und mit einer Relativbewegung die Rohre in den Längskanälen auf die andere Endöffnung zu entlangfahren.
  5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass Rohre in sämtliche Längskanäle des Trägers eingebracht werden, vorzugsweise von beiden Seiten aus in die Längskanäle.
  6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Rohre über ihre Längserstreckung gesehen im Wesentlichen geschlossen sind mit mindestens einer Austrittsöffnung nahe an ihrem Ende, wobei vorzugsweise mindestens eine Austrittsöffnung nahe dem Ende nur nach unten in Richtung auf die Substrate zu geöffnet ist, insbesondere alle Austrittsöffnungen.
  7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass jeweils die Rohre an einer Seite mit einer gemeinsamen Fluidzuleitung verbunden sind und gemeinsam mit Fluid bzw. Reinigungsflüssigkeit beaufschlagt werden.
  8. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sie mehrere längliche Rohre aufweist, die in zwei Gruppen als vordere Rohre und als hintere Rohre jeweils nebeneinander vorgesehen sind, wobei die vorderen Rohre an einer vorderen Rohrhalterung angeordnet sind und mit einer Reinigungsflüssigkeits-Versorgung flüssigkeitsleitend verbunden sind, wobei mit Abstand zu den vorderen Rohren diesen gegenüberliegend eine hintere Rohrhalterung vorgesehen ist mit den hinteren Rohren, die insbesondere zumindest teilweise in Flucht mit den vorderen Rohren bewegbar sind, wobei mindestens der vordere Rohrhalter oder der hintere Rohrhalter bewegbar bzw. in eine Transportbahn des Trägers schwenkbar sind.
  9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass genauso viele vordere Rohre wie hintere Rohre vorgesehen sind, insbesondere vier bis zwölf Rohre, und diese jeweils in einer Position zum Einbringen in die Längskanäle des Trägers miteinander fluchten.
  10. Vorrichtung nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, dass die vordere Rohre einen Abstand zu den hinteren Rohren aufweisen von mindestens einem Drittel ihrer Länge.
  11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass beide Rohrhalterungen bewegbar sind, insbesondere schwenkbar sind zwischen einer Ruheposition, in der sie vollständig entfernt sind aus der Bahn des Trägers mit den Substraten daran, und einer Arbeitsposition, in der sie derart in die Bahn des Trägers geschwenkt sind, dass ihre Längsmittelachsen mit den Längmittelachsen der Längskanäle im Träger fluchten.
  12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Rohr im Endbereich Öffnungen aufweist, insbesondere nach unten gehende Öffnungen, vorzugsweise über einen Bereich von maximal 10 cm.
  13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Öffnungen jeweils eine Länge von wenigen Millimetern aufweisen und insbesondere zum Ende des Rohrs hin jeweils etwas länger sind.
  14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Rohr im Endbereich eine einzige längliche Öffnung nach unten aufweist, die vorzugsweise eine Länge zwischen 1 cm und 7 cm aufweist.
  15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 8 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die stirnseitigen Enden der Rohre verschlossen sind.
DE102009035343A 2009-07-20 2009-07-23 Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Substraten an einem Träger Withdrawn DE102009035343A1 (de)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102009035343A DE102009035343A1 (de) 2009-07-23 2009-07-23 Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Substraten an einem Träger
EP10739325A EP2457263A2 (de) 2009-07-23 2010-07-22 Verfahren und vorrichtung zur reinigung von substraten an einem träger
CN201080034667.3A CN102612759B (zh) 2009-07-23 2010-07-22 用于清洁载体处的基质的方法和装置
JP2012521040A JP2012533898A (ja) 2009-07-23 2010-07-22 キャリア上で基板をクリーニングする方法及び装置
PCT/EP2010/060644 WO2011009917A2 (de) 2009-07-23 2010-07-22 Verfahren und vorrichtung zur reinigung von substraten an einem träger
MYPI2012000240A MY154124A (en) 2009-07-23 2010-07-22 Method and device for cleaning substrates on a carrier
KR1020127001541A KR20120036348A (ko) 2009-07-23 2010-07-22 캐리어 상에서 기판들의 세정 방법 및 장치
TW099124188A TWI493607B (zh) 2009-07-23 2010-07-22 用於清潔載體上基板之方法及裝置
US13/355,223 US8524008B2 (en) 2009-07-20 2012-01-20 Method and device for cleaning substrates on a carrier

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102009035343A DE102009035343A1 (de) 2009-07-23 2009-07-23 Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Substraten an einem Träger

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102009035343A1 true DE102009035343A1 (de) 2011-01-27

Family

ID=43384040

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102009035343A Withdrawn DE102009035343A1 (de) 2009-07-20 2009-07-23 Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Substraten an einem Träger

Country Status (9)

Country Link
US (1) US8524008B2 (de)
EP (1) EP2457263A2 (de)
JP (1) JP2012533898A (de)
KR (1) KR20120036348A (de)
CN (1) CN102612759B (de)
DE (1) DE102009035343A1 (de)
MY (1) MY154124A (de)
TW (1) TWI493607B (de)
WO (1) WO2011009917A2 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011009927A1 (de) 2009-07-23 2011-01-27 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Vorrichtung zur reinigung von substraten an einem träger

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102010052635B4 (de) * 2010-11-29 2014-01-02 Rena Gmbh Halte-Reinigungsvorrichtung und Verfahren zum abschnittsweisen Reinigen gesägter Wafer
US9349392B1 (en) 2012-05-24 2016-05-24 Western Digital (Fremont), Llc Methods for improving adhesion on dielectric substrates
EP2711151A1 (de) 2012-09-24 2014-03-26 Meyer Burger AG Verfahren zur Herstellung von Wafern

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006059810A1 (de) * 2006-12-15 2008-06-19 Rena Sondermaschinen Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen von Gegenständen, insbesondere von dünnen Scheiben
DE102008053596A1 (de) 2008-10-15 2010-04-22 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung eines Waferblocks sowie Trägereinrichtung für einen Waferblock
DE102009023121A1 (de) 2009-05-22 2010-11-25 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Träger für einen Siliziumblock

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5000795A (en) * 1989-06-16 1991-03-19 At&T Bell Laboratories Semiconductor wafer cleaning method and apparatus
JP2965876B2 (ja) * 1994-11-22 1999-10-18 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置およびそれに用いられる処理槽
JPH0919921A (ja) * 1995-07-07 1997-01-21 Tokyo Seimitsu Co Ltd ワイヤソー
JPH0936080A (ja) 1995-07-13 1997-02-07 Toray Eng Co Ltd 加工済シリコンインゴットの洗浄方法
JPH09207126A (ja) * 1996-01-31 1997-08-12 Nippei Toyama Corp ワイヤソーのためのワーク支持装置、清浄方法及びワイヤソー
JPH1142636A (ja) * 1997-07-29 1999-02-16 Olympus Optical Co Ltd ウエハー解除方法
DE19900671C2 (de) * 1999-01-11 2002-04-25 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren und Vorrichtung zum Vereinzeln von scheibenförmigen Substraten, insbesondere zur Waferherstellung
JP2002110591A (ja) * 2000-09-27 2002-04-12 Takata Corp ワイヤーソー後ウエハ洗浄装置及び洗浄方法
JP2004106360A (ja) * 2002-09-19 2004-04-08 Komatsu Electronic Metals Co Ltd スリット入りウェーハ支持部材およびウェーハ洗浄装置
JP2007118354A (ja) * 2005-10-27 2007-05-17 Kyocera Corp インゴット支持用治具
KR100901493B1 (ko) * 2007-10-11 2009-06-08 세메스 주식회사 매엽식 기판 세정 설비 및 기판의 이면 세정 방법
US8083865B2 (en) * 2008-11-21 2011-12-27 Aquajet Ltd. Tube lancing machine
DE102009035341A1 (de) * 2009-07-23 2011-01-27 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Vorrichtung zur Reinigung von Substraten an einem Träger

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102006059810A1 (de) * 2006-12-15 2008-06-19 Rena Sondermaschinen Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Reinigen von Gegenständen, insbesondere von dünnen Scheiben
DE102008053596A1 (de) 2008-10-15 2010-04-22 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung eines Waferblocks sowie Trägereinrichtung für einen Waferblock
DE102009023121A1 (de) 2009-05-22 2010-11-25 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Träger für einen Siliziumblock

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011009927A1 (de) 2009-07-23 2011-01-27 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Vorrichtung zur reinigung von substraten an einem träger

Also Published As

Publication number Publication date
CN102612759B (zh) 2015-03-11
WO2011009917A3 (de) 2011-05-19
TWI493607B (zh) 2015-07-21
WO2011009917A2 (de) 2011-01-27
US20120118329A1 (en) 2012-05-17
EP2457263A2 (de) 2012-05-30
TW201117274A (en) 2011-05-16
US8524008B2 (en) 2013-09-03
CN102612759A (zh) 2012-07-25
MY154124A (en) 2015-05-15
KR20120036348A (ko) 2012-04-17
JP2012533898A (ja) 2012-12-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2149191C2 (de) Vorrichtung zum Abschmelzen der Absprengkappen bei der Herstellung von Hohlgläsern
DE102009035343A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Substraten an einem Träger
DE3825533A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur innenbehandlung metallener rohre
DE102012202715A1 (de) Vakuumprozessanlage mit einer Einrichtung zur Druckseparation
DE102004005703B4 (de) Verfahren und Apparatur zur kontinuierlichen Formung eines Streifens aus Kunststoff mit einem gewellten Profil
DE102006050648B3 (de) Vorrichtung zum Umsetzen von Blechteilen zwischen zwei Pressen und zum Wechseln der Greifwerkzeuge
EP0302057A1 (de) Vorrichtung und verfahren zur oberflächenbehandlung von bändern mit flüssigkeiten.
DE102013018189A1 (de) Entwässerungsvorrichtung für Förderbänder
DE1486118A1 (de) Maschine zum Etikettieren von Gegenstaenden,insbesondere Flaschen
EP2360108A1 (de) Vorrichtung zum Rückführen von bearbeiteten Werkstücken
DE2004931A1 (de) Vorrichtung zum Zuführen von Stabstahl
DE102015115299A1 (de) Vorrichtung zur seitlichen Beaufschlagung eines Teigbandes oder Teigstückes
EP2456601A1 (de) Vorrichtung zur reinigung von substraten an einem träger
DE102015110087A1 (de) Fördereinrichtung für ein Substrat
DE10211215B4 (de) Anlage zum beidseitigen Behandeln von Blechzuschnitten
DE202011001750U1 (de) Vorrichtung zur Reinigung eines Wärmetauschers
DE102011011759A1 (de) Magnetabscheidevorrichtung und Magnetabscheideverfahren zum Abscheiden von ferromagnetischen Teilchen aus einer damit belasteten Flüssigkeit
DE2426828A1 (de) Vorrichtung zum kuehlen von stangenmaterial
DE10211216B4 (de) Anlage zum beidseitigen Behandeln von Blechzuschnitten
DE602004003561T2 (de) Vorrichtung zum sequenziellen Befördern von Blättern in einer Tiegelpresse
DE2035652A1 (de) Einrichtung zum Aufteilen einer Behalter reihe
DE3206616C2 (de) Verfahren zum Auskleiden von Rohren
DE4102400C2 (de)
DE102009035342A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Reinigung von Substraten an einem Träger
DE2256062A1 (de) Verfahren und system zur galvanisierung von stangenmaterial

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
R081 Change of applicant/patentee

Owner name: GEBR. SCHMID GMBH, DE

Free format text: FORMER OWNER: GEBR. SCHMID GMBH & CO., 72250 FREUDENSTADT, DE

Effective date: 20120202

R082 Change of representative

Representative=s name: PATENTANWAELTE RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER &, DE

Effective date: 20120202

R012 Request for examination validly filed
R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee